JP4536462B2 - プレーナ型アクチュエータ及びその製造方法 - Google Patents
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Description
かかる構成では、可動部にミラーを設けて光ビームを偏向走査する場合に、光ビームを走査する際に、規制部が邪魔にならず光ビームの走査範囲を広くできるようになる。
図1に、本発明に係るプレーナ型アクチュエータの第1実施形態の平面図を示す。
図1において、本実施形態のプレーナ型アクチュエータは、枠状の固定部1に一対のトーションバー2を介して平板状の可動部3を回動可能に軸支する。前記固定部1、トーションバー2及び可動部3は、半導体基板である例えばSOI(Silicon-on-insulator)基板を用いて一体に形成される。本実施形態のプレーナ型アクチュエータは、電磁駆動タイプであり、可動部3の周縁部に、通電により磁界を発生する駆動コイル4を形成する。駆動コイル4は、各トーションバー2を通って固定部1に形成した一対の電極端子5A,5Bに電気的に接続する。トーションバー2の軸方向と平行な可動部対辺部と対面する固定部1の外方には、前記可動部対辺部の駆動コイル4部分に静磁界を作用する静磁界発生手段として一対の例えば永久磁石6A,6Bが、互いに反対磁極を対向して配置する。ここで、駆動コイル4と永久磁石6A,6Bで、可動部3を駆動する駆動手段を構成する。尚、静磁界発生手段は、電磁石でもよい。
SOI基板100を準備する。SOI基板100は、例えば100μmのシリコン活性層100aと、1μmの埋め込み酸化膜100bと、400μmのシリコン支持基板層100cを積層した構造である。このSOI基板100の両面に、例えば1μmのSiO2の熱酸化膜101a,101bを形成する(工程(a))。
第2実施形態は、図6に示すように、規制部7の下面が固定部1の下面と段違いとなるように固定部1より厚さを薄く形成してある。尚、第2実施形態の上面側平面形状は、図1に示す第1実施形態は同じである。
第1実施形態と同様のSOI基板100を準備し、SOI基板100の両面に、第1実施形態と同様に例えば1μmのSiO2の熱酸化膜101a,101bを形成する(工程(a))。
その後の駆動コイル4の形成工程は、図5に示す第1実施形態と同様であるので説明を省略する。
図8において、2次元タイプのプレーナ型アクチュエータは、固定部1に外側トーションバー2Aで回動可能に支持した枠状の外側可動部3Aと、該外側可動部3Aに前記外側トーションバー2Aと軸方向が直交する内側トーションバー2Bで回動可能に支持した内側可動部3Bとを備える。また、図示しないが、外側可動部3Aには電極端子5A,5Bに接続する外側駆動コイルが設けられ、内側可動部3Bには電極端子9A,9Bに接続する内側駆動コイルが設けられる。そして、外側トーションバー2Aの軸方向と平行な外側可動部3Aの両対辺部の駆動コイル部分と、内側トーションバー2Bの軸方向と平行な内側可動部3Bの両対辺部の駆動コイル部分とに、それぞれ図1に示すようにして配置した永久磁石等の静磁界発生手段(図示省略)により静磁界を作用する構成である。
図11に、参考例の断面図を示す。尚、図1と同一要素には同一符号を付して説明を省略する。
図11において、本参考例のプレーナ型アクチュエータは、固定部1、トーションバー2及び可動部3を半導体基板で一体形成し、駆動コイル4、電極端子5A,5Bを備える図1と同様の構成のアクチュエータ本体10と、規制部12Bを突設形成した部材として例えばガラス基板12とを備えて構成されている。尚、図示しないが、アクチュエータ本体10に静磁界を作用する図1と同様に配置された静磁界発生手段が設けられていることは言うまでもない。
2,2A,2B トーションバー
3,3A,3B 可動部
4 駆動コイル
5A,5B,9A,9B 電極端子
6A,6B 永久磁石
7 規制部
Claims (4)
- 枠状の固定部と、可動部と、該可動部を前記固定部に対して回動可能に軸支するトーションバーとを、半導体基板で一体形成し、前記可動部を前記トーションバーの軸回りに駆動する駆動手段を備える構成のプレーナ型アクチュエータにおいて、
前記半導体基板が、シリコン活性層と、埋め込み酸化膜と、シリコン支持基板層を順次積層したSOI半導体基板であり、該SOI半導体基板に、前記固定部、前記可動部及び前記トーションバーを一体形成すると共に、前記トーションバー部分が当接可能な位置で前記可動部の上下方向の移動を規制する規制部を、SOI半導体基板の前記シリコン支持基板層に形成したことを特徴とするプレーナ型アクチュエータ。 - 前記規制部は、前記SOI半導体基板のシリコン支持基板層側の固定部表面と段違いに前記固定部より薄く形成する構成とした請求項1に記載のプレーナ型アクチュエータ。
- 枠状の固定部を、シリコン活性層、埋め込み酸化膜及びシリコン支持基板層を順次積層したSOI半導体基板に形成する工程と、前記可動部と当該可動部を固定部に対して回動可能に軸支するトーションバーとを前記SOI半導体基板の前記シリコン活性層側に形成する工程と、前記可動部を前記トーションバーの軸回りに駆動する駆動手段を形成する工程と、前記トーションバー部分が当接可能な位置で前記可動部の上下方向の移動を規制する規制部を前記SOI半導体基板のシリコン支持基板層に形成する工程と、を備えることを特徴とするプレーナ型アクチュエータの製造方法。
- 前記規制部を前記SOI半導体基板のシリコン支持基板層に形成する工程は、SOI半導体基板の前記シリコン支持基板層の規制部形成部位に複数の孔を形成した後、該複数の孔を介してSOI半導体基板の埋め込み酸化膜をエッチング除去し、前記トーションバー部分との間に隙間を形成して前記規制部を形成するようにした請求項3に記載のプレーナ型アクチュエータの製造方法。
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JP5039431B2 (ja) * | 2007-05-23 | 2012-10-03 | パナソニック株式会社 | 可動構造体、同構造体を用いた光走査ミラー素子、及び可動構造体の製造方法 |
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JP5277977B2 (ja) * | 2009-01-14 | 2013-08-28 | 株式会社豊田中央研究所 | 光学装置 |
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000258721A (ja) * | 1999-03-10 | 2000-09-22 | Miyota Kk | プレーナー型ガルバノミラー |
JP2002040354A (ja) * | 2000-07-27 | 2002-02-06 | Olympus Optical Co Ltd | 光スキャナ |
JP2005266074A (ja) * | 2004-03-17 | 2005-09-29 | Anritsu Corp | 光スキャナ |
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000258721A (ja) * | 1999-03-10 | 2000-09-22 | Miyota Kk | プレーナー型ガルバノミラー |
JP2002040354A (ja) * | 2000-07-27 | 2002-02-06 | Olympus Optical Co Ltd | 光スキャナ |
JP2005266074A (ja) * | 2004-03-17 | 2005-09-29 | Anritsu Corp | 光スキャナ |
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