JP4543671B2 - Rf−id管理によるフォトマスクの製造方法及びそれを用いたフォトマスクの描画方法 - Google Patents
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Description
画装置の露光条件のパラメータ、例えば、電子線描画装置では、電子ビーム径(以下スポットサイズと記す)、そのビーム照射量等を組み合わせて、マスクブランクのレジスト層に露光する。
(a)RF−IDから必要な製造情報を読み込む手段により製造情報を出力する手段。
(b)外部の既存の管理システムから必要な製造情報を読み込む手段により製造情報を出力する手段。
(c)前記(a)と(b)との製造情報のうち、共通で且つ所定の範囲内の製造情報を抽出する手段。
(d)前記(a)と(b)との抽出した製造情報を比較し、完全に一致、又はそれ以外を判定する手段。
(e)前項で完全に一致した場合は、正常の表示をし、次の作業へ進行を許可し、不一致の場合、異常の表示をし、該作業を中断する手段。
(a)マスクブランクを収納した搬送ユニットの樹脂製の容器(以下搬送ユニットと記す)にRF−IDのタグを取り付ける工程。
(b)前記RF−IDのタグに、描画情報を書き込む(WRITE)工程。
(c)前記搬送ユニットを搬送し、収納したマスクブランクを描画装置に装填する工程。
(d)描画装置が、前記RF−IDのタグから、描画情報を読み取る(READER)工程。
(e)前記描画情報により露光条件パラメータを露光装置へ自動設定する工程。
(f)マスクブランクに露光する工程。
図左側には、処理工程外にある既存管理システム(60)上にデータ−Bと、製造工程内にある既存データベース(70)上にデータ−Cが製造情報としてある。図右側は、当該工程の作業員エリア(100)であり、マスクブランク又はフォトマスク基板に付与し、搬送ユニットに貼り付けたRF−IDタグ(30)と、当該装置(101)と、当該工程の作業員により情報入力する端末装置(102)がある。図中央は、左に手順管理方法(80)であり、そのなかに、外部より情報を取り込む手段(81)と、条件パラメータに変換する手段(82)と、条件パラメータを当該装置へ自動入力する手段(83)があり、各々、データーB、データ−C、データ−Eを管理する。右に情報管理方法(90)であり、そのなかに、RF−IDタグへの書き込みをする手段(91)と、RF−IDタグから読み取りをする手段(92)があり、各々、データ−B、データ−C、データ−F、データEと、データ−Dを管理する。すなわち、RF−IDタグでは、当該工程以前に、データ−A、データーDは入力済みであり、当該工程において外部よりデータ−B、データ−Cが自動的に入力され、前記データ−Dは条件パラメータとしてデータ−Eに変換後、当該装置及びRF−IDタグへと自動的に入力されている。当該工程から次工程へ搬送する被加工基板上に貼り付けたRF−IDタグでは、データ−A、データ−B、データ−C、データ−D、データ−F、データ−Eが入力されている。なお、図上では、データ−AをAと記す。
説明する。透明基板(1)は、まず基板の材質で区分し、さらに外形寸法と、その板厚によりより分別管理されている。その情報は、透明基板の板厚情報(19)に記載されている。前記透明基板の片側表面に0.01ミクロンオーダー厚の金属薄膜層(2)が形成され、単層、2層、3層等の層構成と、金属薄膜の透過率又は材質により分別管理されている。その情報は、金属薄膜の膜質情報(18)に記載されている。前記金属薄膜上に0.1ミクロンオーダー厚のレジスト膜(3)で形成され、さらにレジスト名と、レジスト塗布ロット番号により分別管理されている。その情報は、レジスト塗布ロット番号情報(17)に記載されている。
2…金属薄膜層
3…レジスト層
4…マスクブランク
5…フォトマスク
6…フォトマスク搬送ユニット
10…マスク製造仕様
11…マスク管理番号
13…マスクブランク管理情報
16…レジスト名
17…レジスト塗布ロット番号
18…金属薄膜の膜質情報
19…透明基板の板厚情報
20…露光条件のパラメータ
22…ビームのスポットサイズ
24…ビームの照射量
25…露光条件のパラメータ用データベース
30…RF−ID(タグ)
31…書き込み装置(WRITER)
32…読み取り装置(READER)
40…自動移載装置
41…バーコード
42…バーコード読み取り装置
43…保管ケース
50…描画装置
60…(処理工程外の)既存管理システム
70…(処理工程内の)既存データベース
80…手順管理方法
81…情報を読み込む手段
82…条件パラメータに変換する手段
83…条件パラメータを当該装置へ自動入力手段
90…情報管理方法
91…RF−IDへ書き込み手段
92…RF−IDから読み取り手段
100…当該工程の作業員エリア
101…当該装置
102…情報入力端末装置
120…(当該装置用)露光条件のパラメータ
Claims (4)
- 複数の製造装置又は加工処理を経てフォトマスク基板を製造するフォトマスク製造方法において、前記フォトマスク製造工程内の全ての製造装置又は加工処理の部署に回送されるマスクブランク又はフォトマスク基板、又は製造指示書にRF−IDタグを付与し、該RF−IDタグに所定の形式による製造情報が具備され、前記製造装置又は加工処理の各部署には前記RF−IDタグとの製造情報の読み取り手段と、製造情報の書き込みの手段とを有する情報管理方法と、該読み取り手段によりRF−IDタグから読み取られる製造情報を前記製造工程内の装置の所定の形式である製造条件パラメータに変換する手段と、該製造条件パラメータを該装置に自動的に条件入力する手段と、製造工程以外の外部の既存の管理システム及びデータベースから必要な製造情報を読み込むこと及び該製造情報をRF−IDタグへ自動的に情報入力する手段とを有する手順管理方法を備えたことを特徴とするRF−ID管理によるフォトマスク製造方法。
- 前記手順管理方法が、少なくとも以下の手段からなる手順管理方法を付加したことを特徴とする請求項1記載のRF−ID管理によるフォトマスク製造方法。
(a)RF−IDから必要な製造情報を読み込む手段により製造情報を出力する手段。
(b)外部の既存の管理システムから必要な製造情報を読み込む手段により製造情報を出力する手段。
(c)前記(a)と(b)との製造情報のうち、共通で且つ所定の範囲内の製造情報を抽出する手段。
(d)前記(a)と(b)との抽出した製造情報を比較し、完全に一致、又はそれ以外を判定する手段。
(e)前項で完全に一致した場合は、正常の表示をし、次の作業へ進行を許可し、不一致の場合、異常の表示をし、該作業を中断する手段。 - 透明基板の片面全面に金属薄膜とレジスト膜とを順番に形成したマスクブランクを用いてフォトマスクを製造するフォトマスクの描画方法において、請求項1、又は2記載のRF−ID管理によるフォトマスク製造方法を用いて、少なくとも以下の工程を備えることを特徴とするフォトマスクの描画方法。
(a)マスクブランクを収納した搬送ユニットの樹脂製の容器(以下搬送ユニットと記す)にRF−IDのタグを取り付ける工程。
(b)前記RF−IDのタグに、描画情報を書き込む(WRITE)工程。
(c)前記搬送ユニットを搬送し、収納したマスクブランクを描画装置に装填する工程。
(d)描画装置が、前記RF−IDのタグから、描画情報を読み取る(READER)工程。
(e)前記描画情報により露光条件パラメータを露光装置へ自動設定する工程。
(f)マスクブランクに露光する工程。 - 前記露光条件パラメータを露光装置へ自動設定する工程では、マスク製造仕様のビームのスポットサイズ情報と、描画情報のレジスト膜情報と、金属薄膜情報と、そのビーム照射量を登録する露光条件パラメータ用データベースより自動引用し、露光条件パラメータを露光装置へ自動設定することを特徴とする請求項3記載のフォトマスクの描画方法。
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