JP4565075B2 - 複数層構造体、この構造体への微細構造の描画方法、光ディスク製作用マスター及びその製造方法、並びに、コンピュータで読み取り可能な媒体 - Google Patents
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Description
(第1実施例)
(第2実施例)
(参考例)
図11A及び図11Bは、本発明の実施例に係る光ディスク製作用のマスターのマスタリング工程及びスタンパ製造工程を示したフローチャートである。
Claims (17)
- 基板と、
前記基板上に形成される変形層と、
を備える複数層構造体において、
前記変形層は、前記基板上に形成された第1誘電体層と、前記第1誘電体層上に形成された合金層と、前記合金層上に形成された第2誘電体層と、を備え、レーザー光を照射された部分の温度が所定温度を超えると、相互拡散又は化合物の形成により前記レーザー光が照射された部分の体積が変化し、
前記第1誘電体層及び前記第2誘電体層は、ZnSと二酸化ケイ素(SiO2)との混合物からなり、
前記合金層は、テルビウム−鉄−コバルト(TbFeCo)からなることを特徴とする複数層構造体。 - 前記第1誘電体層は、約50ないし250nmの厚さを有することを特徴とする請求項1に記載の複数層構造体。
- 前記合金層は、約5ないし50nmの厚さを有することを特徴とする請求項1又は2に記載の複数層構造体。
- 前記第2誘電体層は、約10ないし100nmの厚さを有することを特徴とする請求項1〜3いずれか一項に記載の複数層構造体。
- 基板と、
前記基板上に形成される変形層と、
を備える複数層構造体において、
前記変形層は、合金及び誘電体からなる単一層構造の合金誘電体層を備え、レーザー光を照射された部分の温度が所定温度を超えると、相互拡散又は化合物の形成により前記レーザー光が照射された部分の体積が変化し、
前記合金は、テルビウム−鉄−コバルト(TbFeCo)であり、
前記誘電体は、ZnSと二酸化ケイ素(SiO2)との混合物であることを特徴とする複数層構造体。 - 前記変形層は、前記基板と前記合金誘電体層との間に形成された誘電体層を更に備えることを特徴とする請求項5に記載の複数層構造体。
- 前記基板は、ガラス(SiO2)またはポリカーボネートからなることを特徴とする請求項1〜6いずれか一項に記載の複数層構造体。
- 請求項1〜7いずれか一項に記載の複数層構造体に対する微細構造の描画方法であって、
前記変形層の所定領域にレーザー光を照射するステップと、
前記レーザー光が照射された前記変形層の領域を、所定温度以上に加熱するステップと、
を含み、
前記加熱された領域の体積を変化させることを特徴とする微細構造の描画方法。 - 前記加熱された領域の直径を前記レーザー光の直径より小さくして、前記レーザー光の直径より小さな直径を有するピットを形成させることを特徴とする請求項8に記載の微細構造の描画方法。
- 前記レーザー光の回折限界より小さいピットパターンを形成させることを特徴とする請求項9に記載の微細構造の描画方法。
- 所定領域の体積が変化した前記変形層に対し、体積が変化した部分とそれ以外の部分とのエッチングの速度差を利用してエッチング処理するステップを更に含むことを特徴とする請求項8〜10いずれか一項に記載の微細構造の描画方法。
- 請求項1〜7いずれか一項に記載の複数層構造体の前記変形層の所定領域にレーザー光を照射し、前記レーザー光が照射された前記変形層の領域を所定温度以上に加熱し、前記加熱された領域の体積を変化させてピットパターンを形成させた光ディスク製作用マスター。
- 請求項1〜7いずれか一項に記載の複数層構造体の前記変形層の所定領域にレーザー光を照射するステップと、
前記レーザー光が照射された前記変形層の領域を、所定温度以上に加熱するステップと、
を含み、
前記加熱された領域の体積を変化させることを特徴とする光ディスク製作用マスターの製造方法。 - 所定領域の体積が変化した前記変形層に対し、体積が変化した部分とそれ以外の部分とのエッチングの速度差を利用してエッチング処理するステップを更に含むことを特徴とする請求項13に記載の光ディスク製作用マスターの製造方法。
- 請求項1〜7いずれか一項に記載の複数層構造体上に、微細構造を描画する方法を実行するためのプロセシング命令がエンコーディングされたコンピュータで読み取り可能な媒体であって、
前記微細構造を描画する方法は、前記変形層の所定領域にレーザー光を照射するステップと、前記レーザー光が照射された前記変形層の領域を、所定温度以上に加熱するステップと、を含み、前記加熱された領域の体積を変化させることを特徴とするコンピュータで読み取り可能な媒体。 - 前記微細構造を描画する方法は、所定領域の体積が変化した前記変形層に対し、体積が変化した部分とそれ以外の部分とのエッチングの速度差を利用してエッチング処理するステップを更に含むことを特徴とする請求項15に記載のコンピュータで読み取り可能な媒体。
- 光ディスク製作用マスターを製造する方法を実行するためのプロセシング命令がエンコーディングされたコンピュータで読み取り可能な媒体であって、
光ディスク製作用マスターを製造する方法は、請求項1〜7いずれか一項に記載の複数層構造体の前記変形層の所定領域にレーザー光を照射するステップと、前記レーザー光が照射された前記変形層の領域を、所定温度以上に加熱するステップと、を含み、前記加熱された領域の体積を変化させることを特徴とするコンピュータで読み取り可能な媒体。
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