JP3547418B2 - レーザビームによる液晶パネルのマーキング方法及び装置 - Google Patents
レーザビームによる液晶パネルのマーキング方法及び装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3547418B2 JP3547418B2 JP2001327976A JP2001327976A JP3547418B2 JP 3547418 B2 JP3547418 B2 JP 3547418B2 JP 2001327976 A JP2001327976 A JP 2001327976A JP 2001327976 A JP2001327976 A JP 2001327976A JP 3547418 B2 JP3547418 B2 JP 3547418B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser beam
- substrate
- stage
- marking
- exposure unit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、フォトレジスト塗布基板上にレーザビームにより識別コードをマーキングする液晶パネルのマーキング方法及び装置に関し、更に詳しくは、液晶パネル製造工程においてフォトレジスト塗布基板に履歴管理や品質管理等のための識別コードをレーザビームにより露光する液晶パネルのマーキング方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、液晶パネル製造工程では、フォトレジスト（即ち、感光樹脂）が塗布されたガラス基板に、パターン露光装置により回路パターンを露光する他に、識別露光装置により基板識別コードやパネル識別コード等を露光したり、また周辺露光装置により基板周辺部分の不要レジスト部分を露光したりしてから、現像装置により現像処理する。このように現像処理が済んだガラス基板からは、複数枚に分割された液晶パネルが製作される。
【０００３】
図１７は、上記のように露光処理した後に現像処理をしたガラス基板を例示したものである。
【０００４】
ガラス基板５０には、多数の液晶パネル５１が多列に並ぶように露光されると共に、基板周辺に履歴管理や品質管理等のために基板識別コード５０ａがマーキングされている。また、ガラス基板５０には、複数の液晶パネル５１に分割された後も、特定の液晶パネル５１が識別できるように各液晶パネル５１に配列番号等を付加したパネル識別コード５１ａがマーキングされ、さらに個々の液晶パネル５１を縦列の分断単位に管理可能なように、各縦列毎に分断位置情報等を付加した分断基板識別コード５０ｂがマーキングされている。
【０００５】
上記のように大型のガラス基板５０から複数の小型液晶パネル５１を分離して製造する場合には、分断基板識別コード５０ｂやパネル識別コード５１ａが必要になる。ただし、ここに基板識別コード５０ａ、分断基板識別コード５０ｂ、パネル識別コード５１ａなどの呼称や分割数等はあくまでも一例であって、液晶パネルの種類等により変わることはいうまでもない。
【０００６】
従来、上記のような基板識別コード５０ａ、分断基板識別コード５０ｂ、パネル識別コード５１ａ等の識別コードをマーキングする方法としては、一定位置に固定した露光ユニットに対して、ガラス基板を載せたステージをＮＣ制御により一定の速度で移動させながら、レーザビームを複数に分岐し、これら複数のレーザビームをガラス基板上の所定位置に選択照射することにより、識別コードをマーキングするという方法が採られていた。
【０００７】
しかし、上記従来方法によると、１本のレーザビームを複数のビームに分岐し、その複数のビームをガラス基板上の所定位置に選択照射するとき、ガラス基板を載せたステージを相対移動させながら行うため、ビーム相互間の照射点にずれを生じ、そのずれによりビームの形状やエネルギーにばらつきが発生するため、均質な濃度や形状の識別コードをマーキングできなくなることがあるという問題があった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、露光ユニットとステージとを相対移動させながらレーザビームで識別コードをマーキングする場合、濃度や形状が均質な識別コードをマーキング可能にする液晶パネルのマーキング方法及び装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成する本発明のレーザビームによる液晶パネルのマーキング方法は、フォトレジスト塗布基板を載置したステージと、該ステージの上方に配置した露光ユニットとを相対移動させながら、前記露光ユニットから出力するレーザビームにより前記基板上に識別コードをマーキングする方法において、前記露光ユニットから出力するレーザビームを前記相対移動方向と直交する方向に時系列的に順次偏向させるように走査すると共に、その照射方向を前記相対移動方向にずらせ、前記基板上の照射点を直交座標に整列させることを特徴とするものである。
【００１０】
本発明の他のマーキング方法は、フォトレジスト塗布基板を載置したステージと、該ステージの上方に配置した露光ユニットとを相対移動させながら、前記露光ユニットから出力するレーザビームにより前記基板上に識別コードをマーキングする方法において、前記ステージ又は該ステージ上の基板の表面の直交座標を前記相対移動方向に対して斜めにし、前記露光ユニットから出力するレーザビームを前記相対移動方向と直交する方向に時系列的に順次偏向させるように走査することにより、前記基板上の照射点を直交座標に整列させることを特徴とするものである。
【００１１】
本発明のレーザビームによる液晶パネルのマーキング装置は、フォトレジスト塗布基板を載置するステージと、該ステージの上方に配置した露光ユニットとを相対移動させながら、前記露光ユニットから出力するレーザビームにより前記基板上に識別コードをマーキングする液晶パネルのマーキング装置において、前記露光ユニットを、該露光ユニットから出力するレーザビームを前記相対移動方向と直交する方向に時系列的に順次偏向させるように走査するビーム偏向手段と、該ビーム偏向手段で偏向したレーザビームの照射方向を前記相対移動方向にずらせる方向補正手段とから構成したことを特徴とするものである。
【００１２】
本発明の他のマーキング装置は、フォトレジスト塗布基板を載置するステージと、該ステージの上方に配置した露光ユニットとを相対移動させながら、前記露光ユニットから出力するレーザビームにより前記基板上に識別コードをマーキングする液晶パネルのマーキング装置において、前記ステージ又は該ステージ上の前記基板の表面の直交座標を前記相対移動方向に対して斜めにし、前記露光ユニットを、該露光ユニットから出力するレーザビームを前記相対移動方向と直交する方向に時系列的に順次偏向させるように走査するビーム偏向手段と、該ビーム偏向手段で偏向したレーザビームを拡大する投影光学手段と、該投影光学手段を出たレーザビームの照射方向を変える方向補正手段とから構成したことを特徴とするものである。
【００１３】
本発明は、上記のように露光ユニットから出力したレーザビームを、露光ユニットとステージとの相対移動方向に直交する方向に時系列的に順次偏向分岐させて走査し、その相対移動方向に直交する方向に隣り合うビーム間の照射時間差のずれをなくすように照射方向を補正するため、各ビームのエネルギー分布や形状が大幅に変わることなく、形状・濃度が均質な識別コードをマーキングすることができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、図に示す本発明の実施形態を参照して具体的に説明する。
【００１５】
図１は、本発明からなるレーザビームによるマーキング装置を例示する。
【００１６】
