JP4568488B2 - イソプロピルメチルフェノール配糖体 - Google Patents

イソプロピルメチルフェノール配糖体 Download PDF

Info

Publication number
JP4568488B2
JP4568488B2 JP2003313974A JP2003313974A JP4568488B2 JP 4568488 B2 JP4568488 B2 JP 4568488B2 JP 2003313974 A JP2003313974 A JP 2003313974A JP 2003313974 A JP2003313974 A JP 2003313974A JP 4568488 B2 JP4568488 B2 JP 4568488B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
isopropylmethylphenol
skin
action
glycoside
hair
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2003313974A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2005082506A (ja
Inventor
洋泉 水島
克弥 上野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kao Corp
Original Assignee
Kao Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kao Corp filed Critical Kao Corp
Priority to JP2003313974A priority Critical patent/JP4568488B2/ja
Publication of JP2005082506A publication Critical patent/JP2005082506A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4568488B2 publication Critical patent/JP4568488B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Description

本発明は、新規なイソプロピルメチルフェノール配糖体、並びにイソプロピルメチルフェノール配糖体を含有してなる、抗菌作用、抗酸化作用、抗フケ作用、ニキビ症状改善作用に優れ、さらにその持続性、水溶性、安全性に優れた皮膚外用剤及び毛髪化粧料に関する。
イソプロピルメチルフェノールについては、抗菌作用(特許文献1参照)、抗酸化作用、頭皮のふけ、かゆみ防止作用(特許文献2参照)、にきび症状改善作用(特許文献3及び特許文献4参照)、虫歯、歯周病予防作用(特許文献5参照)などがすでに知られている。しかしながらイソプロピルメチルフェノールは水に難溶性(25℃での水への飽和溶解度は0.015%)であるため、イソプロピルメチルフェノールを配合した製剤は、その剤型が限定され、その結果、イソプロピルメチルフェノール自体の利用範囲が制限されていた。
特開2001-172159 特開平11-269042 特開2001-206820 特開2002-138033 特開平11-240816
本発明の課題は、上記のような問題点を解決し、優れた抗菌作用、抗酸化作用、頭皮のふけ、かゆみ防止作用、にきび症状改善作用、及び虫歯、歯周病予防作用を発揮することができるイソプロピルメチルフェノール誘導体、ならびにそれらを含有する皮膚外用剤及び毛髪化粧料を提供することにある。
本発明者は、下記式(1)で表される新規なイソプロピルメチルフェノール配糖体がイソプロピルメチルフェノールに比べて水溶性に優れ、皮膚外用剤や毛髪化粧料などに剤型に制約を受けることなく容易に配合できること、ヒトの皮膚や、皮膚常在菌中に存在するグルコシダーゼなどの糖分解酵素により徐々に分解されて、分解生成物のイソプロピルメチルフェノールが継続的に生成し、イソプロピルメチルフェノールの機能を長時間に渡って発揮できること、さらにその結果、皮膚などへの刺激性が低く、安全に使用できることなどを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、下記式(1)
Figure 0004568488
(式中、Rはグルコース、キシロース、及びマルトースからなる群から選ばれる糖の残基を示す)で表されるイソプロピルメチルフェノール配糖体を提供するものである。
また本発明は、式(1)で表されるイソプロピルメチルフェノール配糖体を含有する皮膚外用剤を提供するものである。
更に本発明は、式(1)で表されるイソプロピルメチルフェノール配糖体を含有する毛髪化粧料を提供するものである。
本発明の新規なイソプロピルメチルフェノール配糖体は、水溶性が高く、皮膚外用剤及び毛髪化粧料に容易に配合でき、製剤中ではイソプロピルメチルフェノールは配糖体として安定に存在し、グルコシダーゼなどの糖分解酵素を作用させるか、あるいは皮膚上の皮膚常在菌、皮膚角質中のグルコシダーゼなどの糖分解酵素の作用により、イソプロピルメチルフェノールを徐々に遊離し、抗菌作用、抗酸化作用、抗フケ作用、及びニキビ症状改善作用を持続的に発揮することができる。
本発明に係わる式(1)で表されるイソプロピルメチルフェノール配糖体は新規な化合物である。
式(1)で表されるイソプロピルメチルフェノール配糖体は、公知の方法に従って製造することができる。例えば、イソプロピルメチルフェノールと所望の過アセチル化糖をジクロルメタンなどの適当な溶媒中、三フッ化ホウ素、三塩化アルミニウム、四塩化スズ等のルイス酸触媒存在下、室温下に約30分〜24時間反応させることにより、Rがアセチル化糖残基の式(1)の化合物の製造中間体であるアセチル化誘導体が得られる。出発物質として用いられる過アセチル化糖は公知であるが、所望の糖を公知のアセチル化法によってアセチル化して製造することができる。かくして得られたアセチル化誘導体を常法に従って、例えば無水メタノール中、ナトリウムメトキシドの存在下に脱アセチル化し、次いで酸性型イオン交換樹脂で処理することにより、式(1)の化合物が得られる。更に必要で有れば、再結晶等の常法によって精製することができる。
このようにして得られた式(1)で表されるイソプロピルメチルフェノール配糖体としては、イソプロピルメチルフェニルグルコシド、イソプロピルメチルフェニルキシロシド、イソプロピルメチルフェニルマルトシドなどが挙げられる。
本発明の皮膚外用剤及び毛髪化粧料中の式(1)で表されるイソプロピルメチルフェノール配糖体は、頭皮、腋下、手足などの人体皮膚角質中に存在するグルコシダーゼなどの糖分解酵素(フレグランスジャーナル、2002-5巻, 39ページ、2002年)や皮膚表面に一般的に存在するとされている皮膚常在菌、例えば表皮ブドウ球菌、黄色ブドウ球菌、ピチロスポムなど、によって分解され、イソプロピルメチルフェノールが徐々に生成するものと推定される(特開平10−25244)。
本発明のイソプロピルメチルフェノール配糖体を含有する皮膚外用剤及び毛髪化粧料の適用範囲は、イソプロピルメチルフェノールの有する抗菌作用、抗酸化作用、頭皮のふけ、かゆみ防止作用、にきび症状改善作用、虫歯、歯周病予防作用を発現させる目的で使用されるものであれば特に限定されるものではない。皮膚外用剤としては、例えば、傷治療薬の軟膏、しもやけ予防剤などの医薬品、スキンクリーム、ハンドクリーム、リップクリーム、乳液などのスキンケア製品、ベビーパウダー、ボディ用消臭スプレーなどを挙げることができる。毛髪化粧料としては、ヘアリキッド、ヘアトニック、ヘアムース、ポマード、養毛料などを挙げることができる。
本発明のイソプロピルメチルフェノール配糖体を含有する皮膚外用剤及び毛髪化粧料における式(1)で表されるイソプロピルメチルフェノール配糖体の配合濃度は、対象となる皮膚外用剤及び毛髪化粧料、あるいはイソプロピルメチルフェノールの生理活性の顕著性など様々な条件によって変化し、一概には規定できないが、一般的には、皮膚外用剤又は毛髪化粧料中にイソプロピルメチルフェノール配糖体濃度として約0.0001〜約10重量%、好ましくは0.01〜約10重量%程度の濃度で使用される。また本発明の皮膚外用剤及び毛髪用化粧料は、通常の製剤化技術に従って、式(1)の化合物を皮膚外用剤又は毛髪化粧料上許容される担体、例えば、賦形剤、結合剤、溶剤、乳化剤、懸濁剤、安定化剤と合わせて、皮膚外用剤又は毛髪化粧料の剤型、例えば、軟膏、クリーム、乳液、アルコール水溶液などとすることができる。
かくして本発明の新規なイソプロピルメチルフェノール配糖体は、水溶性が高く、皮膚外用剤及び毛髪化粧料に容易に配合でき、製剤中ではイソプロピルメチルフェノールは配糖体として安定に存在し、グルコシダーゼなどの糖分解酵素を作用させるか、あるいは皮膚上の皮膚常在菌、皮膚角質中のグルコシダーゼなどの糖分解酵素の作用により、イソプロピルメチルフェノールを徐々に遊離し、抗菌作用、抗酸化作用、抗フケ作用、ニキビ症状改善作用を持続的に発揮することができる。
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。
実施例1:イソプロピルメチルフェニルグルコシドの合成
100mLのフラスコにペンタアセチルグルコース3.9g(10mmol)、イソプロピルメチルフェノール3.8g(25mmol)、及びジクロルメタン50mlを加え、室温、窒素雰囲気下で三フッ化ホウ素ジエチルエーテル5.7g(40ml)を滴下して、室温で3時間攪拌した。反応混合物(ジクロルメタン溶液)を、飽和NaHCO3水溶液200mLで2回洗浄し、ジクロルメタン層を無水Na2SO4で乾燥した後、減圧下で溶媒のジクロルメタンを留去した。得られた粗生成物8.0gを、シリカゲルクロマトグラフィー(80g、n−ヘキサン/酢酸エチル=9/1〜1/1)により精製し、無色透明の粘性の高い液体2.2g(収率88.8%)を得た。この物質1.0g(2.1mmol)を脱水メタノール20mL/無水THF2mLの混合溶媒中に加え、室温で超音波照射して溶解させた後、28%ナトリウムメチラートメタノール溶液1.6g(8.3mmol)を加えて室温、窒素雰囲気下に3時間攪拌した。反応終了後、反応混合物を強酸性イオン交換樹脂(ダウエックス50WX2-100、21mL)を充填したカラムに充填し、無水メタノール200mLで溶出した。回収したメタノール溶液を減圧下で蒸発させ、白色粉末0.65g(収率100%)を得た。生成物は1H-及び13C-NMRを用いて同定した。
1H-NMR(400MHz, DIMSO-D6)δ: 1.14(d, J=7.2Hz, 6H), 2.25(s, 3H), 3.02(m, 1H), 3.1-3.3(overlapped, 4H), 3.43(dd, J=6Hz, 12Hz, 1H), 3.67(dd, J=2, 12Hz, 1H), 4.77(d, J=8Hz, 1H), 6.79(d, J=3Hz, 1H), 6.82(dd, J=3, 8Hz, 1H), 7.11 ppm(d, J=8Hz, 1H)
13C-NMR(400MHz, DIMSO-D6)δ: 19.7, 23.96, 28.75, 61.27, 70.30, 73.77, 77.04, 77.52, 101.26, 114.50, 118.67, 126.04, 136.37, 140.53, 155.72ppm
試験例1
実施例1で合成したイソプロピルメチルフェニルグルコシドの25℃における水への溶解度を測定したところ0.1%以上であり、イソプロピルメチルフェノール(25℃での水への飽和溶解度は0.015%)より水溶性が向上していることが分かった。
試験例2
実施例1で合成したイソプロピルメチルフェニルグルコシド1.9mg(6μmol)をpH6.4のリン酸緩衝液1.0mLに溶解し、37℃でアーモンド由来β−グルコシダーゼ1.0Uを添加して、生成するイソプロピルメチルフェノールをHPLCにより定量した。イソプロピルメチルフェノール生成率(仕込みのイソプロピルメチルフェニルグルコシドに対するモル比)を表1に示す。
Figure 0004568488
β−グルコシダーゼにより、イソプロピルメチルフェノールが徐々に遊離されることが明らかになった。
実施例2
実施例1で得られたイソプロピルメチルフェニルグルコシドを添加して、表2に示す成分からなる軟膏を得た。
Figure 0004568488
実施例3
実施例1で得られたイソプロピルメチルフェニルグルコシドを添加して、表3に示す成分からなるイソプロピルメチルフェニルグルコシドが溶解したハンドクリームを得た。
Figure 0004568488
実施例4
実施例1で得られたイソプロピルメチルフェニルグルコシドを添加して、表4に示す成分からなるイソプロピルメチルフェニルグルコシドが溶解したヘアートニックを得た。
Figure 0004568488
実施例5
実施例1で得られたイソプロピルメチルフェニルグルコシドを添加して、表5に示す成分からなるイソプロピルメチルフェニルグルコシドが溶解したシャンプーを得た。
Figure 0004568488

Claims (4)

  1. 下記式(1)
    Figure 0004568488
    (式中、Rはグルコース、キシロース、及びマルトースからなる群から選ばれる糖の残基を示す)で表されるイソプロピルメチルフェノール配糖体。
  2. 上記式(1)においてRがグルコース残基であるイソプロピルメチルフェノール配糖体。
  3. 請求項1記載のイソプロピルメチルフェノール配糖体を含有する皮膚外用剤。
  4. 請求項1記載のイソプロピルメチルフェノール配糖体を含有する毛髪化粧料。
JP2003313974A 2003-09-05 2003-09-05 イソプロピルメチルフェノール配糖体 Expired - Fee Related JP4568488B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003313974A JP4568488B2 (ja) 2003-09-05 2003-09-05 イソプロピルメチルフェノール配糖体

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003313974A JP4568488B2 (ja) 2003-09-05 2003-09-05 イソプロピルメチルフェノール配糖体

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005082506A JP2005082506A (ja) 2005-03-31
JP4568488B2 true JP4568488B2 (ja) 2010-10-27

Family

ID=34414737

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003313974A Expired - Fee Related JP4568488B2 (ja) 2003-09-05 2003-09-05 イソプロピルメチルフェノール配糖体

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4568488B2 (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006335675A (ja) * 2005-06-01 2006-12-14 Kanebo Cosmetics Inc 防臭剤組成物
JP5244400B2 (ja) * 2005-12-26 2013-07-24 株式会社林原 アルキルレゾルシノール配糖体とその製造方法並びに用途
JP2008187927A (ja) * 2007-02-02 2008-08-21 Chiba Univ 新規なフェノール配糖化酵素
JP5465871B2 (ja) * 2008-12-12 2014-04-09 花王株式会社 ニキビ改善剤
US11419797B2 (en) 2017-12-27 2022-08-23 Kao Corporation Method for producing composition containing hardly water-soluble aromatic compound

Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4457918A (en) * 1982-05-12 1984-07-03 The General Hospital Corporation Glycosides of vitamins A, E and K
JPS6056994A (ja) * 1983-09-08 1985-04-02 Sunstar Inc トコフエロ−ル誘導体
JPH0532690A (ja) * 1991-07-26 1993-02-09 Hayashibara Biochem Lab Inc α−グリコシル ケルセチンとその製造方法並びに用途
JPH07118287A (ja) * 1993-02-10 1995-05-09 C C I Kk 新規なクロマノール配糖体およびその製造方法
JPH07157415A (ja) * 1993-12-03 1995-06-20 Shiseido Co Ltd 頭髪化粧料
JPH1025244A (ja) * 1996-07-11 1998-01-27 T Hasegawa Co Ltd 徐放性トコフェロール含有皮膚外用剤
JPH11240816A (ja) * 1998-02-23 1999-09-07 Hironori Oka 歯牙被覆用組成物
JPH11269042A (ja) * 1998-03-20 1999-10-05 Shiseido Co Ltd 頭皮頭髪用化粧料
JP2000044422A (ja) * 1998-07-31 2000-02-15 Hironori Oka 歯の被覆組成物およびその製造方法
JP2001172159A (ja) * 1999-12-20 2001-06-26 Lion Corp 低刺激性抗菌化粧料
JP2001206820A (ja) * 2000-01-26 2001-07-31 Shiseido Co Ltd にきび治療用外用製剤
WO2001074834A1 (en) * 2000-03-30 2001-10-11 Bristol-Myers Squibb Company O-aryl glucoside sglt2 inhibitors and method
JP2002138033A (ja) * 2000-10-30 2002-05-14 Shiseido Co Ltd 抗アクネ用皮膚外用剤
JP2002241279A (ja) * 2001-02-16 2002-08-28 Kanebo Ltd 包装体入り製品及び吸着防止方法
JP2003160465A (ja) * 2001-11-29 2003-06-03 Shiseido Co Ltd 経皮吸収促進用プレトリートメント剤及びそのプレトリートメント剤を用いた化粧方法

Patent Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4457918A (en) * 1982-05-12 1984-07-03 The General Hospital Corporation Glycosides of vitamins A, E and K
JPS6056994A (ja) * 1983-09-08 1985-04-02 Sunstar Inc トコフエロ−ル誘導体
JPH0532690A (ja) * 1991-07-26 1993-02-09 Hayashibara Biochem Lab Inc α−グリコシル ケルセチンとその製造方法並びに用途
JPH07118287A (ja) * 1993-02-10 1995-05-09 C C I Kk 新規なクロマノール配糖体およびその製造方法
JPH07157415A (ja) * 1993-12-03 1995-06-20 Shiseido Co Ltd 頭髪化粧料
JPH1025244A (ja) * 1996-07-11 1998-01-27 T Hasegawa Co Ltd 徐放性トコフェロール含有皮膚外用剤
JPH11240816A (ja) * 1998-02-23 1999-09-07 Hironori Oka 歯牙被覆用組成物
JPH11269042A (ja) * 1998-03-20 1999-10-05 Shiseido Co Ltd 頭皮頭髪用化粧料
JP2000044422A (ja) * 1998-07-31 2000-02-15 Hironori Oka 歯の被覆組成物およびその製造方法
JP2001172159A (ja) * 1999-12-20 2001-06-26 Lion Corp 低刺激性抗菌化粧料
JP2001206820A (ja) * 2000-01-26 2001-07-31 Shiseido Co Ltd にきび治療用外用製剤
WO2001074834A1 (en) * 2000-03-30 2001-10-11 Bristol-Myers Squibb Company O-aryl glucoside sglt2 inhibitors and method
JP2002138033A (ja) * 2000-10-30 2002-05-14 Shiseido Co Ltd 抗アクネ用皮膚外用剤
JP2002241279A (ja) * 2001-02-16 2002-08-28 Kanebo Ltd 包装体入り製品及び吸着防止方法
JP2003160465A (ja) * 2001-11-29 2003-06-03 Shiseido Co Ltd 経皮吸収促進用プレトリートメント剤及びそのプレトリートメント剤を用いた化粧方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2005082506A (ja) 2005-03-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2002051803A2 (fr) Nouveaux derives c-glycoside et utilisation
KR960000855A (ko) L-카르니틴염과 이를 함유한 피부질환 치료용 화장품 조성물 및 약제조성물
JP2907640B2 (ja) 尋常性ざ瘡用皮膚外用剤
KR960010002A (ko) L-카르니틴염과 이를 함유한 피부질환 치료용 화장품 조성물 및 약제 조성물
JP4568488B2 (ja) イソプロピルメチルフェノール配糖体
FR2649697A1 (fr) Nouveaux derives d'urethanne, leur preparation et leur application notamment comme agents hydratants dans des compositions cosmetiques ou pharmaceutiques destinees au traitement des peaux seches
JP2009062316A (ja) フラン脂肪酸乃至はその誘導体を含有する皮膚外用剤
JPH07118119A (ja) 化粧料及び口腔剤
JPH0579058B2 (ja)
JPH1025244A (ja) 徐放性トコフェロール含有皮膚外用剤
JP2000319116A (ja) 安定化された没食子酸誘導体及びそれを含有する外用剤組成物
EP0428668B1 (en) Water-soluble vitamin a preparations for application to the skin
JP2002193990A (ja) ハイドロカルコン配糖体および該配糖体を有効成分として配合した化粧料
JPH0580449B2 (ja)
JP3808082B2 (ja) 新規落屑剤の美容使用
JP3014401B2 (ja) D―デソサミンのレチノイン酸エステル、その製法、ヒトまたは獣医用薬および化粧用組成物
JP4422329B2 (ja) 皮膚外用剤として有用なベンゾ[b]ピラン誘導体
JPH0692293B2 (ja) 皮膚外用剤
JPH05255186A (ja) 3−置換−p−メンタン誘導体並びにこれを含有する 冷感剤
JP2003201264A (ja) ヒノキチオール誘導体、これを含有する皮膚外用剤及び毛髪用化粧料
WO2010041417A1 (ja) 皮膚外用剤
JP2000302666A (ja) 皮膚弾力性改善剤
KR101873884B1 (ko) 에스쿨린 유도체를 포함하는 피부 미백용 조성물
JP3435008B2 (ja) 養毛化粧料
KR101451401B1 (ko) 비타민 c와 비타민 e의 컨쥬게이트 및 그를 포함하는 항산화제

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060413

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091110

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20100105

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20100108

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100803

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100809

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130813

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees