JP4638677B2 - 透光式表示パネルの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、透光式表示パネルの製造方法に関する。更に詳しくは、レーザーマーキング加工による分解生成物の付着等の影響がなく、ピンホールやスジ模様のない透光性表示部及び遮光層を色調の制約を受けず且つ容易に形成できる透光式表示パネルの製造方法に関する。
本発明は、家庭電化製品、オフィスオートメーション関連機器、車両の計器、工業分野及び医療分野における検査機器等の他、携帯電話、釣り具等のスポーツ用品など、多くの製品分野において幅広く利用することができる。

透光性プラスチック等からなる基板を加飾し、表示パネルを作製する方法として、従来より、基板の形状により種々の加飾方法が単独で、又は一部併用されて用いられている。この基板としては、裏面側からの照明により夜間等でも文字、図柄を容易に視認することができる透光性プラスチックが用いられ、液晶表示パネル、電飾表示パネルなどの表示パネルとして多くの製品分野で使用されている。そして、このような表示パネルの表示部の作製にはレーザーマーキング加工法が有用であることが知られている。

例えば、このレーザーマーキング加工法を用いた着色表示部の形成方法としては、予め基板の一面に透光性表示層を必要な大きさよりも大きめにシルク印刷等により施工する工程と、全体をスプレー塗装等により被覆し遮光層を形成する工程と、所定パターンの表示層が透光されるようにＹＡＧレーザー光を照射し、遮光層だけを焼失させ、所望の着色表示部を形成する工程とを備えるものが知られている（例えば、特許文献１参照。）。

特開平４−２８４４８７号公報

レーザーマーキング加工に用いられるＹＡＧレーザー光等は、遮光性物質を焼失させ易く、光透過性物質には殆ど影響を与えない特性を有している。そのため、着色表示部となる透光性表示層はレーザー光に極力反応しない組成とする必要があるが、着色するにはそれなりの顔料等が必要であるため、レーザー光の影響を完全に避けることは困難であった。
特に使用頻度の高い白色系の表示部を形成する場合には、色成分である酸化チタンが少量ではあるが分解される傾向にあり、レーザー光の照射により遮光層と共に透光性表示層の一部が焼失してしまい、ピンホールやスジ模様などの弊害が生じることがある。この弊害は、レーザー出力、照射速度、遮光層の膜厚、透光性表示層の膜厚などを厳密に調整したとしても、完全に回避することは難しい。
また、遮光層表面を、銀色系、金色系、クリーム色系等の明色な色調とする場合には、レーザーマーキング加工を用いることができず、且つ明色層のみで遮光することは難しいため、通常、カーボンブラック等を含む黒色系塗料を下塗りし、次いで、所望の明色の色調に仕上げ、黒色系の遮光層と共に焼失させる必要がある。その場合、レーザーマーキング加工時の分解生成物（ヤニ状物質、スス状物質）が、明色の遮光層上、更には着色表示部周辺に付着してしまう。黒色系の遮光層のみの場合には目立たないが、明色の遮光層表面上では、明らかに分解生成物の付着状態が確認され、非常に見苦しい外観となってしまう。また、付着している分解生成物は、芳香族、脂肪族系の不乾燥物質と、カーボン、金属酸化物などの混合物と考えられ、これらの洗浄は容易ではなく、遮光層を無傷のまま除去することは事実上困難である。
更に、遮光層の表層が、白色系、クリーム色系などの明色系の色調となっている場合、下層である黒色系の遮光部の焼失に伴って除去されるが、その画線相当部には、遮光層焼失時の気化エネルギーによる持上げ、熱エネルギーによる分断が生じることがあり、画線が乱れることがある。

本発明は、上記の従来の問題を解決するものであり、レーザーマーキング加工による分解生成物の付着等の影響がなく、ピンホールやスジ模様のない透光性表示部及び遮光層を色調の制約を受けず且つ容易に形成できる透光式表示パネルの製造方法を提供することを目的とする。

