JPH0743893A - 露光用マスク、マスク収納容器、及び露光用マスク識別装置 - Google Patents

露光用マスク、マスク収納容器、及び露光用マスク識別装置

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JPH0743893A
JPH0743893A JP18643893A JP18643893A JPH0743893A JP H0743893 A JPH0743893 A JP H0743893A JP 18643893 A JP18643893 A JP 18643893A JP 18643893 A JP18643893 A JP 18643893A JP H0743893 A JPH0743893 A JP H0743893A
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JP
Japan
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mask
bar code
exposing
shelf
housing container
Prior art date
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Pending
Application number
JP18643893A
Other languages
English (en)
Inventor
Kunihiro Kojima
邦博 小嶋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
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Publication of JPH0743893A publication Critical patent/JPH0743893A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/70741Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Library & Information Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】半導体製造などに使用される露光用マスク、露
光用マスク収納容器、及び露光用マスク、またはマスク
収納容器の識別装置に関する。層状に配列されたマス
ク、またはマスク収納容器の識別処理を、識別動作が早
く、しかも簡単な機構で実現する。 【構成】半導体製造、表示体製造等に使用される露光用
マスク、またはマスク収納容器おいて、マスク、または
マスク収納容器の側面部4に、露光パターン面と垂直方
向にコード5が配列された標識を付ける。また、前記マ
スク、またはマスク収納容器が層状に配置されるマス
ク、またはマスク収納容器の収納部が有り、マスクのパ
ターン面と相対的に垂直方向に標識識別機構を走査させ
る機構を有することを特徴とするマスク、またはマスク
収納容器の識別装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造などに使用
される露光用マスク、露光用マスク収納容器、及び露光
用マスク、またはマスク収納容器の識別装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の露光装置に使用されるマスクの識
別方法としては、特開平3−269535の実施例に見
られるような、マスクの一部にバーコードラベルなどの
標識を付け、光学的手段で読み取り識別する方法があ
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、特開平3−2
69535の実施例のような、マスクのパターン面に識
別用の標識を付ける方法では、マスクのパターン面に垂
直の方向にバーコードリーダーを配置して標識を識別す
る機構を設けなければならず、層状に配置された複数の
マスク、またはマスク収納容器を効率よく識別する機構
を提供することができなかった。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、本発明では、半導体製造、表示体製造等に使用され
る露光用マスク、またはマスク収納容器おいて、マス
ク、またはマスク収納容器の側面部に、露光パターン面
と垂直方向にコードが配列された標識を付けたことを特
徴とする露光用マスク、またはマスク収納容器を手段と
する。また、前記マスク、またはマスク収納容器が層状
に配置されるマスク、またはマスク収納容器の収納部が
有り、マスクのパターン面と相対的に垂直方向に標識識
別機構を走査させる機構を有することを特徴とするマス
ク、またはマスク収納容器の識別装置を手段とする。
【0005】
【実施例】図1は、本発明の露光用マスクの外観図であ
る。マスク1の側面部2には、マスクの識別標識として
バーコード3が付けてある。図2は、図1のバーコード
周辺部を拡大した図である。マスクの側面部4に付けた
バーコード5は、露光パターンが描かれている面に対し
て垂直方向にコードを配列してある。従って、バーコー
ドを読み取るには、読み取り装置の発光ビームをマスク
のパターン面に対して垂直方向に走査させる。また、図
3は、マスク識別のための情報が多く、マスクの側面6
に一列の標識を付けるだけでは、マスク識別情報を表示
するのに不十分な場合に、識別情報を増やす標識の配置
方法である。図3のように、標識7、標識8、標識9を
三列配置すること情報量は三倍にでき、情報量の増加は
容易にできる。図1、図2、図3では、露光用マスクの
識別を対象としたが、マスク収納容器、及びマスク収納
容器に収納されたマスクの識別に対しても、同様な方法
が適用可能なことは明らかである。
【0006】図4は、本発明の実施例であり、マスク保
管棚に保管されたマスクの識別装置の外観図である。マ
スク保管棚には、マスクを保管するために五段の棚1
1、棚12、棚13、棚14、棚15が設けられてい
る。それぞれの棚の前面には、棚の位置を識別する標識
として、バーコード21、バーコード22、バーコード
23、バーコード24、バーコード25が付けられてい
る。棚の位置を識別するバーコード21、バーコード2
2、バーコード23、バーコード24、バーコード25
は、全て各棚のマスクを置く平面に対して垂直方向にコ
ードが配列されている。また、棚の上から1段目、2段
目、3段目、5段目には、マスク31、マスク32、マ
スク33、マスク35の四枚のマスクが層状に保管され
ている。四段目の棚にはマスクは保管されていない。そ
れぞれのマスクには、マスク識別用のバーコード41、
バーコード42、バーコード43、バーコード45が付
けられている。マスク31、マスク32、マスク33、
マスク35には、図2と同様に、マスクの側面部にバー
コードが付けられており、マスクのパターン面に対して
垂直方向にコードが配列されている。また、棚の前面か
ら見た場合、棚の位置を識別するバーコード21、バー
コード22、バーコード23、バーコード24、バーコ
ード25と、各マスクを識別するバーコード41、バー
コード42、バーコード43、バーコード44、バーコ
ード45は、バーコード読み取り装置50の走査ビーム
が一回走査されたとき、発光ビームが当たる範囲内にあ
るような位置関係にある。バーコード読み取り装置50
からは、矢印53の向きに発光ビームが発せられ、矢印
54の向きに反射光が戻る。バーコード読み取り装置5
0には、矢印55の方向に回転できる軸52とそれに連
なった回転駆動機構が連結されている。軸52を回転さ
せると、発光ビームは、棚、及びマスクに付けられたバ
ーコードの配列方向に走査され、一段目に置かれたマス
ク、一段目の棚、二段目に置かれたマスクマスク、二段
目の棚、三段目のマスク、三段目の棚、四段目の棚、五
段目に置かれたマスク、五段目の棚の順にそれぞれのバ
ーコードが読み取られる。しかも、各マスク、及び各棚
のバーコードのコード配列が発行ビームの走査方向と同
一であるため、回転機構を一回転させるのみで全てのバ
ーコードを読み取ることができる。図5のように、バー
コード56のコード配列がマスク1のパターン面と水平
方向、に配列した場合は、図4の実施例のように一回の
簡単な動作で全バーコードを読み取ることができない。
読み取られた一連のバーコードは、バーコード処理装置
51により処理され、各棚の位置に置かれているマスク
を認識する。棚にマスクが置かれている場合は、マスク
の識別用バーコードに続いて、棚識別用バーコードが読
み取られるので、マスクと棚の対応をとることができ
る。また、四段目の棚14のように、マスクが置かれて
いない場合は、三段目の棚のバーコード23に続いて、
四段目の棚のバーコード24が読み込まれる。棚の位置
を表すバーコードが連続して読み込まれた場合は、該当
する棚にマスクが置かれていないことと判断できる。
尚、本実施例は、露光用マスクを対象としたものである
が、マスク収納容器、及びマスク収納容器に収納された
マスクに対しても、同様の方法が適用可能であることは
容易に類推できる。
【0007】
【発明の効果】本発明のマスク、またはマスク収納容
器、及びマスクまたはマスク収納容器の識別装置を用い
れば、層状に配列されたマスク、またはマスク収納容器
の識別処理を、識別動作が早く、しかも簡単な機構で実
現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のマスクの外観図。
【図2】本発明のマスクのバーコード部の拡大図。
【図3】本発明のマスクのバーコード部の拡大図。
【図4】本発明のマスク識別装置の外観図。
【図5】従来技術のマスクパターン面と並行にコードを
配列したマスクのバーコード部拡大図。
【符号の説明】
1 マスク 2 マスクの側面部 3 マスクの識別標識としてバーコード 4 マスクの側面部 5 バーコード 6 マスクの側面 7、8、9 標識 11、12、13、14、15 マスクを保管するため
の棚 21、22、23、24、25 棚の位置を識別するバ
ーコード 31、32、33、35 マスク 41、42、43、44、45 各マスクを識別するマ
スク識別用のバーコード 50 バーコード読み取り装置 51 バーコード処理装置 52 バーコード読み取り装置の回転軸 56 バーコード
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/68 F 7352−4M H01L 21/30 502 J

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】半導体製造、表示体製造等に使用される露
    光用マスク、または露光用マスク収納容器において、マ
    スク、またはマスク収納容器の側面部に、露光パターン
    面と垂直方向にコードが配列された標識を付けたことを
    特徴とする露光用マスク、またはマスク収納容器。
  2. 【請求項2】請求項1のマスク、またはマスク収納容器
    が層状に配置されるマスク、またはマスク収納容器の収
    納部が有り、マスクのパターン面と相対的に垂直方向に
    標識識別機構を走査させる機構を有することを特徴とす
    る露光用マスク識別装置。
JP18643893A 1993-07-28 1993-07-28 露光用マスク、マスク収納容器、及び露光用マスク識別装置 Pending JPH0743893A (ja)

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ID=16188453

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005181367A (ja) * 2003-12-16 2005-07-07 Toppan Printing Co Ltd Rf−id管理による処理方法及びそれを用いたフォトマスクの描画方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005181367A (ja) * 2003-12-16 2005-07-07 Toppan Printing Co Ltd Rf−id管理による処理方法及びそれを用いたフォトマスクの描画方法
JP4543671B2 (ja) * 2003-12-16 2010-09-15 凸版印刷株式会社 Rf−id管理によるフォトマスクの製造方法及びそれを用いたフォトマスクの描画方法

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