JP2013174746A - 位相板デバイス及びその製造方法並びに位相差電子顕微鏡 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】所定温度に加熱された基板上に、第1炭素膜を成膜した後、前記基板と前記第1炭素膜とを分離する工程と、開口を有する支持体上に、前記開口の少なくとも一部を覆うように、前記第1炭素膜を担持させる工程と、前記第1炭素膜を加工して位相板を形成する工程とを行うか、又は、開口を有する支持体上に、前記開口の少なくとも一部を覆うように、第1炭素膜を担持させる工程と、前記第1炭素膜を加工して芯位相板を形成する工程と、前記第1炭素膜を所定温度で加熱処理する工程とを行って、位相板デバイスを製造する。
【選択図】図4
Description
この位相板デバイスは、表面、裏面及び開口部を覆うように第2炭素膜が設けられており、該第2炭素膜も、加熱しながら成膜されたか又は成膜後に加熱処理されたものであってもよい。
そして、成膜時の加熱温度又は成膜後の加熱処理温度は、例えば300℃以上とすることができる。
また、前記第1炭素膜及び/又は前記第2炭素膜は、非晶質炭素で形成することができる。
更に、前記支持体表面には、炭素とパラジウム又は白金とを含有する被覆層が形成されていてもよい。その場合、前記被覆層は、前記支持体側にはパラジウム又は白金が多く存在し、外面に炭素が多く存在するように、炭素とパラジウム又は白金の存在比が厚さ方向で変化させることができる。
この位相板デバイスの製造方法では、前記位相板が担持された支持体を加熱し、その表面、裏面及び開口部を覆うように第2炭素膜を成膜してもよい。
また、加熱温度は例えば300℃以上にすることができる。
一方、本発明に係る他の位相板デバイスの製造方法は、位相差電子顕微鏡の対物レンズ及び試料を通過した電子の通路に配置される位相板デバイスを製造する方法であって、開口を有する支持体上に、前記開口の少なくとも一部を覆うように、第1炭素膜を担持させる工程と、前記第1炭素膜を加工して芯位相板を形成する工程と、前記第1炭素膜を加熱処理する工程と、を少なくとも有する。
この位相板デバイスの製造方法では、前記加熱処理の温度を300℃以上にすることができる。
また、これらの位相板デバイスの製造方法では、前記支持体表面に、炭素とパラジウム又は白金とを含有する被覆層を形成してもよい。
その場合、前記被覆層を形成する際に、前記支持体側にはパラジウム又は白金が多く存在し、外面に炭素が多く存在するように、炭素とパラジウム又は白金の存在比を厚さ方向で変化させることができる。
この位相差電子顕微鏡は、前記位相板デバイスを加熱する加熱部を有していてもよい。
そして、前記加熱部により、観察時及び真空内待機時に前記位相板デバイスを300℃以上に加熱することができる。
先ず、本発明の第1の実施形態に係る位相板デバイスについて説明する。本実施形態の位相板は、ゼルニケ位相板と称され、電子の位相をπ/2(90°)シフトさせるものであり、例えば、位相差電子顕微鏡の対物レンズ後方の電子の通路に配置される。図3(a)は本実施形態の位相板デバイスの構造を模式的に示す断面図であり、図3(b)はその100kV用炭素膜位相板デバイスの構成を示す模式図である。
第1炭素膜11は、加熱した基板上に炭素材料を成膜することにより得られ、前述したように低温で形成した従来の炭素膜に比べて導電性が飛躍的に向上している。ここで、基板の加熱温度は、生産効率の観点から、300℃以上とすることが好ましく、より好ましくは400℃以上である。また、第1炭素膜11は、炭素材料により形成されていればよいが、特に電子を散漫散乱させる非晶質炭素で形成されていることが望ましい。また、第1炭素膜11の厚さは、特に限定されるものではなく、炭素材料の種類や加速電圧などに応じて適宜設定することができる。
支持用グリッド14は、電子線を透過しない導電性材料によって形成されている。その材質は、特に限定されるものではないが、例えば銅、モリブデン及び白金などを使用することができ、その中でも特に、熱膨張率が炭素材料に近いモリブデンが好適である。これにより、炭素膜11,12とグリッド14との熱膨張率の差が小さくなり、高温処理や温度変化に伴って生じるこれらの機械的不整合やそれに起因する電気的不接触を抑制することができる。
第2炭素膜12は、電子を散漫散乱させる非晶質炭素からなり、第1炭素膜11を担持させたグリッド14を加熱し、そこに炭素材料を成膜することにより得られる。ここで、グリッド14の加熱温度は、生産効率の観点から、300℃以上とすることが好ましく、より好ましくは400℃以上である。また、第2炭素膜12の厚さは、特に限定されるものではなく、材料や加速電圧などに応じて適宜設定することができるが、導電性の観点から、7nm以上とすることが望ましい。
次に、前述の如く構成される位相板デバイス10の製造方法について説明する。図4(a)〜(e)は本実施形態の位相板デバイス10の製造方法を、その工程順に示す断面図である。図4(a)〜(e)に示すように、本実施形態の位相板デバイス10は、例えば、以下に示す各工程により製造される。
先ず、図4(a)に示すように、400〜450℃に加熱したマイカからなる基板1上に、ジュール熱真空蒸着法、電子ビーム真空蒸着法、イオンスパッター法又はプラズマCVD法などの方法により、炭素材料を所要厚みに成膜し、非晶質炭素膜2を形成する。なお、マイカの耐熱限界のため、加熱温度を400〜450℃に設定しているが、加熱温度は特に限定されるものではなく、基板の材質や処理時間などに応じて適宜設定することができ、原理的には高温ほど高導電性炭素膜ができて有利である。
次に、図4(b)に示すように、水中に基板1ごと浸漬し、非晶質炭素膜2を自然に剥離させる水中剥離法により、基板1から非晶質炭素膜2を分離する。この方法の場合、非晶質炭素膜2は、水面上に浮いた状態で分離される。
その後、図4(c)に示すように、例えば円形の開口部14aを有し、白金や炭素被覆モリブデンなどの導電性材料からなる支持用グリッド14で、水面上に浮いている非晶質炭素膜2をすくい取り、担持させる。これにより、支持用グリッド14の開口部14aは、その全面が非結晶炭素膜2で覆われることとなる。なお、支持用グリッド14の表面には、炭素・パラジウム又は炭素・白金からなる材料傾斜膜13が形成されていてもよい。
その後、収束イオンビーム法などにより、非晶質炭素膜2に微小な貫通孔(無散乱電子線透過孔15)を形成し、図4(d)に示すように、支持用グリッド14上に担持された状態のまま第1炭素膜11を形成する。
次に、加熱した状態で、ジュール熱真空蒸着法、電子ビーム真空蒸着法、イオンスパッター法又はプラズマCVD法などの方法により、支持用グリッド14の裏面、グリッド開口部14aの側面、第1炭素膜11の表面、裏面及び貫通孔15の側面に、非結晶の第2炭素膜12を形成する。これにより、図4(e)に示すように、電子線透過孔15を備える位相板デバイス10が得られる。
次に、本実施形態の位相板デバイス10の動作について説明する。この位相板デバイス10は、位相差電子顕微鏡の対物レンズ及び試料を通過した電子の通路に配置され、支持用グリッド14が、導線などの接地部材18を介して接地される。そして、試料を通過した電子線は、この位相板デバイス10の全域を通過し、そして、散乱電子線透過領域15した電子の位相のみがπ/2シフトする。
次に、本発明の第1の実施形態の変形例に係る位相板デバイスについて説明する。前述した第1の実施形態の位相板デバイスでは、2種類の炭素膜11,12を形成しているが、本発明はこれに限定されるものではなく、第2の炭素膜12を設けずに、第1の炭素膜を位相板として必要な厚さにしてもよい。
次に、本発明の第2の実施形態に係る位相板デバイスについて説明する。本実施形態の位相板は、ヒルベルト位相板と称され、電子の位相をπ(180°)シフトさせるものであり、例えば、位相差電子顕微鏡の対物レンズを通過した電子の通路に配置される。図7(a)は本発明の第2の実施形態の位相板デバイスの構造を模式的に示す断面図であり、図7(b)はその100kV用炭素膜位相板デバイスの構成を示す模式図である。
2 非晶質炭素膜
3 白金又はパラジウム被覆層
10、20 位相板デバイス
11、21 第1炭素膜
12、22 第2炭素膜
13、23 材料傾斜膜
14、24 支持用グリッド
14a、24a 位相板支持用グリッド開口部
15、25 無散乱電子線透過孔
16、26 散乱電子線透過領域
17、27 電子線不透過領域
18、28 接地部材
30 真空チャンバー
31 ヒーター
Claims (16)
- 位相差電子顕微鏡の対物レンズ及び試料を通過した電子の通路に配置される位相板デバイスであって、
開口部を有する支持体と、
該支持体上に、前記開口部の少なくとも一部を覆うように担持された第1炭素膜と、を有し、
前記第1炭素膜は、加熱しながら成膜されたか又は成膜後に加熱処理されたものである位相板デバイス。 - 表面、裏面及び開口部を覆うように第2炭素膜が設けられており、
該第2炭素膜も、加熱しながら成膜されたか又は成膜後に加熱処理されたものであることを特徴とする請求項1に記載の位相板デバイス。 - 成膜時の加熱温度又は成膜後の加熱処理温度が300℃以上であることを特徴とする請求項1又は2に記載の位相板デバイス。
- 前記第1炭素膜及び/又は前記第2炭素膜は、非晶質炭素で形成されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の位相板デバイス。
- 前記支持体表面には、炭素とパラジウム又は白金とを含有する被覆層が形成されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の位相板デバイス。
- 前記被覆層は、前記支持体側にはパラジウム又は白金が多く存在し、外面に炭素が多く存在するように、炭素とパラジウム又は白金の存在比が厚さ方向で変化していることを特徴とする請求項5に記載の位相板デバイス。
- 位相差電子顕微鏡の対物レンズ及び試料を通過した電子の通路に配置される位相板デバイスを製造する方法であって、
加熱された基板上に、第1炭素膜を成膜した後、前記基板と前記第1炭素膜とを分離する工程と、
開口を有する支持体上に、前記開口の少なくとも一部を覆うように、前記第1炭素膜を担持させる工程と、
前記第1炭素膜を加工して位相板を形成する工程と、
を少なくとも有する位相板デバイスの製造方法。 - 前記位相板が担持された支持体を加熱し、その表面、裏面及び開口部を覆うように第2炭素膜を成膜することを特徴とする請求項7に記載の位相板デバイスの製造方法。
- 加熱温度を300℃以上にすることを特徴とする請求項7又は8に記載の位相板デバイスの製造方法。
- 位相差電子顕微鏡の対物レンズ及び試料を通過した電子の通路に配置される位相板デバイスを製造する方法であって、
開口を有する支持体上に、前記開口の少なくとも一部を覆うように、第1炭素膜を担持させる工程と、
前記第1炭素膜を加工して芯位相板を形成する工程と、
前記第1炭素膜を加熱処理する工程と、
を少なくとも有する位相板デバイスの製造方法。 - 前記加熱処理の温度を300℃以上にすることを特徴とする請求項10に記載の位相板デバイスの製造方法。
- 前記支持体表面に、炭素とパラジウム又は白金とを含有する被覆層を形成することを特徴とする請求項7〜11のいずれか1項に記載の位相板デバイスの製造方法。
- 前記被覆層を形成する際、前記支持体側にはパラジウム又は白金が多く存在し、外面に炭素が多く存在するように、炭素とパラジウム又は白金の存在比を厚さ方向で変化させることを特徴とする請求項12に記載の位相板デバイスの製造方法。
- 請求項1乃至6のいずれか1項の位相板デバイスを備える位相差電子顕微鏡。
- 前記位相板デバイスを加熱する加熱部を有することを特徴とする請求項14に記載の位相差電子顕微鏡。
- 前記加熱部により、観察時及び真空内待機時に前記位相板デバイスが300℃以上に加熱されることを特徴とする請求項15に記載の位相差電子顕微鏡。
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JP2012039409A JP2013174746A (ja) | 2012-02-24 | 2012-02-24 | 位相板デバイス及びその製造方法並びに位相差電子顕微鏡 |
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JP2015099778A (ja) * | 2013-11-19 | 2015-05-28 | エフ イー アイ カンパニFei Company | 透過型電子顕微鏡用位相板 |
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JP2010086691A (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子顕微鏡 |
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2012
- 2012-02-24 JP JP2012039409A patent/JP2013174746A/ja active Pending
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