本発明は以下の通りである。
（１）透光性基板と、
該透光性基板の一方の面に形成された遮光層と、
該遮光層の該透光性基板側とは反対の面に形成された剥離層と、を備える表示パネル用基板の該剥離層側からレーザーマーキング加工を行い、該剥離層及び該遮光層に所定パターンの切り欠き部を形成する切り欠き部形成工程と、
少なくとも、該透光性基板の上記一方の面のうち該切り欠き部の底に位置する部分、
該切り欠き部の内側面に位置する該遮光層及び該剥離層の切断面部分、及び
該剥離層の該遮光層側とは反対の面のうち該剥離層側から該切り欠き部をみたときに該切り欠き部の縁に位置する部分、に透光性表示層を形成する透光性表示層形成工程と、
上記剥離層上に、粘着テープを当接させ、該粘着テープを引っ張ることにより、該剥離層を剥離する剥離工程と、を備える透光式表示パネルの製造方法であって、
該剥離工程においては、該透光性表示層のうちの、該切り欠き部の底に位置する部分と、その他の部分とを断裂させて、該切り欠き部の底に位置する部分を残すとともに、その他の部分は該剥離層とともに剥離除去することを特徴とする透光式表示パネルの製造方法。
（２）上記表示パネル用基板を形成する表示パネル用基板形成工程を更に備える上記（１）に記載の透光式表示パネルの製造方法。
（３）上記透光性基板の該遮光層が形成された面と反対側の面に、調光層を形成する調光層形成工程を更に備える上記（１）又は（２）に記載の透光式表示パネルの製造方法。
（４）上記透光性基板の該遮光層が形成された面と反対側に、調光層が形成されて光源からの光を上記透光性基板にガイドするライトガイドを配設するライトガイド配設工程を更に備える上記（１）又は（２）に記載の透光式表示パネルの製造方法。
（５）上記透光性表示層の形成は、インクジェット方式の印刷で行う上記（１）乃至（４）のいずれかに記載の透光式表示パネルの製造方法。
（６）上記遮光層は、明色系の色調の表層部を備える上記（１）乃至（５）のいずれかに記載の透光式表示パネルの製造方法。
（７）上記明色系の色調が、白色系、クリーム色系、銀色系及び金色系の色調のうちのいずれかである上記（６）に記載の透光式表示パネルの製造方法。
（８）上記透光性表示層の膜厚は、１０μｍ以下である上記（１）乃至（７）のいずれかに記載の透光式表示パネルの製造方法。

本発明の製造方法によれば、レーザーマーキング加工による分解生成物の付着等の影響がなく、ピンホールやスジ模様のない透光性表示部及び遮光層を備える透光式表示パネルを遮光層の色調の制約を受けず且つ容易に形成することができる。また、レーザーマーキング加工時には、透光性基板を傷めずに遮光層を焼失できさえすればよく、レーザー発振出力及び照射速度等の条件を厳密に調整する必要がない。
また、インクジェット方式の印刷等により調光層又は調光層が形成されたライトガイドを形成した場合には、所定パターンに透光される各透光性表示部の照度を容易に均一にすることができる。
更に、透光性表示層の形成をインクジェット方式の印刷で行う場合には、膜厚を十分に薄くすることができるため、透光性表示層形成時に付着した剥離層上の余分な透光性表示層を剥離層と共に容易に剥離することができ、透光性表示部の画線が乱れるのを十分に抑制することができる。更には、印刷の濃淡、色調、文字、絵柄の変更等をコンピュータ制御のみで行うことができ、これまでにない色調表現も可能になる。また、従来の印刷法のように印刷版も必要とせず、印刷技術に熟練度も必要としない。

以下、本発明を詳しく説明する。
本発明の透光式表示パネルの製造方法は、透光性基板１と、透光性基板１の表面又は裏面に（一方の面に）形成され且つ所定パターンの切り欠き部２２を有する遮光層２１と、この切り欠き部２２に形成された透光性表示部３１と、を備える透光式表示パネル［図１（遮光層２１等が透光性基板１の表面に形成されたもの）及び図２（遮光層２１等が透光性基板１の裏面に形成されたもの）参照］の製造方法であって、透光性基板と、この透光性基板の表面又は裏面に（一方の面に）形成された遮光層と、この遮光層の表面に（遮光層の透光性基板側とは反対の面に）形成された剥離層と、を備える表示パネル用基板の剥離層側からレーザーマーキング加工を行い、該剥離層及び遮光層に所定パターンの切り欠き部を形成する切り欠き部形成工程と、
少なくとも、該透光性基板の上記一方の面のうち該切り欠き部の底に位置する部分、該切り欠き部の内側面に位置する該遮光層及び該剥離層の切断面部分、及び
該剥離層の該遮光層側とは反対の面のうち該剥離層側から該切り欠き部をみたときに該切り欠き部の縁に位置する部分、に透光性表示層を形成する透光性表示層形成工程と、
上記剥離層上に、粘着テープを当接させ、該粘着テープを引っ張ることにより、該剥離層を剥離する剥離工程と、を備える。
該剥離工程においては、該透光性表示層のうちの、該切り欠き部の底に位置する部分と、その他の部分とを断裂させて、該切り欠き部の底に位置する部分を残すとともに、その他の部分は該剥離層とともに剥離除去することを特徴とする。