１は露光ユニット、２は基板５０を上面に保持するステージである。基板５０は被マーキング物品としてステージ２の上に置かれ、その表面にフォトレジスト（即ち、感光樹脂）が塗布されている。露光ユニット１は、図では平行に並ぶ２セットだけを図示しているが、基板５０の幅方向全体にわたり多数列を配置するようにしたものであってもよい。
【００１７】
表面にフォトレジストが塗布された基板５０は、不図示の移載ロボットやコンベアなどの搬送出機構によりステージ２の上に搬送されて載置される。ステージ２には、平面視矩形の長辺方向と短辺方向とを直交座標のＸ軸方向とＹ軸方向とするとき、それぞれＸ軸方向とＹ軸方向とに独立に移動させる駆動機構と表面に垂直な軸を中心に回動させる回転機構（いずれも図示せず）とが設けられ、さらに表面には多数の吸引孔と複数の基板支持ピン（図示せず）が出没するように設けられている。
【００１８】
搬送出機構で搬送されてきた基板５０は、ステージ２の表面に突出させた基板支持ピンの上に載せられると、基板支持ピンが下降してステージ２の上に降ろされ、次いで吸引孔に負圧が作用して吸着保持される。
【００１９】
基板５０がステージ２上に置かれるときの位置は常に一定ではないため、予め登録された基準位置からどれくらいずれているかが測定され、その測定値に基づいて基準位置にセットされる。位置の測定方法は特に限定されないが、変位センサやＣＣＤカメラと画像処理による変位測定法などで測定できる。或いは、基板５０をステージ２に保持させる前に、基準となる場所に横から押さえ込んで位置合わせする方法であってもよい。
【００２０】
基板５０を保持したステージ２は、ＮＣ制御により予め登録されたデータを基に識別コードの露光開始位置へ移動させる。露光開始位置は事前操作により登録しておき、ずれ量を補正計算した状態にする。
【００２１】
露光ユニット１は、レーザ光源（図示せず）から１本のレーザビーム１０をパルス出力し、ビームスプリッター２１により直進のレーザビーム１１と方向変更するレーザビーム１２とに分岐される。レーザビーム１０のパルス出力は、例えば、図２に示すように時間ｔａ の発光Ａと時間ｔｂ の消光Ｂとを高速で交互にパルス的に繰り返す。
【００２２】
上記の直進したレーザビーム１１はプリズム２２で方向変更され、他方のレーザビーム１２と平行なレーザビーム１３になる。２本の平行なレーザビーム１２，１３は、それぞれビーム偏向機構２３を通過することにより、露光ユニット１に対するステージ２の相対移動方向（矢印Ｆ方向）に直交する方向に時系列的に順次複数段階に偏向させられて、複数のレーザビーム１４，１４ａ〜１４ｆに分岐する（図３（ａ）〜（ｄ）参照）。図では７段階に分岐させているが、段数は特に限定されない。
【００２３】
ビーム偏向機構２３は特に限定されるものではないが、例えば音響光学素子が用いられ、上記のように１本のレーザビームの出射方向を複数段階に偏向することができる。
【００２４】
図３（ａ）〜（ｄ）に示すように、ビーム偏向機構２３を通過するレーザビームのうち、偏向させられずに直進したレーザビーム１４は、集光レンズ２４を通過したのち透過フィルター２５に遮光される。ビーム偏向機構２３により時系列的に順次異なる角度に偏向させられたレーザビーム１４ａ〜１４ｆは、集光レンズ２４を通過することにより平行なレーザビーム１５ａ〜１５ｆになる。
【００２５】
透過フィルター２５を通過したレーザビーム１６ａ〜１６ｆは、次いで角度可変のミラー３１に反射して照射方向が変えられ、レーザビーム１７ａ〜１７ｆになる（図５参照）。方向転換したレーザビーム１７ａ〜１７ｆは、図４に示すように集光レンズ２６により集光されたレーザビーム１８ａ〜１８ｆになり、基板５０上に照射されることにより表面のフォトレジストを露光し、これらレーザビーム１８ａ〜１８ｆの露光点の集積により文字及び／又は２次元図形からなる識別コードＣ（５１ａ）がマーキングされる。
【００２６】
この識別コードＣ（５１ａ）は、図１に示すように、ステージ２を矢印Ｆ方向に一定の速度ｖで移動させながら、その移動方向に直交する方向に複数のレーザビーム１８ａ〜１８ｆを時系列的に順次走査させて露光することによりマーキングされる。
【００２７】
この識別コードのマーキングにおいて、ミラー３１が一定角度に固定されている場合には、矢印Ｆ方向に移動する基板５０に対しその移動方向に直交するようにレーザビーム１８ａ〜１８ｆが順次走査すると、その露光点ａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，ｆは、各レーザビーム間の照射タイミングのずれ（差）により、露光方向が移動方向Ｆに対して順次斜めにずれる（図８参照）。続いてレーザビーム１８ａ〜１８ｆが走査するときの露光点ｇ，ｈ，ｉ，ｊ，ｋ，ｌ、その次の露光点ｍ，ｎ，ｏ，ｐ，ｑ，ｒも、上記同様に斜めになるため識別コードＣは歪んだ形状になる。
【００２８】
なお、図に示す露光点ａ，ｂ，ｃ・・・ｑ，ｒにおいて、実線で囲んだ点はビーム偏向機構２３がＯＮになってレーザビームが照射され、実際に露光された点を意味し、破線で囲んだ点は偏向機構２３がＯＦＦであって、レーザビームが照射されずに露光されなかった点を意味する。この破線の点は正確には非露光点であるが、破線で表示することで便宜的に露光点と称した。
【００２９】
本発明の露光ユニットでは、図５に示すように、ミラー３１が長手方向に平行な回転軸３１ａを中心にミラー回転機構３２により矢印方向に回転するようになっているため、反射するレーザビーム１７ａ〜１７ｆの照射方向が時系列的にステージ２（基板５０）の移動方向Ｆに順次ずれていく。そのため、図９に示すようにレーザビーム１８ａ〜１８ｆの走査方向がステージ２の移動に同期して移動方向Ｆに順次斜めにずれていき、その結果、レーザビーム１８ａ〜１８ｆの露光点ａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，ｆ、次の露光点ｇ，ｈ，ｉ，ｊ，ｋ，ｌ、さらに次の露光点ｍ，ｎ，ｏ，ｐ，ｑ，ｒが直交座標の状態に整列する。したがって、均一に格子状に整列した識別コードＣがマーキングされる。
【００３０】
図示の実施形態では、レーザビーム１８ａ〜１８ｆの走査方向を、ステージ２（基板５０）の移動方向Ｆに対して斜めにする方法として、反射ミラー３１を図５のように回転させたが、図６に示すように、反射ミラー３１の長手方向の中間に回転軸３２ａを直交するように取り付け、この回転軸３２ａをミラー回転機構３２により矢印方向に回転させるものであってもよい。また、図７に示すように、反射ミラーを多角形ミラー３３にし、この多角形ミラー３３の軸を回転軸としてミラー回転機構３２で回転させるようにしたものであってもよい。
【００３１】
また、上記のミラーに替えて、プリズム、ダブプリズムその他の形および手段を用いることも可能である。
【００３２】
上記の方法は、いずれもミラーの反射面を可変にするものであるが、予め露光ユニット１、または反射ミラー３１の取り付け角度を変えておき、図９に示すように、ビーム走査方向が基板移動方向に対し直交ではなく一定の角度を持たせて、その結果ビーム露光方向が基板移動方向Ｆと直交となるように設定した場合でも、上記と同様の作用効果を得ることができる。或いは、ステージ２（基板５０）の移動方向Ｆ（相対移動方向）を、図１０に示すように、平面視にてビーム走査方向に対して斜めにするようにしたものであってもよい。
【００３３】
本発明で使用するレーザビームは、パルス出力するもののほか、高速で偏向角度が変えられるものであれば、連続出力されるレーザビームであってもよい。連続的に出力するレーザビームの場合、図１１に示すように、ビームの偏向角度θが切り替わる時間をｔ１ 、ビーム偏向角度θが変化しない時間をｔ２ とすれば、両時間ともビームを照射させることになる。しかし、時間ｔ１ が時間ｔ２ に比べて十分に短く、かつレジスト感度に影響しない時間であれば、所定の位置に露光することが可能である。
【００３４】
