JP2001172159A - 低刺激性抗菌化粧料 - Google Patents
低刺激性抗菌化粧料Info
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Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 抗菌剤として１−ヒドロキシ−２−ピリ
ドン系化合物及びその塩、塩化ベンザルコニウム、塩化
ベンゼトニウム、イソプロピルメチルフェノール、ヒノ
キチオール、トリクロロカルバニリド並びにジンクピリ
チオンから選ばれる１種又は２種以上を含有する抗菌化
粧料に、シソ、ラベンダー、ヒキオコシ、マンネンロ
ウ、メリッサ、オドリコソウ、タンジン及びコレウス・
フォルスコリイから選ばれる１種又は２種以上のシソ科
植物の溶媒抽出物を配合したことを特徴とする低刺激性
抗菌化粧料。 【効果】 本発明の低刺激性抗菌化粧料は、殺菌効果に
優れ、かつ皮膚・粘膜刺激性がほとんどなく安全性も高
いもので、頭髪用、皮膚用化粧料等として各種剤型に調
製して幅広く利用できる。
ドン系化合物及びその塩、塩化ベンザルコニウム、塩化
ベンゼトニウム、イソプロピルメチルフェノール、ヒノ
キチオール、トリクロロカルバニリド並びにジンクピリ
チオンから選ばれる１種又は２種以上を含有する抗菌化
粧料に、シソ、ラベンダー、ヒキオコシ、マンネンロ
ウ、メリッサ、オドリコソウ、タンジン及びコレウス・
フォルスコリイから選ばれる１種又は２種以上のシソ科
植物の溶媒抽出物を配合したことを特徴とする低刺激性
抗菌化粧料。 【効果】 本発明の低刺激性抗菌化粧料は、殺菌効果に
優れ、かつ皮膚・粘膜刺激性がほとんどなく安全性も高
いもので、頭髪用、皮膚用化粧料等として各種剤型に調
製して幅広く利用できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、殺菌効果に優れ、
かつ皮膚・頭髪刺激性が低く安全性も良好で、頭髪用、
皮膚用化粧料等として好適に利用できる低刺激性抗菌化
粧料に関する。
かつ皮膚・頭髪刺激性が低く安全性も良好で、頭髪用、
皮膚用化粧料等として好適に利用できる低刺激性抗菌化
粧料に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
乳液、クリーム、化粧水、パック、シャンプー、リン
ス、洗浄剤等の化粧品や医薬部外品には、製剤の防腐目
的あるいは皮膚や頭髪の殺菌・除菌を目的に各種殺菌・
抗菌成分が配合されてきた。しかし、これらの殺菌・抗
菌成分は、皮膚・粘膜等に対する刺激があり、障害等を
引き起こすなど副作用を発現するものが少なくなく、こ
のように安全性に問題があることから、使用量や配合で
きる剤型が制限されており、効果が十分に発揮できない
のが現状である。
乳液、クリーム、化粧水、パック、シャンプー、リン
ス、洗浄剤等の化粧品や医薬部外品には、製剤の防腐目
的あるいは皮膚や頭髪の殺菌・除菌を目的に各種殺菌・
抗菌成分が配合されてきた。しかし、これらの殺菌・抗
菌成分は、皮膚・粘膜等に対する刺激があり、障害等を
引き起こすなど副作用を発現するものが少なくなく、こ
のように安全性に問題があることから、使用量や配合で
きる剤型が制限されており、効果が十分に発揮できない
のが現状である。
【０００３】そこで、皮膚刺激性の少ない天然抗菌剤と
して、シソ科植物メリッサの抽出物を抗菌成分とする方
法（特開平１０−１７５８４２号公報）や、多価アルコ
ールやフェノキシエタノールと抗菌性の植物エキスを併
用する方法（特開平６−１７２１３２号、同９−２５５
５１７号公報）が知られている。
して、シソ科植物メリッサの抽出物を抗菌成分とする方
法（特開平１０−１７５８４２号公報）や、多価アルコ
ールやフェノキシエタノールと抗菌性の植物エキスを併
用する方法（特開平６−１７２１３２号、同９−２５５
５１７号公報）が知られている。
【０００４】しかしながら、これらの方法も抗菌作用が
不十分で満足できるものは得られておらず、十分な抗菌
活性を保持し得、安全性の高い低刺激性抗菌化粧料の開
発が望まれていた。
不十分で満足できるものは得られておらず、十分な抗菌
活性を保持し得、安全性の高い低刺激性抗菌化粧料の開
発が望まれていた。
【０００５】本発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、殺菌効果に優れ、かつ皮膚・粘膜等に対して低刺激
性で安全性も高い低刺激性抗菌化粧料を提供することを
目的とする。
で、殺菌効果に優れ、かつ皮膚・粘膜等に対して低刺激
性で安全性も高い低刺激性抗菌化粧料を提供することを
目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討した結果、
特定の抗菌剤を含有する抗菌化粧料に、ある種のシソ科
植物の溶媒抽出物を配合すると、意外にもこれら抗菌剤
とシソ科植物の溶媒抽出物とが相乗的に作用して高い殺
菌効果を発揮し得る上、皮膚・粘膜に対する刺激性が少
なく安全性も高く、頭髪用、皮膚用化粧料等として好適
に利用できる低刺激性抗菌化粧料が得られることを知見
し、本発明を完成するに至った。
発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討した結果、
特定の抗菌剤を含有する抗菌化粧料に、ある種のシソ科
植物の溶媒抽出物を配合すると、意外にもこれら抗菌剤
とシソ科植物の溶媒抽出物とが相乗的に作用して高い殺
菌効果を発揮し得る上、皮膚・粘膜に対する刺激性が少
なく安全性も高く、頭髪用、皮膚用化粧料等として好適
に利用できる低刺激性抗菌化粧料が得られることを知見
し、本発明を完成するに至った。
【０００７】なお、１−ヒドロキシ−２−ピリドン類と
配糖体とを組合わせた毛髪及び頭皮に良好な感触を与え
る化粧料（特開平５−４９０６号公報）、１−ヒドロキ
シ−２−ピリドン系化合物又はその塩と皮膚分泌抑制剤
とを組合わせたにきび治療用組成物（特開平９−２５５
５７３号公報）は提案されているが、本発明のように特
定の抗菌剤と特定のシソ科植物の溶媒抽出物とを組み合
わせて配合することにより、優れた抗菌性と低刺激性と
を兼ね備えた低刺激性抗菌化粧料となることは、本発明
者が初めて見出したものである。
配糖体とを組合わせた毛髪及び頭皮に良好な感触を与え
る化粧料（特開平５−４９０６号公報）、１−ヒドロキ
シ−２−ピリドン系化合物又はその塩と皮膚分泌抑制剤
とを組合わせたにきび治療用組成物（特開平９−２５５
５７３号公報）は提案されているが、本発明のように特
定の抗菌剤と特定のシソ科植物の溶媒抽出物とを組み合
わせて配合することにより、優れた抗菌性と低刺激性と
を兼ね備えた低刺激性抗菌化粧料となることは、本発明
者が初めて見出したものである。
【０００８】従って、本発明は、抗菌剤として１−ヒド
ロキシ−２−ピリドン系化合物及びその塩、塩化ベンザ
ルコニウム、塩化ベンゼトニウム、イソプロピルメチル
フェノール、ヒノキチオール、トリクロロカルバニリド
並びにジンクピリチオンから選ばれる１種又は２種以上
を含有する抗菌化粧料に、シソ、ラベンダー、ヒキオコ
シ、マンネンロウ、メリッサ、オドリコソウ、タンジン
及びコレウス・フォルスコリイから選ばれる１種又は２
種以上のシソ科植物の溶媒抽出物を配合したことを特徴
とする低刺激性抗菌化粧料を提供する。
ロキシ−２−ピリドン系化合物及びその塩、塩化ベンザ
ルコニウム、塩化ベンゼトニウム、イソプロピルメチル
フェノール、ヒノキチオール、トリクロロカルバニリド
並びにジンクピリチオンから選ばれる１種又は２種以上
を含有する抗菌化粧料に、シソ、ラベンダー、ヒキオコ
シ、マンネンロウ、メリッサ、オドリコソウ、タンジン
及びコレウス・フォルスコリイから選ばれる１種又は２
種以上のシソ科植物の溶媒抽出物を配合したことを特徴
とする低刺激性抗菌化粧料を提供する。
【０００９】以下、本発明につき更に詳細に説明する
と、本発明化粧料に配合される抗菌剤は、１−ヒドロキ
シ−２−ピリドン系化合物及びその塩、塩化ベンザルコ
ニウム、塩化ベンゼトニウム、イソプロピルメチルフェ
ノール、ヒノキチオール、トリクロロカルバニリド、ジ
ンクピリチオンから選ばれるものであり、これらを適宜
選択して１種又は２種以上を配合することができるが、
これらの中でも特に１−ヒドロキシ−２−ピリドン系化
合物が好ましく配合される。
と、本発明化粧料に配合される抗菌剤は、１−ヒドロキ
シ−２−ピリドン系化合物及びその塩、塩化ベンザルコ
ニウム、塩化ベンゼトニウム、イソプロピルメチルフェ
ノール、ヒノキチオール、トリクロロカルバニリド、ジ
ンクピリチオンから選ばれるものであり、これらを適宜
選択して１種又は２種以上を配合することができるが、
これらの中でも特に１−ヒドロキシ−２−ピリドン系化
合物が好ましく配合される。
【００１０】ここで、１−ヒドロキシ−２−ピリドン系
化合物は、下記一般式（１）で表されるものである。
化合物は、下記一般式（１）で表されるものである。
【００１１】
【化１】
【００１２】上記式中、Ｒ1は１〜１７個の炭素原子を
有するアルキル基、２〜１７個の炭素原子を有するアル
ケニル基、５〜８個の炭素原子を有するシクロアルキル
基、７〜９個の炭素原子を有するビシクロアルキル基、
シクロアルキル基が５〜８個の炭素原子を有し、かつア
ルキル基が１〜４個の炭素原子を有するシクロアルキル
−アルキル基（但し、シクロアルキル基はその水素原子
の一部が１〜４個の炭素原子を有するアルキル基によっ
て置換されていてもよい）、６〜１４個の炭素原子を有
するアリール基、アリール基が６〜１４個の炭素原子を
有し、かつアルキル基が１〜４個の炭素原子を有するア
ラルキル基、アリール基が６〜１４個の炭素原子を有
し、かつアルケニル基が２〜４個の炭素原子を有するア
リールアルケニル基、アリール基が６〜１４個の炭素原
子を有し、かつアルキル基がそれぞれ１〜４個の炭素原
子を有するアリールオキシアルキルもしくはアリールメ
ルカプトアルキル基、ベンズヒドリル基、アルキル基が
１〜４個の炭素原子を有するフェニルスルホニルアルキ
ル基、フリル基、又はアルケニル基が２〜４個の炭素原
子を有するフリルアルケニル基を表す。但し、上述のア
リール基はその水素原子の一部が１〜４個の炭素原子を
有するアルキル基、１〜４個の炭素原子を有するアルコ
キシ基、ニトロ基、シアノ基又はハロゲンによって置換
されていてもよい。Ｒ2は水素原子、１〜４個の炭素原
子を有するアルキル基、２〜４個の炭素原子を有するア
ルケニル基、２〜４個の炭素原子を有するアルキニル
基、ハロゲン原子、フェニル基、又はベンジル基を表
す。
有するアルキル基、２〜１７個の炭素原子を有するアル
ケニル基、５〜８個の炭素原子を有するシクロアルキル
基、７〜９個の炭素原子を有するビシクロアルキル基、
シクロアルキル基が５〜８個の炭素原子を有し、かつア
ルキル基が１〜４個の炭素原子を有するシクロアルキル
−アルキル基（但し、シクロアルキル基はその水素原子
の一部が１〜４個の炭素原子を有するアルキル基によっ
て置換されていてもよい）、６〜１４個の炭素原子を有
するアリール基、アリール基が６〜１４個の炭素原子を
有し、かつアルキル基が１〜４個の炭素原子を有するア
ラルキル基、アリール基が６〜１４個の炭素原子を有
し、かつアルケニル基が２〜４個の炭素原子を有するア
リールアルケニル基、アリール基が６〜１４個の炭素原
子を有し、かつアルキル基がそれぞれ１〜４個の炭素原
子を有するアリールオキシアルキルもしくはアリールメ
ルカプトアルキル基、ベンズヒドリル基、アルキル基が
１〜４個の炭素原子を有するフェニルスルホニルアルキ
ル基、フリル基、又はアルケニル基が２〜４個の炭素原
子を有するフリルアルケニル基を表す。但し、上述のア
リール基はその水素原子の一部が１〜４個の炭素原子を
有するアルキル基、１〜４個の炭素原子を有するアルコ
キシ基、ニトロ基、シアノ基又はハロゲンによって置換
されていてもよい。Ｒ2は水素原子、１〜４個の炭素原
子を有するアルキル基、２〜４個の炭素原子を有するア
ルケニル基、２〜４個の炭素原子を有するアルキニル
基、ハロゲン原子、フェニル基、又はベンジル基を表
す。
【００１３】上記式（１）で表される化合物の具体例と
して、下記の化合物を挙げることができる。１−ヒドロ
キシ−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−２
−ピリドン、１−ヒドロキシ−６−メチル−２−ピリド
ン、１−ヒドロキシ−４，６−ジメチル−２−ピリド
ン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６−ヘプチル−２−
ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６−（１−エ
チルペンチル）−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−
メチル−６−（２，４，４−トリメチルペンチル）−２
−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６−ウンデ
シル−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６
−プロペニル−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メ
チル−６−オクテニル−２−ピリドン、１−ヒドロキシ
−４−メチル−６−（２，２−ジブチル−ビニル）−２
−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６−（シク
ロヘキセニリデン−メチル）−２−ピリドン、１−ヒド
ロキシ−４−メチル−６−シクロヘキシル−２−ピリド
ン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６−（メチル−シク
ロヘキシル）−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メ
チル−６−（２−ビシクロ〔２，２，１〕ヘプチル）−
２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６−〔２
−（ジメチルシクロヘキシル）−プロピル〕−２−ピリ
ドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６−（４−メチル
−フェニル）−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メ
チル−６−（３−メチル−フェニル）−２−ピリドン、
１−ヒドロキシ−４−メチル−６−（４−第３ブチル−
フェニル）−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチ
ル−６−（３−メチル−４−クロル−フェニル）−２−
ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６−（３，５
−ジクロル−フェニル）−２−ピリドン、１−ヒドロキ
シ−４−メチル−６−（３−ブロム−４−クロル−フェ
ニル）−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−
６−（４−メトキシスチリル）−２−ピリドン、１−ヒ
ドロキシ−４−メチル−６−〔１−（４−ニトロフェノ
キシ）−ブチル〕−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４
−メチル−６−（４−シアノフェノキシメチル）−２−
ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６−（フェニ
ルスルホニルメチル）−２−ピリドン、１−ヒドロキシ
−４−メチル−６−〔１−（４−クロルフェニルスルホ
ニル）−ブチル〕−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４
−メチル−６−ベンジル−２−ピリドン、１−ヒドロキ
シ−４−メチル−６−（２，４−ジメチルベンジル）−
２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６−（第
３ブチル−ベンジル）−２−ピリドン、１−ヒドロキシ
−４−メチル−６−（２−クロル−ベンジル）−２−ピ
リドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６−（４−クロ
ルベンジル）−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メ
チル−６−（２，５−ジクロル−ベンジル）−２−ピリ
ドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６−（４−ブロム
−ベンジル）−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メ
チル−６−（フェノキシメチル）−２−ピリドン、１−
ヒドロキシ−４−メチル−６−（３−メチルフェノキシ
−メチル）−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチ
ル−６−（４−第２ブチルフェノキシ−メチル）−２−
ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６−（２，
４，５−トリクロルフェノキシ−メチル）−２−ピリド
ン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６−（４−ブロムフ
ェノキシ−メチル）−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−
４−メチル−６−（４−クロルフェニルメルカプト−メ
チル）−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−
６−（４−メチルフェニルメルカプト−メチル）−２−
ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６−（２−ナ
フチル）−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチル
−６−ベンズヒドリル−２−ピリドン、１−ヒドロキシ
−４−メチル−６−フリル−２−ピリドン、１−ヒドロ
キシ−４−メチル−６−（フリルビニル）−２−ピリド
ン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６−スチリル−２−
ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６−（フェニ
ルブタジエニル）−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４
−フェニル−６−メチル−２−ピリドン、１−ヒドロキ
シ−４，６−ジフェニル−２−ピリドン。
して、下記の化合物を挙げることができる。１−ヒドロ
キシ−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−２
−ピリドン、１−ヒドロキシ−６−メチル−２−ピリド
ン、１−ヒドロキシ−４，６−ジメチル−２−ピリド
ン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６−ヘプチル−２−
ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６−（１−エ
チルペンチル）−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−
メチル−６−（２，４，４−トリメチルペンチル）−２
−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６−ウンデ
シル−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６
−プロペニル−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メ
チル−６−オクテニル−２−ピリドン、１−ヒドロキシ
−４−メチル−６−（２，２−ジブチル−ビニル）−２
−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６−（シク
ロヘキセニリデン−メチル）−２−ピリドン、１−ヒド
ロキシ−４−メチル−６−シクロヘキシル−２−ピリド
ン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６−（メチル−シク
ロヘキシル）−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メ
チル−６−（２−ビシクロ〔２，２，１〕ヘプチル）−
２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６−〔２
−（ジメチルシクロヘキシル）−プロピル〕−２−ピリ
ドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６−（４−メチル
−フェニル）−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メ
チル−６−（３−メチル−フェニル）−２−ピリドン、
１−ヒドロキシ−４−メチル−６−（４−第３ブチル−
フェニル）−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチ
ル−６−（３−メチル−４−クロル−フェニル）−２−
ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６−（３，５
−ジクロル−フェニル）−２−ピリドン、１−ヒドロキ
シ−４−メチル−６−（３−ブロム−４−クロル−フェ
ニル）−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−
６−（４−メトキシスチリル）−２−ピリドン、１−ヒ
ドロキシ−４−メチル−６−〔１−（４−ニトロフェノ
キシ）−ブチル〕−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４
−メチル−６−（４−シアノフェノキシメチル）−２−
ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６−（フェニ
ルスルホニルメチル）−２−ピリドン、１−ヒドロキシ
−４−メチル−６−〔１−（４−クロルフェニルスルホ
ニル）−ブチル〕−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４
−メチル−６−ベンジル−２−ピリドン、１−ヒドロキ
シ−４−メチル−６−（２，４−ジメチルベンジル）−
２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６−（第
３ブチル−ベンジル）−２−ピリドン、１−ヒドロキシ
−４−メチル−６−（２−クロル−ベンジル）−２−ピ
リドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６−（４−クロ
ルベンジル）−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メ
チル−６−（２，５−ジクロル−ベンジル）−２−ピリ
ドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６−（４−ブロム
−ベンジル）−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メ
チル−６−（フェノキシメチル）−２−ピリドン、１−
ヒドロキシ−４−メチル−６−（３−メチルフェノキシ
−メチル）−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチ
ル−６−（４−第２ブチルフェノキシ−メチル）−２−
ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６−（２，
４，５−トリクロルフェノキシ−メチル）−２−ピリド
ン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６−（４−ブロムフ
ェノキシ−メチル）−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−
４−メチル−６−（４−クロルフェニルメルカプト−メ
チル）−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−
６−（４−メチルフェニルメルカプト−メチル）−２−
ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６−（２−ナ
フチル）−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチル
−６−ベンズヒドリル−２−ピリドン、１−ヒドロキシ
−４−メチル−６−フリル−２−ピリドン、１−ヒドロ
キシ−４−メチル−６−（フリルビニル）−２−ピリド
ン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６−スチリル−２−
ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６−（フェニ
ルブタジエニル）−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４
−フェニル−６−メチル−２−ピリドン、１−ヒドロキ
シ−４，６−ジフェニル−２−ピリドン。
【００１４】上記した化合物は塩として用いられ、例え
ば有機アミンとの塩として好適に使用することができ
る。具体的には、エタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ−メチル−ジエタ
ノールアミン、トリエタノールアミン、ジエチルアミノ
−エタノール、２−アミノ−２−メチル−ｎ−プロパノ
ール、ジメチルアミノプロパノール、２−アミノ−２−
メチル−プロパンジオール、トリ−イソプロパノールア
ミン、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、モ
ルホリン、ピペリジン、シクロヘキシルアミン、トリブ
チルアミン、ドデシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ドデ
シルアミン、ステアリルアミン、オレイルアミン、ベン
ジルアミン、ジベンジルアミン、Ｎ−エチルベンジルア
ミン、ジメチルステアリルアミン、Ｎ−メチル−モルホ
リン、Ｎ−メチルピペラジン、４−メチルシクロヘキシ
ルアミン、Ｎ−ヒドロキシエチル−モルホリン等が挙げ
られる。
ば有機アミンとの塩として好適に使用することができ
る。具体的には、エタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ−メチル−ジエタ
ノールアミン、トリエタノールアミン、ジエチルアミノ
−エタノール、２−アミノ−２−メチル−ｎ−プロパノ
ール、ジメチルアミノプロパノール、２−アミノ−２−
メチル−プロパンジオール、トリ−イソプロパノールア
ミン、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、モ
ルホリン、ピペリジン、シクロヘキシルアミン、トリブ
チルアミン、ドデシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ドデ
シルアミン、ステアリルアミン、オレイルアミン、ベン
ジルアミン、ジベンジルアミン、Ｎ−エチルベンジルア
ミン、ジメチルステアリルアミン、Ｎ−メチル−モルホ
リン、Ｎ−メチルピペラジン、４−メチルシクロヘキシ
ルアミン、Ｎ−ヒドロキシエチル−モルホリン等が挙げ
られる。
【００１５】また、本発明に用いられる１−ヒドロキシ
−２−ピリドン系化合物は、無機イオンとの塩であって
もよく、例えばナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ
金属塩、アンモニウム塩、マグネシウム塩、カルシウム
塩等のアルカリ土類金属塩などを用いることができる。
更に、亜鉛塩、アルミニウム塩、ジルコニウム塩等の２
〜４価の陽イオンとの塩も用いることができる。
−２−ピリドン系化合物は、無機イオンとの塩であって
もよく、例えばナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ
金属塩、アンモニウム塩、マグネシウム塩、カルシウム
塩等のアルカリ土類金属塩などを用いることができる。
更に、亜鉛塩、アルミニウム塩、ジルコニウム塩等の２
〜４価の陽イオンとの塩も用いることができる。
【００１６】上記式（１）の１−ヒドロキシ−２−ピリ
ドン系化合物としては、特に下記式（２）で示されるピ
ロクトンオラミンが好ましく使用される。
ドン系化合物としては、特に下記式（２）で示されるピ
ロクトンオラミンが好ましく使用される。
【００１７】
【化２】
【００１８】本発明において上記抗菌剤の配合量は、化
粧料全体の０．０００５〜１０％（質量％、以下同
様）、特に０．００５〜１％が好ましく、配合量が少な
すぎると満足な抗菌効果が発揮されない場合があり、多
すぎると皮膚・粘膜刺激性が生じる場合がある。
粧料全体の０．０００５〜１０％（質量％、以下同
様）、特に０．００５〜１％が好ましく、配合量が少な
すぎると満足な抗菌効果が発揮されない場合があり、多
すぎると皮膚・粘膜刺激性が生じる場合がある。
【００１９】次に、本発明では、上記抗菌剤を含有する
化粧料にシソ（Ｐｅｒｉｌｌａ ｆｒｕｔｅｓｃｅｎ
ｓ）、ラベンダー（Ｌａｖａｎｄｕｌａ ｖｅｒａ）、
ヒキオコシ（Ｉｓｏｄｏｎ ｊａｐｏｎｉｃｕｓ）、マ
ンネンロウ（Ｒｏｓｍａｒｉｎｕｓ ｏｆｆｉｃｉｎａ
ｌｉｓ）、メリッサ（Ｍｅｌｉｓｓａ ｏｆｆｉｃｉｎ
ａｌｉｓ）、オドリコソウ（Ｌａｍｉｕｍ ａｌｂｕ
ｍ）、タンジン（Ｓａｌｉｖｉａ ｍｉｌｔｉｏｒｈｉ
ｚａ）及びコレウス・フォルスコリイ（Ｃｏｌｅｕｓ
ｆｏｒｓｋｏｈｌｉｉ）から選ばれるシソ科植物の溶媒
抽出物の１種又は２種以上を適宜選択して配合するが、
好ましくはオドリコソウ、タンジン、コレウス・フォル
スコリイ、より好ましくはコレウス・フォルスコリイの
溶媒抽出物である。
化粧料にシソ（Ｐｅｒｉｌｌａ ｆｒｕｔｅｓｃｅｎ
ｓ）、ラベンダー（Ｌａｖａｎｄｕｌａ ｖｅｒａ）、
ヒキオコシ（Ｉｓｏｄｏｎ ｊａｐｏｎｉｃｕｓ）、マ
ンネンロウ（Ｒｏｓｍａｒｉｎｕｓ ｏｆｆｉｃｉｎａ
ｌｉｓ）、メリッサ（Ｍｅｌｉｓｓａ ｏｆｆｉｃｉｎ
ａｌｉｓ）、オドリコソウ（Ｌａｍｉｕｍ ａｌｂｕ
ｍ）、タンジン（Ｓａｌｉｖｉａ ｍｉｌｔｉｏｒｈｉ
ｚａ）及びコレウス・フォルスコリイ（Ｃｏｌｅｕｓ
ｆｏｒｓｋｏｈｌｉｉ）から選ばれるシソ科植物の溶媒
抽出物の１種又は２種以上を適宜選択して配合するが、
好ましくはオドリコソウ、タンジン、コレウス・フォル
スコリイ、より好ましくはコレウス・フォルスコリイの
溶媒抽出物である。
【００２０】本発明においてシソ科植物の溶媒抽出物を
得る方法に制限はなく、通常の抽出溶媒を用いた抽出法
が採用され、シソ科植物を粉砕するなどして水等の親水
性有機溶剤、含水親水性有機溶剤、その他有機溶剤等を
使用して抽出することができる。このような有機溶剤と
して具体的には、含水エタノール、含水メタノール、ヘ
キサン、クロロホルム、シクロヘキサン、ベンゼン、プ
ロピレングリコール、ジクロロメタン、エタノール、ア
セトン、酢酸エチル等が挙げられ、これらのうち１種を
単独で又は２種以上を併用して用いることができる。
得る方法に制限はなく、通常の抽出溶媒を用いた抽出法
が採用され、シソ科植物を粉砕するなどして水等の親水
性有機溶剤、含水親水性有機溶剤、その他有機溶剤等を
使用して抽出することができる。このような有機溶剤と
して具体的には、含水エタノール、含水メタノール、ヘ
キサン、クロロホルム、シクロヘキサン、ベンゼン、プ
ロピレングリコール、ジクロロメタン、エタノール、ア
セトン、酢酸エチル等が挙げられ、これらのうち１種を
単独で又は２種以上を併用して用いることができる。
【００２１】本発明において、上記シソ科植物の溶媒抽
出物としては、その抽出溶媒が水、エタノール、水／エ
タノール等の非毒性のものである場合は抽出物をそのま
ま用いても良く、あるいは希釈液として用いることがで
きる。また、上記抽出物を濃縮エキスとしてもよく、凍
結乾燥などにより乾燥粉末物にしたり、ぺースト状に調
製してもよい。
出物としては、その抽出溶媒が水、エタノール、水／エ
タノール等の非毒性のものである場合は抽出物をそのま
ま用いても良く、あるいは希釈液として用いることがで
きる。また、上記抽出物を濃縮エキスとしてもよく、凍
結乾燥などにより乾燥粉末物にしたり、ぺースト状に調
製してもよい。
【００２２】上記シソ科植物の溶媒抽出物の配合量は、
化粧料全体の０．０１〜２０％、特に０．１〜１０％が
好ましく、配合量が少なすぎると配合効果が得られない
場合があり、多すぎてもそれ以上の相乗効果の向上は期
待できず不経済となる。
化粧料全体の０．０１〜２０％、特に０．１〜１０％が
好ましく、配合量が少なすぎると配合効果が得られない
場合があり、多すぎてもそれ以上の相乗効果の向上は期
待できず不経済となる。
【００２３】本発明の低刺激性抗菌化粧料は、その形態
は特に限定されず、例えば乳液、クリーム、化粧水、パ
ック、洗浄料、口紅、ファンデーション等のメーキャッ
プ化粧料や、頭皮・毛髪用の化粧品や医薬部外品とする
ことができる。
は特に限定されず、例えば乳液、クリーム、化粧水、パ
ック、洗浄料、口紅、ファンデーション等のメーキャッ
プ化粧料や、頭皮・毛髪用の化粧品や医薬部外品とする
ことができる。
【００２４】本発明化粧料には、上記必須成分以外にそ
の化粧料の種類、使用目的、使用方法、形態などに応じ
た公知の成分を使用し得、その配合量も常用量とするこ
とができる。
の化粧料の種類、使用目的、使用方法、形態などに応じ
た公知の成分を使用し得、その配合量も常用量とするこ
とができる。
【００２５】
【発明の効果】本発明の低刺激性抗菌化粧料は、殺菌効
果に優れ、かつ皮膚・粘膜刺激性がほとんどなく安全性
も高いもので、頭髪用、皮膚用化粧料等として各種剤型
に調製して幅広く利用できる。例えば本発明化粧料を頭
髪用化粧料とした場合、頭皮において、ふけ・かゆみの
抑制、育毛効果の発揮、皮膚化粧料とした場合は、にき
びの改善効果の発揮を期待することができる。
果に優れ、かつ皮膚・粘膜刺激性がほとんどなく安全性
も高いもので、頭髪用、皮膚用化粧料等として各種剤型
に調製して幅広く利用できる。例えば本発明化粧料を頭
髪用化粧料とした場合、頭皮において、ふけ・かゆみの
抑制、育毛効果の発揮、皮膚化粧料とした場合は、にき
びの改善効果の発揮を期待することができる。
【００２６】
【実施例】以下、試験例及び実施例を挙げて本発明を更
に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるもの
ではない。なお、以下の例において％はいずれも質量％
である。 〔試験例〕下記表２、３に示す組成の化粧水を調製し、
下記方法で抗菌力を評価した。なお、抗菌力試験は、ぺ
ーパーディスク法で以下のように行った。結果を表２、
３に示す。 抗菌力試験：ぺーパーディスク法で以下のように行っ
た。細菌としては、黄色ブドウ球菌（Ｓｔａｐｈｙｒｏ
ｃｏｃｃｕｓ ａｕｒｅｕｓ ２０９Ｐ）、表皮ブドウ
球菌（Ｓｔａｐｈｙｒｏｃｏｃｃｕｓ ｅｐｉｄｅｒｍ
ｉｄｉｓ ＡＴＣＣ １２２２８）、にきび桿菌（Ｐｒ
ｏｐｉｏｎｉｂａｃｔｅｒｉｍ ａｃｎｅｓ ＡＴＣＣ
１１８２７）を用いた。また、ブドウ球菌について
は、培地としてミューラーヒントン寒天培地を用い、オ
ートクレーブで１２０℃、２０分間滅菌した。得られた
寒天培地を約５０℃に保温し、ここに予め前培養してお
いた菌を無菌的に接種し、撹拌後滅菌シャーレに静かに
流し込み、寒天平板を作成した。まず、試料２５μＬを
濾紙ディスク（直径８ｍｍ）に浸み込ませ、前記の寒天
平板上に接着させ、３７℃で２４時間好気培養し、その
阻止円の大きさで抗菌力を測定した。にきび桿菌につい
ては、ＧＡＭ寒天培地を用い、前記と同様の操作後、３
７℃で４８時間嫌気培養し、阻止円の大きさで抗菌力を
測定した。真菌としては、マラセチア菌（Ｍａｌａｓｓ
ｅｚｉａ ｆｕｒｆｕｒ）を用いた。Ｄｉｘｏｎ培地を
用い、ブドウ球菌と同様の操作で測定を行った。皮膚刺
激性の評価は、各試料について、男性パネラー２０名を
用いて４８時間の閉塞貼付試験を行い、表１に示す判定
基準により評価し、２０名の皮膚刺激の平均値を求め
た。
に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるもの
ではない。なお、以下の例において％はいずれも質量％
である。 〔試験例〕下記表２、３に示す組成の化粧水を調製し、
下記方法で抗菌力を評価した。なお、抗菌力試験は、ぺ
ーパーディスク法で以下のように行った。結果を表２、
３に示す。 抗菌力試験：ぺーパーディスク法で以下のように行っ
た。細菌としては、黄色ブドウ球菌（Ｓｔａｐｈｙｒｏ
ｃｏｃｃｕｓ ａｕｒｅｕｓ ２０９Ｐ）、表皮ブドウ
球菌（Ｓｔａｐｈｙｒｏｃｏｃｃｕｓ ｅｐｉｄｅｒｍ
ｉｄｉｓ ＡＴＣＣ １２２２８）、にきび桿菌（Ｐｒ
ｏｐｉｏｎｉｂａｃｔｅｒｉｍ ａｃｎｅｓ ＡＴＣＣ
１１８２７）を用いた。また、ブドウ球菌について
は、培地としてミューラーヒントン寒天培地を用い、オ
ートクレーブで１２０℃、２０分間滅菌した。得られた
寒天培地を約５０℃に保温し、ここに予め前培養してお
いた菌を無菌的に接種し、撹拌後滅菌シャーレに静かに
流し込み、寒天平板を作成した。まず、試料２５μＬを
濾紙ディスク（直径８ｍｍ）に浸み込ませ、前記の寒天
平板上に接着させ、３７℃で２４時間好気培養し、その
阻止円の大きさで抗菌力を測定した。にきび桿菌につい
ては、ＧＡＭ寒天培地を用い、前記と同様の操作後、３
７℃で４８時間嫌気培養し、阻止円の大きさで抗菌力を
測定した。真菌としては、マラセチア菌（Ｍａｌａｓｓ
ｅｚｉａ ｆｕｒｆｕｒ）を用いた。Ｄｉｘｏｎ培地を
用い、ブドウ球菌と同様の操作で測定を行った。皮膚刺
激性の評価は、各試料について、男性パネラー２０名を
用いて４８時間の閉塞貼付試験を行い、表１に示す判定
基準により評価し、２０名の皮膚刺激の平均値を求め
た。
【００２７】
【表１】
【００２８】
【表２】
【００２９】
【００３０】
【表３】
【００３１】次に、各種剤型を処方した実施例を示す。 〔実施例１〕美容液 １．ソルビット ４．０％ ２．ジプロピレングリコール ６．０ ３．ＰＥＧ １５００ ５．０ ４．ＰＯＥ（２０）オレイルアルコールエーテル ０．５ ５．メチルセルロース ０．２ ６．クエン酸 ０．０１ ７．クエン酸ナトリウム ０．２５ ８．上記式（２）の１−ヒドロキシ−２−ピリドン塩 ０．０５ ９．コレウス・フォルスコリイ抽出物 ０．５ １０．香料 微量１１．精製水 残部 計 １００．０％
【００３２】 〔実施例２〕乳液 １．グリセリルエーテル １．５％ ２．ショ糖脂肪酸エステル １．５ ３．モノステアリン酸ソルビタン １．０ ４．スクワラン ７．５ ５．ジプロピレングリコール ５．０ ６．下記式（３）の１−ヒドロキシ−２−ピリドン塩 ０．０３ ７．オドリコソウ抽出物 ０．２ ８．香料 微量９．精製水 残部 計 １００．０％
【化３】
【００３３】 〔実施例３〕軟膏 白色ワセリン ４０．０％ セタノール １８．０ セスキオレイン酸ソルビタン ５．０ ラウロマクロゴール ０．５ 塩化ベンゼトニウム ０．０１ タンジン抽出物 １．０ 香料 微量精製水 残部 計 １００．０％
【００３４】 〔実施例４〕クリーム １．プロピレングリコール ６．０％ ２．フタル酸ジブチル １９．０ ３．ステアリン酸 ５．０ ４．モノステアリン酸グリセリン ５．０ ５．モノステアリン酸ソルビタン １２．０ ６．モノステアリン酸ポリエチレンソルビタン ３８．０ ７．エデト酸ナトリウム ０．０３ ８．上記式（３）の１−ヒドロキシ−２−ピリドン塩 ０．０５ ９．ヒキオコシ抽出物 ０．２ １０．香料 微量１１．精製水 残部 計 １００．０％
【００３５】 〔実施例５〕浴用剤 １．硫酸ナトリウム ４５．５％ ２．炭酸水素ナトリウム ４８．９ ３．イソプロピルメチルフェノール ０．０５ ４．ラベンダー抽出物 ５．０ ５．メントール ０．３６．香料、色素 ０．２５ 計 １００．０％
【００３６】 〔実施例６〕発毛剤 １．ミノキシジル １．０％ ２．酢酸トコフェロール ０．１ ３．モノミリスチン酸ペンタグリセリン １．０ ４．モノラウリン酸ソルビタン ０．５ ５．ヒノキチオール ０．１ ６．ｌ−メントール ０．２ ７．カンファー ０．０２ ８．ニコチン酸ベンジル ０．００１ ９．メリッサ抽出物 ０．５ １０．香料 適量 １１．エタノール ５０．０１２．精製水 残部 計 １００．０％
【００３７】 〔実施例７〕育毛剤 １．ペンタデカン酸モノグリセリド ２．０％ ２．酢酸トコフェロール ０．１ ３．ラウリン酸ソルビタン １．０ ４．式（３）の１−ヒドロキシ−２−ピリドン塩 ０．０５ ５．コレウス・フォルスコリイ抽出物 ０．５ ６．コハク酸 ０．２ ７．ｌ−メントール ０．３ ８．カンファー ０．２ ９．エタノール ８０．０１０．精製水 残部 計 １００．０％
【００３８】 〔実施例８〕ヘアートニック Ｄ−パントテニルアルコール ０．５％ 酢酸トコフェロール ０．０５ ｌ−メントール ０．１ ヒノキチオール ０．０５ シソ抽出物 ２．０ モノラウリン酸デカグリセリン ０．５ エタノール ２０．０精製水 残部 計 １００．０％
【００３９】 〔実施例９〕シャンプー １．ラウリルエーテル硫酸ナトリウム １０．０％ ２．α−オレフィンスルホン酸ナトリウム ５．０ ３．脂肪酸ジエタノールアミド ５．０ ４．アルキルアミドプロピルベタイン ５．０ ５．ジメチルシロキサン ３．０ ６．カチオン化セルロース ０．５ ７．ジステアリン酸エチレングリコール ２．０ ８．ジンクピリチオン ０．０５ ９．マンネンロウ抽出物 ０．３ １０．アロエエキス ０．２ １１．香料 適量１２．精製水 残部 計 １００．０％
フロントページの続き (72)発明者 横幕 敦司 東京都墨田区本所１丁目３番７号 ライオ ン株式会社内 (72)発明者 佐藤 円康 東京都墨田区本所１丁目３番７号 ライオ ン株式会社内 Ｆターム(参考） 4C083 AA111 AA112 AB312 AB352 AC012 AC072 AC102 AC122 AC132 AC182 AC242 AC302 AC352 AC372 AC392 AC422 AC442 AC471 AC472 AC532 AC642 AC691 AC782 AC792 AC811 AC841 AC851 AC852 AC931 AD042 AD132 AD152 AD192 AD262 AD532 AD662 BB51 BB53 CC01 CC05 CC25 CC37 CC38 EE10 EE12
Claims (2)
- 【請求項１】 抗菌剤として１−ヒドロキシ−２−ピリ
ドン系化合物及びその塩、塩化ベンザルコニウム、塩化
ベンゼトニウム、イソプロピルメチルフェノール、ヒノ
キチオール、トリクロロカルバニリド並びにジンクピリ
チオンから選ばれる１種又は２種以上を含有する抗菌化
粧料に、シソ、ラベンダー、ヒキオコシ、マンネンロ
ウ、メリッサ、オドリコソウ、タンジン及びコレウス・
フォルスコリイから選ばれる１種又は２種以上のシソ科
植物の溶媒抽出物を配合したことを特徴とする低刺激性
抗菌化粧料。 - 【請求項２】 皮膚又は頭髪用である請求項１記載の低
刺激性抗菌化粧料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36016199A JP2001172159A (ja) | 1999-12-20 | 1999-12-20 | 低刺激性抗菌化粧料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36016199A JP2001172159A (ja) | 1999-12-20 | 1999-12-20 | 低刺激性抗菌化粧料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001172159A true JP2001172159A (ja) | 2001-06-26 |
Family
ID=18468177
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36016199A Pending JP2001172159A (ja) | 1999-12-20 | 1999-12-20 | 低刺激性抗菌化粧料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001172159A (ja) |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003012494A (ja) * | 2001-07-05 | 2003-01-15 | Arkray Inc | 保湿剤 |
| JP2004189656A (ja) * | 2002-12-10 | 2004-07-08 | Kao Corp | 抗アクネ菌組成物 |
| JP2005082506A (ja) * | 2003-09-05 | 2005-03-31 | Kao Corp | イソプロピルメチルフェノール配糖体 |
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| JPWO2015064681A1 (ja) * | 2013-10-30 | 2017-03-09 | ロート製薬株式会社 | 外用組成物 |
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-
1999
- 1999-12-20 JP JP36016199A patent/JP2001172159A/ja active Pending
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