（１）切り欠き部形成工程
上記「切り欠き部形成工程」では、透光性基板と、この透光性基板の表面又は裏面に（一方の面に）形成された遮光層と、この遮光層の表面に（遮光層の透光性基板側とは反対の面に）形成された剥離層と、を備える表示パネル用基板の剥離層側からレーザーマーキング加工が行われ、遮光層に所定パターンの切り欠き部が形成される。

上記「表示パネル用基板」は、透光性基板と、この透光性基板の表面又は裏面に（一方の面に）形成された遮光層と、この遮光層の表面に（遮光層の透光性基板側とは反対の面に）形成された剥離層とを備える。
この表示パネル用基板は特に限定されず、透光性基板に遮光層及び剥離層が予め形成されたものを用いてもよいし、以下の方法等により形成されたものを用いてもよい。
例えば、この表示パネル用基板は、透光性基板の表面又は裏面に（一方の面に）遮光層を形成し、その後、形成された遮光層の表面に（遮光層の透光性基板側とは反対の面に）剥離層を形成することで得ることができる。また、表面又は裏面に（一方の面に）遮光層が形成された透光性基板における遮光層の表面に（遮光層の透光性基板側とは反対の面に）剥離層を形成することで得ることもできる。

上記「透光性基板」は、透光性に優れ、十分な機械的強度及び耐熱性、耐候性などを有していればよく、その材質等は特に限定されない。例えば、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−スチレン系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等の透光性の高い樹脂からなる基板を用いることができる。
この基板の形状は特に限定されず、目的及び用途に応じて適宜選択でき、平板であってもよいし、湾曲されたものであってもよい。また、この基板は、無色透明であってもよいし、着色透明であってもよい。

上記「遮光層」は、上記透光性基板の表面又は裏面に（一方の面に）形成されており、例えば、遮光性のインクを透光性基板上に印刷することにより形成することができる。遮光層は基板の表面又は裏面の（一方の面の）所要部分のみに形成してもよいし、表面又は裏面の（一方の面の）全面に形成してもよい。
この遮光層を形成するためのインクとしては、バインダとなるアクリル樹脂、塩化ビニル樹脂等に、カーボンブラック、或いは黒色系の顔料、染料などの十分な隠蔽力を有する色料が配合されたものを用いることができる。特にカーボンブラックが配合されたインクを用いることが好ましい。このカーボンブラックの含有量は、インクを１００質量％とした場合に、３〜２０質量％であることが好ましく、より好ましくは５〜１２質量％である。
遮光性のインクの印刷手段は、特に限定されず、例えば、インクジェット方式の印刷、シルク印刷、タンポ印刷、スプレー塗布等の方法が用いられる。
また、この遮光層は、十分な隠蔽力を有する色料が配合された上記インクにより形成された遮光部と、この遮光部の表面に印刷され且つ銀色系、金色系、クリーム色系等の明色系の色調を有する表層部と、を備える遮光層とすることもできる。
遮光層の膜厚は、５〜４０μｍとすることが好ましく、より好ましくは１０〜３５μｍ、更に好ましくは２０〜３５μｍである。この膜厚が５μｍ以上の場合、外部からの衝撃、或いは他の物品との接触等による遮光層の耐傷付き性、耐剥離性がより向上する。一方、膜厚が４０μｍ以下の場合、レーザーマーキング加工による加工性がより向上する。