レーザビーム内のエネルギー分布は実際には均等でない場合が多いが、その場合でもフォトレジストに与えるエネルギーが十分あれば感光される。また、実際の露光エネルギーとフォトレジストの感度、光学系の組み付け精度や表面反射などにより、露光点が厳密に完全な正方形にならないことがあるが、識別コードの視認性に問題の無い場合がほとんどである。ビーム形状は、フィルターやレンズの形状や間隔や組み合わせを変えることにより、円形や多角形など自在に変えることができる。
【００３５】
図１の実施形態では、１本のレーザビームをビームスプリッタ２１で２分岐させて使用する場合を説明したが、その分岐数としては３以上であってもよく、或いは分岐せずに１本のままで使用してもよい。また、ビームスプリッタはビームを分岐できるものであれば特に限定されるものではなく、ハーフミラーなどの他の手段を使用してもよい。
【００３６】
図１の実施形態では、ビーム偏向機構２３で偏向させたレーザビーム１４ａ〜１４ｆは、集光レンズ２４によって平行光にするようにしている。しかし、本発明において偏向後のレーザビームを平行光にすることは必ずしも必須ではなく、図１２に例示するように、ビーム偏向機構２３で広がったレーザビームを、平行光にすることなく、そのままミラー３１に反射させて投影レンズなどの光学手段２６で集光し、基板５０の上に照射露光させることもできる。また、偏向させたレーザビームを再び集光させる場合、用いられる投影光学系が有限系、無限系であることや、使用するミラーの枚数は問わない。
【００３７】
識別コードの向きが変わるときは、ステージの方向を変えて走査させることによりマーキングが可能である。識別コードを露光し終わった後は、基板搬出位置にステージを移動し、基板の吸着を解除したあと基板支持ピンを上げ、基板を基板搬送出機構に載せて搬出する。この後は再び未露光基板を搬入して露光操作を行い、露光が終われば排出するという一連の動作を繰り返す。
【００３８】
また、図１の実施形態では、レーザビームを偏向分岐させる手段として、ビーム偏向機構２３により複数段の偏向照射を行うようにしている。これを、図１３に示す実施形態の様に、ビーム偏向機構２３は発光と消光の選択照射だけを行い、レーザビームの偏向操作は、ミラー回転機構３０で回転する多角形ミラー２８を使うようにしたものであってもよい。また、このときの多角形ミラー２８としては、図１４に示す例のように、平ミラー２９を左右に回転させるものであってもよい。
【００３９】
図１の実施形態では、露光ユニット１を固定状態にし、基板保持用のステージ２の方を直交座標のＸ軸方向とＹ軸方向にそれぞれ独立に移動可能にしている。しかし、この関係を反対にして、露光ユニット１の方を直交座標のＸ軸方向とＹ軸方向とにそれぞれ独立に移動可能にするものであってもよい。
【００４０】
また、露光ユニットを複数列に並列させて設ける場合、これら露光ユニット間の間隔は移動機構により任意の大きさに可変にすることにより、識別コードの露光場所を任意に変更できるようになっていることが望ましい。
【００４１】
本発明は、フォトレジスト塗布基板に対してレーザビームで露光マーキングする場合のほか、レーザビームの種類を変更することにより、金属成膜付の基板、ガラス基板、シリコンウェハ基板に対して直接彫り込み（ダイレクト・マーキング）を行う場合のマーキングにも適用することができる。
【００４２】
【実施例】
図１の識別コードマーキング装置でフォトレジスト塗布基板に識別コードをマーキングするに当たり、レーザビームとしてＹＡＧレーザの第３高調波の波長λ＝３５５ｎｍ付近のレーザビームを使用し、基板に塗布するフォトレジストとして、この波長で感光する樹脂を選択した。
【００４３】
レーザビームのパルス周波数ｆはｆ＝６０ｋＨｚに設定し、基板に集光した時のレーザビームのワーク面での幅Ｗ＝０．０５０ｍｍ、隣り合うビーム同士の間隔ｐ＝０．０５０ｍｍ、ビームの厚さ方向にステージを移動させる速度ｖ＝５００ｍｍ／秒に設定した。
【００４４】
また、レーザビームはビーム偏向機構で７段階に偏向させ、そのうち６方向のビームが透過フィルター２５を通って基板に照射するようにし、６方向のビームを１０ｋＨｚで選択照射するようにした。
【００４５】
上記設定によりレーザビームの１パルス間にステージが移動する距離Ｄは、
Ｄ＝ｖ／ｆ
で表され、隣り合うビーム同士のずれは０．００８３（ｍｍ）となり、次列のビーム同士との間隔は、
Ｄ＝６×５００／６００００＝０．０５（ｍｍ）
になった。
【００４６】
また、１パルス内のＯＮ時間をｔａ 、ＯＦＦ時間をｔｂ 、デューティ比ｒを
ｒ＝ｔａ ／（ｔａ ＋ｔｂ ）
と定義し、ｒ＝１０％に設定することで、１パルス当たりのレーザ照射時間ｔａ は
ｔａ ＝ｒ／ｆ
となった。
【００４７】
レーザ光線のワーク面での長さｄを ｄ＝０．０４５ｍｍとすると、実際の照射長さＬは
Ｌ＝ｄ＋ｖ・ｔａ
Ｌ＝ｄ＋ｖ・ｒ／ｆ
となり、Ｌ＝０．０５０ｍｍとなるので、各レーザビームを５０μｍ間隔の格子状に露光することができた。
【００４８】
これを繰り返し行うことにより、図１５に示す様な文字や図形からなるドット状の描画パターンの識別コードを形成することができた。
【００４９】
なお、図１５に限定されず、基板の走査速度ｖや識別コードの大きさを変えることにより、ドット状のパターンを種々変えることができる。例えば、図１６に示すような角が丸くなったものや円形のもの、或いはその他の幾何学図形にも変更することができ、識別コードとしての認識は可能である。
【００５０】
【発明の効果】
上述したように本発明によれば、露光ユニットから出力したレーザビームを、露光ユニットとステージとの相対移動方向に直交する方向に時系列的に順次偏向分岐させて走査し、その相対移動方向に直交する方向に隣り合うビーム間の照射時間差のずれをなくすように照射方向を補正するため、各ビームのエネルギー分布や形状が大幅に変わることなく、形状・濃度が均質な識別コードをマーキングすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明によるレーザビームによるマーキング装置を例示する概略図である。
【図２】本発明に使用されるレーザビームの一例を示す出力グラフである。
【図３】（ａ）〜（ｄ）は、本発明の装置におけるビーム偏向機構でレーザビームが偏向操作される状態を示す説明図である。
【図４】本発明の装置において、基板にレーザビームが露光する状態を示す説明図である。
【図５】本発明の装置において、レーザビームの照射方向を変更するミラー反射機構を示す説明図である。
【図６】本発明の装置において、レーザビームの照射方向を変更する他のミラー反射機構を示す説明図である。
【図７】本発明の装置において、レーザビームの照射方向を変更する更に他のミラー反射機構を示す説明図である。
【図８】本発明の方法によらない基板に対する露光方法を示す説明図である。
【図９】本発明の方法による基板に対する露光方法を示す説明図である。
【図１０】本発明の方法による基板に対する露光方法の他の例を示す説明図である。
【図１１】本発明に使用される連続出力されたレーザビームの偏向角度が時間的に変化する様子を示す図である。
【図１２】本発明において、偏向されたビームを平行光とせずに投影レンズだけで集光させる場合を示す説明図である。
【図１３】本発明によるレーザビームによるマーキング装置の他の例を例示する概略図である。
【図１４】図１３の装置に使用されるビーム偏向機構の他の例を示す概略図である。
【図１５】本発明によりマーキングされた識別コードの説明図である。
【図１６】本発明によりマーキングされた識別コードの他の例を示す説明図である。
【図１７】露光処理したのち現像処理した基板を例示する平面図である。
【符号の説明】
１ 露光ユニット
２（基板保持用）ステージ
１０，１１，１２，１３，１４，１５ レーザビーム
１４ａ〜１４ｆ 偏向されたレーザビーム
１５ａ〜１５ｆ 平行光にされたレーザビーム
１６ａ〜１６ｆ 選択照射されたレーザビーム
１７ａ〜１７ｆ ミラーに反射されたレーザビーム
１８ａ〜１８ｆ レンズで集光されたレーザビーム
２１ ビームスプリッタ
