JP4215433B2 - レーザビームによる識別コードのマーキング方法及び装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザビームによる識別コードのマーキング方法及び装置に関し、更に詳しくは、液晶パネル製造工程等において基板に履歴管理や品質管理等の識別コードをレーザビームにより露光或は直接彫り込むマーキング方法及び装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般に、液晶パネルの製造工程では、フォトレジスト(即ち、感光樹脂)が塗布されたガラス基板に、レーザビームのパターン露光装置によってマトリックス状に配列した多数の回路パターンを露光する他に、識別露光装置によって基板識別コードやパネル識別コード等を露光し、また周辺露光装置によって基板周辺部分の不要レジスト部分を露光してから、現像装置により現像処理する。このように現像処理が済んだガラス基板は、複数の回路パターン毎の単位に分割されて液晶パネルが製作される。
【0003】
図14は、上記のように露光処理の後に現像処理をして得られたガラス基板を例示したものである。
【0004】
ガラス基板50の表面には、多数の液晶パネル51が6枚×6枚に多列にマトリックス状に配列して露光されると共に、基板周辺に履歴管理や品質管理等のための基板識別コード50aがマーキングされている。また、ガラス基板50に露光された複数の液晶パネル51には、分割後でも個々の液晶パネル51が特定できるように配列番号等のパネル識別コード51aがマーキングされ、更に個々の液晶パネル51を縦列の各縦列毎に、その分断単位が管理できるように分断位置情報等の分断基板識別コード50bがマーキングされている。
【0005】
上記のように大型のガラス基板50から複数の小型の液晶パネル51を分離して製造する場合には、分断基板識別コード50bやパネル識別コード51aなどが必要になる。但し、ここに例示した基板識別コード50a、分断基板識別コード50b、パネル識別コード51aなどの呼称や分割数等はあくまでも一例であり、液晶パネルの種類等により変わることはいうまでもない。
【0006】
従来、上記のような基板識別コード50a、分断基板識別コード50b、パネル識別コード51a等の識別コードのマーキング方法は、レーザビーム照射機構を備えたマーキングユニットを一定位置に固定しておき、他方ガラス基板を保持したステージをNC制御によって一定の速度で縦横に移動しながら、そのガラス基板の所定の位置に、上記マーキングユニットのレーザビーム照射機構からレーザビームを照射して識別コードをマーキングしていた。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記従来の方法は、レーザビーム照射機構を備えたマーキングユニットと基板を載せたステージとを相対的に移動させながら、識別コードを1列ずつ走査照射してマーキングする方法であるため、パネルが小型化して1枚の基板当たりに配列するパネル数が多くなると、必然的に走査照射する回数が増えるため、生産性が低下する原因になっていた。
【0008】
この生産性の低下を防止する対策として、マーキング装置1台当たりに設けるマーキングユニットの数を増やすということが考えられたが、その設置数の増加によって設置場所を広くとる必要が生じ、装置が大型化してしまうという問題があった。
【0009】
本発明の目的は、装置の大型化を招くことなく識別コードのマーキングを効率よく行い、生産性を向上するレーザビームによる識別コードのマーキング方法及び装置を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成する本発明のレーザビームによる識別コードのマーキング方法は、被マーキング物品を載置したステージと、該ステージの上方に配置したマーキングユニットとを相対移動させながら前記マーキングユニットからレーザビームを前記被マーキング物品上に照射し、複数の識別コードを前記相対移動の方向に所定のピッチでかつ前記相対移動の方向に交差する方向に複数列をなすマトリックス状にマーキングする方法において、前記1ユニットのマーキングユニットが前記相対移動方向に1ピッチを移動する間に、一つのレーザ光源から出力した一本のレーザビームを、ビーム照射角度変更手段を用いて走査照射することにより、前記相対移動の方向に交差する方向に複数列をなす識別コードをマーキングすることを特徴とするものである。
【0011】
従来のマーキング方法では、マーキングユニットを相対移動させるとき1列ずつの識別コードを所定ピッチでマーキングするため、識別コードをマーキングしてから次の識別コードをマーキングする迄はレーザビームを照射しない空白期間になっている。本発明は、マーキングユニットが1ピッチを相対移動する間の空白期間を利用し、隣接する列の識別コードをマーキングして複数列をマーキングするようにしたので、従来のマーキング方法と同じ1ピッチを相対移動する間に倍以上の数の識別コードをマーキングすることができる。したがって、マーキングユニットを増やすなど装置を大型化しなくても、生産量の増大を図ることができる。
【0012】
また、上記マーキング方法を実施可能にする本発明のマーキング装置は、被マーキング物品を載置するステージと、該ステージの上方に該ステージと相対移動可能に設けたマーキングユニットと、該マーキングユニットにレーザビームを供給するため一つのレーザビーム照射機構とを備え、前記1ユニットのマーキングユニットは、該マーキングユニットが前記相対移動の方向に1ピッチを移動する間に、前記一つのレーザビーム照射機構から出力した一本のレーザビームの照射方向を、前記相対移動の方向に交差する方向に複数列をなす識別コードをマーキングするように変更させるビーム照射角度変更手段を備えることを特徴とするものである。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、図に示す本発明の実施形態を参照して、具体的に説明する。
【0014】
図1は、本発明の実施形態からなるレーザビームによる識別コードのマーキング装置を例示したものである。
【0015】
図1において、1はレーザビーム照射機構を備えたマーキングユニット、2は被マーキング物品の基板を保持する基板保持ステージである。基板保持ステージ2の上には、フォトレジスト塗布基板50が載置されている。フォトレジスト塗布基板50は、基板の表面にフォトレジスト、つまり感光樹脂を塗布して構成されている。
【0016】
上記フォトレジスト塗布基板50は、不図示の移載ロボットやコンベアなどの基板搬送出機構により搬送されて基板保持ステージ2の上に載置される。基板保持ステージ2には、直交座標のX軸方向とY軸方向とに独立に移動する駆動機構と、ステージ2の面中心に垂直な方向の軸を中心に回転する回転駆動機構(いずれも図示せず)が取り付けられ、X軸方向とY軸方向の水平移動と回転運動とが行えるようになっている。
【0017】
基板保持ステージ2にフォトレジスト塗布基板50が搬送されると、基板支持ピン(図示せず)が降下してフォトレジスト塗布基板50が基板保持ステージ2上に降ろされ、そのステージ2上に設けた穴や溝に作用する負圧により吸着保持される。
【0018】
フォトレジスト塗布基板50が基板保持ステージ2上に置かれる位置は常に一定でないため、予め登録された基準位置からどの程度ずれがあるか測定される。位置測定は変位センサやCCDカメラと画像処理による変位測定方法が一般的であるが、フォトレジスト塗布基板50を基板保持ステージ2に保持する前に基準になる場所に横から押さえ込み、位置合わせする方法をとってもよい。
【0019】
基板50を保持したステージ2は、NC制御によって予め登録されたデータをもとに識別コードの露光開始位置へ移動する。露光開始位置は事前に登録しておき、ずれ量を補正計算した状態にして識別コードの露光を実施する。
【0020】
マーキングユニット1は、レーザ光源(図示せず)から出力した1本のレーザビーム10を、ビームスプリッター21で11と12に分岐させ、直進したレーザビーム11はプリズム22で角度を変える。分岐後に角度変更されたレーザビーム12と13は、それぞれビーム偏向機構23を通り、このビーム偏向機構23で時系列的に角度を変えられたレーザビーム14〜14zになる。これらレーザビーム14〜14zはレンズ24で平行ビーム15〜15zに矯正される。
【0021】
次いで、平行ビーム15〜15zは、アパーチャ25のような遮光材を用いることにより、基板50の所定の位置だけに照射するため余分な範囲のビームを、図2(A)〜(D)のように処理してカットする。
【0022】
図2(A)はビーム偏向機構23で偏向されないレーザビーム(所謂0次光)の出射の様子を示す。偏向されずに照射された0次のレーザビーム14はレンズ24を通り、アパーチャ25で遮光される0次のレーザビーム15になる。このアパーチャ25は、必ずしも図示のようにレンズ24の下流に配置しなくてもよく、ビーム偏向機構23と被マーキング部品である基板50との間に配置されていればよい。
【0023】
図2(B)〜(D)は、ビーム偏向機構23でビーム角度を変えられて選択照射されたレーザビーム(いわゆる1次光)の出射の様子を示す。ビーム偏向機構23は、所謂音響光学効果を利用して或る一定の周波数で制御信号(図示せず)を印加すると、偏向されない0次のレーザビームのほか、図2(B)に示すように偏向された1次のレーザビーム14aが出射される。この1次のレーザビーム14aは、レンズ24を通ることにより平行な1次のレーザビーム15aになり、アパーチャ25を通過して選択照射された1次のレーザビーム16aになる。
【0024】
ビーム偏向機構23から出射される1次のレーザビームの偏向角度は、印加された制御信号の周波数により変わる。図2(C)に示すように偏向照射された1次のレーザビーム14fは、レンズ24を通ることにより平行光の1次のレーザビーム15fになり、アパーチャ25を通過して選択照射された1次のレーザビーム16fとなる。また、図2(D)に示すように偏向照射された1次のレーザビーム14zは、レンズ24を通ったのちアパーチャ25で遮光される1次のレーザビーム15zになる。
【0025】
ビーム偏向機構23からは、これら0次光や1次光の他に、−1次光や2次光などと呼ばれる光線およびその他の変調成分の光線が出射されるが、それらはアパーチャ25で遮光されたり、自らの筐体で遮光されたり、またはそれらのエネルギーが弱いために出射されていないものとして扱ってもほとんど問題無い。
【0026】
アパーチャ25を通過して選択照射されたレーザビーム16a〜16fは、ミラー31などの光学的角度変更手段により照射角度が変えられる。ミラー31により角度を変えられたレーザビーム17a〜17fは、レンズ26によってレーザビーム18a〜fに集光され、フォトレジスト塗布基板50に照射されてフォトレジストを感光する。レンズ26は、Fθレンズと呼ばれるものが一般的に使用されるが、その他のレンズを使用してもよく、またその他の光学部材を組み合わせて使用してもよい。
【0027】
本発明のマーキング装置には、上述した構成において、上記ミラー31の回転軸に回転機構32が取り付けられ、この回転機構32の回動によりミラー31をy軸方向に対して傾動させ、ミラー31に反射するレーザビーム17a〜17fの照射方向を、y軸方向に移動させることができるようになっている。さらに、この回転機構32を支持するL状の取付枠33に、回転機構32の回転軸と直交する方向の回転軸を有する別の回転機構34が取り付けられ、この回転機構34を回動させることにより、ミラー31に反射するレーザビーム17a〜17fの照射方向をx軸方向に移動させることができるようになっている。
【0028】
上記ミラー31の回転機構32、取付枠33の回転機構34は、本発明においてレーザビーム照射方向の角度変更手段を構成している。それぞれ回転機構32及び34を僅かな角度だけ回動させると、図3に示すように、レーザビーム17a〜17f,18a〜18fの基板50に対する照射位置を、鎖線で図示する位置(図1では実線で図示する位置)から、実線で図示する斜め後方の位置へ変更させることができる。
【0029】
次に、上述した本発明のマーキング装置を使用し、図4に示すようにフォトレジスト塗布基板50に形成した12枚×12枚(=144枚)の液晶パネル51のそれぞれにパネル識別コード51aをマーキングする本発明のマーキング方法について説明する。識別コードは文字及び/又は2次元図形から形成される。
【0030】
まず、従来のマーキング方法の場合には、本発明に設けられるような角度変更手段を有していないため、ステージ2をマーキングユニット1に対して相対移動させると、図5に示すように、マーキングユニット1がレーザービームを1列ずつのパネル識別コード51aを走査照射方向61に番号(1),(2),(3)・・・の照射順序62で時系列的に選択照射し、一定のピッチで配列する識別マーク51aを露光するようにしていた。この場合、マーキングユニット1が1ユニットであれば1列ずつ12回の走査照射をする必要があり、2ユニットを設けていれば、各ユニット毎に1列ずつ6回の走査照射をする必要があった。
【0031】
これに対して本発明のマーキング方法においては、角度変更手段を使用することにより、図6に示すように1回の走査照射に2列ずつマーキングを行うことができる。
【0032】
すなわち、1回の走査照射を行うとき、図3で説明したように角度変更手段の作動により、基板50に対するレーザビーム17a〜17f,18a〜18fの照射位置を、鎖線で図示する位置と実線で図示する位置とに交互に変更しながら、走査照射方向61に2列の識別コード51aを一定ピッチで並ぶようにマーキングする(図6参照)。即ち、照射順序62で示す(1),(2),(3)・・・の順序番号が奇数のときは、角度変更手段の回動角度を図3の鎖線の姿勢にし、偶数のときは角度変更手段の回動角度を図3の実線の姿勢に時系列的に変えてレーザビームの照射方向を選択し、2列の識別コード51aを一定ピッチで並ぶようにマーキングする。