上記「剥離層」は、上記遮光層の表面に（上記遮光層の透光性基板側とは反対の面に）形成されており、この遮光層の表面（遮光層の透光性基板側とは反対の面）の全面に形成されてもよいし、透光性表示層が形成される部分に対応する部分のみに形成されてもよい。
この剥離層は、例えば、ノリ剤を遮光層上に塗布して乾燥することにより形成することができる。このノリ剤は、乾燥後に剥離が可能であり、遮光層を傷めることがないものであれば特に限定されず、剥離層と遮光層とが完全に密着するのではなく、僅かに付着する程度に剥離層が形成できるものがより好ましい。
このノリ剤は、水性であっても、油性であってもよい。これらのうち、水性のものが好ましい。水性のノリ剤としては、例えば、メチルセルロース、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）及びポリビニルメチルエーテル（ＰＶＭ）等を水又は水と親水性の低級アルコール（例えば、エタノール、イソプロパノール等）との混合溶液に溶解又は分散させたものを用いることができる。更には、株式会社ミノグループ製、商品名「アクアマスキング」等の市販品を用いてもよい。また、油性のノリ剤としては、エチルセルロース等を、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等の溶剤に溶解又は分散させたものを用いることができる。更に、これらの各種ノリ剤は、レーザーマーキング加工時の加工性を向上させるために、カーボンブラック、ニカワ色料及び墨汁等の加工色料などが配合されたものであってもよい。特にカーボンブラックが配合されたノリ剤を用いることが好ましい。このカーボンブラックの含有量は、特に限定されないが、例えば、ノリ剤を１００質量％とした場合に、１〜１０質量％とすることが好ましく、より好ましくは１〜５質量％である。
また、水性のノリ剤には、乾燥時の収縮を抑制するために、尿素等が配合されていてもよい。この尿素の含有量は、ノリ剤を１００質量％とした場合に、５質量％以下であることが好ましく、より好ましくは１〜３質量％である。
上記塗布手段は特に限定されず、例えば、スプレー塗布、ハケ塗り、シルク印刷及びタンポ印刷等の方法により行うことができる。
また、乾燥時には、水性のものは完全乾燥させると、収縮による内部応力のため、後述のレーザーマーキング加工により形成された切り欠き部近辺がめくれ上がることがあるため、高湿度状態で数分放置するなどして、乾燥状態を適宜調整することが好ましい。

この剥離層の膜厚は、３〜２０μｍとすることが好ましく、より好ましくは５〜１５μｍ、更に好ましくは５〜１０μｍである。この膜厚が３μｍ以上の場合、後工程の溶剤によるクラッキング、ツヤビケ、ピンホールによる表示色の付着不良を十分に低減させることができる。一方、膜厚が２０μｍ以下の場合、レーザーマーキング加工による加工性がより向上する。

また、この切り欠き部形成工程においては、この剥離層の存在により、遮光層が明色系の色調の表層部を備える場合であっても、上層に形成された剥離層の焼失と、遮光層の遮光部の焼失とでエネルギーが上下から働き、本来焼失させることが難しい明色部を浸蝕することで画線が乱れにくい。

上記「レーザーマーキング加工」は、ＹＡＧレーザーを使用した一般的なレーザーマーキング装置を用いて、通常の方法によりレーザー光を照射することにより行うことができる。このレーザーマーキング加工の際に、遮光層及び剥離層の分解生成物が生成するが、この分解生成物は、後に剥離される剥離層上に付着するため、遮光層を汚して外観を低下させることがない。
上記切り欠き部に形成されるパターンは特に限定されず、文字や記号であっても、絵柄であってもよく、所望のパターンを形成することができる。

（２）透光性表示層形成工程
上記「透光性表示層形成工程」では、少なくとも上記切り欠き部に透光性表示層が形成される。
上記「透光性表示層」を切り欠き部のみに形成することで透光性表示部を形成することができるが、この場合には、透光性表示層の印刷時に厳密な位置精度が要求される。そのため、この透光性表示層は、通常、切り欠き部よりも大きめに部分的に形成されるか、剥離層の全面に形成され、後述の剥離層の剥離工程により剥離層上に形成された余分な透光性表示層が剥離層と共に剥離除去され、切り欠き部に透光性表示部が形成される。このような場合、透光性表示層を形成する際に厳密な位置精度が要求されないので好ましい。また、剥離層を剥離する際、剥離層上に形成された余分な透光性表示層が、後述の粘着テープ等により挟持されて断裂されるため、切り欠き部のみに正確に透光性表示層（透光性表示部）を形成した場合よりも画線部の乱れが抑制される。
また、この透光性表示層は、レーザーマーキング加工後に形成されるのでレーザーマーキング加工による損傷を受けず、ピンホール、スジ模様のない光沢のある透光性表示部を得ることができる。
更に、透光性表示層の色調や模様等は特に限定されず、各切り欠き部ごとに色調や模様等を調整したり、一の切り欠き部に形成される表示部の色調や模様等を調整したりすることができる。

この透光性表示層の形成は、透光性塗料を用いた公知の塗布手段で行うことができる。
透光性塗料は特に限定されず、例えば、バインダとなるアクリル樹脂、塩化ビニル樹脂等に、透明な顔料、染料などの透光性表示層の透明性を大きく損なうことのない色料が配合されたものを使用することができる。
また、塗布手段は特に限定されず、例えば、インクジェット方式の印刷、シルク印刷、タンポ印刷、スプレー塗布等の方法が用いられる。なかでも、インクジェット方式の印刷により行うことが好ましい。この場合、透光性表示層の膜厚を十分に薄くすることができるため、更には切り欠き部の側面側に形成される透光性表示層の膜厚を透光性基板から離れるにつれて薄くなるように傾斜させること（図５参照）が容易にできるため、剥離層上の余分な透光性表示層を剥離層と共に容易に断裂除去することができ、透光性表示部の画線が乱れるのを十分に抑制することができる。また、印刷の濃淡、色調、文字、絵柄の変更等をコンピュータ制御のみで行うことができ、これまでにない色調表現も可能になる。
この透光性表示層の膜厚は、１０μｍ以下とすることが好ましく、より好ましくは１〜１０μｍ、更に好ましくは２〜１０μｍ、特に好ましくは２〜８μｍである。この膜厚が１０μｍ以下の場合、剥離層を剥離する際に、剥離層に付着した余分な透光性表示層と、切り欠き部に形成された透光性表示層とが、容易に断裂するため、切り欠き部に形成された透光性表示部の画線の乱れが殆ど生じない。

（３）剥離工程
上記「剥離工程」では、上記表示パネル用基板における上記剥離層が上記遮光層上から剥離される。
剥離層の剥離方法は特に限定されないが、例えば、剥離層の表面に粘着テープ等を当接させ、引っ張ることにより剥離させることができる。この引っ張りによって、剥離層は遮光層の一面から余分な透光性表示層と共に剥離され、遮光層の所定の切り欠き部に必要な透光性表示層が残り、透光性表示部が形成される。

（４）その他の工程
本発明の透光式表示パネルの製造方法においては、上記剥離工程よりも後に、上記遮光層、上記透光性表示部の表面をクリア層によりオーバーコーティングするクリア層形成工程を備えていてもよい。
このクリア層は、上記遮光層及び上記透光性表示部の全面に形成されていてもよいし、部分的に形成されていてもよい。特に、前記透光性表示部を極力薄く形成し、遮光層を含めて全面に形成すれば、剥離時の作業性を向上させることができ、且つ透光性表示部の画線の乱れをより抑制することができる。更には、パネル表面の耐傷付き性を向上させることができる。
尚、このクリア層は、吹付け塗装、タンポ印刷及びシルク印刷等の方法により形成することができる

また、本発明の透光式表示パネルの製造方法は、上記基板の遮光層が形成された面と反対側の面に調光層を形成する調光層形成工程を備えていてもよい。例えば、図８に示すように、透光性基板１の裏面側（遮光層が形成された面と反対側の面側）の透光性表示部３１に対応する部分に調光層６１、６２が配設されたものを得ることができる。
更に、本発明の透光式表示パネルの製造方法は、上記基板の裏面側（遮光層が形成された面と反対側）に調光層が形成されて光源からの光を上記透光性基板にガイドするライトガイドを配設するライトガイド配設工程を備えていてもよい。例えば、図９に示すように、透光性基板１の裏面側（遮光層が形成された面と反対側の面側）に、調光層６３を備えるライトガイド７、いわゆる導光板が配設されたものを得ることができる。