２２ プリズム
２３ ビーム偏向機構
２４ 集光レンズ
２５ 透過フィルター
２６ 集光レンズ
２７ 透過フィルター
２８ 多角形ミラー
２９ ミラー
３０ ミラー回転機構
３１ 反射ミラー
３２ ミラー回転機構
３３ 多角形ミラー
５０ 基板
５０ａ 基板識別コード
５０ｂ 分断基板識別コード
５１ 液晶パネル
５１ａ パネル識別コード
Ｃ 識別コード
【発明の属する技術分野】
本発明は、フォトレジスト塗布基板上にレーザビームにより識別コードをマーキングする液晶パネルのマーキング方法及び装置に関し、更に詳しくは、液晶パネル製造工程においてフォトレジスト塗布基板に履歴管理や品質管理等のための識別コードをレーザビームにより露光する液晶パネルのマーキング方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、液晶パネル製造工程では、フォトレジスト（即ち、感光樹脂）が塗布されたガラス基板に、パターン露光装置により回路パターンを露光する他に、識別露光装置により基板識別コードやパネル識別コード等を露光したり、また周辺露光装置により基板周辺部分の不要レジスト部分を露光したりしてから、現像装置により現像処理する。このように現像処理が済んだガラス基板からは、複数枚に分割された液晶パネルが製作される。
【０００３】
図１７は、上記のように露光処理した後に現像処理をしたガラス基板を例示したものである。
【０００４】
ガラス基板５０には、多数の液晶パネル５１が多列に並ぶように露光されると共に、基板周辺に履歴管理や品質管理等のために基板識別コード５０ａがマーキングされている。また、ガラス基板５０には、複数の液晶パネル５１に分割された後も、特定の液晶パネル５１が識別できるように各液晶パネル５１に配列番号等を付加したパネル識別コード５１ａがマーキングされ、さらに個々の液晶パネル５１を縦列の分断単位に管理可能なように、各縦列毎に分断位置情報等を付加した分断基板識別コード５０ｂがマーキングされている。
【０００５】
上記のように大型のガラス基板５０から複数の小型液晶パネル５１を分離して製造する場合には、分断基板識別コード５０ｂやパネル識別コード５１ａが必要になる。ただし、ここに基板識別コード５０ａ、分断基板識別コード５０ｂ、パネル識別コード５１ａなどの呼称や分割数等はあくまでも一例であって、液晶パネルの種類等により変わることはいうまでもない。
【０００６】
従来、上記のような基板識別コード５０ａ、分断基板識別コード５０ｂ、パネル識別コード５１ａ等の識別コードをマーキングする方法としては、一定位置に固定した露光ユニットに対して、ガラス基板を載せたステージをＮＣ制御により一定の速度で移動させながら、レーザビームを複数に分岐し、これら複数のレーザビームをガラス基板上の所定位置に選択照射することにより、識別コードをマーキングするという方法が採られていた。
【０００７】
しかし、上記従来方法によると、１本のレーザビームを複数のビームに分岐し、その複数のビームをガラス基板上の所定位置に選択照射するとき、ガラス基板を載せたステージを相対移動させながら行うため、ビーム相互間の照射点にずれを生じ、そのずれによりビームの形状やエネルギーにばらつきが発生するため、均質な濃度や形状の識別コードをマーキングできなくなることがあるという問題があった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、露光ユニットとステージとを相対移動させながらレーザビームで識別コードをマーキングする場合、濃度や形状が均質な識別コードをマーキング可能にする液晶パネルのマーキング方法及び装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成する本発明のレーザビームによる液晶パネルのマーキング方法は、フォトレジスト塗布基板を載置したステージと、該ステージの上方に配置した露光ユニットとを相対移動させながら、前記露光ユニットから出力するレーザビームにより前記基板上に識別コードをマーキングする方法において、前記露光ユニットから出力するレーザビームを前記相対移動方向と直交する方向に時系列的に順次偏向させるように走査すると共に、その照射方向を前記相対移動方向にずらせ、前記基板上の照射点を直交座標に整列させることを特徴とするものである。
【００１０】
本発明の他のマーキング方法は、フォトレジスト塗布基板を載置したステージと、該ステージの上方に配置した露光ユニットとを相対移動させながら、前記露光ユニットから出力するレーザビームにより前記基板上に識別コードをマーキングする方法において、前記ステージ又は該ステージ上の基板の表面の直交座標を前記相対移動方向に対して斜めにし、前記露光ユニットから出力するレーザビームを前記相対移動方向と直交する方向に時系列的に順次偏向させるように走査することにより、前記基板上の照射点を直交座標に整列させることを特徴とするものである。
【００１１】
本発明のレーザビームによる液晶パネルのマーキング装置は、フォトレジスト塗布基板を載置するステージと、該ステージの上方に配置した露光ユニットとを相対移動させながら、前記露光ユニットから出力するレーザビームにより前記基板上に識別コードをマーキングする液晶パネルのマーキング装置において、前記露光ユニットを、該露光ユニットから出力するレーザビームを前記相対移動方向と直交する方向に時系列的に順次偏向させるように走査するビーム偏向手段と、該ビーム偏向手段で偏向したレーザビームの照射方向を前記相対移動方向にずらせる方向補正手段とから構成したことを特徴とするものである。
【００１２】
本発明の他のマーキング装置は、フォトレジスト塗布基板を載置するステージと、該ステージの上方に配置した露光ユニットとを相対移動させながら、前記露光ユニットから出力するレーザビームにより前記基板上に識別コードをマーキングする液晶パネルのマーキング装置において、前記ステージ又は該ステージ上の前記基板の表面の直交座標を前記相対移動方向に対して斜めにし、前記露光ユニットを、該露光ユニットから出力するレーザビームを前記相対移動方向と直交する方向に時系列的に順次偏向させるように走査するビーム偏向手段と、該ビーム偏向手段で偏向したレーザビームを拡大する投影光学手段と、該投影光学手段を出たレーザビームの照射方向を変える方向補正手段とから構成したことを特徴とするものである。
【００１３】
本発明は、上記のように露光ユニットから出力したレーザビームを、露光ユニットとステージとの相対移動方向に直交する方向に時系列的に順次偏向分岐させて走査し、その相対移動方向に直交する方向に隣り合うビーム間の照射時間差のずれをなくすように照射方向を補正するため、各ビームのエネルギー分布や形状が大幅に変わることなく、形状・濃度が均質な識別コードをマーキングすることができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、図に示す本発明の実施形態を参照して具体的に説明する。
【００１５】
図１は、本発明からなるレーザビームによるマーキング装置を例示する。
【００１６】
１は露光ユニット、２は基板５０を上面に保持するステージである。基板５０は被マーキング物品としてステージ２の上に置かれ、その表面にフォトレジスト（即ち、感光樹脂）が塗布されている。露光ユニット１は、図では平行に並ぶ２セットだけを図示しているが、基板５０の幅方向全体にわたり多数列を配置するようにしたものであってもよい。
【００１７】
表面にフォトレジストが塗布された基板５０は、不図示の移載ロボットやコンベアなどの搬送出機構によりステージ２の上に搬送されて載置される。ステージ２には、平面視矩形の長辺方向と短辺方向とを直交座標のＸ軸方向とＹ軸方向とするとき、それぞれＸ軸方向とＹ軸方向とに独立に移動させる駆動機構と表面に垂直な軸を中心に回動させる回転機構（いずれも図示せず）とが設けられ、さらに表面には多数の吸引孔と複数の基板支持ピン（図示せず）が出没するように設けられている。
