JP4635949B2 - 発光分析装置 - Google Patents

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Description

本発明は、放電により試料の構成原子を蒸発・発光させて、その発光強度を測定することにより試料の元素組成を分析する発光分析装置に関する。特に、金属試料と放電電極との間に大電流のスパーク放電を発生させて、短時間に多元素同時分析を行うことを特徴とする発光分析装置に関する。
発光分析装置では、金属試料と放電電極との間(放電ギャップ)にスパーク放電を発生させる。大電流の放電により、金属試料の表面の原子を蒸発させると同時に、放電プラズマによってこの原子を励起する。励起された原子は、それぞれの元素固有の線スペクトルで発光するため、この光を分光器に導入し、特定の波長の光の強度を測定することによって、プラズマ中に存在する元素の量が特定される。複数の波長の光を同時に測定することにより、プラズマ中の各種の元素の量が判明し、その情報から金属試料を構成していた元素の組成を特定することができる。
従来の発光分析装置(図3)では、主放電電源12とイグナイタ回路13が、金属試料32と電極31により形成される放電ギャップ11に接続されており、主放電電流経路を形成している。主放電電源12では、コンデンサが数百Vに充電されており、放電ギャップ11(金属試料32と電極31との間隙)に放電が開始した後に、大電流のスパーク放電を形成するためのエネルギーを供給する。制御装置14は、主放電電源12やイグナイタ回路13の充電電圧やタイミングなどを制御する。
分析中の試料表面状態の変化を避けるために、金属試料32と電極31との間隙は、通常希ガスなどで満たされている。金属試料32と電極31は、数mm程度の間隔をおいて配置されており、数百Vの電圧印加により放電が開始することはない。イグナイタ回路13は、イグニッショントランス21の二次コイルに発生させた10kV程度の高電圧を電極31に印加することにより、放電を開始させるのに使用される。
イグニッショントランス21の一次コイルには励磁電源23と電流制御装置22が接続されており、励磁電流経路を形成している。まず、電流制御装置22を導通状態にすることにより、励磁電源23から一次コイルへ電流を流して、一次コイルを励磁する。この時、放電ギャップ11には、主放電電源12のコンデンサに充電された電圧がイグニッショントランス21の二次コイルを通して印加されているが、電圧が低いため放電は開始しない。
一次コイルに所定の電流を流している時に、電流制御装置22を遮断状態にすることにより、イグニッショントランス21に蓄えられた磁気エネルギーは、二次コイルに10kV以上の誘導電圧を発生し、放電ギャップ11(金属試料32と電極31との間隙)を絶縁破壊して放電を開始させる。
一旦放電が始まると、主放電電源12からイグニッショントランス21の二次コイルを通して放電ギャップ11にエネルギーが供給されて放電電流は急速に増加し、放電ギャップ11に高エネルギーのスパーク放電が形成される。この時、金属試料32の表面は局所的に高温になり、試料を構成する原子の蒸発が開始する。
蒸発した原子は、プラズマ中の電子により励起される。そして、励起された原子が安定な状態にもどるときに、そのエネルギー差に相当する波長の光を発する。それぞれの元素には固有のエネルギー準位が存在するため、光の波長も元素固有の線スペクトルを形成する。このプラズマ中の発光を効率良く分光器に導入し、複数の元素のそれぞれについて、元素固有の光の強度を同時に測定する。それぞれの波長の光強度は、単純に元素の組成比に比例しているわけではない。しかし、それぞれの元素の量には概ね比例しているため、あらかじめ発光強度と元素の量との関係を求めておくことにより、発光強度を元素の量に換算して、元素組成を決定することが可能になる。
ただし、スパーク放電で発生したプラズマは、試料表面の状態などにより放電条件が異なるため、複数回の放電では蒸発する元素の量や発光強度は必ずしも一定ではなく、毎回ランダムに変化することになる。このため、多数の測定を繰り返し、得られた発光強度の信号に積算や平均化の処理を行うことで、測定値の確度を高めている。また、測定の開始時は、発光強度の測定を行わずに放電のみを行って(予備放電)、金属試料32と電極31の表面状態が安定するのを待ち、その後に分析を行うことにより測定値の確度を高めている。
試料表面は放電により削られてゆくので、適当な回数の測定を行う度に、試料表面の測定部位を移動したり、試料表面を再研磨したりして、放電条件をできるだけ一定に保つように注意が払われている。
一方、放電により金属試料32の表面から蒸発した原子は、周辺の絶縁体や電極31の表面に付着する。絶縁体には、放電プラズマから見えない部分を作るなどして絶縁を確保するが、電極31は常に金属試料32やプラズマに面しており、電極31の先端部には試料から蒸発した堆積物が付着して放電条件を変化させる。そして、最終的には正常な放電を阻害する。このため、分析試料の研磨と同時に電極31の研磨作業も必要になり、分析作業の他に余分なメンテナンス作業が発生するため、装置の稼働率を減少させる。
特許文献1に記載の先行技術においては、上記の電極31の研磨作業の負担を軽減するために、主放電の電流の向き(極性)を反転させて、電極31上の堆積物を除去するという技術が開示されている。
図4は、この先行技術を利用した発光分析装置の構成図である。図3の構成では主放電電源12は極性が固定されたものであったが、図4の構成では極性反転が可能な主放電電源15を使用する。ただし、主放電電源15の極性のみを反転させるだけでは、安定な放電が得られないため、イグナイタ回路内部に補助放電ギャップ24を設けて、イグニッショントランスを主放電電流経路から切り離している。
放電が開始する時の放電ギャップ11の電圧(放電開始電圧)は、その時の電極31や金属試料32の表面の状態などによって変化する。イグニッショントランス21の磁気エネルギーは、電気エネルギーに変換される際に二次側の容量負荷を充電して放電開始電圧より高い電圧を発生できるように、充分なエネルギーが与えられる。したがって、図3の構成で放電が開始した時には、イグニッショントランス21にはまだ磁気エネルギーが残っており、放電開始時と同じ向きの電流を維持する。このため、主放電電源の電圧極性を反転させた時には、逆向きの主放電電流をうまく立ち上げることができない。
図4においては、イグニッショントランス21と主放電電源15を並列に接続することで、放電開始時の電流と、主放電電流の向きが逆の場合においても、安定にスパーク放電を立ち上げることを可能にしている。イグニッショントランス21と主放電電源15が並列に接続されているため、補助放電ギャップ24を用いてイグニッショントランス21を主放電電源15からDC的に切り離して、主放電電源15のコンデンサからイグニッショントランス21へと放電してしまうのを防いでいる。イグニッショントランス24に高電圧が発生した際に、補助放電ギャップ24は絶縁破壊して電極31に高電圧を印加し、引き続いて放電ギャップ11を絶縁破壊して放電を開始する。一旦放電が開始して、電極31の電圧が低下すると、補助放電ギャップ24の電極間の放電は止まり、主放電電源15から放電ギャップ11への主放電電流のみが増加してスパーク放電を形成する。この図4に示した発光分析装置において、主放電電流の極性を反転させることにより、電極31上の堆積物を除去することが可能となり、電極31の研磨作業の負担を軽減することが可能となった。
実公昭56−47564号公報
従来の発光分析装置においては、多数のスパーク放電を行うことにより、電極31上に試料電極から蒸発した堆積物が形成され、これを除去するための電極31の研磨作業が負担となっていた。図4に示される先行技術においては、逆極性の放電により電極31上の堆積物を除去することにより、電極31の研磨作業の負担を軽減した。
しかし、補助電極ギャップ24にも、電流量は小さいが、放電ギャップ11と同様の放電電流が流れるため、補助電極ギャップ24の電極も研磨作業を行う必要が生じる。電極研磨作業の頻度は低下したが、依然として分析作業の他に余分なメンテナンス作業が発生するため、装置の稼働率を減少させるという問題が発生する。
上記課題を解決するために、本願発明においては、放電ギャップと前記放電ギャップに放電を開始させるためのイグナイタ回路と前記放電ギャップに放電を維持する主放電電源を有する発光分析装置において、前記イグナイタ回路は、イグニッショントランスと一対の電流制御装置と励磁電源とを有し、前記イグニッショントランスの二次コイルには前記放電ギャップと前記主放電電源が直列に接続されて主放電電流経路を形成し、前記イグニッショントランスの一次コイルには前記一対の電流制御装置と前記励磁電源が直列に接続されて励磁電流経路を形成し、さらに前記一対の電流制御装置は、互いに逆の極性で接続されることを特徴とする発光分析装置が提供される。
さらに、本願発明による発光分析装置においては、前記励磁電源の電圧極性を反転することにより、前記イグニッショントランスの二次コイルに発生させる高電圧の極性を反転することを特徴とする。
さらに、本願発明による発光分析装置においては、前記励磁電源の電圧極性の反転と同時に、前記主放電電源の電圧極性を反転することにより、主放電電流の向きを反転することを特徴とする。
さらに、本願発明による発光分析装置においては、前記電流制御装置は、一つの、あるいは並列に接続された複数のパワー系スイッチング素子により構成されることを特徴とする。
さらに、本願発明による発光分析装置においては、前記励磁電源回路は、コンデンサと充電回路から構成され、前記イグニッショントランスの二次コイルに発生させる高電圧の極性に応じて、前記コンデンサの充電電圧の極性を切り換えることを特徴とする。
本発明に係る発光分析装置によれば、主放電電流の向きを反転して、電極31上の堆積物を除去することにより、電極31の研磨作業の負担を軽減する。また、補助電極ギャップを使用しないため、余計な電極の研磨作業を行う必要が生じない。
電極研磨作業の頻度を大幅に低下させることによって、分析作業の他に余分なメンテナンス作業が発生せず、装置の稼働率を向上させる。
以下、本発明に係る発光分析装置を図面を参照して詳細に説明する。図1は、発光分析装置の構成図の一例であり、図3乃至図4と同じものには同じ番号が付してある。装置の構成は、図3に示した従来技術に係る発光分析装置と類似している。主放電電源15とイグナイタ回路13が、金属試料32と電極31により形成される放電ギャップ11に接続されて、主放電電流経路を形成している。主放電電源15では、コンデンサが数百Vに充電されており、放電ギャップ11(金属試料32と電極31との間隙)に放電が開始した後に、大電流のスパーク放電を形成するためのエネルギーを供給する。制御装置14は、主放電電源15やイグナイタ回路13の充電電圧やタイミング及び電圧極性などを制御する。
イグニッショントランス21の一次コイルには励磁電源40と一対の電流制御装置22、25が直列に接続されており、励磁電流経路を形成している。一対の電流制御装置22、25は、互いに逆の極性で接続される。図1では電流制御装置の一例としてMOSFETが使用されている。IGBTなどの、別の電流制御装置を用いてもかまわない。また、電流量を大きくするために、複数のMOSFETやIGBTなどを並列接続したものを一つの電流制御装置として使用しても良い。この実施例においては、イグニッショントランス21の一次コイルの両端に、一対の電流制御装置22、25のドレイン端子が接続されている。電流制御装置22、25が励磁電流経路に沿って逆向きに配置されていれば、両方共にイグニッショントランス21の片側に接続しても原理的にはかまわない。しかし、イグニッショントランス21に高電圧が発生するときに、電流制御装置22、25の制御端子や励磁電源40の電圧変動を小さくするためには、図1のごとく、MOSFETのドレイン端子をイグニッショントランス21の一次コイルに接続する形態がより好ましい。
励磁電源40の構成の一例を図2に示す。イグニッショントランス21の励磁電流は、コンデンサ41から一対の電流制御装置22、25を通して一次コイルへと供給される。このため、励磁を行う前にはコンデンサ41を適当な電圧に充電しておく必要がある。さらに、放電電流の極性を反転する際には、コンデンサ41の充電電圧も反転する必要がある。このため、コンデンサ41には充電電圧切り換え器42a、42bと充電用電源43が接続されている。図2には明示されていないが、充電用電源43には充電のタイミングを制御するためのアナログスイッチやリレー等の素子が含まれており、制御装置14の信号に応じたタイミングで充電電圧や電圧極性、充電のタイミングが制御される。
図2に示した充電電圧切り換え器42a、42bの極性状態でのイグナイタ回路13の動作を説明する。あらかじめコンデンサ41を充電した後に、電流制御装置22を導通状態にする。電流制御装置25は、MOSFETなどの場合は、通常ボディーダイオードによってこの極性に対しては自動的に導通状態になっているが、順方向電圧降下による損失を防ぐためには、ゲート電圧を操作して積極的に導通状態にしても良い。あるいは、ボディーダイオードなどがなく、自動的に導通状態にならないタイプの電流制御装置である場合には、積極的に導通状態にする必要がある。
一次コイルの電流が所定の電流値に達した時に、電流制御装置22を遮断状態にする。励磁されたイグニッショントランス21は、一次コイルや二次コイルの線間容量や浮遊容量を含んだ負荷容量を充電しながら次第にエネルギーを失って行く。二次コイルに高電圧を発生させるために、二次コイルの巻数は大きくしてあるため、二次側の容量の影響が大きく、容量ができるだけ小さくなるように配慮されている。二次コイルに接続された放電ギャップ11に充分な高電圧が発生すると、放電ギャップ11(金属試料32と電極31との間隙)が絶縁破壊して放電が開始する。
放電が開始する電圧は、電極31や金属試料32の表面状態などに依存して毎回変動するために、イグニッショントランス21の励磁エネルギーは、余分に与えてある。このため、放電が開始した直後は、残りの磁気エネルギーによって電流が持続される。主放電電源15には、この電流を増加させる向きの電圧が印加されているので、放電電流は時間と共に増加し、放電ギャップ11に高エネルギーのスパーク放電が形成される。
多くの試料構成原子を蒸発させるためには、主放電電流を大きくして、短時間に金属試料32の表面を高温に加熱する必要がある。このため。イグニッショントランス21の二次コイルのインダクタンスはできるだけ小さくなるように構成される。また、二次コイルに高電圧を発生させた時に、一次コイルに発生する電圧を、電流制御装置22、25が使用しうる実用的な電圧値(例えば1kV)に抑えるために、一次コイルのインダクタンスはさらに小さくなる。このため、所望の励磁エネルギーを得るために一次コイルに流す励磁電流は100Aを超える大電流となる。
このように、高電圧かつ大電流が発生する一次コイルでは、電流の極性を切り換えるために、通常のリレーなどを使用することは、耐電圧や電流容量の点から不可能となる。MOSFET等の電流制御装置22、25は、比較的容易に100Aを超える大電流を制御することができるが、通常は単一の極性で使用するように設計されている。そこで、一対の電流制御装置22、25を図1や図2に示すように励磁電流経路に沿って逆向きに接続すれば、電流の極性を切り換えた時に、どちらか一方の電流制御装置はその電流を遮断することができ、さらにドレイン端子に発生する高電圧に耐えることができる。励磁電源40に接続されているソース端子や、制御装置14に接続されているゲート端子は、一次コイルの両端に発生する例えば1kV程度の高電圧パルスによる影響を受けず、誤動作を防ぐことができる。
電極31に付着した堆積物を除去するために反対極性の放電を行う際には、主放電電源に充電する電圧を反転させておき、さらに充電電圧切り換え器42a、42bの電圧を切り換えて、励磁電源40内部のコンデンサ41の充電電圧を反転させておく。電流制御装置25を導通状態にすることで、励磁電流を逆向きに流す。この時、電流制御装置22は、先に示したごとく、電流が流れる状態にさえしておけば良い。電流制御装置25を遮断状態にすることで、イグニッショントランス21の二次コイルに発生する高電圧の極性も反転し、逆極性に充電された主放電電源15により、主放電電流が逆向きのスパーク放電が形成される。
このように、本願発明の発光分析装置によれば、逆極性のスパーク放電を容易に発生することができ、試料から蒸発して電極31の先端部に付着した堆積物を除去することが可能となる。さらに、補助放電ギャップを使用しないために、補助放電ギャップの電極の研磨などの作業が必要になることもない。このため、電極研磨作業の頻度を大幅に低下させることによって、分析作業の他に余分なメンテナンス作業が発生せず、装置の稼働率を向上させる。
また、上記実施例は本発明の単に一例にすぎず、本発明の趣旨の範囲で適宜変更や修正したものも本発明に包含されることは明らかである。
本発明の一実施例である発光分析装置の構成図。 本発明の一実施例である発光分析装置のイグナイタ回路の構成図。 従来技術による発光分析装置の構成図。 従来技術による別の発光分析装置の構成図。
符号の説明
11・・・放電ギャップ
12・・・主放電電源
13・・・イグナイタ回路
14・・・制御装置
15・・・主放電電源
21・・・イグニッショントランス
22・・・電流制御装置
23・・・励磁電源
24・・・補助放電ギャップ
25・・・電流制御装置
31・・・電極
32・・・金属試料
40・・・励磁電源
41・・・コンデンサ
42a、42b・・・充電電圧極性切り換え器
43・・・充電用電源

Claims (5)

  1. 放電ギャップと前記放電ギャップに放電を開始させるためのイグナイタ回路と前記放電ギャップに放電を維持する主放電電源を有する発光分析装置において、
    前記イグナイタ回路は、イグニッショントランスと一対の電流制御装置と励磁電源とを有し、
    前記イグニッショントランスの二次コイルには前記放電ギャップと前記主放電電源が直列に接続されて主放電電流経路を形成し、
    前記イグニッショントランスの一次コイルには前記一対の電流制御装置と前記励磁電源が直列に接続されて励磁電流経路を形成し、
    さらに前記一対の電流制御装置は、互いに逆の極性で接続されることを特徴とする発光分析装置。
  2. 請求項1に記載の発光分析装置において、
    前記励磁電源の電圧極性を反転することにより、前記イグニッショントランスの二次コイルに発生させる高電圧の極性を反転することを特徴とする発光分析装置。
  3. 請求項1から2に記載の発光分析装置において、
    前記励磁電源の電圧極性の反転と同時に、前記主放電電源の電圧極性を反転することにより、主放電電流の向きを反転することを特徴とする発光分析装置。
  4. 請求項1から3に記載の発光分析装置において、
    前記電流制御装置は、一つの、あるいは並列に接続された複数の、パワー系スイッチング素子により構成されることを特徴とする発光分析装置。
  5. 請求項1から4に記載の発光分析装置において、
    前記励磁電源回路は、コンデンサと充電回路から構成され、前記イグニッショントランスの二次コイルに発生させる高電圧の極性に応じて、前記コンデンサの充電電圧の極性を切り換えることを特徴とする発光分析装置。
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7643267B2 (en) * 2007-03-15 2010-01-05 Shimadzu Corporation Optical emission spectrometry device
JP5472310B2 (ja) * 2009-10-23 2014-04-16 株式会社島津製作所 パルス電圧発生回路、放電回路及びこれらを用いた発光分析装置
US9072169B1 (en) 2010-07-13 2015-06-30 Cascodium Inc. Pulse generator and systems and methods for using same
WO2012048308A2 (en) * 2010-10-08 2012-04-12 Photon Machines, Inc. Spark emission particle detector
CN104456622A (zh) * 2014-12-19 2015-03-25 陈廷 燃气加热装置
CN111175286A (zh) * 2020-02-09 2020-05-19 重庆邮电大学 一种具备自动点火功能的液态电极等离子体激发光源系统及其控制方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5647564Y2 (ja) * 1977-11-29 1981-11-06
JPS5851258U (ja) * 1981-09-30 1983-04-07 株式会社島津製作所 発光分析用スパ−ク光源装置
JPH08159973A (ja) * 1994-12-03 1996-06-21 Shimadzu Corp 火花放電発光分析装置
JPH11230017A (ja) * 1998-02-12 1999-08-24 Ngk Spark Plug Co Ltd 内燃機関の点火方法および内燃機関用点火装置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5647564A (en) 1979-09-26 1981-04-30 Ulvac Corp Operation of magnetron-type sputtering device
US4763045A (en) * 1987-05-04 1988-08-09 Bang H. Mo Spark ignitor generated by capacitor discharge synchronized with alternate current power frequency
ES2212824T3 (es) * 1998-09-15 2004-08-01 Quality Light Electronics S.A.S. Di Francesco Celso E C. Dispositivo de ignicion de resonancia para lamparas de descarga.
US6584965B1 (en) * 1999-02-20 2003-07-01 Michael A. V. Ward High efficiency high energy firing rate CD ignition
GB2371687B (en) * 2001-01-25 2005-04-06 Power Gems Ltd Hot-restrike ignition system for a high-frequency high-intensity discharge lamp assembly

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5647564Y2 (ja) * 1977-11-29 1981-11-06
JPS5851258U (ja) * 1981-09-30 1983-04-07 株式会社島津製作所 発光分析用スパ−ク光源装置
JPH08159973A (ja) * 1994-12-03 1996-06-21 Shimadzu Corp 火花放電発光分析装置
JPH11230017A (ja) * 1998-02-12 1999-08-24 Ngk Spark Plug Co Ltd 内燃機関の点火方法および内燃機関用点火装置

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