上記調光層は、基板の一面の全面に渡って連続的に形成されていてもよいし、部分的に形成されていてもよい。また、調光層が連続的であっても、部分的であっても、それらの全面が印刷により形成されていてもよいし、網点状に印刷され、形成されていてもよい。更に、調光は、濃淡を付与することにより行うことができるが、これに色調の変化を併用することもできる。また、網点状に印刷する場合は、網点の大きさ、網点の密度等により濃淡を付与し、調光することもできる。

調光層、又は調光層を有するライトガイドを形成した場合には、本製造方法により得られる透光式表示パネルを裏面（遮光層が形成された面と反対側の面）からの光源８（図８及び９参照）により表示部を視認する透過照明式表示パネルとして用いた際に、例えば、表示部の全体を均一な照度にすることができる。特に透光性基板の裏面側（遮光層が形成された面と反対側の面側）に殆ど空間を確保することができない場合には、ライトガイドの配設がより有効的である。また、このような調光層又は調光層が形成されたライトガイドを、照度を均一にするためではなく、透光性基板を通して多彩な表示性が得られるように利用することもできる。例えば、透光性表示部の一部を遮光するように調光層を形成することで、印刷では不可能なより深みのある色彩を表示することが可能となる。

調光層の印刷手段は特に限定されず、公知の方法を用いることができるが、インクジェット方式による印刷が好ましい。
また、上記ライトガイドとしては、優れた透明性を有するアクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等からなる一般的に使用されているものをそのまま用いることができる。

尚、上記調光層形成工程や上記ライトガイド配設工程が行われる順序は、所望の透光式表示パネルが得られる限り限定されないが、前記剥離工程後（透光性表示部が形成された後）に行われることが好ましい。

以下、図面に基づいて実施例により本発明を具体的に説明する。
実施例１
［１］透光式表示パネルの製造
（１）表示パネル用基板Ａの製造
図３に示すように、アクリル系樹脂により構成され且つ透光性を有する基板１の表面（視認される側）に、シルク印刷法により、黒色系の遮光部（下層部）と、明色系の色調（銀色系）の表層部とを備える遮光層２０［膜厚；３０μｍ（遮光部：１５μｍ、表層部：１５μｍ）］を形成した後、遮光層２０の表面に、カーボンブラックを配合した水性のノリ剤（株式会社ミノグループ製、商品名「アクアマスキング」）を、スプレー塗布法により塗布して、剥離層４（膜厚；８μｍ）を形成し、表示パネル基板Ａを得た。

（２）切り欠き部２２の形成（切り欠き部形成工程）
図４に示すように、剥離層４上から、レーザーマーキング加工（使用装置；レーザーマーキング装置、株式会社キーエンス製、型式「ＭＤ−Ｙ９７００」）を行い、所定部分の剥離層４及び遮光層２０を焼失させ、所定パターンの切り欠き部２２を形成した。この際、焼失された層の分解生成物は全て、剥離層４上に付着しており、切り欠き部２２を有する遮光層２１には何の影響もなかった。

（３）透光性表示層３０の形成（透光性表示層形成工程）
図５に示すように、上記（２）で形成された切り欠き部２２及びその周辺の剥離層４上に、インクジェット方式の印刷により透光性塗料を塗布し、透光性表示層３０（膜厚；２μｍ）を形成した。尚、この際、切り欠き部の側面側に形成される透光性表示層３０の膜厚を透光性基板１から離れるにつれて薄くなるように傾斜させた。

（４）剥離層４の剥離（剥離工程）
図６に示すように、余分な透光性表示層３２及び剥離層４の表面に、粘着テープ５を当接させ、この粘着テープ５を引っ張ることにより、剥離層４を剥離させると共に余分な透光性表示層３２を必要部分と断裂させ、透光性基板１と、この透光性基板１の表面に形成され且つ所定パターンの切り欠き部２２を有する遮光層２１と、切り欠き部２２に形成された透光性表示部３１と、を備える透光式表示パネル（図１参照）を製造した。

［２］透光式表示パネルの評価
実施例１の透光式表示パネルでは、レーザーマーキング加工により生じる生成分解物の遮光層への付着は全く見られなかった。また、レーザーマーキング加工よりも後に透光性表示部を形成しているため、この表示部がレーザー照射により損傷を受けることもなかった。
更には、切り欠き部の側面側に形成される透光性表示層の膜厚を透光性基板から離れるにつれて薄くなるように傾斜させたため、剥離層上の余分な透光性表示層を剥離層と共に容易に断裂除去することができた。
上記のことから、本発明の製造方法によれば、レーザーマーキング加工による分解生成物の付着等の影響がなく、ピンホールやスジ模様のない透光性表示部及び遮光層を備える透光式表示パネルを遮光層等の色調の制約を受けず且つ容易に形成することができた。

