JP4625317B2 - 位相差電子顕微鏡用位相板及びその製造方法並びに位相差電子顕微鏡 - Google Patents
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Description
この位相差電子顕微鏡では、位相板支持体が接地されていてもよい。
ここでλは電子波の波長、Δzは焦点ズレ、kは空間周波数である。空間周波数kが変数として入っているのは、CTFが回折面すなわち対物レンズ後方の焦点面で定義される関数だからである。
両者を図示すると図4のようになる。図4において、実線が(1)式のCTFの場合、破線が(2)式の場合である。
q(k)は位相板上の帯電分布に依存した複雑な形をしているが、最も単純な場合のq(k)のq(k)=qkでもその影響は大きく、CTFは図4の点線のように変わる。帯電に伴うレンズ効果によるCTFの変化は低周波成分より高周波成分が影響が大きい。このことは、図4中に示した無帯電(破線)と帯電(点線)のcos型CTFを比較することで理解される。
位相板本体の材料:非晶質炭素
位相板本体の直径:50μm
位相板本体の厚さ:24nm
電子線透過孔の直径:1μm
グリッドの材料:モリブデン
グリッドの厚さ:10μm
図5(a)にプロットした2つのCTFの振動の差から位相板の位相シフト効果が見積もられる。位相板なしのときの振動(図5(a)の実線)と、位相板ありのときの振動(図5(a)の点線)から両者の位相差を動径方向にプロットすると図5(b)のようになる四角点が位相板ありのデータで、丸点が位相板なしの場合のデータである。両者の位相差は三角点で示されているが、本来−π/2の位相差であるべきところが、高周波側(右方向)に行くに従い、正の側にズレ込んでいるのが見てとれる。すなわち位相板ありのCTF(点線)は図4の帯電位相板モデルのCTF(点線)と同じように挙動し、付加的位相シフトを生じている。
芯位相板の材料:非晶質炭素
芯位相板の厚さ:10nm
導電性シールド薄膜の材料:非晶質炭素
導電性シールド薄膜の厚さ:7nm
位相板本体の直径:50μm
位相板本体の厚さ:24nm
電子線透過孔の直径:1μm
グリッドの材料:モリブデン
グリッドの厚さ:10μm
図6(a)にプロットした2つのCTFの振動の差から位相板の位相シフト効果が見積もられる。位相板なしのときの振動(図6(a)の実線)と、位相板ありのときの振動(図6(a)の点線)から両者の位相差を動径方向にプロットすると図6(b)のようになる四角点が位相板ありのデータで、丸点が位相板なしの場合のデータである。両者の位相差はの三角点で示されている。この出願の発明の位相板の場合、図5と異なり、位相板ありのときと、なしのときの位相差は、図6(b)の三角点が示すようにほぼ−π/2であった。従って、この出願の発明の位相板が広い周波数範囲でゼルニケ位相板の良好な特性を保持していることが確認された。
20 位相差電子顕微鏡用位相板(ヒルベルト微分位相板)
11、21 位相板本体
12、22 グリッド(位相板支持体)
13、23 開口
14、24 芯位相板
15、25 導電性シールド薄膜
16、26 側壁部
17 電子線透過孔
18、28 グリッド部
19、29 接地部材
Claims (9)
- 位相板本体とそれを担持する位相板支持体を有し、電子顕微鏡の対物レンズを通過した電子の通路に配置される位相差電子顕微鏡用位相板であって、位相板本体が、開口を有する位相板支持体に前記開口の少なくとも一部を覆うように担持された導電性の芯位相板と、この芯位相板の上下両面を含む周囲を被覆する導電性シールド薄膜により構成されることを特徴とする位相差電子顕微鏡用位相板。
- 芯位相板材料として、炭素、ベリリウム、アルミニウム若しくはシリコン、又はそれらの合金を用いることを特徴とする請求項1記載の位相差電子顕微鏡用位相板。
- 導電性シールド薄膜材料として、炭素、金、銀又は白金族を用いることを特徴とする請求項1又は2に記載の位相差電子顕微鏡用位相板。
- 位相板本体は、平面形状が円形であり、電子の通路となる中心部分に真円の電子透過孔が形成され、かつ、電子の位相をπ/2シフトさせるように膜厚が制御されていることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の位相差電子顕微鏡用位相板。
- 位相板本体は、平面形状がほぼ半円形であり、かつ、電子の位相をπシフトさせるように膜厚が制御されていることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の位相差電子顕微鏡用位相板。
- 請求項1から5のいずれかに記載の位相差電子顕微鏡用位相板を備えていることを特徴とする位相差電子顕微鏡。
- 位相板支持体が接地されていることを特徴とする請求項6記載の位相差電子顕微鏡。
- 請求項1から5のいずれかに記載の位相差電子顕微鏡用位相板を製造する方法であって、
開口を有する位相板支持体に前記開口の少なくとも一部を覆うように担持されるように、導電性の芯位相板を形成した後、最終工程として、この芯位相板及びグリッドの上下両面を含む周囲に導電性シールド薄膜を被覆させることにより位相板本体を作製することを特徴とする位相差電子顕微鏡用位相板の製造方法。 - 導電性シールド薄膜の被覆形成を、ジュール熱真空蒸着法、電子ビーム真空蒸着法、イオンスパッター法又はプラズマCVD法を用いて行うことを特徴とする請求項8記載の位相差電子顕微鏡用位相板の製造方法。
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