JP4607111B2 - フロー・サイトメータ・タイプ測定システムの1つまたは複数のパラメータを制御するための方法 - Google Patents
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Description
i=A*VN (1)
式1の両辺の対数をとると、以下の式になる。
log(i)=N*log(V)+log(A) (2)
これは、以下の簡単で見慣れた一次の線形式に書き直される。
y=m*x+b (3)
ここで、y=log(i)、m=N、x=log(V)、b=log(A)。この対数変形を使用して、わずか3つのサンプル測定によって短縮された較正操作を行うことが可能である。
1.値の範囲に近接するまたはその範囲の下端での値(V=VL)にPMT電圧を設定し、測定値(i=iL)を得る。
2.値の範囲に近接するまたはその範囲の上端での値(V=VH)にPMT電圧を設定し、測定値(i=iH)を得る。
3.4つの値すべての対数をとる。
4.傾きmと切片bを計算する。
5.目標PMT設定値(対数空間での)xcalを解く。
6.PMT較正電圧Vcalを得るためにxcalの逆対数をとる。
7.Vcalを印加し、所望の公差が満たされているか否かを判定するために試験する。
1.ビット・マスクとDacCmd値を2Nに初期化する。12ビットのDac(「デジタル・アナログ変換器」)に対して、N=12である。この例では、ビット・マスク=4096、DacCmd値=4096である。Dacは、マサチューセッツ州、ノーウッドのAnalog Devices Inc.から市販されているものなどのあらゆる適切なDacを含んでいる。
2.DacCmd内の対応するビットをクリアするために現在のマスク・ビットを使用する。目標を超えるか、検知器の最大電圧制限を越えるかのいずれかである。
3.マスクを右へ1ビット移動させる(たとえば次の最も重大なビットへ移動させる)。
4.マスクが0である場合、考えられるすべてのビットが試験され、十分な較正が達成されなかった。方法はステップ12へ進んでもよい。
5.そうでない場合、次に最も重要なビットを設置するためにDacCmd内をマスクする。
6.このDacCmdバイナリ値に対応する検知器電圧を決定する。検知器電圧を検知器遮断または最大電圧と比較する。電圧が検知器遮断電圧を超える場合、ステップ2へ戻る。
7.DacCmd値(たとえば電圧)を測定システムに送信する。
8.電圧変化が有効になるのを待つ。
9.新しいヒストグラム・ピーク値を、このチャネルのための較正目標ピーク値と比較する。ヒストグラム・ピークが較正目標を超えている場合、ステップ2に戻る。
10.ヒストグラム・ピークが所望の目標に十分近接していない場合、ステップ3へ行く。
11.較正は成功した。方法を完了する。
12.較正は失敗した。方法を完了する。
ステップ1〜12に記載した例の方法は、本明細書に記載した他のいずれかのステップを含んでいる。
V/T=(π*R4*P)/(8*N*L) (4)
ここで、V/Tは単位時間当たりの体積(速度に比例する)であり、Nはポアズ単位での粘性である。フロー・チャンバの毛細管は、円形でなく矩形の寸法を有するが、単純なチューブとして扱われることができる。したがって、ビード速度は、上記のポアズイユの式で定義された流体移送の粘性に反比例する。
2.通常のサンプル取得中、赤色レーザ(または最初にビードを照射する他のいかなる光源)からの第1の散乱パルスがタイマを始動させる。たとえば、図7に示すように、t1で、639nmの波長を有するレーザによる照射に対応する散乱パルスが検知される。したがって、タイマは、t1で始動される。
3.第2の散乱パルスが到達したとき、タイマが停止される。たとえば、532nmの波長を有するレーザによる照射に対応する散乱パルスが図7に示すようにt2で検知され、そのときタイマが停止する。
4.そのとき、タイマの値が、較正操作中に計測された移行時間と比較される。
5.タイマの値が較正時間よりもかなり大きいとき、圧力源(たとえばポンプ)の1つまたは複数のパラメータが、その圧力を増加させるように変更される。圧力源のパラメータは、プロセッサによって変更されてもよい。別法として、t2とt1の間の差がtcalよりも大きい場合、圧力源の圧力が増加されてもよい。tcalは、ビードの移行時間の許容可能な変化を定義する所定の値である。
6.タイマ値が、較正時間よりもかなり小さい場合、圧力源の1つまたは複数のパラメータが、その圧力を減少させるように変更される。1つまたは複数のパラメータは、プロセッサによって変更されてもよい。別法として、t2とt1の間の差がtcalよりも小さい場合、圧力源の圧力が減少されてもよい。ステップ5、6で使用されるtcalは、同じ値であってもよい。
Claims (21)
- フロー・サイトメータ・タイプ測定システムのパラメータを制御するための方法であって、
前記測定システムによるサンプル微小球体の測定中、フロー・サイトメータ・タイプ測定システムの1つまたは複数のパラメータを監視するステップであって、前記パラメータの1つが前記サンプル微小球体の速度を指示するステップと、
前記監視を基にしてリアル・タイムで前記1つまたは複数のパラメータの少なくとも1つを変更するステップと
を含み、
前記変更するステップが、前記微小球体の前記速度を補償するために前記測定システムの1つまたは複数の検知ウインドウのサンプリング間隔を刻時するステップを含む、
方法。 - 前記監視するステップが、較正微小球体の測定を使用して前記1つまたは複数のパラメータを監視するステップを含み、
前記較正微小球体が、前記サンプル微小球体の直径とは異なる直径もしくは前記サンプル微小球体のスペクトル・アドレスとは異なるスペクトル・アドレスを有する
請求項1に記載の方法。 - 前記1つまたは複数のパラメータが、前記測定システムの検知器によって作成された出力信号を含み、前記出力信号が、前記サンプル微小球体によって散乱された光に応答する請求項1に記載の方法。
- 前記監視するステップが、較正微小球体の測定を使用して前記1つまたは複数のパラメータを監視するステップを含み、前記較正微小球体が、前記サンプル微小球体の直径とは異なる直径を有し、前記較正微小球体の少なくともいくつかが異なるスペクトル・アドレスを有する請求項1に記載の方法。
- 前記パラメータの別の1つが、前記測定システムのダイナミック・レンジを備える請求項4に記載の方法。
- 前記変更するステップが、前記測定システムのレポータ・チャネルの線形ダイナミック・レンジを拡張するステップをさらに含む請求項4に記載の方法。
- 前記パラメータの別の1つが、測定システムの健全性を含む請求項4に記載の方法。
- 前記測定システムの健全性が、分類チャネルの健全性、レポータ・チャネルの健全性、またはそれらの組合せを含む請求項7に記載の方法。
- 前記パラメータの別の1つが、前記サンプル微小球体の測定の線形性を含む請求項4に記載の方法。
- 前記測定が、分類チャネルの測定、レポータ・チャネルの測定、またはそれらの組合せを含む請求項9に記載の方法。
- 前記変更するステップが、前記測定のいかなる非線形性もほぼ修正するステップを含む請求項9に記載の方法。
- 前記パラメータの別の1つが、前記測定システムのアバランシェ・フォト・ダイオードのパラメータを含む請求項1に記載の方法。
- 経験的に導出されたデータを使用して前記変更するステップで使用される修正係数を決定するステップをさらに含む請求項12に記載の方法。
- 前記パラメータの別の1つが、前記測定システムの光電子増倍管のパラメータを含む請求項1に記載の方法。
- 前記監視するステップが、
前記サンプル微小球体がその中に配置されている流体の温度を監視するステップと、
前記温度から前記サンプル微小球体の速度を決定するステップと
を含む
請求項1に記載の方法。 - 前記サンプル微小球体の測定の前に前記1つまたは複数のパラメータを較正するステップをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記較正するステップが、第1の検知ウインドウから前記微小球体の第2の検知ウインドウへ較正微小球体が移動する時間間隔を決定するステップをさらに含む請求項16に記載の方法。
- 前記変更するステップが、前記サンプル微小球体の速度を補償するように前記測定システムの前記1つまたは複数の検知ウインドウのサンプリング間隔を適切に刻時するために前記決定された時間間隔を使用するステップを含む請求項17に記載の方法。
- 前記変更するステップが、前記サンプル微小球体の前記速度の変化を補償するために前記1つまたは複数の検知ウインドウのサンプリング間隔を減少または増大させるステップをさらに含む請求項17に記載の方法。
- 前記変更するステップが、前記サンプル微小球体の前記速度に基づいて前記サンプル微小球体の測定中に前記流体の圧力を制御するステップをさらに含む請求項1に記載の方法。
- 前記速度を指示するパラメータが前記フロー・サイトメータ・システムの流体の粘性である、請求項1に記載の方法。
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