JP4633815B2 - 球面研磨装置 - Google Patents

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Description

本発明は、レンズ等の球面を研磨する球面研磨装置に関して、特に真球度の高い研磨加工面を熟練度を要することなく得る事に好適な球面研磨装置に関するものである。
近年、デジタル技術の進展により高精細な撮像システムが求められている。これに伴って、光学設計、機構設計に基づいた各々のレンズエレメントに対しても、要求精度が厳しくなっている。
更には高倍率ズームシステムの一般化によりその構成レンズエレメントも増大する一方である。従って、安価で高精度なレンズエレメントが求められている。
これに対応する研磨装置の一例として特許文献1のレンズ研磨装置がある。このレンズ研磨装置は、回転する研磨皿の上面に研磨対象のレンズを載せて、揺動機構でそのレンズを前後左右に揺動させて、レンズを研磨するものである。
特開2004−255492号公報
ところで、前記従来の研磨装置では、これまで要求されてきたような精度のレンズを研磨するのには特に問題なく対応することができる。
しかし、要求精度が厳しくなってくると、前記の研磨装置では対応できなくなる。この研磨装置の場合、研磨皿の上面でレンズを前後左右へ往復運動させて研磨するが、この場合、運動の方向が変化する。このため、往復運動の両端部で静止点が2つ生じてしまい、不連続な運動になる。また、往復運動の途中と両端部で、レンズに加わる圧力も微妙に変化して、正確に一定値にはならない。
レンズ加工においては、部分的ストレスをレンズに与えないことが、レンズ球面の精度を高める上で重要であるが、従来の研磨装置では、レンズの運動が不連続になると共にレンズに加わる圧力も微妙に変化してしまい、厳しい要求精度に対応することが難しいという問題がある。
本発明は、前記課題を解決するためになされたもので、光学素子の表面を球面研磨皿に摺り合わせてその表面を球面状に研磨する球面研磨装置において、前記光学素子を、傾斜させた前記球面研磨皿に当てた状態で支持する研磨シャフトと、軸心が、前記光学素子の表面の研磨目標球面の曲率中心を通り前記研磨シャフトを連続回転させる回転駆動部と、当該回転駆動部と前記研磨シャフトとの間に設けられ、前記研磨目標球面の曲率中心を中心とする球面の一部又は円筒面の一部である曲面を有し、この曲面に沿って前記研磨シャフトをずらすことで当該研磨シャフトをその軸心又は軸心の延長線が前記曲率中心を常に通るように傾けて支持して当該研磨シャフトの先端が前記曲率中心を支点として円運動し、当該研磨シャフトの先端の円運動に伴って当該研磨シャフトに支持された前記光学素子を前記研磨目標球面に沿って、前記傾斜した球面研磨皿上を移動させる支持機構とを備えたことを特徴とする。
レンズ等の光学素子の運動が連続になると共に光学素子に加わる圧力も一定に保つことができ、高い精度で球面を研磨することができる。
以下、本発明の実施形態に係る球面研磨装置について図面を参照しながら詳述する。図1は本実施形態に係る球面研磨装置を示す概略構成図、図2は球面研磨装置の動作を示す模式図である。
本実施形態の球面研磨装置は、光学素子の表面を球面研磨皿に摺り合わせてその表面を球面状に研磨するための装置である。研磨する光学素子としては、球面レンズや球面鏡等がある。ここでは、レンズを例に説明する。また、本発明の特徴は、レンズの表面を研磨仕上げした状態の表面(レンズの回転速度等の諸条件に応じて僅かに目標寸法を変える場合はその寸法の表面)である研磨目標球面の曲率中心を中心として、研磨シャフト、球面研磨皿等を配設した点にある。このため、他の構成部分は公知の全ての球面研磨装置を用いることができる。
本実施形態の球面研磨装置1は、図1に示すように主に、研磨シャフト2と、回転駆動部3と、支持機構4と、研磨皿回転駆動部5とから構成されている。
なお、被研磨レンズ7の表面の前記研磨目標球面の曲率中心を中心Gとする。ここでは、支持機構4が後述する球面状のスライド面を有するため、中心Gは前記研磨目標球面の球心となる。
研磨シャフト2は、被研磨レンズ7を球面研磨皿8に当てた状態で支持するためのシャフトである。この研磨シャフト2は、その軸心又は軸心の延長線が前記中心Gを常に通るように設定されている。研磨シャフト2の先端には、レンズホルダー10の支持凹部11に嵌合して被研磨レンズ7を1点で支持するための支持ピン12が設けられている。研磨シャフト2は伸縮可能に形成されている。これにより、研磨シャフト2は、被研磨レンズ7が凸レンズの場合はその凸面を研磨することになるが、この場合は図1の実線のように、前記研磨目標球面の曲率中心である前記中心Gよりも長く伸ばされる。また、被研磨レンズ7が凹レンズの場合は図1の仮想線のように、前記中心Gよりも短く縮められる。
回転駆動部3は研磨シャフト2を回転させる駆動部である。この回転駆動部3は、その回転軸(図示せず)の軸心が前記中心Gを通るように設定されている。回転駆動部3は、駆動モータ等を備えて構成されている。なお、回転駆動部3としては、公知の種々のものを用いることができる。例えば、外部の駆動源からベルト等でトルクが伝達される構造でもよい。この回転駆動部3には、加圧装置(図示せず)が設けられる。この加圧装置としては既存の球面研磨装置に設けられている全ての加圧装置を用いることができる。
この回転駆動部3によって、研磨シャフト2が中心Gを基準にして回転すると共に設定圧力で加圧されるようになっている。この設定圧力は、被研磨レンズ7や研磨シャフト2の回転速度等の諸条件に応じて適宜設定される。
支持機構4は、前記研磨シャフト2をずらすことでこの研磨シャフト2を前記中心Gを中心として傾けるための機構である。具体的には支持機構4は、回転駆動部3と研磨シャフト2との間に設けられて、前記研磨目標球面の曲率中心を中心とする球面状の曲面を有し、この曲面に沿って研磨シャフト2をずらすことでこの研磨シャフト2をその軸心又は軸心の延長線が前記曲率中心を常に通るように傾けて支持し、回転駆動部3による研磨シャフト2の回転に伴ってこの研磨シャフト2に支持された被研磨レンズ7を前記研磨目標球面に沿って移動させるための機構である。
支持機構4は主に、基板4Aと、可動板4Bとから構成されている。基板4Aは可動板4Bをスライド可能に支持するための部材である。基板4Aは、回転駆動部3の回転軸に連結されて、回転駆動部3によって定位置で回転されるようになっている。基板4Aの下側面には、可動板4Bとスライド可能に接触するための基板側スライド面4Cが形成されている。この基板側スライド面4Cは、前記研磨目標球面S1の曲率中心である中心Gを中心とする曲面状に形成されている。基板側スライド面4Cは具体的には、球面状に(球面S2の一部として)形成されている。
可動板4Bは、基板4Aにスライド可能に支持され、この基板4Aに対してスライドさせることで研磨シャフト2を中心Gを中心として傾けるための部材である。可動板4Bの上側面には、基板4Aの基板側スライド面4Cとスライド可能に接触するための可動板側スライド面4Dが形成されている。この可動板側スライド面4Dは、基板4Aの基板側スライド面4Cと同様に、前記研磨目標球面の曲率中心である中心Gを中心とする球面状に形成されている。可動板4Bの下側面には、研磨シャフト2が一体的に固定されている。この研磨シャフト2は、その軸心が前記研磨目標球面の曲率中心である前記中心Gを通るように設定して取り付けられている。
基板4Aと可動板4Bとの間は固定手段で固定される。この固定手段としては、種々のものを用いることができる。例えば、通しボルトと、座金で構成しても良い。基板4Aと可動板4Bに、通しボルトの直径よりも大きい内径のボルト穴を設けて、基板4Aと可動板4Bとが互いにずらすことができるようにして、ボルト穴よりも広い座金を取り付けた通しボルトで基板4Aと可動板4Bとを互いに固定するようにしても良い。他の構成の固定手段を設けても良く、公知手段を全て用いることができる。
研磨皿回転駆動部5は、球面研磨皿8を支持して回転させるための装置である。研磨皿回転駆動部5は、球面研磨装置本体に取り付けられて、研磨シャフト2の下方に位置している。研磨皿回転駆動部5は、球面研磨皿8を回転可能に支持すると共に、上下に移動可能に設けられている。球面研磨皿8は、研磨シャフト2の伸縮に合わせてその高さが調整される。この機構の具体的な構成は例えば、球面研磨皿8に回転軸が取り付けられた駆動モータ(図示せず)と、この駆動モータを上下に移動させる昇降機構(図示せず)とから構成される。球面研磨皿8は、研磨皿回転駆動部5に着脱可能に取り付けられている。球面研磨皿8の着脱手段としては、公知の全ての手段を用いることができる。
さらに、研磨皿回転駆動部5には、その回転軸を適宜傾斜させる傾斜機構(図示せず)が設けられている。この傾斜機構は、研磨皿回転駆動部5に取り付けられた球面研磨皿8の研磨面が、中心Gを中心とした前記研磨目標球面S1に沿った移動するように構成される。傾斜機構の具体的な構成は、この動作ができる既存の機構すべてを用いることができる。
球面研磨皿8は、被研磨レンズ7の前記研磨目標球面の曲率の違い及び表面の凹凸の違いに合わせて複数用意される。各球面研磨皿8は、研磨皿回転駆動部5に適宜付け替えられる。
以上のように構成された球面研磨装置1では、次のようにして使用される。
まず、被研磨レンズ7の研磨目標球面S1の曲率に合わせて研磨シャフト2の長さを調整する。即ち、被研磨レンズ7の研磨目標球面S1の曲率半径と、中心Gから被研磨レンズ7の研磨面までの距離が一致するように、研磨シャフト2の長さを設定する。さらに、支持機構4の基板側スライド面4Cと可動板側スライド面4Dとをスライドさせることで基板4Aに対して可動板4Bをずらして、研磨シャフト2の角度を傾ける。この研磨シャフト2の傾斜角度は、球面研磨皿8の研磨面から被研磨レンズ7が完全に、はみ出してしまわない範囲で広くまんべんなく摺り合う角度に設定される。
さらに、研磨皿回転駆動部5で球面研磨皿8の高さを、中心Gから球面研磨皿8の研磨面までの距離が前記研磨目標球面S1の曲率半径に一致するように、調整する。球面研磨皿8の傾斜角度は研磨シャフト2の傾斜角度との兼ね合いで設定する。
この状態で、レンズホルダー10に取り付けた被研磨レンズ7を球面研磨皿8に設置し、レンズホルダー10の支持凹部11に研磨シャフト2の支持ピン12を嵌合させる。
この状態で、回転駆動部3と研磨皿回転駆動部5を作動させる。これにより、研磨シャフト2は図2(A)(B)(C)に示しように動作する。具体的には、回転駆動部3で支持機構4の基板4Aが回転されると、この基板4Aに対してずれた位置の可動板4Bが、回転駆動部3の回転軸を中心として公転する。これにより、可動板4Bに取り付けられた研磨シャフト2が中心Gを基点として傾斜した状態で回転する。
図2(A)から90°回転して図2(B)となり、180°回転して図2(C)となる。そして、この回転の間中、中心Gの位置では研磨シャフト2がぶれずにその位置で回転する。これにより、研磨シャフト2の支持ピン12が中心Gを中心に回転する。即ち、図3に示すように、中心Gからぶら下げられた振り子が、中心Gを球心にした球面に沿って円を描くように回転するのと同じ動作で、研磨シャフト2の支持ピン12が中心Gを中心に回転する。
これにより、被研磨レンズ7の被研磨面が、球面研磨皿8に摺り合わされながら、前記研磨目標球面S1に沿って回転する。
この動作を図4に示す。なお、図4は研磨シャフト2が回転駆動部3によって90°、180°、270°、360°回転した4つの状態を示している。図4中の円14は定位置で右回転する球面研磨皿8を示している。図4中の円15は中心Gを中心に振り子運動をして回転する被研磨レンズ7の動きを示している。ここでは、研磨皿回転駆動部5が多少傾斜した状態に設定されているため、球面研磨皿8の回転運動の円14に対して、中心Gを中心に振り子運動する被研磨レンズ7の円15は偏心している。即ち、被研磨レンズ7は、球面研磨皿8に対して偏心した位置で公転している。
この球面研磨皿8の回転運動に対して、被研磨レンズ7が円15のように中心Gを中心に振り子運動をするため、被研磨レンズ7の被研磨面に対して均等な圧力で、しかも前記研磨目標球面に沿って移動しながら、研磨される。
なお、被研磨レンズ7が凹レンズの場合は、図1の仮想線のようになるが、基本的な動作は上述の場合と全く同じである。
これにより、被研磨レンズ7の研磨面を、前記研磨目標球面S1に沿って正確に移動させることができ、被研磨レンズ7の研磨面を、高い真球度を保って高精度に仕上げることができる。真球度の高い研磨加工面を、熟練度を要することなく容易に得る事ができる。
レンズ加工においては、部分的ストレスをレンズに与えないことが、レンズ球面の精度を高める上で重要であるが、球面研磨装置1では、被研磨レンズ7の研磨面を、前記研磨目標球面S1に沿って正確に且つ連続的に移動させることができるため、レンズの運動が不連続になることがなく、レンズに加わる圧力も一定に保たれて、高い精度で球面を研磨することができる。
[変形例]
前記実施形態では、支持機構4の基板4Aの基板側スライド面4C及び可動板4Bの可動板側スライド面4Dを球面状にしたが、前記研磨目標球面の曲率中心Gを中心とする円筒面の一部で構成しても良い。研磨シャフト2は、中心Gを基準にして傾斜することができる構成であればよいため、球面に限らず、円筒面でも良い。この場合も、前記同様の作用、効果を奏することができる。
研磨シャフト2ではその先端に支持ピン12を設けたが、他の構成に支持手段でもよい。被研磨レンズ7を支持できる全ての構成を用いることができる。
本発明の実施形態に係る球面研磨装置を示す概略構成図である。 本発明の実施形態に係る球面研磨装置の研磨シャフトの動作を示す模式図である。 本発明の実施形態に係る球面研磨装置の研磨シャフトの、中心Gを基準にした動作を示す模式図である。 本発明の実施形態に係る球面研磨装置の研磨シャフトの動作に基づく被研磨レンズの球面研磨皿に対する相対運動を示す模式図である。
符号の説明
1:球面研磨装置、2:研磨シャフト、3:回転駆動部、4:支持機構、4A:基板、4B:可動板、4C:基板側スライド面、4D:可動板側スライド面、5:研磨皿回転駆動部、7:被研磨レンズ、8:球面研磨皿、10:レンズホルダー、11:支持凹部、12:支持ピン。

Claims (3)

  1. 光学素子の表面を球面研磨皿に摺り合わせてその表面を球面状に研磨する球面研磨装置において、
    前記光学素子を、傾斜させた前記球面研磨皿に当てた状態で支持する研磨シャフトと、
    軸心が、前記光学素子の表面の研磨目標球面の曲率中心を通り前記研磨シャフトを連続回転させる回転駆動部と、
    当該回転駆動部と前記研磨シャフトとの間に設けられ、前記研磨目標球面の曲率中心を中心とする球面の一部又は円筒面の一部である曲面を有し、この曲面に沿って前記研磨シャフトをずらすことで当該研磨シャフトをその軸心又は軸心の延長線が前記曲率中心を常に通るように傾けて支持して当該研磨シャフトの先端が前記曲率中心を支点として円運動し、当該研磨シャフトの先端の円運動に伴って当該研磨シャフトに支持された前記光学素子を前記研磨目標球面に沿って、前記傾斜した球面研磨皿上を移動させる支持機構と
    を備えたことを特徴とする球面研磨装置。
  2. 請求項1に記載の球面研磨装置であって、
    前記研磨シャフトが伸縮可能に形成され、前記光学素子の凸面を研磨するとき前記研磨目標球面の曲率中心よりも長く伸ばされ、前記光学素子の凹面を研磨するとき前記曲率中心よりも短く縮められることを特徴とする球面研磨装置。
  3. 請求項1又は2に記載の球面研磨装置であって、
    前記球面研磨皿を支持して回転させると共に、前記研磨シャフトの伸縮に合わせて高さを調整する研磨皿回転駆動部と、当該研磨皿回転駆動部に取り付けられ前記球面研磨皿の研磨面を前記研磨目標球面に沿って移動させて当該研磨皿回転駆動部の回転軸を適宜傾斜させる傾斜機構とをさらに備えたことを特徴とする球面研磨装置。
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