【００１８】
搬送出機構で搬送されてきた基板５０は、ステージ２の表面に突出させた基板支持ピンの上に載せられると、基板支持ピンが下降してステージ２の上に降ろされ、次いで吸引孔に負圧が作用して吸着保持される。
【００１９】
基板５０がステージ２上に置かれるときの位置は常に一定ではないため、予め登録された基準位置からどれくらいずれているかが測定され、その測定値に基づいて基準位置にセットされる。位置の測定方法は特に限定されないが、変位センサやＣＣＤカメラと画像処理による変位測定法などで測定できる。或いは、基板５０をステージ２に保持させる前に、基準となる場所に横から押さえ込んで位置合わせする方法であってもよい。
【００２０】
基板５０を保持したステージ２は、ＮＣ制御により予め登録されたデータを基に識別コードの露光開始位置へ移動させる。露光開始位置は事前操作により登録しておき、ずれ量を補正計算した状態にする。
【００２１】
露光ユニット１は、レーザ光源（図示せず）から１本のレーザビーム１０をパルス出力し、ビームスプリッター２１により直進のレーザビーム１１と方向変更するレーザビーム１２とに分岐される。レーザビーム１０のパルス出力は、例えば、図２に示すように時間ｔａ の発光Ａと時間ｔｂ の消光Ｂとを高速で交互にパルス的に繰り返す。
【００２２】
上記の直進したレーザビーム１１はプリズム２２で方向変更され、他方のレーザビーム１２と平行なレーザビーム１３になる。２本の平行なレーザビーム１２，１３は、それぞれビーム偏向機構２３を通過することにより、露光ユニット１に対するステージ２の相対移動方向（矢印Ｆ方向）に直交する方向に時系列的に順次複数段階に偏向させられて、複数のレーザビーム１４，１４ａ〜１４ｆに分岐する（図３（ａ）〜（ｄ）参照）。図では７段階に分岐させているが、段数は特に限定されない。
【００２３】
ビーム偏向機構２３は特に限定されるものではないが、例えば音響光学素子が用いられ、上記のように１本のレーザビームの出射方向を複数段階に偏向することができる。
【００２４】
図３（ａ）〜（ｄ）に示すように、ビーム偏向機構２３を通過するレーザビームのうち、偏向させられずに直進したレーザビーム１４は、集光レンズ２４を通過したのち透過フィルター２５に遮光される。ビーム偏向機構２３により時系列的に順次異なる角度に偏向させられたレーザビーム１４ａ〜１４ｆは、集光レンズ２４を通過することにより平行なレーザビーム１５ａ〜１５ｆになる。
【００２５】
透過フィルター２５を通過したレーザビーム１６ａ〜１６ｆは、次いで角度可変のミラー３１に反射して照射方向が変えられ、レーザビーム１７ａ〜１７ｆになる（図５参照）。方向転換したレーザビーム１７ａ〜１７ｆは、図４に示すように集光レンズ２６により集光されたレーザビーム１８ａ〜１８ｆになり、基板５０上に照射されることにより表面のフォトレジストを露光し、これらレーザビーム１８ａ〜１８ｆの露光点の集積により文字及び／又は２次元図形からなる識別コードＣ（５１ａ）がマーキングされる。
【００２６】
この識別コードＣ（５１ａ）は、図１に示すように、ステージ２を矢印Ｆ方向に一定の速度ｖで移動させながら、その移動方向に直交する方向に複数のレーザビーム１８ａ〜１８ｆを時系列的に順次走査させて露光することによりマーキングされる。
【００２７】
この識別コードのマーキングにおいて、ミラー３１が一定角度に固定されている場合には、矢印Ｆ方向に移動する基板５０に対しその移動方向に直交するようにレーザビーム１８ａ〜１８ｆが順次走査すると、その露光点ａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，ｆは、各レーザビーム間の照射タイミングのずれ（差）により、露光方向が移動方向Ｆに対して順次斜めにずれる（図８参照）。続いてレーザビーム１８ａ〜１８ｆが走査するときの露光点ｇ，ｈ，ｉ，ｊ，ｋ，ｌ、その次の露光点ｍ，ｎ，ｏ，ｐ，ｑ，ｒも、上記同様に斜めになるため識別コードＣは歪んだ形状になる。
【００２８】
なお、図に示す露光点ａ，ｂ，ｃ・・・ｑ，ｒにおいて、実線で囲んだ点はビーム偏向機構２３がＯＮになってレーザビームが照射され、実際に露光された点を意味し、破線で囲んだ点は偏向機構２３がＯＦＦであって、レーザビームが照射されずに露光されなかった点を意味する。この破線の点は正確には非露光点であるが、破線で表示することで便宜的に露光点と称した。
【００２９】
本発明の露光ユニットでは、図５に示すように、ミラー３１が長手方向に平行な回転軸３１ａを中心にミラー回転機構３２により矢印方向に回転するようになっているため、反射するレーザビーム１７ａ〜１７ｆの照射方向が時系列的にステージ２（基板５０）の移動方向Ｆに順次ずれていく。そのため、図９に示すようにレーザビーム１８ａ〜１８ｆの走査方向がステージ２の移動に同期して移動方向Ｆに順次斜めにずれていき、その結果、レーザビーム１８ａ〜１８ｆの露光点ａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，ｆ、次の露光点ｇ，ｈ，ｉ，ｊ，ｋ，ｌ、さらに次の露光点ｍ，ｎ，ｏ，ｐ，ｑ，ｒが直交座標の状態に整列する。したがって、均一に格子状に整列した識別コードＣがマーキングされる。
【００３０】
図示の実施形態では、レーザビーム１８ａ〜１８ｆの走査方向を、ステージ２（基板５０）の移動方向Ｆに対して斜めにする方法として、反射ミラー３１を図５のように回転させたが、図６に示すように、反射ミラー３１の長手方向の中間に回転軸３２ａを直交するように取り付け、この回転軸３２ａをミラー回転機構３２により矢印方向に回転させるものであってもよい。また、図７に示すように、反射ミラーを多角形ミラー３３にし、この多角形ミラー３３の軸を回転軸としてミラー回転機構３２で回転させるようにしたものであってもよい。
【００３１】
また、上記のミラーに替えて、プリズム、ダブプリズムその他の形および手段を用いることも可能である。
【００３２】
上記の方法は、いずれもミラーの反射面を可変にするものであるが、予め露光ユニット１、または反射ミラー３１の取り付け角度を変えておき、図９に示すように、ビーム走査方向が基板移動方向に対し直交ではなく一定の角度を持たせて、その結果ビーム露光方向が基板移動方向Ｆと直交となるように設定した場合でも、上記と同様の作用効果を得ることができる。或いは、ステージ２（基板５０）の移動方向Ｆ（相対移動方向）を、図１０に示すように、平面視にてビーム走査方向に対して斜めにするようにしたものであってもよい。
【００３３】
本発明で使用するレーザビームは、パルス出力するもののほか、高速で偏向角度が変えられるものであれば、連続出力されるレーザビームであってもよい。連続的に出力するレーザビームの場合、図１１に示すように、ビームの偏向角度θが切り替わる時間をｔ１ 、ビーム偏向角度θが変化しない時間をｔ２ とすれば、両時間ともビームを照射させることになる。しかし、時間ｔ１ が時間ｔ２ に比べて十分に短く、かつレジスト感度に影響しない時間であれば、所定の位置に露光することが可能である。
【００３４】
レーザビーム内のエネルギー分布は実際には均等でない場合が多いが、その場合でもフォトレジストに与えるエネルギーが十分あれば感光される。また、実際の露光エネルギーとフォトレジストの感度、光学系の組み付け精度や表面反射などにより、露光点が厳密に完全な正方形にならないことがあるが、識別コードの視認性に問題の無い場合がほとんどである。ビーム形状は、フィルターやレンズの形状や間隔や組み合わせを変えることにより、円形や多角形など自在に変えることができる。
【００３５】
図１の実施形態では、１本のレーザビームをビームスプリッタ２１で２分岐させて使用する場合を説明したが、その分岐数としては３以上であってもよく、或いは分岐せずに１本のままで使用してもよい。また、ビームスプリッタはビームを分岐できるものであれば特に限定されるものではなく、ハーフミラーなどの他の手段を使用してもよい。
【００３６】
図１の実施形態では、ビーム偏向機構２３で偏向させたレーザビーム１４ａ〜１４ｆは、集光レンズ２４によって平行光にするようにしている。しかし、本発明において偏向後のレーザビームを平行光にすることは必ずしも必須ではなく、図１２に例示するように、ビーム偏向機構２３で広がったレーザビームを、平行光にすることなく、そのままミラー３１に反射させて投影レンズなどの光学手段２６で集光し、基板５０の上に照射露光させることもできる。また、偏向させたレーザビームを再び集光させる場合、用いられる投影光学系が有限系、無限系であることや、使用するミラーの枚数は問わない。
【００３７】
識別コードの向きが変わるときは、ステージの方向を変えて走査させることによりマーキングが可能である。識別コードを露光し終わった後は、基板搬出位置にステージを移動し、基板の吸着を解除したあと基板支持ピンを上げ、基板を基板搬送出機構に載せて搬出する。この後は再び未露光基板を搬入して露光操作を行い、露光が終われば排出するという一連の動作を繰り返す。
【００３８】
また、図１の実施形態では、レーザビームを偏向分岐させる手段として、ビーム偏向機構２３により複数段の偏向照射を行うようにしている。これを、図１３に示す実施形態の様に、ビーム偏向機構２３は発光と消光の選択照射だけを行い、レーザビームの偏向操作は、ミラー回転機構３０で回転する多角形ミラー２８を使うようにしたものであってもよい。また、このときの多角形ミラー２８としては、図１４に示す例のように、平ミラー２９を左右に回転させるものであってもよい。
【００３９】
図１の実施形態では、露光ユニット１を固定状態にし、基板保持用のステージ２の方を直交座標のＸ軸方向とＹ軸方向にそれぞれ独立に移動可能にしている。しかし、この関係を反対にして、露光ユニット１の方を直交座標のＸ軸方向とＹ軸方向とにそれぞれ独立に移動可能にするものであってもよい。
【００４０】
また、露光ユニットを複数列に並列させて設ける場合、これら露光ユニット間の間隔は移動機構により任意の大きさに可変にすることにより、識別コードの露光場所を任意に変更できるようになっていることが望ましい。
【００４１】
本発明は、フォトレジスト塗布基板に対してレーザビームで露光マーキングする場合のほか、レーザビームの種類を変更することにより、金属成膜付の基板、ガラス基板、シリコンウェハ基板に対して直接彫り込み（ダイレクト・マーキング）を行う場合のマーキングにも適用することができる。
【００４２】
【実施例】
図１の識別コードマーキング装置でフォトレジスト塗布基板に識別コードをマーキングするに当たり、レーザビームとしてＹＡＧレーザの第３高調波の波長λ＝３５５ｎｍ付近のレーザビームを使用し、基板に塗布するフォトレジストとして、この波長で感光する樹脂を選択した。
【００４３】
レーザビームのパルス周波数ｆはｆ＝６０ｋＨｚに設定し、基板に集光した時のレーザビームのワーク面での幅Ｗ＝０．０５０ｍｍ、隣り合うビーム同士の間隔ｐ＝０．０５０ｍｍ、ビームの厚さ方向にステージを移動させる速度ｖ＝５００ｍｍ／秒に設定した。
【００４４】
また、レーザビームはビーム偏向機構で７段階に偏向させ、そのうち６方向のビームが透過フィルター２５を通って基板に照射するようにし、６方向のビームを１０ｋＨｚで選択照射するようにした。
【００４５】
上記設定によりレーザビームの１パルス間にステージが移動する距離Ｄは、
Ｄ＝ｖ／ｆ
で表され、隣り合うビーム同士のずれは０．００８３（ｍｍ）となり、次列のビーム同士との間隔は、
Ｄ＝６×５００／６００００＝０．０５（ｍｍ）
になった。
【００４６】
また、１パルス内のＯＮ時間をｔａ 、ＯＦＦ時間をｔｂ 、デューティ比ｒを
ｒ＝ｔａ ／（ｔａ ＋ｔｂ ）
と定義し、ｒ＝１０％に設定することで、１パルス当たりのレーザ照射時間ｔａ は
ｔａ ＝ｒ／ｆ
となった。
【００４７】
レーザ光線のワーク面での長さｄを ｄ＝０．０４５ｍｍとすると、実際の照射長さＬは
Ｌ＝ｄ＋ｖ・ｔａ
Ｌ＝ｄ＋ｖ・ｒ／ｆ
となり、Ｌ＝０．０５０ｍｍとなるので、各レーザビームを５０μｍ間隔の格子状に露光することができた。
【００４８】
これを繰り返し行うことにより、図１５に示す様な文字や図形からなるドット状の描画パターンの識別コードを形成することができた。
【００４９】
なお、図１５に限定されず、基板の走査速度ｖや識別コードの大きさを変えることにより、ドット状のパターンを種々変えることができる。例えば、図１６に示すような角が丸くなったものや円形のもの、或いはその他の幾何学図形にも変更することができ、識別コードとしての認識は可能である。
【００５０】
【発明の効果】
上述したように本発明によれば、露光ユニットから出力したレーザビームを、露光ユニットとステージとの相対移動方向に直交する方向に時系列的に順次偏向分岐させて走査し、その相対移動方向に直交する方向に隣り合うビーム間の照射時間差のずれをなくすように照射方向を補正するため、各ビームのエネルギー分布や形状が大幅に変わることなく、形状・濃度が均質な識別コードをマーキングすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明によるレーザビームによるマーキング装置を例示する概略図である。
【図２】本発明に使用されるレーザビームの一例を示す出力グラフである。
【図３】（ａ）〜（ｄ）は、本発明の装置におけるビーム偏向機構でレーザビームが偏向操作される状態を示す説明図である。
【図４】本発明の装置において、基板にレーザビームが露光する状態を示す説明図である。
【図５】本発明の装置において、レーザビームの照射方向を変更するミラー反射機構を示す説明図である。
【図６】本発明の装置において、レーザビームの照射方向を変更する他のミラー反射機構を示す説明図である。
【図７】本発明の装置において、レーザビームの照射方向を変更する更に他のミラー反射機構を示す説明図である。
【図８】本発明の方法によらない基板に対する露光方法を示す説明図である。
【図９】本発明の方法による基板に対する露光方法を示す説明図である。
【図１０】本発明の方法による基板に対する露光方法の他の例を示す説明図である。
【図１１】本発明に使用される連続出力されたレーザビームの偏向角度が時間的に変化する様子を示す図である。
【図１２】本発明において、偏向されたビームを平行光とせずに投影レンズだけで集光させる場合を示す説明図である。
【図１３】本発明によるレーザビームによるマーキング装置の他の例を例示する概略図である。
【図１４】図１３の装置に使用されるビーム偏向機構の他の例を示す概略図である。
【図１５】本発明によりマーキングされた識別コードの説明図である。
【図１６】本発明によりマーキングされた識別コードの他の例を示す説明図である。
【図１７】露光処理したのち現像処理した基板を例示する平面図である。
【符号の説明】
１ 露光ユニット
２（基板保持用）ステージ
１０，１１，１２，１３，１４，１５ レーザビーム
１４ａ〜１４ｆ 偏向されたレーザビーム
１５ａ〜１５ｆ 平行光にされたレーザビーム
１６ａ〜１６ｆ 選択照射されたレーザビーム
１７ａ〜１７ｆ ミラーに反射されたレーザビーム
１８ａ〜１８ｆ レンズで集光されたレーザビーム
２１ ビームスプリッタ
２２ プリズム
２３ ビーム偏向機構
２４ 集光レンズ
２５ 透過フィルター
２６ 集光レンズ
２７ 透過フィルター
２８ 多角形ミラー
２９ ミラー
３０ ミラー回転機構
３１ 反射ミラー
３２ ミラー回転機構
３３ 多角形ミラー
５０ 基板
５０ａ 基板識別コード
５０ｂ 分断基板識別コード
５１ 液晶パネル
５１ａ パネル識別コード
Ｃ 識別コード
Claims (8)
- フォトレジスト塗布基板を載置したステージと、該ステージの上方に配置した露光ユニットとを相対移動させながら、前記露光ユニットから出力するレーザビームにより前記基板上に識別コードをマーキングする方法において、前記露光ユニットから出力するレーザビームを前記相対移動方向と直交する方向に時系列的に順次偏向させるように走査すると共に、その照射方向を前記相対移動方向にずらせ、前記基板上の照射点を直交座標に整列させるレーザビームによる液晶パネルのマーキング方法。
- フォトレジスト塗布基板を載置したステージと、該ステージの上方に配置した露光ユニットとを相対移動させながら、前記露光ユニットから出力するレーザビームにより前記基板上に識別コードをマーキングする方法において、前記ステージ又は該ステージ上の基板の表面の直交座標を前記相対移動方向に対して斜めにし、前記露光ユニットから出力するレーザビームを前記相対移動方向と直交する方向に時系列的に順次偏向させるように走査することにより、前記基板上の照射点を直交座標に整列させるレーザビームによる液晶パネルのマーキング方法。
- 前記識別コードが文字及び／又は２次元図形からなる請求項１又は２に記載のレーザビームによる液晶パネルのマーキング方法。
- フォトレジスト塗布基板を載置するステージと、該ステージの上方に配置した露光ユニットとを相対移動させながら、前記露光ユニットから出力するレーザビームにより前記基板上に識別コードをマーキングする液晶パネルのマーキング装置において、前記露光ユニットを、該露光ユニットから出力するレーザビームを前記相対移動方向と直交する方向に時系列的に順次偏向させるように走査するビーム偏向手段と、該ビーム偏向手段で偏向したレーザビームの照射方向を前記相対移動方向にずらせる方向補正手段とから構成したレーザビームによる液晶パネルのマーキング装置。
- 前記方向補正手段が反射面を可変にするミラーである請求項４に記載のレーザビームによる液晶パネルのマーキング装置。
- フォトレジスト塗布基板を載置するステージと、該ステージの上方に配置した露光ユニットとを相対移動させながら、前記露光ユニットから出力するレーザビームにより前記基板上に識別コードをマーキングする液晶パネルのマーキング装置において、前記ステージ又は該ステージ上の前記基板の表面の直交座標を前記相対移動方向に対して斜めにし、前記露光ユニットを、該露光ユニットから出力するレーザビームを前記相対移動方向と直交する方向に時系列的に順次偏向させるように走査するビーム偏向手段と、該ビーム偏向手段で偏向したレーザビームを拡大する投影光学手段と、該投影光学手段を出たレーザビームの照射方向を変える方向補正手段とから構成したレーザビームによる液晶パネルのマーキング装置。
- 前記方向補正手段の下流側に集光手段を設けた請求項４又は５に記載のレーザビームによる液晶パネルのマーキング装置。
- 前記露光ユニットを複数列配置した請求項４〜７のいずれかに記載のレーザビームによる液晶パネルのマーキング装置。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001327976A JP3547418B2 (ja) | 2001-10-25 | 2001-10-25 | レーザビームによる液晶パネルのマーキング方法及び装置 |
| CNB2005101250467A CN100461002C (zh) | 2001-10-25 | 2002-10-24 | 利用激光束的识别码的打印方法和装置 |
| KR10-2004-7005781A KR20040044554A (ko) | 2001-10-25 | 2002-10-24 | 레이저빔에 의한 식별코드의 마킹 방법 및 장치 |
| PCT/JP2002/011042 WO2003036391A1 (fr) | 2001-10-25 | 2002-10-24 | Procede et dispositif de marquage d'un code d'identification par un faisceau laser |
| CNB028211928A CN1288502C (zh) | 2001-10-25 | 2002-10-24 | 利用激光束的识别码的打印装置 |
| US10/488,964 US20040241340A1 (en) | 2001-10-25 | 2002-10-24 | Method and device for marking identification code by laser beam |
| TW091125019A TW583513B (en) | 2001-10-25 | 2002-10-25 | Apparatus and method for marking an identifying code by using laser beam |
| US11/477,945 US20060243713A1 (en) | 2001-10-25 | 2006-06-30 | Method and device for marking identification code by laser beam |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001327976A JP3547418B2 (ja) | 2001-10-25 | 2001-10-25 | レーザビームによる液晶パネルのマーキング方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003131392A JP2003131392A (ja) | 2003-05-09 |
| JP3547418B2 true JP3547418B2 (ja) | 2004-07-28 |
Family
ID=19144124
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001327976A Expired - Fee Related JP3547418B2 (ja) | 2001-10-25 | 2001-10-25 | レーザビームによる液晶パネルのマーキング方法及び装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3547418B2 (ja) |
| CN (1) | CN100461002C (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100924336B1 (ko) * | 2007-04-02 | 2009-10-30 | 주식회사 하이닉스반도체 | 헤이즈를 억제하는 포토마스크 제조 방법 |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4664102B2 (ja) * | 2005-03-18 | 2011-04-06 | 東レエンジニアリング株式会社 | 露光装置及び露光方法 |
| JP4491445B2 (ja) * | 2005-11-04 | 2010-06-30 | 株式会社オーク製作所 | 周辺露光装置およびその方法 |
| JP4491446B2 (ja) * | 2005-11-04 | 2010-06-30 | 株式会社オーク製作所 | 周辺露光装置およびその方法 |
| JP4491447B2 (ja) * | 2005-11-04 | 2010-06-30 | 株式会社オーク製作所 | レーザビーム・紫外線照射周辺露光装置およびその方法 |
| JP4533874B2 (ja) * | 2005-11-04 | 2010-09-01 | 株式会社オーク製作所 | レーザビーム露光装置 |
| JP4491444B2 (ja) * | 2005-11-04 | 2010-06-30 | 株式会社オーク製作所 | レーザビーム・紫外線照射周辺露光装置およびその方法 |
| JP2011034123A (ja) * | 2010-11-19 | 2011-02-17 | Toray Eng Co Ltd | 露光装置及び露光方法 |
| CN102649376B (zh) * | 2011-06-21 | 2014-04-02 | 北京京东方光电科技有限公司 | 一种打标方法及设备 |
| WO2016144290A1 (en) * | 2015-03-06 | 2016-09-15 | Intel Corporation | Acousto-optics deflector and mirror for laser beam steering |
| JP2018189997A (ja) * | 2018-09-11 | 2018-11-29 | Hoya株式会社 | フォトマスク基板、フォトマスクブランク、フォトマスク、フォトマスク基板の製造方法、表示装置の製造方法、フォトマスクのハンドリング方法、及びフォトマスク基板のハンドリング方法 |
| KR102227885B1 (ko) * | 2020-06-02 | 2021-03-15 | 주식회사 기가레인 | 패턴 정렬 가능한 전사 장치 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5329090A (en) * | 1993-04-09 | 1994-07-12 | A B Lasers, Inc. | Writing on silicon wafers |
| US5855969A (en) * | 1996-06-10 | 1999-01-05 | Infosight Corp. | CO2 laser marking of coated surfaces for product identification |
| JP2905762B2 (ja) * | 1997-10-31 | 1999-06-14 | 株式会社金田機械製作所 | 傾斜歪打消信号を利用した印刷用刷版露光装置 |
| JP3091460B1 (ja) * | 1999-12-10 | 2000-09-25 | 東レエンジニアリング株式会社 | 露光装置 |
| JP2001199747A (ja) * | 2000-01-17 | 2001-07-24 | Japan Science & Technology Corp | カラーフィルタ付ガラス基板のマーキング方法およびその装置 |
| JP2001265000A (ja) * | 2000-03-16 | 2001-09-28 | Toray Eng Co Ltd | レーザー露光装置 |
-
2001
- 2001-10-25 JP JP2001327976A patent/JP3547418B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-10-24 CN CNB2005101250467A patent/CN100461002C/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100924336B1 (ko) * | 2007-04-02 | 2009-10-30 | 주식회사 하이닉스반도체 | 헤이즈를 억제하는 포토마스크 제조 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN100461002C (zh) | 2009-02-11 |
| CN1782882A (zh) | 2006-06-07 |
| JP2003131392A (ja) | 2003-05-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR20040044554A (ko) | 레이저빔에 의한 식별코드의 마킹 방법 및 장치 | |
| US6886154B2 (en) | Multiple-exposure drawing apparatus and method thereof | |
| US4878086A (en) | Flat panel display device and manufacturing of the same | |
| JP3547418B2 (ja) | レーザビームによる液晶パネルのマーキング方法及び装置 | |
| TWI661280B (zh) | Substrate processing method and substrate processing device | |
| US20020092993A1 (en) | Scaling method for a digital photolithography system | |
| US20030001798A1 (en) | Multi-exposure drawing method and apparatus therefor | |
| KR100908548B1 (ko) | 노광 장치 및 노광 방법 | |
| US4814830A (en) | Flat panel display device and manufacturing of the same | |
| GB2034059A (en) | Manufacture of integrated circuits | |
| US7136087B2 (en) | Multi-exposure drawing method and apparatus therefor | |
| KR101446484B1 (ko) | 묘화 시스템 | |
| JP2004200221A (ja) | レーザマーキング方法及び装置 | |
| JPH0735994A (ja) | レーザ描画装置 | |
| TW201730689A (zh) | 圖案描繪裝置 | |
| JP2003142379A (ja) | パターン露光方法及びその装置並びに電子装置の製造方法及び電子装置 | |
| JP4215433B2 (ja) | レーザビームによる識別コードのマーキング方法及び装置 | |
| JP2797506B2 (ja) | 露光装置 | |
| JP2002365811A (ja) | フォトレジスト塗布基板の露光方法及び装置 | |
| JP4273291B2 (ja) | 多重露光描画装置および多重露光描画方法 | |
| US6388737B1 (en) | Exposure method and apparatus | |
| KR20120103712A (ko) | 노광 방법 및 노광 장치 | |
| JP2003057834A (ja) | 多重露光描画装置および多重露光描画方法 | |
| JPH09246356A (ja) | 表面位置設定方法 | |
| JPH07219243A (ja) | 露光装置の評価方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040330 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040413 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080423 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090423 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100423 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100423 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110423 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120423 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130423 Year of fee payment: 9 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |