JP2005181367A - Rf−id管理による処理方法及びそれを用いたフォトマスクの描画方法 - Google Patents
Rf−id管理による処理方法及びそれを用いたフォトマスクの描画方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005181367A JP2005181367A JP2003417616A JP2003417616A JP2005181367A JP 2005181367 A JP2005181367 A JP 2005181367A JP 2003417616 A JP2003417616 A JP 2003417616A JP 2003417616 A JP2003417616 A JP 2003417616A JP 2005181367 A JP2005181367 A JP 2005181367A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- information
- manufacturing
- management
- photomask
- tag
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 67
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 80
- 238000007726 management method Methods 0.000 claims description 61
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 23
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 21
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 20
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 20
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 13
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 claims description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
- Y02P90/02—Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- General Factory Administration (AREA)
Abstract
【解決手段】RF−IDを付与し、該RF−IDに所定の形式による製造情報が具備され、製造情報の読み取り手段と、書き込みの手段と、製造条件パラメータを該装置に自動的に条件入力する手段と、外部の既存の管理システムから製造情報を自動的に情報入力する手段とを有するRF−ID管理による処理方法であって、少なくとも以下の工程からなるフォトマスクの描画方法であり、マスクブランクを収納した搬送ユニットにRF−IDのタグを取り付け、描画情報を書き込む工程と、描画装置が、RF−IDから、描画情報を読み取る工程と、露光条件パラメータを露光装置へ自動設定する工程。
【選択図】図1
Description
画装置の露光条件のパラメータ、例えば、電子線描画装置では、電子ビーム径(以下スポットサイズと記す)、そのビーム照射量等を組み合わせて、マスクブランクのレジスト層に露光する。
(a)RF−IDから必要な製造情報を読み込む手段により製造情報を出力する手段。
(b)外部の既存の管理システムから必要な製造情報を読み込む手段により製造情報を出力する手段。
(c)前記(a)と(b)との製造情報のうち、共通で且つ所定の範囲内の製造情報を抽出する手段。
(d)前記(a)と(b)との抽出した製造情報を比較し、完全に一致、又はそれ以外を判定する手段。
(e)前項で完全に一致した場合は、正常の表示をし、次の作業へ進行を許可し、不一致の場合、異常の表示をし、該作業を中断する手段。
(a)マスクブランクを収納した搬送ユニットの樹脂製の容器(以下搬送ユニットと記す)にRF−IDのタグを取り付ける工程。
(b)前記RF−IDのタグに、描画情報を書き込む(WRITE)工程。
(c)前記搬送ユニットを搬送し、収納したマスクブランクを描画装置に装填する工程。(d)描画装置が、前記RF−IDのタグから、描画情報を読み取る(READER)工程。
(e)前記描画情報により露光条件パラメータを露光装置へ自動設定する工程。
(f)マスクブランクに露光する工程。
発明では、被加工基板、又は製造仕様のいずれかの一方にRF−IDタグを取り付けて、該RF−IDタグに所定の形式による製造情報が記録され、各部署には前記RF−IDタグとの製造情報の読み取りと、製造情報の書き込みの手段を有する情報管理方法を活用して、情報の一元管理と、情報の有効利用するRF−ID管理による処理方法である。前記読み取り手段により読み取られる製造情報を当該装置の所定の形式である製造条件パラメータに変換する手段により自動的に変換し、該製造条件パラメータを自動的に条件入力する手段を用いて当該装置へ製造条件パラメータを入力する。さらに、処理工程以外の既存の管理システム及びデータベースから必要な製造情報を読み込み、RF−IDタグへ自動的に情報入力する手段とを有する手順管理方法を活用して、情報の入力の簡略化と、入力ミスの防止をするRF−ID管理による処理方法である。
説明する。透明基板(1)は、まず基板の材質で区分し、さらに外形寸法と、その板厚によりより分別管理されている。その情報は、透明基板の板厚情報(19)に記載されている。前記透明基板の片側表面に0.01ミクロンオーダー厚の金属薄膜層(2)が形成され、単層、2層、3層等の層構成と、金属薄膜の透過率又は材質により分別管理されている。その情報は、金属薄膜の膜質情報(18)に記載されている。前記金属薄膜上に0.1ミクロンオーダー厚のレジスト膜(3)で形成され、さらにレジスト名と、レジスト塗布ロット番号により分別管理されている。その情報は、レジスト塗布ロット番号情報(17)に記載されている。
2…金属薄膜層
3…レジスト層
4…マスクブランク
5…フォトマスク
6…フォトマスク搬送ユニット
10…マスク製造仕様
11…マスク管理番号
13…マスクブランク管理情報
16…レジスト名
17…レジスト塗布ロット番号
18…金属薄膜の膜質情報
19…透明基板の板厚情報
20…露光条件のパラメータ
22…ビームのスポットサイズ
24…ビームの照射量
25…露光条件のパラメータ用データベース
30…RF−ID(タグ)
31…書き込み装置(WRITER)
32…読み取り装置(READER)
40…自動移載装置
41…バーコード
42…バーコード読み取り装置
43…保管ケース
50…描画装置
60…(処理工程外の)既存管理システム
70…(処理工程内の)既存データベース
80…手順管理方法
81…情報を読み込む手段
82…条件パラメータに変換する手段
83…条件パラメータを当該装置へ自動入力手段
90…情報管理方法
91…RF−IDへ書き込み手段
92…RF−IDから読み取り手段
100…当該工程の作業員エリア
101…当該装置
102…情報入力端末装置
120…(当該装置用)露光条件のパラメータ
Claims (6)
- 複数の製造装置又は加工処理を経て被加工基板を処理する処理方法において、処理工程内の全ての製造装置又は加工処理の部署に回送される被加工基板、又は製造指示書にRF−IDタグを付与し、該RF−IDタグに所定の形式による製造情報が具備され、前記製造装置又は加工処理の各部署には前記RF−IDタグとの製造情報の読み取り手段と、製造情報の書き込みの手段とを有する情報管理方法と、該読み取り手段によりRF−IDタグから読み取られる製造情報を前記処理工程内の装置の所定の形式である製造条件パラメータに変換する手段と、該製造条件パラメータを該装置に自動的に条件入力する手段と、処理工程以外の外部の既存の管理システム及びデータベースから必要な製造情報を読み込むこと及び該製造情報をRF−IDタグへ自動的に情報入力する手段とを有する手順管理方法を備えたことを特徴とするRF−ID管理による処理方法。
- 前記手順管理方法が、少なくとも以下の手段からなる手順管理方法を付加したことを特徴とする請求項1記載のRF−ID管理による処理方法。
(a)RF−IDから必要な製造情報を読み込む手段により製造情報を出力する手段。
(b)外部の既存の管理システムから必要な製造情報を読み込む手段により製造情報を出力する手段。
(c)前記(a)と(b)との製造情報のうち、共通で且つ所定の範囲内の製造情報を抽出する手段。
(d)前記(a)と(b)との抽出した製造情報を比較し、完全に一致、又はそれ以外を判定する手段。
(e)前項で完全に一致した場合は、正常の表示をし、次の作業へ進行を許可し、不一致の場合、異常の表示をし、該作業を中断する手段。 - 透明基板の片面全面に金属薄膜とレジスト膜とを順番に形成したマスクブランクを用いてフォトマスクを製造するフォトマスクの描画方法において、請求項1、又は2記載のRF−ID管理による処理方法を用いて、少なくとも以下の工程を備えることを特徴とするフォトマスクの描画方法。
(a)マスクブランクを収納した搬送ユニットの樹脂製の容器(以下搬送ユニットと記す)にRF−IDのタグを取り付ける工程。
(b)前記RF−IDのタグに、描画情報を書き込む(WRITE)工程。
(c)前記搬送ユニットを搬送し、収納したマスクブランクを描画装置に装填する工程。(d)描画装置が、前記RF−IDのタグから、描画情報を読み取る(READER)工程。
(e)前記描画情報により露光条件パラメータを露光装置へ自動設定する工程。
(f)マスクブランクに露光する工程。 - 前記描画情報は、少なくとも、フォトマスクの管理情報と、マスクブランクの管理情報と、レジスト膜情報と、金属薄膜情報と、透明基板情報と、搬送ユニット情報とを含むことを特徴とする請求項3記載のフォトマスクの描画方法。
- 前記マスクブランクを描画装置に装填する工程では、前記RF−IDのタグの描画情報と、マスク製造仕様のレジスト膜情報と、金属薄膜情報と、透明基板情報とを照合し、全て一致した場合のみマスクブランクを描画装置に装填することを特徴とする請求項3、又は4記載のフォトマスクの描画方法。
- 前記露光条件パラメータを露光装置へ自動設定する工程では、マスク製造仕様のビームのスポットサイズ情報と、描画情報のレジスト膜情報と、金属薄膜情報と、そのビーム照射量を登録する露光条件パラメータ用データベースより自動引用し、露光条件パラメータ
を露光装置へ自動設定することを特徴とする請求項3乃至5のいずれか1項記載のフォトマスクの描画方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003417616A JP4543671B2 (ja) | 2003-12-16 | 2003-12-16 | Rf−id管理によるフォトマスクの製造方法及びそれを用いたフォトマスクの描画方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003417616A JP4543671B2 (ja) | 2003-12-16 | 2003-12-16 | Rf−id管理によるフォトマスクの製造方法及びそれを用いたフォトマスクの描画方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005181367A true JP2005181367A (ja) | 2005-07-07 |
JP4543671B2 JP4543671B2 (ja) | 2010-09-15 |
Family
ID=34780065
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003417616A Expired - Lifetime JP4543671B2 (ja) | 2003-12-16 | 2003-12-16 | Rf−id管理によるフォトマスクの製造方法及びそれを用いたフォトマスクの描画方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4543671B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006084786A (ja) * | 2004-09-16 | 2006-03-30 | Hoya Corp | マスクブランク提供システム、マスクブランク提供方法、マスクブランク用透明基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及びマスクの製造方法 |
JP2008186391A (ja) * | 2007-01-31 | 2008-08-14 | Hitachi Ltd | 作業管理装置、作業管理システム、及び作業管理方法 |
JP2008299463A (ja) * | 2007-05-30 | 2008-12-11 | Hitachi Ltd | 作業管理システムおよび作業管理方法 |
JP2010122711A (ja) * | 2010-03-08 | 2010-06-03 | Hoya Corp | マスクブランクの製造方法及びマスクの製造方法 |
JP2010171258A (ja) * | 2009-01-23 | 2010-08-05 | Sokudo Co Ltd | 基板処理装置及び基板処理方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03191511A (ja) * | 1989-12-20 | 1991-08-21 | Nec Corp | 電子ビーム露光装置 |
JPH0743893A (ja) * | 1993-07-28 | 1995-02-14 | Seiko Epson Corp | 露光用マスク、マスク収納容器、及び露光用マスク識別装置 |
JP2002116533A (ja) * | 2000-10-11 | 2002-04-19 | Dainippon Printing Co Ltd | エリアコード付きフォトマスク用ブランクスとエリアコード付きフォトマスク、およびフォトマスクの製造方法 |
WO2003025678A2 (de) * | 2001-08-30 | 2003-03-27 | Infineon Technologies Ag | Verfahren und vorrichtung zur steuerung des datenflusses beim einsatz von retikeln einer halbleiter-bauelement produktion |
JP2004157765A (ja) * | 2002-11-06 | 2004-06-03 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | 識別タグを備える半導体ウエハ、マスク、ウエハキャリアおよびマスクキャリアならびにこれらを用いる露光装置および半導体検査装置 |
JP2005091983A (ja) * | 2003-09-19 | 2005-04-07 | Toppan Printing Co Ltd | Rfタグにより識別されるフォトマスク、ペリクル、ペリクル付きフォトマスク及び収納ケース |
-
2003
- 2003-12-16 JP JP2003417616A patent/JP4543671B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03191511A (ja) * | 1989-12-20 | 1991-08-21 | Nec Corp | 電子ビーム露光装置 |
JPH0743893A (ja) * | 1993-07-28 | 1995-02-14 | Seiko Epson Corp | 露光用マスク、マスク収納容器、及び露光用マスク識別装置 |
JP2002116533A (ja) * | 2000-10-11 | 2002-04-19 | Dainippon Printing Co Ltd | エリアコード付きフォトマスク用ブランクスとエリアコード付きフォトマスク、およびフォトマスクの製造方法 |
WO2003025678A2 (de) * | 2001-08-30 | 2003-03-27 | Infineon Technologies Ag | Verfahren und vorrichtung zur steuerung des datenflusses beim einsatz von retikeln einer halbleiter-bauelement produktion |
JP2004157765A (ja) * | 2002-11-06 | 2004-06-03 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | 識別タグを備える半導体ウエハ、マスク、ウエハキャリアおよびマスクキャリアならびにこれらを用いる露光装置および半導体検査装置 |
JP2005091983A (ja) * | 2003-09-19 | 2005-04-07 | Toppan Printing Co Ltd | Rfタグにより識別されるフォトマスク、ペリクル、ペリクル付きフォトマスク及び収納ケース |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006084786A (ja) * | 2004-09-16 | 2006-03-30 | Hoya Corp | マスクブランク提供システム、マスクブランク提供方法、マスクブランク用透明基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及びマスクの製造方法 |
JP4520263B2 (ja) * | 2004-09-16 | 2010-08-04 | Hoya株式会社 | マスクブランク提供システム、マスクブランク提供方法、マスクブランク用透明基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及びマスクの製造方法 |
JP2008186391A (ja) * | 2007-01-31 | 2008-08-14 | Hitachi Ltd | 作業管理装置、作業管理システム、及び作業管理方法 |
JP2008299463A (ja) * | 2007-05-30 | 2008-12-11 | Hitachi Ltd | 作業管理システムおよび作業管理方法 |
JP2010171258A (ja) * | 2009-01-23 | 2010-08-05 | Sokudo Co Ltd | 基板処理装置及び基板処理方法 |
JP2010122711A (ja) * | 2010-03-08 | 2010-06-03 | Hoya Corp | マスクブランクの製造方法及びマスクの製造方法 |
JP4520537B2 (ja) * | 2010-03-08 | 2010-08-04 | Hoya株式会社 | マスクブランクの製造方法及びマスクの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4543671B2 (ja) | 2010-09-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP3336770B1 (en) | Printer-verifiers and systems and methods for verifying printed indicia | |
US8739075B2 (en) | Method of making pattern data, and medium for storing the program for making the pattern data | |
WO2015141022A1 (ja) | Rfid媒体の読書き検証装置およびその読書き検証方法 | |
JP4543671B2 (ja) | Rf−id管理によるフォトマスクの製造方法及びそれを用いたフォトマスクの描画方法 | |
CN115223730A (zh) | 一种解决商品基本信息标准化的方法和对应的装置 | |
JP4460903B2 (ja) | 半導体ウェーハのidマーク認識方法 | |
US20180196624A1 (en) | An industrial printer and method therein for printing print information on at least one information carrier | |
JP2022069813A (ja) | 文字読取装置及び検査装置 | |
CN111126030B (zh) | 标签排版处理方法及装置、系统 | |
US11562154B2 (en) | Information processing apparatus, print system, and information processing method | |
US8060242B2 (en) | System, apparatuses, methods and computer program for producing a batch of mail items and providing and generating identification codes | |
US3698072A (en) | Validation technique for integrated circuit manufacture | |
JP4483384B2 (ja) | フォトマスクの製造情報の管理システム及びそれを用いたフォトマスクの製造情報の管理方法 | |
JPS61284910A (ja) | 半導体装置製造用基板および半導体装置製造方法 | |
CN112434997A (zh) | 日期生成装置、控制方法和非暂时性计算机可读介质 | |
KR20020084304A (ko) | 반도체 회로용 포토마스크의 발주 방법 | |
KR20070029900A (ko) | 반도체 제조설비에서의 바코드 생성 방법 | |
Vinhais | MES reduces FDA compliance costs | |
JP7074296B2 (ja) | 保守作業支援装置、方法、及びプログラム | |
JP6354470B2 (ja) | 辞令書作成支援プログラム、辞令書作成支援方法および辞令書作成支援装置 | |
JP2003015800A (ja) | 目視誤認防止方法 | |
JP2023180417A (ja) | 生産設備におけるパーツ交換作業を支援するシステム、処理装置、および方法 | |
JP5029051B2 (ja) | 基板識別コード発行処理方法および基板識別コード発行処理システム | |
KR20060038490A (ko) | 레티클의 바코드 구조 | |
CN114371762A (zh) | 一种打印定制标签的方法、装置和存储介质 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061128 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090911 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090929 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091130 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100608 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100621 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130709 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4543671 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140709 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |