JP4588329B2 - プラズマ発生装置およびリモートプラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
前記マイクロ波発生装置で発生されたマイクロ波を放射するアンテナと、
内管と外管からなる同軸構造を有し、前記内管の一端に前記アンテナが取り付けられ、前記マイクロ波発生装置で発生されたマイクロ波を前記アンテナへ導く同軸導波管と、
誘電体材料からなり、その一方の面から前記アンテナが挿入されて前記アンテナを保持し、前記アンテナから放射されたマイクロ波による定在波が形成されるとともに、前記一方の面に対向する他方の面からマイクロ波が放射され、前記一方の面と前記他方の面とで厚さが規定される共振器と、
前記共振器が配置される開口面を有し、前記アンテナから前記共振器を通して放射されたマイクロ波が導かれ、かつ所定の処理ガスが供給され、前記マイクロ波によって前記処理ガスが励起されるプラズマ励起用のチャンバと、
を具備し、
前記アンテナは、モノポールアンテナであり、かつその長さ方向を前記共振器の厚さ方向に一致させた状態で前記共振器に埋設され、
前記マイクロ波発生装置で発生するマイクロ波の波長をλa、前記共振器の比誘電率をεr、前記波長λaを前記比誘電率εrの平方根で除して得られる前記共振器内のマイクロ波の波長をλg(=λa/εr1/2)としたときに、
前記モノポールアンテナの前記共振器に埋設された長さは、前記波長λgの23%〜26%であり、かつ、前記共振器は前記波長λgの50%〜70%の厚さを有することを特徴とするプラズマ発生装置、が提供される。
基板を収容し、前記プラズマ発生装置において前記処理ガスを励起させることにより発生させた励起ガスにより、前記基板に所定の処理を施す基板処理チャンバと、
を具備し、
前記プラズマ発生装置は、
所定波長のマイクロ波を発生するマイクロ波発生装置と、
前記マイクロ波発生装置で発生されたマイクロ波を放射するアンテナと、
内管と外管からなる同軸構造を有し、前記内管の一端に前記アンテナが取り付けられ、前記マイクロ波発生装置で発生されたマイクロ波を前記アンテナへ導く同軸導波管と、
誘電体材料からなり、その一方の面から前記アンテナが挿入されて前記アンテナを保持し、前記アンテナから放射されたマイクロ波による定在波が形成されるとともに、前記一方の面に対向する他方の面からマイクロ波が放射され、前記一方の面と前記他方の面とで厚さが規定される共振器と、
前記共振器が配置される開口面を有し、前記アンテナから前記共振器を通して放射されたマイクロ波が導かれ、かつ所定の処理ガスが供給され、前記マイクロ波によって前記処理ガスが励起されるプラズマ励起用のチャンバと、
を有し、
前記アンテナはモノポールアンテナであり、かつその長さ方向を前記共振器の厚さ方向に一致させた状態で前記共振器に埋設され、
前記マイクロ波発生装置で発生するマイクロ波の波長をλa、前記共振器の比誘電率をεr、前記波長λaを前記比誘電率εrの平方根で除して得られる前記共振器内のマイクロ波の波長をλg(=λa/εr1/2)としたときに、
前記モノポールアンテナの前記共振器に埋設された長さは、前記波長λgの23%〜26%であり、かつ、前記共振器は前記波長λgの50%〜70%の厚さを有することを特徴とするリモートプラズマ処理装置、が提供される。
10;マイクロ波発生装置
11;マイクロ波電源
12;アンプ
13;アイソレータ
14a・14b;スラグチューナ
20;同軸導波管
20a;内管
20b;外管
21;モノポールアンテナ
21a;ヘリカルアンテナ
21b;スロットアンテナ
22;共振器
23;チャンバ
24;カバー
27;腐食防止部材
41;ウエハ処理チャンバ
43;ステージ
90:プラズマ制御装置
Claims (10)
- 所定波長のマイクロ波を発生するマイクロ波発生装置と、
前記マイクロ波発生装置で発生されたマイクロ波を放射するアンテナと、
内管と外管からなる同軸構造を有し、前記内管の一端に前記アンテナが取り付けられ、前記マイクロ波発生装置で発生されたマイクロ波を前記アンテナへ導く同軸導波管と、
誘電体材料からなり、その一方の面から前記アンテナが挿入されて前記アンテナを保持し、前記アンテナから放射されたマイクロ波による定在波が形成されるとともに、前記一方の面に対向する他方の面からマイクロ波が放射され、前記一方の面と前記他方の面とで厚さが規定される共振器と、
前記共振器が配置される開口面を有し、前記アンテナから前記共振器を通して放射されたマイクロ波が導かれ、かつ所定の処理ガスが供給され、前記マイクロ波によって前記処理ガスが励起されるプラズマ励起用のチャンバと、
を具備し、
前記アンテナは、モノポールアンテナであり、かつその長さ方向を前記共振器の厚さ方向に一致させた状態で前記共振器に埋設され、
前記マイクロ波発生装置で発生するマイクロ波の波長をλa、前記共振器の比誘電率をεr、前記波長λaを前記比誘電率εrの平方根で除して得られる前記共振器内のマイクロ波の波長をλg(=λa/εr1/2)としたときに、
前記モノポールアンテナの前記共振器に埋設された長さは、前記波長λgの23%〜26%であり、かつ、前記共振器は前記波長λgの50%〜70%の厚さを有することを特徴とするプラズマ発生装置。 - 前記マイクロ波発生装置は、マイクロ波電源と、前記マイクロ波電源から出力されたマイクロ波の出力を調整するアンプと、前記アンプから出力された後に前記アンプへ戻ろうとする反射マイクロ波を吸収するアイソレータと、を有することを特徴とする請求項1に記載のプラズマ発生装置。
- 前記同軸導波管と前記アンテナを複数組具備し、
前記マイクロ波発生装置は、マイクロ波電源と、マイクロ波電源で発生させたマイクロ波を前記同軸導波管と前記アンテナの組数に分配する分配器と、前記分配器から出力された各マイクロ波の出力を調整する複数のアンプと、前記複数のアンプから出力された後に前記複数のアンプへ戻ろうとする反射マイクロ波を吸収する複数のアイソレータと、を有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載のプラズマ発生装置。 - 前記複数のアンテナの一部から前記共振器を通して前記チャンバの内部に放射されるマイクロ波によって前記処理ガスを励起させ、プラズマ発生後は前記複数の全てのアンテナから前記共振器を通して前記チャンバの内部にマイクロ波が放射されるように、前記マイクロ波発生装置を制御するプラズマ制御装置をさらに具備することを特徴とする請求項3に記載のプラズマ発生装置。
- 前記共振器は、石英系材料、単結晶アルミナ系材料、多結晶アルミナ系材料、窒化アルミニウム系材料のいずれかからなることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のプラズマ発生装置。
- 前記チャンバの内面に、前記チャンバの腐食を防止するために、石英系材料または単結晶アルミナ系材料または多結晶アルミナ系材料からなる腐食防止部材が装着されていることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載のプラズマ発生装置。
- 前記チャンバは、前記チャンバを構成する部材の内部に冷媒を流すことによって冷却可能なジャケット構造を有することを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載のプラズマ発生装置。
- 前記チャンバは、その一端面が前記開口面となっている有底筒状部材であり、
前記有底筒状部材は、その底壁にマイクロ波によって励起されたガスを前記チャンバから外部へ放出する排気口を有し、その側壁の前記開口面側近傍に前記処理ガスを内部空間に放出するガス放出口を有することを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載のプラズマ発生装置。 - 前記同軸導波管に、前記同軸導波管の長さ方向にスライド自在であり、前記アンテナに対するインピーダンス整合を行うスラグチューナが取り付けられていることを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載のプラズマ発生装置。
- 所定の処理ガスをマイクロ波によって励起するプラズマ発生装置と、
基板を収容し、前記プラズマ発生装置において前記処理ガスを励起させることにより発生させた励起ガスにより、前記基板に所定の処理を施す基板処理チャンバと、
を具備し、
前記プラズマ発生装置は、
所定波長のマイクロ波を発生するマイクロ波発生装置と、
前記マイクロ波発生装置で発生されたマイクロ波を放射するアンテナと、
内管と外管からなる同軸構造を有し、前記内管の一端に前記アンテナが取り付けられ、前記マイクロ波発生装置で発生されたマイクロ波を前記アンテナへ導く同軸導波管と、
誘電体材料からなり、その一方の面から前記アンテナが挿入されて前記アンテナを保持し、前記アンテナから放射されたマイクロ波による定在波が形成されるとともに、前記一方の面に対向する他方の面からマイクロ波が放射され、前記一方の面と前記他方の面とで厚さが規定される共振器と、
前記共振器が配置される開口面を有し、前記アンテナから前記共振器を通して放射されたマイクロ波が導かれ、かつ所定の処理ガスが供給され、前記マイクロ波によって前記処理ガスが励起されるプラズマ励起用のチャンバと、
を有し、
前記アンテナはモノポールアンテナであり、かつその長さ方向を前記共振器の厚さ方向に一致させた状態で前記共振器に埋設され、
前記マイクロ波発生装置で発生するマイクロ波の波長をλa、前記共振器の比誘電率をεr、前記波長λaを前記比誘電率εrの平方根で除して得られる前記共振器内のマイクロ波の波長をλg(=λa/εr1/2)としたときに、
前記モノポールアンテナの前記共振器に埋設された長さは、前記波長λgの23%〜26%であり、かつ、前記共振器は前記波長λgの50%〜70%の厚さを有することを特徴とするリモートプラズマ処理装置。
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