【0033】
換言すると、識別コードが照射順序(1),(3),(5)番の順に並ぶ列では、(1)番の識別コードのマーキングを終了し次の(3)番の識別コードのマーキングを開始するまでの空白期間に、隣列の(2)番の識別コードのマーキングを行い、また(3)番の識別コードのマーキングを終了し次の(5)番の識別コードのマーキングを開始するまでの空白期間に、隣列の(4)番の識別コードのマーキングを行う。また、識別コードが照射順序(2),(4),(6)番の順に並ぶ列では、(2)番の識別コードのマーキングを終了し次の(4)番の識別コードのマーキングを開始するまでの空白期間に、隣列の(3)番の識別コードのマーキングを行い、また(4)番の識別コードのマーキングを終了し次の(6)番の識別コードのマーキングを開始するまでの空白期間に、隣列の(5)番の識別コードのマーキングを行うようになっている。
【0034】
このように1回の走査照射を行うとき、複数列の単位で識別コードのマーキングを行うため、図1の実施形態のようにマーキングユニット1を2ユニット設けていれば、1枚の基板50に対して実施する走査照射回数は3回だけですみ、またマーキングユニット1が1ユニットだけのときは6回ですむことになる。したがって、同一時間内に従来のマーキング方法の倍以上の数の識別コードのマーキングを行うことが可能になる。
【0035】
上述した実施形態では、角度変更手段の角度を2段階に変えて、1回の走査照射に2列の識別コードをマーキングする場合について説明したが、識別コードのピッチ間の空白時間が許容する限り、図7に示すように3段階に変えても、或いはそれ以上に変えてもよい。また、このときの集束用のレンズ26は、図7のように単一であってもよいが、図8の例のように各段階毎に集束レンズ26a,26b,26cを設けるようにしてもよい。この場合、レンズ26a,26b,26cの数は変更する照射方向の数によって変わること、及びそれぞれの位置が位置調節機構(図示せず)により調節可能であることはいうまでもない。
【0036】
また、上述した実施形態では、マーキングユニット1を所定位置に固定した状態にし、基板保持ステージ2の方を直交座標のX軸方向とY軸方向に移動すると共に、回動する構成にしたものを説明したが、これを逆にして、マーキングユニット1の方がX軸方向やY軸方向に移動すると共に、回動するようにしたものであってもよい。また、マーキングユニット1は1ユニットだけでもよい。
【0037】
角度変更手段としては、回転機構32と34を組み合わせた例を示したが、図9に示すように、例えばガルバノスキャナー35,36によるミラー角度変更機構を組み合わせたものでもよい。また、角度変更手段としては、ガルバノスキャナー35,36を図10や図11に例示するような配置や組合せにしたものであってもよい。
【0038】
また、レーザビームを複数に分岐させる手段として、ビーム偏向機構23による例を示したが、複数列のビームを照射する手段としては、図12に示すような回折光学素子などのビーム分岐フィルター37を使用するものであってもよい。このビーム分岐フィルター37で分岐されたレーザビーム41はレンズ24で平行なレーザビーム42になり、それぞれのレーザビーム42が独立して角度変更機構38に照射される。これら角度変更機構38で反射されたレーザビーム43はアパーチャ25で選択照射されたレーザビーム44となり、さらにミラー31で角度を変えてレーザビーム17a〜17fになる。この他にもビームを分岐照射させる手段としては、ガルバノスキャナー又はポリゴンミラーに代表される多角形ミラーなどを利用する方法及びその他の手段を用いることも可能である。
【0039】
また、実施形態では、説明を簡単にするため6段階に選択照射された1次のレーザビーム16a〜16fと遮光される1次のレーザビーム15zを示した。しかし、実際のマーキングにおいては、図13のマーキング例に示すような9段階やそれ未満の場合、さらに細分化されて10段階以上の場合があり、角度切り替え段数は所望する任意の段数であって差し支えないことはいうまでもない。
【0040】
また、実施形態では、レーザビーム10を2分岐させた場合について説明したが、これは分岐させない場合であっても、またビームスプリッタを複数個用いて多分岐させる場合であってもよい。また、ビームスプリッタ21は光線を分岐するための手段であるので、ハーフミラーなどの他の手段であってもよいことは勿論である。また、2ユニットのマーキングユニット1を並列に配置した例を示したが、それらの間隔は移動機構(図示せず)により移動可能にし、識別コードのマーキング場所を任意に変更できることはいうまでもない。
【0041】
【実施例】
図1の識別コードマーキング装置でフォトレジスト基板に識別コードをマーキングするに当たり、レーザビームとしてYAGレーザの第3高調波である波長λ=355nmのレーザビームを使用し、基板に塗布するフォトレジストとして、この波長で感光する樹脂を選択した。
【0042】
それぞれの識別コードは、高さ20ドット×長さ100ドットの格子からなるものとし、それぞれの大きさは、高さ2mm×長さ10mmとする。つまり、それぞれのドット中心とドット中心との距離つまりドットピッチは0.1mmとなる。
【0043】
レーザビームのパルス周波数fは60kHzに設定し、ビーム変更機構23によって識別コードの高さ方向にビームを時系列的に偏向照射させる。この時に選択照射のために識別コードの長さ方向には、3kHzで次のパルスが出力されることになる。
【0044】
この時、ステージの移動速度v=300mm/秒に設定すれば、識別コードの長さ方向におけるドットピッチdy=0.1mmとなる。
【0045】
ガラス基板の長辺方向の長さLx=650mm、短辺方向の長さLy=550mmとする。
【0046】
図4に示すように、1枚のガラス基板から縦横に12×12枚に分割して、長辺方向の長さpx=54mm、短辺方向の長さpy=40mmのパネルそれぞれに対して識別コードをマーキングするものとする。
【0047】
従来の方式でマーキングユニット1が2ユニットの場合、図5に示すように6回の走査露光動作を行うことになる。この時、露光する識別コードの長さは10mmで個々のパネルの長辺方向に露光マーキングするものとする。この場合、露光終了位置から次の露光開始位置までの長さ44mmは、移動に要する時間となっていた。
【0048】
本発明の方式により1回の走査露光中に2方向への振り分け動作を行うことにより、図6に示すように3回の走査動作で所定の露光が行える。また、図7に示すように3カ所への振り分け動作を行えば、2回の走査動作で所定の露光が可能である。さらにマーキングユニットの数を増やせば、それぞれの走査動作回数を減らすことが出来る。
【0049】
上記のいずれの場合も、従来方式では識別コードを露光していなかった時間を隣接する列及び/又はその他の列に対してマーキングする。従って、1回の走査照射にかかる時間は同様であるので、走査照射の回数が減少することによって基板1枚当たりの処理時間を短縮することができ、それにより単位時間当たりの基板処理枚数、つまりスループットを多くすることができる。
【0050】
ここで示した基板の走査速度vやコードの大きさはあくまでも一例であり、実際に使用する形態によって変わる。しかも、ドット状のパターンは正確な円形や四角形である必要はなく、三角形や六角形やその他の多角形角およびそれらの角が丸くなったもの、あるいはその他の幾何学図形からなる場合や、隣り合うドットどうしがつながっている場合や独立している場合でも識別コードとしての認識は可能である。
【0051】
実際にはビーム内のエネルギー分布は均等でない場合も多いが、その場合でもレジストに与えるエネルギーが十分あれば感光される。また、実際の露光エネルギーとレジストの感度、光学系の組み付け精度や表面反射などにより、厳密に完全な正方形とならないことがあるが、識別コードの視認性に問題の無い場合がほとんどである。
【0052】
本実施例で述べた諸データはあくまでも一例であり、フィルターやレンズの形状や間隔や組み合わせを変えることにより、ビーム形状を円形や多角形など自在に変えることができる。また、使用するレーザビームも本実施例のようなパルスビームでなく、連続波である場合にも応用可能である。
【0053】
また、本実施例ではフォトレジスト塗布基板への露光マーキングについて説明したが、使用するレーザの種類を変更して他の波長での露光だけでなく、金属成膜付基板やガラス基板、シリコンウェハー基板への彫り込み(ダイレクトマーキング)を行う場合にも有効である。
【0054】
【発明の効果】
上述したように本発明によれば、マーキングユニットが1ピッチを相対移動する間の空白期間を利用し、隣接する列の識別コードをマーキングして複数列をマーキングするようにしたので、従来のマーキング方法と同じ1ピッチを相対移動する間に倍以上の数の識別コードをマーキングすることができる。
【0055】
更に、マーキングすべき列数が増えてもマーキングユニットを増やす必要がないので、装置が大型化せず、従来方式で複数列マーキングするものと比較すると装置を簡素化または小型化することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態からなるマーキング装置を例示する該略図である。
【図2】(A)〜(D)は、図1のマーキング装置におけるビーム偏向機構による偏向作用の様子を示す説明図である。
【図3】図1のマーキング装置により複数列のマーキングを行う操作を示す説明図である。
【図4】面取り数の多い基板に識別コードを配置した例を示す平面図である。
【図5】図4の基板に従来方法でパネル識別コードを露光するときの走査照射順序を示す説明図である。
【図6】図4の基板に本発明の方法でパネル識別コードを露光するときの走査照射順序を示す説明図である。
【図7】図1のマーキング装置により複数例のマーキングを行う操作の他の例を示す説明図である。
【図8】本発明の方法により複数例のマーキングを行う操作の更に他の例を示す説明図である。
【図9】本発明の方法により複数例のマーキングを行う操作の更に他の例を示す説明図である。
【図10】本発明の方法により複数例のマーキングを行う操作の更に他の例を示す説明図である。
【図11】本発明の方法により複数例のマーキングを行う操作の更に他の例を示す説明図である。
【図12】本発明の方法により複数例のマーキングを行う操作の更に他の例を示す説明図である。
【図13】識別コードのマーキングイメージ図である。
【図14】基板上の識別コードの配置例を示す平面図である。
【符号の説明】
1 マーキングユニット
2 基板保持ステージ
10,11,12,13,14,14a〜14f,15,15a〜15f,16a〜16f,17a〜17f,18a〜18f レーザビーム
23 ビーム偏向機構
25 アパーチャ
26,26a〜26c 集光レンズ
31 反射ミラー
32,34 回転機構(角度変更手段)
33 取付枠
35,36 ガルバノスキャナー(角度変更手段)
50 フォトレジスト塗布基板
51 液晶パネル
51a パネル識別コード
61 走査照射方向
62 識別コードの照射順序
Claims (7)
- 被マーキング物品を載置したステージと、該ステージの上方に配置したマーキングユニットとを相対移動させながら前記マーキングユニットからレーザビームを前記被マーキング物品上に照射し、複数の識別コードを前記相対移動の方向に所定のピッチでかつ前記相対移動の方向に交差する方向に複数列をなすマトリックス状にマーキングする方法において、前記1ユニットのマーキングユニットが前記相対移動方向に1ピッチを移動する間に、一つのレーザ光源から出力した一本のレーザビームを、ビーム照射角度変更手段を用いて走査照射することにより、前記相対移動の方向に交差する方向に複数列をなす識別コードをマーキングすることを特徴とするレーザビームによる識別コードのマーキング方法。
- 前記マーキングユニットが相対移動方向に1ピッチを移動する間に、前記レーザビームの照射方向を相対移動方向と交差する方向へ変更して隣接列の識別コードをマーキングする請求項1に記載のレーザビームによる識別コードのマーキング方法。
- 前記識別コードが文字及び/又は2次元図形からなる請求項1又は2に記載のレーザビームによる識別コードのマーキング方法。
- 前記被マーキング物品がフォトレジスト塗布基板である請求項1、2又は3に記載のレーザビームによる識別コードのマーキング方法。
- 前記フォトレジスト塗布基板が液晶パネル製造用である請求項4に記載のレーザビームによる識別コードのマーキング方法。
- 被マーキング物品を載置するステージと、該ステージの上方に該ステージと相対移動可能に設けたマーキングユニットと、該マーキングユニットにレーザビームを供給するため一つのレーザビーム照射機構とを備え、前記1ユニットのマーキングユニットは、該マーキングユニットが前記相対移動の方向に1ピッチを移動する間に、前記一つのレーザビーム照射機構から出力した一本のレーザビームの照射方向を、前記相対移動の方向に交差する方向に複数列をなす識別コードをマーキングするように変更させるビーム照射角度変更手段を備えることを特徴とするレーザビームによる識別コードのマーキング装置。
- 前記被マーキング物品がフォトレジスト塗布基板である請求項6に記載のレーザビームによる識別コードのマーキング装置。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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