尚、本発明においては、上記の具体的な実施例に示すものに限られず、目的、用途に応じて本発明の範囲内で種々変更した実施例とすることができる。例えば、図２に示すように、遮光層２１及び透光性表示部３１を基板１の裏面に形成することもできる。更には、図７に示すように、透光性表示層形成工程において、各々の切り欠き部２２に対して透光性表示層３０を形成することもできる。尚、この図７の態様においては、湾曲した基板１を用いている。

透光式表示パネルの一例を模式的に示す断面図である。 透光式表示パネルの一例を模式的に示す断面図である。 本発明の透光式表示パネルの製造方法を模式的に示す説明図である。 本発明の透光式表示パネルの製造方法を模式的に示す説明図である。 本発明の透光式表示パネルの製造方法を模式的に示す説明図である。 本発明の透光式表示パネルの製造方法を模式的に示す説明図である。 本発明の透光式表示パネルの製造方法の一例を模式的に示す説明図である。 調光層が設けられた透光式表示パネルの一例を模式的に示す断面図である。 調光層が形成されたライトガイドが配設された透光式表示パネルの一例を模式的に示す断面図である。

符号の説明

１；透光性基板、２０；遮光層、２１；切り欠き部を有する遮光層、２２；切り欠き部、３０；透光性表示層、３１；透光性表示部、３２；余分な透光性表示層、４；剥離層、５；粘着テープ、６１、６２、６３；調光層、７；ライトガイド、８；光源、Ａ；表示パネル用基板。

Claims (8)

1. 透光性基板と、
   該透光性基板の一方の面に形成された遮光層と、
   該遮光層の該透光性基板側とは反対の面に形成された剥離層と、を備える表示パネル用基板の該剥離層側からレーザーマーキング加工を行い、該剥離層及び該遮光層に所定パターンの切り欠き部を形成する切り欠き部形成工程と、
   少なくとも、該透光性基板の上記一方の面のうち該切り欠き部の底に位置する部分、
   該切り欠き部の内側面に位置する該遮光層及び該剥離層の切断面部分、及び
   該剥離層の該遮光層側とは反対の面のうち該剥離層側から該切り欠き部をみたときに該切り欠き部の縁に位置する部分、に透光性表示層を形成する透光性表示層形成工程と、
   上記剥離層上に、粘着テープを当接させ、該粘着テープを引っ張ることにより、該剥離層を剥離する剥離工程と、を備える透光式表示パネルの製造方法であって、
   該剥離工程においては、該透光性表示層のうちの、該切り欠き部の底に位置する部分と、その他の部分とを断裂させて、該切り欠き部の底に位置する部分を残すとともに、その他の部分は該剥離層とともに剥離除去することを特徴とする透光式表示パネルの製造方法。
2. 上記表示パネル用基板を形成する表示パネル用基板形成工程を更に備える請求項１に記載の透光式表示パネルの製造方法。
3. 上記透光性基板の該遮光層が形成された面と反対側の面に、調光層を形成する調光層形成工程を更に備える請求項１又は２に記載の透光式表示パネルの製造方法。
4. 上記透光性基板の該遮光層が形成された面と反対側に、調光層が形成されて光源からの光を上記透光性基板にガイドするライトガイドを配設するライトガイド配設工程を更に備える請求項１又は２に記載の透光式表示パネルの製造方法。
5. 上記透光性表示層の形成は、インクジェット方式の印刷で行う請求項１乃至４のいずれかに記載の透光式表示パネルの製造方法。
6. 上記遮光層は、明色系の色調の表層部を備える請求項１乃至５のいずれかに記載の透光式表示パネルの製造方法。
7. 上記明色系の色調が、白色系、クリーム色系、銀色系及び金色系の色調のうちのいずれかである請求項６に記載の透光式表示パネルの製造方法。
8. 上記透光性表示層の膜厚は、１０μｍ以下である請求項１乃至７のいずれかに記載の透光式表示パネルの製造方法。

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