JP4535680B2 - 新規1h−インダゾール化合物 - Google Patents

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Description

技術分野
本発明は、タンパク質リン酸化酵素(プロテインキナーゼ)、特にJNKプロテインキナーゼに対し優れた阻害作用を示す新規なインダゾール化合物に関する。
従来技術
Mitogen−activated protein kinase(以下、「MAPK」という。)によるカスケードは、酵母から人に至るまで普遍的に存在し、細胞内情報伝達経路のひとつとして非常に重要な役割を果たしている。哺乳動物細胞におけるMAPK関連のキナーゼとしては、特に、extracellular signal−regulation kinase(ERK)、p38、c−Jun amino−terminal kinase(JNK;或いはSAPK(=stress−activated protein kinase)とも呼ばれる)の3種類が良く知られている。SAPKはラットから見いだされたJNKの相同体であり、そのisoform群は対応するJNKのisoform群のそれぞれに対して90%以上同等なアミノ酸配列を保持していることが知られている(Nature,369,156,1994)。近年になってMAPKに関与する活性化因子が多数同定され、それに伴いERK、p38、JNKを活性化するそれぞれの経路が機能的に異なった役割を担っていることが明らかになってきた。特に、JNK系は以下に示すような理由から医学的および薬学的に価値のある細胞内情報伝達経路の一つと考えられる。JNKは、例えば腫瘍壊死因子α(TNF−α)やインターロイキン−1(IL−1)といったサイトカインや、heat shock、紫外光(UV)、X−線、等の細胞に対するストレス要因によって活性化され、細胞の増殖や分化だけでなくアポトーシス(細胞死)を誘導する重要な情報伝達経路と考えられている(Science,270,1326,1995)。JNKは、c−JunのN末端のSer63およびSer73をリン酸化するものとして見出されたが(Nature,353,670,1991)、現在ではATF−2やElk−1といった多くの転写因子をリン酸化しその活性を調節していることが明らかとなっている(EMBO J.,15,2760,1996)。JNKにはJNK1、JNK2、JNK3の3種類が存在する。JNK1およびJNK2は殆どの組織で発現しているのに対し、JNK3は脳において特に高い発現を示す(Neuron,14,67,1995;Neuron,22,667,1999)。JNK1、あるいはJNK2のノックアウトマウスの解析によると、これらのJNKはT細胞の分化や活性化に重要な役割を果たしていることが明らかとなっている(J.Exp.Med.,193,317,2001)。一方で、JNK3のノックアウトマウスでは、興奮性アミノ酸レセプターアゴニストであるカイニン酸によって惹起される痙攣に対して耐性を示し、正常のマウスではその後に海馬の神経細胞で認められるアポトーシスがJNK3のノックアウトマウスでは見られなかったとの報告もある(Nature 389,865,1997)。アルツハイマー病やパーキンソン病といった神経変性疾患においては、その神経変性過程にアポトーシスによる神経細胞死が重要な役割を果たしていると考えられているが(Experimental Neurology 133,225,1995;J.Neurol.Sci.137,120,1996)、JNKがその神経細胞死に関与している可能性を示唆する結果が蓄積されつつある(Neuron,14,67,1995;J.Neurochem.,76,435,2001)。
これまでに、JNK阻害作用を有する低分子物質に関し例えば以下の報告がなされている。
[1]一般式(I
Figure 0004535680
で表わされる抗炎症作用を有する化合物とその具体的態様として式(I1a)で表わされる化合物(WO00/00491)。
[2]一般式(I
Figure 0004535680
で表わされる4−アリロキシインドール化合物とその具体的態様として式(I2a)で表わされる化合物(WO00/35909)。
[3]一般式(I
Figure 0004535680
で表わされる4,5−ピラジノキシインドール化合物とその具体的態様として式(I3a)で表わされる化合物(WO00/35921)。
[4]一般式(I
Figure 0004535680
で表わされる化合物とその具体的態様として式(I4a)で表わされる化合物(WO00/64872)。
[5]一般式(I
Figure 0004535680
で表わされるオキシインドール誘導体とその具体的態様として式(I5a)で表わされる化合物(WO00/35906)。
[6]一般式(I
Figure 0004535680
で表わされるJNK阻害作用を有する化合物とその具体的態様として式(I6a)で表わされる化合物(WO00/75118)。
[7]一般式(I
Figure 0004535680
で表わされるJNK阻害作用を有する化合物とその具体的態様として式(I7a)で表わされる化合物(WO01/12609)。
[8]一般式(I
Figure 0004535680
で表わされるJNK阻害作用を有する化合物とその具体的態様として式(I8a)で表わされる化合物(WO01/12621)。
[9]一般式(I
Figure 0004535680
で表わされるスルホンアミド誘導体とその具体的態様として式(I9a)(I9b)(I9c)で表わされる化合物(WO01/23378、WO01/23379、WO01/23382)。
[10]一般式(I10
Figure 0004535680
で表わされるJNK阻害作用を有する化合物とその具体的態様として式(I10a)で表わされる化合物(EP01/110957)。
一方で、インダゾール骨格を有する化合物に関しては、例えば特表2000−501105号、特開2000−198734号、WO99/23077、等に報告があるが、いずれの化合物においてもプロテインキナーゼとの関連についてまったく記載も示唆もなされていない。
上記の如く、JNK系はサイトカインによる各種細胞の活性化や免疫細胞の調節、あるいは各種ストレスシグナルによる神経のアポトーシスに関与する重要なメカニズムの一つとして注目されている。従って、JNK経路、特にJNKプロテインキナーゼに対し阻害作用を示す化合物は、各種の免疫性疾患、炎症性疾患、神経変性疾患の治療薬として有用であると期待することができる。しかしながら、優れたJNKプロテインキナーゼ阻害作用を示し、且つ、医薬として薬理活性、投与量、安全性等の点を満足させる優れた化合物は未だ見出されていない。発明の開示
本発明者らは、上記事情に鑑みて、鋭意検討を重ね、精力的に研究を行った結果、JNK阻害作用を有する新規なインダゾール化合物を見出した。すなわち本発明は、
<1>一般式
Figure 0004535680
式中、Rは置換基を有していてもよいC6−14芳香族炭化水素環式基または置換基を有していてもよい5〜14員芳香族複素環式基を意味する;
、RおよびRはそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよいC1−6アルキル基、置換基を有していてもよいC1−6アルコキシ基、置換基を有していてもよいC2−7アシル基、−CO−NR2a2b、−NR2bCO−R2aまたは−NR2a2bを意味する(前記式中、R2aおよびR2bはそれぞれ独立して水素原子または置換基を有していてもよいC1−6アルキル基を意味する。);
Lは単結合、置換基を有していてもよいC1−6アルキレン基、置換基を有していてもよいC2−6アルケニレン基または置換基を有していてもよいC2−6アルキニレン基を意味する;
Xは単結合、−NR−、−O−、−CO−、−S−、−SO−、−SO−、−CO−NR−V−、−C(O)O−、−NR−CO−V−、−NR−C(O)O−、−NR−S−、−NR−SO−、−NR−SO−V−、−NR−CO−NR10−、−NR−CS−NR10−、−S(O)−NR11−V−、−C(=NR12)−NR13−、−OC(O)−、−OC(O)−NR14−または−CH−NR−COR(前記式中、R、R、R、R10、R11、R12、R13およびR14は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、水酸基、置換基を有していてもよいC1−6アルキル基、置換基を有していてもよいC2−6アルケニル基、置換基を有していてもよいC2−6アルキニル基、置換基を有していてもよいC1−6アルコキシ基、置換基を有していてもよいC2−6アルケニルオキシ基、置換基を有していてもよいC1−6アルキルチオ基、置換基を有していてもよいC2−6アルケニルチオ基、置換基を有していてもよいC3−8シクロアルキル基、置換基を有していてもよいC3−8シクロアルケニル基、置換基を有していてもよい5〜14員非芳香族複素環式基、置換基を有していてもよいC6−14芳香族炭化水素環式基または置換基を有していてもよい5〜14員芳香族複素環式基を意味し、Vは単結合または置換基を有していてもよいC1−6アルキレン基を意味し、mは0、1または2を意味する。)で表わされる基を意味する;
Yは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、水酸基、シアノ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよいC1−6アルキル基、置換基を有していてもよいC2−6アルケニル基、置換基を有していてもよいC2−6アルキニル基、置換基を有していてもよいC1−6アルコキシ基、置換基を有していてもよいC3−8シクロアルキル基、置換基を有していてもよいC3−8シクロアルケニル基、置換基を有していてもよい5〜14員非芳香族複素環式基、置換基を有していてもよいC6−14芳香族炭化水素環式基、置換基を有していてもよい5〜14員芳香族複素環式基、アミノ基または−W−R15(式中、Wは、−CO−または−SO−を意味し、R15は、置換基を有していてもよいC1−6アルキル基、置換基を有していてもよいC6−14芳香族炭化水素環式基、置換基を有していてもよい5〜14員芳香族複素環式基またはアミノ基を意味する。]で表わされる化合物もしくはその塩またはそれらの水和物;
<2>R、RおよびRがそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子または置換基を有していてもよいC1−6アルコキシ基である前記<1>記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物;
<3>Rが水素原子である前記<1>または<2>記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物;
<4>Rが水素原子である前記<1>〜<3>いずれか1記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物;
<5>Rが水素原子である前記<1>〜<4>いずれか1記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物;
<6>R、RおよびRのうち少なくとも1つは水素原子ではない前記<1>〜<5>いずれか1記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物;
<7>Lが単結合またはメチレン基である前記<1>〜<6>いずれか1記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物;
<8>Lが単結合である前記<1>〜<6>いずれか1記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物;
<9>RがC6−14芳香族炭化水素環式基または5〜14員芳香族複素環式基であり、かつ、Rが下記置換基群aから選ばれる1〜3個の基で置換されていてもよい基である前記<1>〜<8>いずれか1記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物。
<置換基群a> (1)下記<置換基群b>から選ばれる1〜3個の基でそれぞれ置換されていてもよい(a)C1−6アルキル基、(b)C1−6アルコキシ基、(c)C1−7アシル基、(d)アミド基、(e)アミノ基、(f)C3−8シクロアルキル基、(2)ハロゲン原子、(3)水酸基、(4)ニトロ基、(5)シアノ基および(6)カルボキシル基からなる群;
<置換基群b> C1−6アルキル基、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基およびカルボキシル基からなる群;
<10>Rがフェニル基、ナフチル基、または5〜10芳香族複素環式基であり、かつ、Rが前記<9>記載の置換基群aから選ばれる1〜3個の基で置換されていてもよい基である前記<1>〜<8>いずれか1記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物;
<11>Rがフェニル基、2−ナフチル基、ピリジル基、2−チエニル基、2−フリル基、2−ベンゾフリル基、2−キノリル基または2−ベンゾチエニル基であり、かつ、Rが前記<9>記載の置換基群aから選ばれる1〜3個の基で置換されていてもよい基である前記<1>〜<8>いずれか1記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物;
<12>Rが2−ナフチル基、2−ベンゾフリル基または2−ベンゾチエニル基であり、かつ、Rが前記<9>記載の置換基群aから選ばれる1〜3個の基で置換されていてもよい基である前記<1>〜<8>いずれか1記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物;
<13>置換基群aが(1)ハロゲン原子、水酸基およびシアノ基からなる群から選ばれる1〜3個の基でそれぞれ置換されていてもよいC1−6アルキル基、(2)ハロゲン原子、水酸基およびシアノ基からなる群から選ばれる1〜3個の基でそれぞれ置換されていてもよいC1−6アルコキシ基、(3)ハロゲン原子、(4)水酸基および(5)シアノ基からなる群である前記<9>〜<12>いずれか1記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物;
<14>置換基群aがハロゲン原子である前記<9>〜<12>いずれか1記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物;
<15>Xが−CO−NR−V−、−NR−CO−V−または−NR−SO−V−(式中、RおよびVは前記<1>記載のRおよびVと同意義を意味する。)で表わされる基である前記<1>〜<14>いずれか1記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物;
<16>Rが水素原子である前記<15>記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物;
<17>Xが−CO−NH−(CH−(式中、tは0または1を意味する。)で表わされる基である前記<1>〜<14>いずれか1記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物;
<18>Xが−NH−CO−(CH−(式中、tは0または1を意味する。)で表わされる基である前記<1>〜<14>いずれか1記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物;
<19>YがC1−6アルキル基、C6−14芳香族炭化水素環式基、C1−6アルコキシ基、C3−8シクロアルキル基、5〜14員非芳香族複素環式基または5〜14員芳香族複素環式基であり、かつ、Yが下記置換基群a2から選ばれる1〜3個の基で置換されていてもよい基である前記<1>〜<18>いずれか1記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物。<置換基群a2> (1)下記<置換基群b2>から選ばれる1〜3個の基でそれぞれ置換されていてもよい(a)C1−6アルキル基、(b)C2−6アルケニル基、(c)C2−6アルキニル基、(d)C1−6アルコキシ基、(e)C2−7アシル基、(f)アミド基、(g)アミノ基、(h)C3−8シクロアルキル基、(i)C3−8シクロアルケニル基、(j)C6−14芳香族炭化水素環式基、(k)5〜14員芳香族複素環式基、(l)C6−14アリロキシ基および(m)5〜14員非芳香族複素環式基、(2)ハロゲン原子、(3)水酸基、(4)ニトロ基、(5)シアノ基および(6)カルボキシル基からなる群;
<置換基群b2>C1−6アルキル基、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基およびカルボキシル基からなる群;
<20>YがC3−8シクロアルキル基、フェニル基、5または6員非芳香族複素環式基または5または6員芳香族複素環式基であり、かつ、Yが前記<19>記載の置換基群a2から選ばれる1〜3個の基で置換されていてもよい基である前記<1>〜<18>いずれか1記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物;
<21>Yがフリル基、チエニル基、ピロリル基、フェニル基、ピリジル基、C3−8シクロアルキル基、テトラヒドロフラン−イル基、テトラヒドロチオフェン−イル基、ピロリジニル基、テトラヒドロフラン−2−オン−イル基、ピロリジン−2−オン−イル基または式
Figure 0004535680
(式中、Y2aは、−CONHまたは−CHOHで表わされる基を意味し、Y2bおよびY2cはそれぞれ独立して水素原子、置換基を有していてもよいフェニル基または置換基を有していてもよいC1−6アルキル基を意味する。)で表わされる基であり、かつ、Yが、前記<19>記載の置換基群a2から選ばれる1〜3個の基で置換されていてもよい基である前記<1>〜<18>いずれか1記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物;
<22>Yがフリル基またはチエニル基であり、かつ、Yが前記<19>記載の置換基群a2から選ばれる1〜3個の基で置換されていてもよい基である前記<1>〜<18>いずれか1記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物;
<23>置換基群a2が(1)下記<置換基群b2>から選ばれる1〜3個の基でそれぞれ置換されていてもよい(a)C1−6アルキル基、(b)C1−6アルコキシ基、(c)C1−7アシル基、(d)アミド基、(e)アミノ基、(f)C3−8シクロアルキル基、(2)ハロゲン原子、(3)水酸基、(4)ニトロ基、(5)シアノ基および(6)カルボキシル基からなる群であり、<置換基群b2>がC1−6アルキル基、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基およびカルボキシル基からなる群である前記<19>〜<22>いずれか1記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物;
<24>置換基群a2が(1)C1−6アルコキシ基、(2)ハロゲン原子、(3)シアノ基からなる群である前記<19>〜<22>いずれか1記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物;
<25>前記<1>記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物を含有してなるc−Junアミノ末端リン酸化酵素(JNK)の阻害剤;
<26>前記<1>記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物を含有してなるc−Junアミノ末端リン酸化酵素1(JNK1)、c−Junアミノ末端リン酸化酵素2(JNK2)および/またはc−Junアミノ末端リン酸化酵素3(JNK3)の阻害剤;<27>前記<1>記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物を含有してなる免疫性疾患または炎症性疾患の治療剤または予防剤;<28>免疫性疾患または炎症性疾患が、敗血症、慢性関節リウマチ、変形性関節症、痛風、乾癬、乾癬関節症、気管支炎、慢性閉塞性肺疾患、嚢胞性肺線維症、インシュリン依存性I型糖尿病、自己免疫性甲状腺炎、クローン病、潰瘍性大腸炎、アトピー性皮膚炎、喘息、アレルギー性鼻炎、肝炎、全身性エリテマトーデス、臓器移植後の急性および慢性移植片拒絶反応、移植片対宿主病、湿疹、じんま疹、重症筋無力症、後天性免疫不全症候群、突発性血小板減少性紫斑病または球体腎炎である前記<27>記載の治療剤または予防剤;
<29>前記<1>記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物を含有してなる神経変性疾患の治療剤または予防剤;
<30>神経変性疾患が急性神経変性疾患である前記<29>記載の治療剤または予防剤;
<31>急性神経変性疾患が脳血管障害急性期、頭部外傷、脊髄損傷、低酸素もしくは低血糖による神経障害である前記<30>記載の治療剤または予防剤;
<32>神経変性疾患が慢性神経変性疾患である前記<29>記載の治療剤または予防剤;
<33>前記<1>記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物を含有してなるアルツハイマー病、パーキンソン病、ハンチントン舞踏病、筋萎縮性側索硬化症、多発性硬化症または脊髄小脳変性症の治療剤または予防剤;
<34>神経変性疾患がてんかん、肝性脳症、末梢神経障害、パーキンソン症候群、パーキンソン病治療におけるL−ドーパ誘発ジスキネジア、痙性麻痺、痛みまたは神経痛である前記<29>記載の治療剤または予防剤;
<35>神経変性疾患が感染性脳脊髄炎、脳血管性痴呆、髄膜炎による痴呆または神経症状である前記<29>記載の治療剤または予防剤;
<36>感染性脳脊髄炎がHIV性脳脊髄炎である前記<35>記載の治療剤または予防剤;
<37>前記<1>記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物の免疫性疾患、炎症性疾患および/または神経変性疾患の治療または予防のための使用;
<38>前記<1>記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物の免疫性疾患、炎症性疾患および/または神経変性疾患の治療剤製造のための使用;
<39>前記<1>記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物のc−Junアミノ末端リン酸化酵素3(JNK3)の阻害剤製造のための使用;
<40>前記<1>記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物の薬理学上有効量を患者に投与して、c−Junアミノ末端リン酸化酵素3(JNK3)阻害が有効な疾患、免疫性疾患、炎症性疾患および/または神経変性疾患を治療・予防する方法、などに関するものである。
本発明は、請求項1記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物および薬理学上許容される担体からなる医薬組成物を提供する。また、本発明は、請求項1記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物を、c−Junアミノ末端リン酸化酵素(JNK)の阻害が有効な疾患、免疫性疾患、炎症性疾患または神経変性疾患の治療剤または予防剤の製造のために用いる用途を提供する。更に、本発明は、請求項1記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物の薬理学上有効量を患者に投与することにより、c−Junアミノ末端リン酸化酵素(JNK)の阻害が有効な疾患、免疫性疾患、炎症性疾患または神経変性疾患を治療または予防する方法を提供する。
以下に、本願明細書において記載する記号、用語等の意義を説明し、本発明を詳細に説明する。
本願明細書において用いる「および/または」なる語句は、「および」の場合と「または」の場合の両者を含む意味で用いられる。
本願明細書における「JNK」とは、c−Junタンパク質のN末端領域をリン酸化する酵素を示し、例えばJNK1、JNK2、JNK3、等があげられる。JNKにはJNK1、JNK2、JNK3の3種類が存在する。JNK1およびJNK2は殆どの組織で発現しているのに対し、JNK3は脳において特に高い発現を示す(Neuron,14,67,1995;Neuron,22,667,1999)。
本願明細書において用いる「神経変性疾患」とは、医薬の分野において一般的に神経変性疾患に分類される総ての疾患を意味する語句で、特に限定されないが、例えば「急性神経変性疾患」「慢性神経変性疾患」てんかん、肝性脳症、末梢神経障害、パーキンソン症候群、パーキンソン病治療におけるL−ドーパ誘発ジスキネジア、痙性麻痺、痛み、神経痛、感染性脳脊髄炎、脳血管性痴呆、髄膜炎による痴呆または神経症状、等があげられる。「急性神経変性疾患」としては、例えば脳血管障害急性期(例えばくも膜下出血、脳梗塞等)、頭部外傷、脊髄損傷、低酸素による神経障害、低血糖による神経障害、等があげられ、「慢性神経変性疾患」として、例えばアルツハイマー病、パーキンソン病、ハンチントン舞踏病、筋萎縮性側索硬化症、多発性硬化症、脊髄小脳変性症等があげられる。
本願明細書において用いる「免疫性疾患」あるいは「炎症性疾患」とは、医薬の分野において免疫性疾患に分類される総ての疾患を意味する語句で、とくに限定されないが、具体的な例を挙げると、敗血症、慢性関節リウマチ、変形性関節症、痛風、乾癬、乾癬関節症、気管支炎、慢性閉塞性肺疾患、嚢胞性肺線維症、インシュリン依存性I型糖尿病、自己免疫性甲状腺炎、クローン病、潰瘍性大腸炎、アトピー性皮膚炎、喘息、アレルギー性鼻炎、肝炎、全身性エリテマトーデス、臓器移植後の急性および慢性移植片拒絶反応、移植片対宿主病、湿疹、じんま疹、重症筋無力症、後天性免疫不全症候群、突発性血小板減少性紫斑病、糸球体腎炎等があげられる。
本願明細書中においては、化合物の構造式が便宜上一定の異性体を表すことがあるが、本発明には化合物の構造上生ずる総ての幾何異性体、不斉炭素に基づく光学異性体、立体異性体、互変異性体等の異性体および異性体混合物を含み、便宜上の式の記載に限定されるものではなく、いずれか一方の異性体でも混合物でもよい。従って、本発明化合物には、分子内に不斉炭素原子を有し光学活性体およびラセミ体が存在することがあり得るが、本発明においては限定されず、いずれもが含まれる。また、結晶多形が存在することもあるが同様に限定されず、いずれかの結晶形が単一であってもまたは結晶形混合物であってもよい。本発明にかかる化合物(I)またはその塩は、無水物であっても水和物であってもよく、いずれも本願明細書の特許請求の範囲に含まれる。本発明にかかる化合物(I)が生体内で分解されて生じる代謝物、ならびに、本発明にかかる化合物(I)またはその塩のプロドラッグも本願明細書の特許請求の範囲に包含される。
本発明の化合物の塩または水和物は、薬理学的に許容されるものが好ましい。 本願明細書において用いる「ハロゲン原子」としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等の原子があげられ、好ましくはフッ素原子、塩素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。
本願明細書において用いる「C1−6アルキル基」とは、炭素数が1ないし6個の直鎖状または分枝状のアルキル基を示し、具体的には例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、1,1−ジメチルプロピル基、1,2−ジメチルプロピル基、2,2−ジメチルプロピル基、1−エチルプロピル基、2−エチルプロピル基、n−ヘキシル基、1−メチル−2−エチルプロピル基、1−エチル−2−メチルプロピル基、1,1,2−トリメチルプロピル基、1−プロピルプロピル基、1−メチルブチル基、2−メチルブチル基、1,1−ジメチルブチル基、1,2−ジメチルブチル基、2,2−ジメチルブチル基、1,3−ジメチルブチル基、2,3−ジメチルブチル基、2−エチルブチル基、2−メチルペンチル基、3−メチルペンチル基、等があげられ、より好ましくはメチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基等である。
本願明細書において用いる「C2−6アルケニル基」とは、炭素数2ないし6個の直鎖状または分枝状のアルケニル基を示し、具体的には例えばビニル基、アリル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、イソプロペニル基、2−メチル−1−プロペニル基、3−メチル−1−プロペニル基、2−メチル−2−プロペニル基、3−メチル−2−プロペニル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、1−ペンテニル基、1−ヘキセニル基、1,3−ヘキサンジエニル基、1,6−ヘキサンジエニル基等があげられる。
本願明細書において用いる「C2−6アルキニル基」とは、炭素数が2ないし6個の直鎖状または分枝状のアルキニル基を示し、具体的には例えばエチニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、1−ブチニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、3−メチル−1−プロピニル基、1−エチニル−2プロピニル基、2−メチル−3−プロピニル基、1−ペンチニル基、1−ヘキシニル基、1,3−ヘキサンジインイル基、1,6−ヘキサンジインイル基、等があげられる。
本願明細書において用いる「C1−6アルキレン基」とは前記定義「C1−6アルキル基」から任意の位置の水素原子をさらに1個除いて誘導される二価の基を意味し、具体的には例えば、メチレン基、エチレン基、メチルエチレン基、プロピレン基、エチルエチレン基、1,1−ジメチルエチレン基、1,2−ジメチルエチレン基、トリメチレン基、1−メチルトリメチレン基、1−エチルトリメチレン基、2−メチルトリメチレン基、1,1−ジメチルトリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基などが挙げられ、好ましくはメチレン基、1,2−エチレン基である。
本願明細書において用いる「C2−6アルケニレン基」とは前記定義「C2−6アルケニル基」からさらに水素原子を1個除いて誘導される二価の基を意味し、具体的には例えば、ビニレン基、プロペニレン基、ブテニレン基、ペンテニレン基、ヘキセニレン基などが挙げられる。好ましくはビニレン基、プロペニレン基、ブテニレン基、ペンテニレン基であり、より好ましくはビニレン基、プロペニレン基、ブテニレン基であり、さらに好ましくは1,2−ビニレン基、1,3−プロペニレン基である。
本願明細書において用いる「C2−6アルキニレン基」とは前記定義の「C2−6アルキニル基」からさらに水素原子を1個除いて誘導される二価の基を意味し、具体的には例えば、エチニレン基、プロピニレン基、ブチニレン基、ペンチニレン基、ヘキシニレン基などが挙げられる。好ましくはエチニレン基、プロピニレン基、ブチニレン基、ペンチニレン基であり、より好ましくはエチニレン基、プロピニレン基、ブチニレン基であり、さらに好ましくはエチニレン基、プロピニレン基であり、最も好ましくはエチニレン基である。
本願明細書において用いる「C3−8シクロアルキル基」とは、3ないし8個の環状の脂肪族炭化水素基を意味し、具体的には例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等があげられ、好ましくはシクロプロピル基、シクロブチル基である。
本願明細書において用いる「C3−8シクロアルケニル基」とは、3ないし8個の炭素原子で構成されたC3−8シクロアルケニル基を示し、例えばシクロペンテン−3−イル、シクロヘキセン−1−イル、シクロヘキセン−3−イル等があげられる。
本願明細書において用いる「C1−6アルコキシ基」とは、前記定義の「C1−6アルキル基」が結合したオキシ基であることを意味し、具体的には例えばメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、sec−プロポキシ基、n−ブトキシ基、iso−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、iso−ペンチルオキシ基、sec−ペンチルオキシ基、n−ヘキソキシ基、iso−ヘキソキシ基、1,1−ジメチルプロピルオキシ基、1,2−ジメチルプロポキシ基、2,2−ジメチルプロピルオキシ基、2−エチルプロポキシ基、1−メチル−2−エチルプロポキシ基、1−エチル−2−メチルプロポキシ基、1,1,2−トリメチルプロポキシ基、1,1,2−トリメチルプロポキシ基、1,1−ジメチルブトキシ基、1,2−ジメチルブトキシ基、2,2−ジメチルブトキシ基、2,3−ジメチルブチルオキシ基、1,3−ジメチルブチルオキシ基、2−エチルブトキシ基、1,3−ジメチルブトキシ基、2−メチルペントキシ基、3−メチルペントキシ基、ヘキシルオキシ基等があげられ、好ましくはメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、sec−プロポキシ基であり、より好ましくは、メトキシ基、エトキシ基である。
本願明細書において用いる「C2−6アルケニルオキシ基」とは前記定義の「C2−6アルケニル基」が結合したオキシ基であることを意味する。
本願明細書において用いる「C2−6アルケニルチオ基」とは前記定義の「C2−6アルケニル基」が結合したチオ基であることを意味する。
本明細書中において「C1−6アルコキシカルボニル基」とは前記定義の「C1−6アルコキシ基」が結合したカルボニル基を意味し、具体的にはメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロポキシカルボニル基、i−プロポキシカルボニル基、n−ブトキシカルボニル基、i−ブトキシカルボニル基、sec−ブトキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニル基などが挙げられる。
本明細書中において表される「C2−7アシル基」とは前記定義の「C1−6アルキル基」が結合したカルボニル基であることを意味し、具体的には例えばアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロイル基等があげられる。
本願明細書において用いる「C1−6アルキルカルバモイル基」とは、具体的には例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、n−プロピルカルバモイル基、iso−プロピルカルバモイル基、n−ブチルカルバモイル基、iso−ブチルカルバモイル基、sec−ブチルカルバモイル基、tert−ブチルカルバモイル基、n−ペンチルカルバモイル基、1,1−ジメチルプロピルカルバモイル基、1,2−ジメチルプロピルカルバモイル基、2,2−ジメチルプロピルカルバモイル基、1−エチルプロピルカルバモイル基、2−エチルプロピルカルバモイル基、n−ヘキシルカルバモイル基、1−メチル−2−エチルプロピルカルバモイル基、1−エチル−2−メチルプロピルカルバモイル基、1,1,2−トリメチルプロピルカルバモイル基、1−プロピルプロピルカルバモイル基、1−メチルブチルカルバモイル基、2−メチルブチルカルバモイル基、1,1−ジメチルブチルカルバモイル基、1,2−ジメチルブチルカルバモイル基、2,2−ジメチルブチルカルバモイル基、1,3−ジメチルブチルカルバモイル基、2,3−ジメチルブチルカルバモイル基、2−エチルブチルカルバモイル基、2−メチルペンチルカルバモイル基、3−メチルペンチルカルバモイル基、等があげられる。
本願明細書において用いる「C1−6アルキルカルボニルオキシ基」とは、前記定義の「C2−7アシル基」が結合したオキシ基であることを意味具体的には例えばメチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、n−プロピルカルボニルオキシ基、iso−プロピルカルボニルオキシ基、n−ブチルカルボニルオキシ基、iso−ブチルカルボニルオキシ基、sec−ブチルカルボニルオキシ基、tert−ブチルカルボニルオキシ基、n−ペンチルカルボニルオキシ基、1,1−ジメチルプロピルカルボニルオキシ基、1,2−ジメチルプロピルカルボニルオキシ基、2,2−ジメチルプロピルカルボニルオキシ基、1−エチルプロピルカルボニルオキシ基、2−エチルプロピルカルボニルオキシ基、n−ヘキシルカルボニルオキシ基、1−メチル−2−エチルプロピルカルボニルオキシ基、1−エチル−2−メチルプロピルカルボニルオキシ基、1,1,2−トリメチルプロピルカルボニルオキシ基、1−プロピルプロピルカルボニルオキシ基、1−メチルブチルカルボニルオキシ基、2−メチルブチルカルボニルオキシ基、1,1−ジメチルブチルカルボニルオキシ基、1,2−ジメチルブチルカルボニルオキシ基、2,2−ジメチルブチルカルボニルオキシ基、1,3−ジメチルブチルカルボニルオキシ基、2,3−ジメチルブチルカルボニルオキシ基、2−エチルブチルカルボニルオキシ基、2−メチルペンチルカルボニルオキシ基、3−メチルペンチルカルボニルオキシ基、等があげられる。
本願明細書において用いる「C1−6アルキルスルホニル基」とは、前記定義の「C1−6アルキル基」が結合したスルホニル基であることを意味し、具体的には例えばメチルスルホニル基、エチルスルホニル基、n−プロピルスルホニル基、iso−プロピルスルホニル基、n−ブチルスルホニル基、iso−ブチルスルホニル基、sec−ブチルスルホニル基、tert−ブチルスルホニル基、n−ペンチルスルホニル基、1,1−ジメチルプロピルスルホニル基、1,2−ジメチルプロピルスルホニル基、2,2−ジメチルプロピルスルホニル基、1−エチルプロピルスルホニル基、2−エチルプロピルスルホニル基、n−ヘキシルスルホニル基、1−メチル−2−エチルプロピルスルホニル基、1−エチル−2−メチルプロピルスルホニル基、1,1,2−トリメチルプロピルスルホニル基、1−プロピルプロピルスルホニル基、1−メチルブチルスルホニル基、2−メチルブチルスルホニル基、1,1−ジメチルブチルスルホニル基、1,2−ジメチルブチルスルホニル基、2,2−ジメチルブチルスルホニル基、1,3−ジメチルブチルスルホニル基、2,3−ジメチルブチルスルホニル基、2−エチルブチルスルホニル基、2−メチルペンチルスルホニル基、3−メチルペンチルスルホニル基、等があげられる。
本願明細書において用いる「C1−6アルキルスルフェニル基」とは、前記定義の「C1−6アルキル基」が結合したスルフェニル基であることを意味し、具体的には例えばメチルスルフェニル基、エチルスルフェニル基、n−プロピルスルフェニル基、iso−プロピルスルフェニル基、n−ブチルスルフェニル基、iso−ブチルスルフェニル基、sec−ブチルスルフェニル基、tert−ブチルスルフェニル基、n−ペンチルスルフェニル基、1,1−ジメチルプロピルスルフェニル基、1,2−ジメチルプロピルスルフェニル基、2,2−ジメチルプロピルスルフェニル基、1−エチルプロピルスルフェニル基、2−エチルプロピルスルフェニル基、n−ヘキシルスルフェニル基、1−メチル−2−エチルプロピルスルフェニル基、1−エチル−2−メチルプロピルスルフェニル基、1,1,2−トリメチルプロピルスルフェニル基、1−プロピルプロピルスルフェニル基、1−メチルブチルスルフェニル基、2−メチルブチルスルフェニル基、1,1−ジメチルブチルスルフェニル基、1,2−ジメチルブチルスルフェニル基、2,2−ジメチルブチルスルフェニル基、1,3−ジメチルブチルスルフェニル基、2,3−ジメチルブチルスルフェニル基、2−エチルブチルスルフェニル基、2−メチルペンチルスルフェニル基、3−メチルペンチルスルフェニル基、等があげられる。
本願明細書において用いる「C1−6アルキルチオ基」とは、、前記定義の「C1−6アルキル基」が結合したチオ基であることを意味し、具体的には例えばメチルチオ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、iso−プロピルチオ基、n−ブチルチオ基、iso−ブチルチオ基、sec−ブチルチオ基、tert−ブチルチオ基、n−ペンチルチオ基、1,1−ジメチルプロピルチオ基、1,2−ジメチルプロピルチオ基、2,2−ジメチルプロピルチオ基、1−エチルプロピルチオ基、2−エチルプロピルチオ基、n−ヘキシルチオ基、1−メチル−2−エチルプロピルチオ基、1−エチル−2−メチルプロピルチオ基、1,1,2−トリメチルプロピルチオ基、1−プロピルプロピルチオ基、1−メチルブチルチオ基、2−メチルブチルチオ基、1,1−ジメチルブチルチオ基、1,2−ジメチルブチルチオ基、2,2−ジメチルブチルチオ基、1,3−ジメチルブチルチオ基、2,3−ジメチルブチルチオ基、2−エチルブチルチオ基、2−メチルペンチルチオ基、3−メチルペンチルチオ基、等があげられる。
本願明細書における「C6−14芳香族炭化水素環式基」とは、6ないし14個の炭素原子で構成された芳香族炭化水素環式基をいい、単環式基、ならびに、二環式基や三環式基等の縮合環が含まれる。当該基における具体的な例をあげると、フェニル基、インデニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、アズレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニル基、インダセニル基、アセナフチル基、フルオレニル基、フェナレニル基、フェナントレニル基、アントラセニル基、シクロペンタシクロオクテニル基、ベンゾシクロオクテニル基、等があげられる。当該「C6−14芳香族炭化水素環式基」において好ましくはフェニル基、1−ナフチル基または2−ナフチル基であり、より好ましくは、フェニル基、インデニル基または2−ナフチル基である。
本願明細書において用いる「C6−14アリロキシ基」とは前記定義の「C6−14芳香族炭化水素環式基」が結合したオキシ基であることを意味する。
本願明細書における「5〜14員芳香族複素環式基」とは、窒素原子、硫黄原子および酸素原子からなる群から選ばれる複素原子を1個以上含んでなる単環式、二環式または三環式の5〜14員芳香族複素環式基をいう。当該基における具体的な例をあげると、1)例えば含窒素芳香族複素環式基としてはピロリル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、ベンツイミダゾリル基、インドリル基、イソインドリル基、インドリジニル基、プリニル基、インダゾリル基、キノリル基、イソキノリル基、キノリジル基、フタラジル基、ナフチリジニル基、キノキサリル基、キナゾリニル基、シンノリニル基、プテリジニル基、イミダゾトリアジニル基、ピラジノピリダジニル基、アクリジニル基、フェナントリジニル基、カルバゾリル基、カルバゾリニル基、ペリミジニル基、フェナントロリニル基、フェナシニル基、イミダゾピリジニル基、イミダゾピリミジニル基、ピラゾロピリジニル基、ピラゾロピリジニル基、等;2)含硫黄芳香族複素環式基としてはチエニル基、ベンゾチエニル基、等;3)含酸素芳香族複素環式基としてはフリル基、ピラニル基、ベンゾフリル基、イソベンゾフリル基、等;4)2個以上の異種複素原子を含んでなる芳香族複素環式基としてはチアゾリル基、イソチアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンズチアジアゾリル基、フェノチアジニル基、イソキサゾリル基、フラザニル基、フェノキサジニル基、オキサゾリル基、イソキサゾイル基、ベンゾオキサゾリル基、オキサジアゾリル基、ピラゾロオキサゾリル基、イミダゾチアゾリル基、チエノフラニル基、フロピロリル基、ピリドオキサジニル基、等があげられる。
本願明細書において用いる「5〜14員非芳香族複素環式基」とは、
1)環式基の環を構成する原子が5〜14個であり
2)環式基の環を構成する原子中に1個以上のヘテロ原子を含有し、
3)環中にカルボニル基を1〜3個含んでいてもよい
4)単環式、二環式または三環式の非芳香族性の複素環式基を意味する。
当該基における具体的な例をあげると、例えばピロリジル基、ピロリル基、ピペリジル基、ピペラジル基、イミダゾリル基、ピラゾリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロピラニル基、アジリジニル基、オキシラニル基、オキサチオラニル基、等があげられる。また、当該非芳香族複素環式基には、ピリドン環から誘導される基や、非芳香族性の縮合環(例えばフタルイミド環、スクシンイミド環、等から誘導される基)も含まれ、好ましくはピロリジル基、ピロリル基、ピペリジル基、ピペラジル基、イミダゾリル基、ピラゾリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロピラニル基、アジリジニル基、オキシラニル基、オキサチオラニル基、等があげられる。
本明細書中において「5〜10員芳香族複素環式基」とは、環式基の環を構成する原子が5〜10個であり、環式基の環を構成する原子中に1個以上のヘテロ原子を含有する、単環式または二環式の芳香族複素環式基を意味する。
当該基における具体的な例をあげると、1)例えば含窒素芳香族複素環式基としてはピロリル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、ベンツイミダゾリル基、インドリル基、イソインドリル基、インドリジニル基、プリニル基、インダゾリル基、キノリル基、イソキノリル基、キノリジル基、フタラジル基、ナフチリジニル基、キノキサリル基、キナゾリニル基、シンノリニル基、プテリジニル基、イミダゾトリアジニル基、ピラジノピリダジニル基、イミダゾピリジニル基、イミダゾピリミジニル基、ピラゾロピリジニル基、ピラゾロピリジニル基、等;2)含硫黄芳香族複素環式基としてはチエニル基、ベンゾチエニル基、等;3)含酸素芳香族複素環式基としてはフリル基、ピラニル基、ベンゾフリル基、イソベンゾフリル基、等;4)2個以上の異種複素原子を含んでなる芳香族複素環式基としてはチアゾリル基、イソチアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンズチアジアゾリル基、イソキサゾリル基、フラザニル基、オキサゾリル基、イソキサゾイル基、ベンゾオキサゾリル基、オキサジアゾリル基、ピラゾロオキサゾリル基、イミダゾチアゾリル基、チエノフラニル基、フロピロリル基、ピリドオキサジニル基等があげられる。
好ましくはピロリル基、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ベンゾチエニル基、ベンゾフリル基、インドリル基、ベンズリル基、インダゾリル基であり、より好ましくはフリル基、チエニル基、ベンゾチエニル基、ベンゾフリル基があげられる。
本明細書中において「5または6員芳香族複素環式基」とは、環式基の環を構成する原子が5〜6個であり、環式基の環を構成する原子中に1個以上のヘテロ原子を含有する、単環式の芳香族複素環式基を意味する。
例えば、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、1,2,3−トリアゾリル基、ピリジル基、ピリダジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、フリル基、チエニル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基などがあげられ、好ましくはピロリル基、ピリジル基、フリル基またはチエニル基であり、より好ましくは、フリル基またはチエニル基である。
本願明細書において用いる「5または6員非芳香族複素環式基」とは、窒素原子、硫黄原子および酸素原子からなる群から選ばれる複素原子を1個以上含んでなる5または6員の複素環式基をいう。具体的には例えばピペリジル基、ピペラジル基、モルホリル基、チオモルホリル基、テトラハイドロー2−ピロン−イル基、テトラハイドロピラン−イル基、テトラハイドロチオピラン−イル基、ピペリジン−2−オン−イル基、テトラヒドロフラン−イル基、テトラヒドロチオフェン−イル基、ピロリジニル基、テトラヒドロフラン−2−オン−イル基またはピロリジン−2−オン−イル基を意味する。当該「5または6員非芳香族複素環式基」において好ましくはピペリジル基、ピペラジル基、モルホリル基、チオモルホリル基、テトラハイドロー2−ピロン−イル基、テトラハイドロピラン−イル基、テトラハイドロチオピラン−イル基、ピペリジン−2−オン−イル基があげられる。
本願明細書において用いる「5員非芳香族複素環式基」とは、窒素原子、硫黄原子および酸素原子からなる群から選ばれる複素原子を1個以上含んでなる5員の複素環式基をいう。具体的には例えばテトラヒドロフラン−イル基、テトラヒドロチオフェン−イル基、ピロリジニル基、テトラヒドロフラン−2−オン−イル基またはピロリジン−2−オン−イル基を意味する。
本願明細書において用いる「アミノ基」とは、式−NHで表わされる基を意味する。
本願明細書において用いる「アミド基」とは、式−CO−NHで表わされる基を意味する。
本願明細書において用いる「フリル基」とは2−フリル基または3−フリル基を意味し、好ましくは2−フリル基である。
本願明細書において用いる「チエニル基」とは2−チエニル基または3−チエニル基を意味し、好ましくは2−チエニル基である。
本願明細書において用いる「ピロリル基」とは1−ピロリル基、2−ピロリル基または3−ピロリル基を意味し、好ましくは2−ピロリル基である。
本願明細書において用いる「テトラヒドロフラン−イル基」とはテトラヒドロフラン−2−イル基またはテトラヒドロフラン−3−イル基を意味し、好ましくはテトラヒドロフラン−2−イル基である。
本願明細書において用いる「テトラヒドロチオフェン−イル基」とはテトラヒドロチオフェン−2−イル基、テトラヒドロチオフェン−3−イル基を意味し、好ましくはテトラヒドロチオフェン−2−イル基である。
本願明細書において用いる「ピロリジニル基」とは1−ピロリジニル基、2−ピロリジニル基または3−ピロリジニル基を意味し、好ましくは2−ピロリジニル基である。
本願明細書において用いる「テトラヒドロフラン−2−オン−イル基」とはテトラヒドロフラン−2−オン−3−イル基、テトラヒドロフラン−2−オン−4−イル基またはテトラヒドロフラン−2−オン−5−イル基を意味し、好ましくはテトラヒドロフラン−2−オン−5−イル基である。
本願明細書において用いる「ピロリジン−2−オン−イル基」とはピロリジン−2−オン−1−イル基、ピロリジン−2−オン−3−イル基、ピロリジン−2−オン−4−イル基、ピロリジン−2−オン−5−イル基を意味し、好ましくはピロリジン−2−オン−5−イル基である。
本願明細書において用いる「キノリル基」とはキノリン環から任意の水素原子を1個除いて誘導される一価の基を意味し、具体的には例えば、2−キノリル基、3−キノリル基、4−キノリル基、5−キノリル基、6−キノリル基、7−キノリル基、8−キノリルを意味し、好ましくは2−キノリル基があげられる。

Figure 0004535680
(式中、Y2a、Y2bおよびY2cは前記定義と同意義を意味する。)で表わされる基において、公的な例としては、式
Figure 0004535680
で表わされる基があげられる。
本明細書中において表される「置換基を有していてもよい」とは、「置換可能な部位に、任意に組み合わせて1または複数個の置換基を有していてもよい」と同意義である。
本願明細書において用いる「置換基を有していてもよい」における当該置換基として代表的な例をあげると、
(1)ハロゲン原子
(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、等);
(2)水酸基;
(3)シアノ基;
(4)ニトロ基;
(5)カルボキシル基;
(6)アミノ基;
(7)C1−6アルキル基
(例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、1,1−ジメチルプロピル基、1,2−ジメチルプロピル基、2,2−ジメチルプロピル基、1−エチルプロピル基、2−エチルプロピル基、n−ヘキシル基、等);
(8)C2−6アルケニル基
(例えばビニル基、アリル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、イソプロペニル基、2−メチル−1−プロペニル基、3−メチル−1−プロペニル基、等);
(9)C2−6アルキニル基
(例えばエチニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、1−ブチニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、3−メチル−1−プロピニル基、1−エチニル−2プロピニル基、2−メチル−3−プロピニル基、等);
(10)C3−8シクロアルキル基
(例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、等);
(11)C3−8シクロアルケニル基
(例えばシクロプロペン−1−イル、シクロプロペン−3−イル、シクロブテン−1−イル、シクロブテン−3−イル、1,3−シクロブタジエン−1−イル、シクロペンテン−1−イル、シクロペンテン−3−イル、シクロペンテン−4−イル、1,3−シクロペンタジエン−1−イル、1,3−シクロペンタジエン−2−イル、1,3−シクロペンタジエン−5−イル、シクロヘキセン−1−イル、シクロヘキセン−3−イル、シクロヘキセン−4−イル、1,3−シクロヘキサジエン−1−イル、1,3−シクロヘキサジエン−2−イル、1,3−シクロヘキサジエン−5−イル、1,4−シクロヘキサジエン−3−イル、1,4−シクロヘキサジエン−1−イル、等);
(12)C1−6アルコキシ基
(例えばメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、sec−プロポキシ基、n−ブトキシ基、iso−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、iso−ペンチルオキシ基、sec−ペンチルオキシ基、n−ヘキソキシ基、iso−ヘキソキシ基、1,1−ジメチルプロピルオキシ基、1,2−ジメチルプロポキシ基、2,2−ジメチルプロピルオキシ基、等);
(13)C1−6アルケニルオキシ基
(例えばビニロキシ基、アリロキシ基、1−プロペニルオキシ基、2−プロペニルオキシ基、イソプロペニルオキシ基、2−メチル−1−プロペニルオキシ基、3−メチル−1−プロペニルオキシ基、2−メチル−2−プロペニルオキシ基、3−メチル−2−プロペニルオキシ基、1−ブテニルオキシ基、2−ブテニルオキシ基、3−ブテニルオキシ基、1−ペンテニルオキシ基、1−ヘキセニルオキシ基、1,3−ヘキサンジエニルオキシ基、1,6−ヘキサンジエニルオキシ基、等);
(14)C1−6アルキルチオ基
(例えばメチルチオ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、iso−プロピルチオ基、n−ブチルチオ基、iso−ブチルチオ基、sec−ブチルチオ基、tert−ブチルチオ基、n−ペンチルチオ基、1,1−ジメチルプロピルチオ基、1,2−ジメチルプロピルチオ基、2,2−ジメチルプロピルチオ基、1−エチルプロピルチオ基、2−エチルプロピルチオ基、n−ヘキシルチオ基、1−メチル−2−エチルプロピルチオ基、等);
(15)C1−6アルケニルチオ基
(例えばビニルチオ基、アリルチオ基、1−プロペニルチオ基、2−プロペニルチオ基、イソプロペニルチオ基、2−メチル−1−プロペニルチオ基、3−メチル−1−プロペニルチオ基、2−メチル−2−プロペニルチオ基、3−メチル−2−プロペニルチオ基、1−ブテニルチオ基、2−ブテニルチオ基、3−ブテニルチオ基、1−ペンテニルチオ基、1−ヘキセニルチオ基、1,3−ヘキサンジエニルチオ基、1,6−ヘキサンジエニルチオ基、等);
(16)C1−14アリロキシ基
(例えばフェニルオキシ基、等);
(17)C2−7アシル基
(例えばアセチル基、プロピオニル基、ブチロイル基、等);
(18)C6−14芳香族炭化水素環式基
(例えばフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、等);
(19)5〜14員非芳香族炭化水素環式基
(例えば1)ピロリジル基、ピローリリル基、ピペリジル基、ピペラジル基、イミダゾリル基、ピラゾリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロピラニル基、アジリジニル基、オキシラニル基、オキサチオラニル基;
2)ピリドン環から誘導される基;
3)フタルイミド環、スクシンイミド環、等の縮合環から誘導される基、等);
(20)5〜14員芳香族複素環式基
(例えばピロリル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、イミダゾリル基、ベンツイミダゾリル基、インドリル基、インダゾリル基、キノリル基、イソキノリル基、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ピラニル基、ベンゾフリル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、等)、
(21)アミド基、
(22)C1−6脂肪族炭化水素基を置換基として有するスルホニル基、
(23)スルホンアミド基、
(24)C1−6アルキルカルバモイル基、
(25)C1−6アルコキシカルボニル基、
(26)C1−6アルキルカルボニルオキシ基、
(27)C1−6アルキルスルホニル基、
(28)C1−6アルキルスルフィニル基、
(29)ホルミル基、
(30)式
Figure 0004535680
(式中、R10aおよびR11aはそれぞれ独立して水素原子またはC1−6アルキル基を意味する。)
(31)式
Figure 0004535680
(式中、R10aおよびR11aはそれぞれ独立して水素原子またはC1−6アルキル基を意味する。)
(32)式
Figure 0004535680
(式中、R10aおよびR11aはそれぞれ独立して水素原子またはC1−6アルキル基を意味する。)
等の基があげられ、本願明細書における「置換基を有していてもよい」とは、これらの置換基群から選ばれる1〜4個の基を置換基として有していてもよいことを示す。
また、「置換基を有していてもよい」における当該置換基としてあげた前記(6)〜(23)におけるアミノ基、C1−6アルキル基、C2−6アルケニル基、C2−6アルキニル基、C3−8シクロアルキル基、C3−8シクロアルケニル基、C1−6アルコキシ基、C1−6アルケニルオキシ基、C1−6アルキルチオ基、C1−6アルケニルチオ基、C1−14アリロキシ基、C2−7アシル基、C6−14芳香族炭化水素環式基、5〜14員非芳香族炭化水素環式基または5〜14員芳香族複素環式基、アミド基、C1−6脂肪族炭化水素基を置換基として有するスルホニル基またはスルホンアミド基は、更に、前記
(1)〜(23)に記載の
(a)ハロゲン原子、
(b)水酸基、
(c)シアノ基、
(d)ニトロ基、
(e)カルボキシル基、
(f)アミノ基、
(g)C1−6アルキル基、
(h)C2−6アルケニル基、
(i)C2−6アルキニル基、
(j)C3−8シクロアルキル基、
(k)C3−8シクロアルケニル基、
(l)C1−6アルコキシ基、
(m)C1−6アルケニルオキシ基、
(n)C1−6アルキルチオ基、
(o)C1−6アルケニルチオ基、
(p)C1−14アリロキシ基、
(q)C2−7アシル基、
(r)C6−14芳香族炭化水素環式基、
(s)5〜14員非芳香族炭化水素環式基、
(t)5〜14員芳香族複素環式基、
(u)アミド基、
(v)C1−6脂肪族炭化水素基を置換基として有するスルホニル基および
(w)スルホンアミド基からなる群から選ばれる1〜4個の基で置換されていてもよい。
本願明細書において用いる「置換基を有していてもよい」における当該置換基として好ましい例をあげると、
(a−1)ハロゲン原子、
(a−2)水酸基、
(a−3)ニトリル基、
(a−4)それぞれ1〜3個ハロゲン原子または水酸基で置換されていてもよい、C1−6アルキル基、C2−6アルケニル基、C2−6アルキニル基、C3−8シクロアルキル基、C1−6アルコキシ基、
(a−5)C6−10芳香族炭化水素環式基
(a−6)5〜14員芳香族複素環式基
(a−7)5〜14員複素環式基、
(a−8)カルボキシル基、
(a−9)トリフルオロメチル基、
(a−10)C1−6アルキルカルバモイル基、
(a−11)C1−6アルコキシカルボニル基、
(a−12)C2−7アシル基、
(a−13)C1−6アルキルカルボニルオキシ基、
(a−14)C1−6アルキルスルホニル基、
(a−15)C1−6アルキルスルフィニル基、
(a−16)C1−6アルキルチオ基、
(a−17)ニトロ基、
(a−18)ホルミル基、
(a−19)式
Figure 0004535680
式中、R10aおよびR11aはそれぞれ独立して水素原子またはC1−6アルキル基を意味する。)
(a−20)式
Figure 0004535680
(式中、R10aおよびR11aはそれぞれ独立して水素原子またはC1−6アルキル基を意味する。)
(a−21)式
Figure 0004535680
(式中、R10aおよびR11aはそれぞれ独立して水素原子またはC1−6アルキル基を意味する。)などの置換基をあげることができる。
本願明細書において用いる「置換基を有していてもよい」における当該置換基としてより好ましい例をあげると、
(a−1)ハロゲン原子、
(a−2)水酸基、
(a−3)ニトリル基、
(a−4)それぞれ1〜3個ハロゲン原子または水酸基で置換されていてもよい、C1−6アルキル基、C3−8シクロアルキル基、C1−6アルコキシ基、
(a−17)ニトロ基、
(a−19)式
Figure 0004535680
式中、R10aおよびR11aはそれぞれ独立して水素原子またはC1−6アルキル基を意味する。)
(a−20)式
Figure 0004535680
(式中、R10aおよびR11aはそれぞれ独立して水素原子またはC1−6アルキル基を意味する。)で表わされる基である。
本願明細書において用いる「置換基を有していてもよい」における当該置換基としてより好ましい例をあげると、ハロゲン原子、ニトリル基、C1−6アルキル基、C3−8シクロアルキル基、C1−6アルコキシ基、トリフルオロメチル基があげられる。
本願明細書において用いる「置換基を有していてもよい」における当該置換基としてさらに好ましい例をあげると、フッ素原子、シクロプロピル基、トリフルオロメチル基またはメトキシ基などがあげられる。
[一般的合成法]
本発明にかかる前記式(I)で表わされる1H−インダゾール化合物の代表的な製造法について以下に示す。なお、以下の製造方法1〜40の反応スキームにおいて用いるRはC1−8アルキル基を意味する。R、R、RおよびRはそれぞれ前記定義とそれぞれ同意義を意味する。Rは式−L−X−Y〔式中、L、XおよびYは前記定義のL、XおよびYとそれぞれ同意義を示す。〕で表わされる基を意味する。Tは水素原子、臭素原子またはヨウ素原子を意味する。Tはハロゲン原子を意味する。Tはスルホネートまたはハロゲン原子を意味する。Tはヘテロ原子(酸素原子、窒素原子または硫黄原子)を意味する。Proは保護基を意味する。QはC1−8アルキル基を意味する。Q、QおよびQはそれぞれ独立してC1−8アルキル基を意味する。または、QおよびQは結合して一緒になり環を形成していてもよいことを意味する。QおよびQはそれぞれ独立に式−Y〔式中のYは前記定義と同意義を示す。〕で表わされる基を意味する。R1aは式R〔式中のRは前記定義と同意義を示す。〕で表わされる基を意味する。R19は前記定義のR、RまたはRで表わされる基と同意義を意味する。pは0、1、2または3の整数を意味する。
製造方法1
Figure 0004535680
化合物(I)は、フルオロベンゼン1をアルキルリチウムまたはリチウムアミド等で金属アリールとし、アリールアルデヒドを反応させることによりアルコール2とし、酸化してケトン3とした後に、ヒドラジンでインダゾール環を閉環させることで、製造することができる。フルオロベンゼン1を金属アリールへと変換するアルキルリチウムとしては、例えばn−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム、フェニルリチウム等が用いられ、必要に応じてN,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン、ヘキサメチルフォスフォラミド等の添加剤を加えることができる。また、リチウムアミドとしては、例えばリチウムジイソプロピルアミド、リチウム2,2,6,6−テトラメチルピペリジド等が用いられる。溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒や、その他ベンゼン、トルエン等が好ましい。反応温度は、−78℃ないし室温である。化合物2のアルコールを酸化する酸化剤としては、例えば二酸化マンガン、三酸化硫黄・ピリジン錯体、N−メチルモルホリン−N−オキシド、各種クロム酸酸化剤等を用いることができ、また、スワン酸化、モファツト酸化等で行うこともできる。溶媒としては、反応に関与しないあらゆる溶媒を用いることができ、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、その他酢酸エチル、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド等があげられる。反応温度は、通常−78℃ないし溶媒の還流温度である。化合物3を、ヒドラジン一水和物で環化させる反応は、無溶媒で行うこともできるが、溶媒を用いることもできる。溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒や、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール系溶媒、その他ピリジン、ジメチルスルホキシド、ベンゼン、トルエン等があげられる。ヒドラジン一水和物の使用量は、原料に対し2ないし20等量である。反応温度は、通常0℃ないし溶媒の還流温度である。
製造方法2
Figure 0004535680
化合物2は、製造方法2によっても製造できる。フルオロベンゼン1を、製造方法1に従い金属アリールとし、ホルミル化剤と反応させることにより、化合物4を製造できる。ホルミル化剤としては、例えばジメチルホルムアミド、N−ホルミルピペリジン、メチルフェニルホルムアミド等があげられる。反応溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒や、その他ベンゼン、トルエン等があげられる。反応温度は、−78℃ないし室温である。化合物2は、化合物4に金属アリールまたは金属ハロゲノアリールを反応させることで製造できる。金属アリールまたは金属ハロゲノアリールは、例えばハロゲノアリールをアルキルリチウム、マグネシウム、亜鉛等を用いて、アリールリチウムまたは金属ハロゲノアリールとすることで容易に調整することができる。アルキルリチウムとしては、例えばn−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム、フェニルリチウム等が用いられ、必要に応じてN,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン、ヘキサメチルフォスフォラミド等の添加剤を加えることができる。反応溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒や、その他ベンゼン、トルエン等があげられる。反応温度は、−78℃ないし室温である。
製造方法3
Figure 0004535680
化合物(I)は、インダゾール化合物5の3位をハロゲン化して化合物6とし、1位を保護して化合物7とした後、アリールボロン酸と鈴木カップリングさせて化合物8とし、1位の脱保護を行うことによっても製造できる。3位のハロゲン化試薬としては、例えばN−ブロモスクシイミド、N−ヨードスクシイミド、N−クロロスクシイミド、臭素等が用いられ、必要に応じて2,2’−アゾジイソプロピルブチロニトリル、過酸化ベンゾイル等のラジカル開始剤を加えることができる。ハロゲン化試薬の使用量は、原料に対して1.05ないし1.2当量である。溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えばジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、その他酢酸エチル、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド等があげられる。反応温度は、通常室温ないし溶媒の還流温度である。
1位の保護基としては、例えばtert−ブチルオキシカルボニル基、p−トルエンスルホニル基、トリフェニルメチル基、メトキシメチル基等が上げられる。tert−ブチルオキシカルボニル基およびp−トルエンスルホニル基の導入は、塩基の存在下、化合物6とジ−tert−ブチルジカーボネートあるいはp−トルエンスルホニルクロリドと反応させることにより達成される。塩基としては特に限定はされないが、例えばトリエチルアミン、4−N,N−ジメチルアミノピリジン等が好ましい。溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒や、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、その他酢酸エチル、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド等があげられる。反応温度は、通常0℃ないし溶媒の還流温度である。
トリフェニルメチル基およびメトキシメチル基の導入は、塩基の存在下、化合物6とクロロトリフェニルメタンあるいはクロロメチルメチルエーテルと反応させることにより達成される。塩基は特に限定されないが、水素化ナトリウム、カリウムtert−ブトキシド、リチウムジイソプロピルアミド、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム等が好ましい。溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒や、その他酢酸エチル、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド等があげられる。反応温度は、−20℃ないし溶媒の還流温度である。
鈴木カップリングに用いるアリールボロン酸は、市販されているものは購入し、市販されていないものは定法に従い容易に調製することができる。アリールボロン酸の調整は、例えばハロゲノアリールをアルキルリチウム、マグネシウム、亜鉛等を用いて、アリールリチウムまたは金属ハロゲノアリールとした後、ホウ酸トリアルキルと反応させてホウ酸エステルとした後、加水分解することで得られる。アルキルリチウムとしては、例えばn−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム、フェニルリチウム等が用いられ、必要に応じてN,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン、ヘキサメチルフォスフォラミド等の添加剤を加えることができる。アリールリチウムとホウ酸トリアルキルとを反応させてホウ酸エステルとした後の加水分解は、水を添加することでも行えるが、塩酸、硫酸等の酸を用いることもできる。反応溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒が好ましい。反応温度は、−78℃ないし室温である。鈴木カップリングに用いるアリールボロン酸の使用量としては、原料に対して1ないし3当量である。使用する触媒としては、例えば酢酸パラジウム(II)、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム(II)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(O)等があげられる。触媒の使用量は、原料に対して約5%モルである。必要に応じて、触媒の2倍モルのホスフィン配位子、例えばトリ−tert−ブチルホスフィン、2−(ジ−tert−ブチルフォスフィノ)ビフェニル、2−(ジシクロヘキシルフォスフィノ)ビフェニル、トリフェニルホスフィン等を加えることができる。使用する塩基としては、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、フッ化カリウム等が上げられる。使用する溶媒としては、反応を阻害しないものであれば特に限定されないが、例えばジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トルエン等があげられる。反応温度は、通常は室温ないし溶媒の還流温度である。
tert−ブチルオキシカルボニル基およびトリフェニルメチル基の脱保護は、酸で容易に達成される。酸としては塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸等が用いられる。必要に応じて、チオフェノール、トリ−iso−プロピルシラン等のラジカルスカベンジャーを加えることができる。溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、その他アニソール等があげられる。反応温度は−20℃あるいは溶媒の還流温度である。また、tert−ブチルオキシカルボニル基およびp−トルエンスルホニル基の脱保護は、塩基により容易に達成される。塩基としては特に限定されないが、水酸化ナトリウム水、水酸化カリウム水等が上げられる。溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒があげられる。反応温度は室温あるいは溶媒の還流温度である。メトキシメチル基の脱保護は、酸で処理した後に、残存するアミナールをアンモニア水で処理することにより達成される。
製造方法4
Figure 0004535680
化合物8は、化合物7をボロン酸9へと変換した後、アリールハライドないしはアリールスルホネートと鈴木カップリングすることでも得られる。ボロン酸9は化合物7をアリールリチウムとした後、ホウ酸トリアルキルと反応させてホウ酸エステルとした後、加水分解することで得られる。化合物7をアリールリチウム化するアルキルリチウムとしては、例えばn−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム、フェニルリチウム等が用いられ、必要に応じてN,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン、ヘキサメチルフォスフォラミド等の添加剤を加えることができる。アリールリチウムとホウ酸トリアルキルとを反応させてホウ酸エステルとした後の加水分解は、水を添加することでも行えるが、塩酸、硫酸等の酸を用いることもできる。反応溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒が好ましい。反応温度は、−78℃ないし室温である。化合物8は、ボロン酸9と、アリールハライドないしはアリールスルホネートとを、製造方法3の条件で鈴木カップリングすることで、製造できる。
製造方法5
Figure 0004535680
化合物8は、製造方法5に示す様に、スティルカップリングでも製造できる。スティルカップリングに用いるアリールトリアルキルスズは、市販されているものは購入し、市販されていないものは容易に調製することができる。アリールトリアルキルスズの調整は、例えばハロゲノアリールをアルキルリチウムやマグネシウム、亜鉛等を用いて、アリールリチウムまたは金属ハロゲノアリールとした後、クロロトリアルキルチンないしヘキサアルキルジチンと反応させることで得られる。反応溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒が好ましい。反応温度は、−78℃ないし室温である。スティルカップリングに用いられるアリールトリアルキルスズの使用量としては、原料に対して1ないし3当量である。使用する触媒としては、例えば酢酸パラジウム(II)、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム(II)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(O)等があげられる。触媒の使用量は、原料に対して約5%モルである。必要に応じて、触媒の2倍モルのホスフィン配位子、例えばトリ−tert−ブチルホスフィン、2−(ジ−tert−ブチルフォスフィノ)ビフェニル、2−(ジシクロヘキシルフォスフィノ)ビフェニル、トリフェニルホスフィンを加えることができる。使用する溶媒としては、反応を阻害しないものであれば特に限定されないが、例えばジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トルエン、キシレン等があげられる。反応温度は、通常は室温ないし溶媒の還流温度である。
製造方法6
Figure 0004535680
化合物8は、化合物7を錫化合物10へと変換した後、アリールハライドないしはアリールスルホネートとスティルカップリングすることでも得られる。錫化合物10は、化合物7を製造方法4と同様の条件でアリールリチウムとした後、クロロトリアルキルチンないしヘキサアルキルジチンと反応させることで得られる。反応溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒が好ましい。反応温度は、−78℃ないし室温である。化合物8は、錫化合物10とアリールハライドないしはアリールスルホネートとを、製造方法5の条件でスティルカップリングすることで、製造できる。
製造方法7
Figure 0004535680
化合物(I)は、製造方法7で示す様に、1位が無保護の化合物6に対して、製造方法5の条件でスティルカップリング行うことでも製造できる。
製造方法8
Figure 0004535680
化合物8は、製造方法8に示す様に、トリブチル(1−エトキシビニル)スズをスティルカップリングさせ、N−ブロモスクシミドでブロモアセチル11とした後、芳香環化させることでも製造できる。スティルカップリングに用いるトリブチル(1−エトキシビニル)スズは、市販されているものを購入した。トリブチル(1−エトキシビニル)スズの使用量としては、原料に対して1ないし3当量である。使用する触媒としては、特に限定されないが例えばテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(O)等が好ましい。触媒の使用量は、原料に対して約5%モルである。使用する溶媒としては、反応を阻害しないものであれば特に限定されないが、例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トルエン、キシレン等が好ましい。反応温度は、通常は室温ないし溶媒の還流温度である。ブロム化は、溶媒をテトラヒドロフランあるいはジオキサンに交換し、約1当量のN−ブロモスクシミドを加えることで達成される。化合物11の芳香環化は例えば2−アミノピリジン、チオウレア等を塩基の存在下に反応させることで達成される。塩基としては、特には限定されないが、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム等が用いられる。溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、その他酢酸エチル、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド等があげられる。通常反応温度は、0℃および溶媒の還流温度である。
製造方法9
Figure 0004535680
化合物8は、製造方法9に示す様に、化合物7にトリメチルシリルアセチレンをソノガシラカップリングさせた後、脱トリメチルシリル化を行い化合物12とし、続いてオルト位に水酸基、アミノ基あるいはチオール基(これらの置換基はいずれも保護基によって保護されていても良い)を持つハロゲン化芳香環化合物13とカップリングさせ、同条件下で芳香環化(保護基で保護されているものについては脱保護を行なった後)させることでも製造できる。ソノガシラカップリングに用いるトリメチルシリルアセチレンは、市販されているものを購入した。トリメチルシリルアセチレンの使用量としては、原料に対して1ないし3当量である。使用する触媒としては、特に限定されないが例えば酢酸パラジウム(II)、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム(II)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(O)等があげられる。触媒の使用量は、原料に対して約10%モルである。必要に応じて、触媒と同量ないし2倍量の添加剤、例えばよう化銅(I)、トリフェニルホスフィン等を加えることができる。使用する塩基としては、特に限定されないが例えばトリエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ピペリジン等があげられる。使用する溶媒としては、反応を阻害しないものであれば特に限定されないが、例えばジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トルエン、キシレン等が好ましい。反応温度は、通常は室温ないし溶媒の還流温度である。
脱トリメチルシリル化はフッ素アニオンあるいは酸で容易に達成できる。フッ素アニオンとしてはフッ化テトラブチルアンモニウム、フッ化水素、フッ化カリウム、フッ化セシウム等が用いられる。溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、水、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン等が上げられる。反応温度は−20℃ないし溶媒の還流温度である。酸としては塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸等が用いられる。溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等が上げられる。反応温度は−20℃あるいは溶媒の還流温度である。
化合物13は、市販されているものは購入し、市販されていないものは水酸基、アミノ基あるいはチオール基を持つ芳香環化合物のヘテロ原子を保護した後、アルキルリチウムまたはリチウムアミド等で金属アリールとし、ハロゲン化させることで製造できる。
の保護基としては、例えばtert−ブチルオキシカルボニル基、ピバロイル基、メトキシメチル基等が上げられる。これらの導入は、水酸基、アミノ基あるいはチオール基を持つ芳香環化合物に、塩基の存在下、ジ−tert−ブチルジカーボネート、ピバロイルクロリドあるいはクロロメトキシメチルを反応させることにより達成される。塩基としては特に限定はされないが、例えばトリエチルアミン、4−N,N−ジメチルアミノピリジン、水素化ナトリウム、カリウムtert−ブトキシド、リチウムジイソプロピルアミド、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム等があげられる。溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒や、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、その他酢酸エチル、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド等があげられる。反応温度は、通常0℃ないし溶媒の還流温度である。
を保護した芳香環化合物を、金属アリールへと変換するアルキルリチウムとしては、例えばn−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウムとし、フェニルリチウム等が用いられ、必要に応じてN,N,N‘,N’−テトラメチルエチレンジアミン、ヘキサメチルフォスフォラミド等の添加剤を加えることができる。またリチウムアミドとしては、例えばリチウムジイソプロピルアミド、リチウム2,2,6,6−テトラメチルピペリジド等が用いられる。ハロゲン化剤としては、例えばヨウ素、N−ヨードスクシイミド、臭素、N−ブロモスクシイミド等が好ましい。反応溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒や、その他ベンゼン、トルエン等があげられる。反応温度は、−78℃ないし室温である。
化合物12と13のカップリング反応に用いられる化合物13の使用量としては、原料12に対して1ないし2当量である。使用する触媒としては、特に限定されないが例えば酢酸パラジウム(II)、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム(II)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(O)等があげられる。触媒の使用量は、原料に対して約10%モルである。必要に応じて、触媒と同量ないし2倍量の添加剤、例えばよう化銅(I)、トリフェニルホスフィン等を加えることができる。使用する塩基としては、特に限定されないが例えばトリエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ピペリジン等があげられる。使用する溶媒としては、反応を阻害しないものであれば特に限定されないが、例えばジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トルエン、キシレン等が好ましい。反応温度は、通常は室温ないし溶媒の還流温度である。化合物13のヘテロ原子が無保護の場合には、この条件下で芳香環化まで達成される。
化合物13のヘテロ原子が保護されている場合には、カップリングの後、脱保護を行ない、カップリングと同条件で、芳香環化が達成できる。Tの保護基の脱保護は、酸あるいは塩基により容易に達成される。酸としては塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸等が用いられる。溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒が上げられる。反応温度は−20℃あるいは溶媒の還流温度である。塩基としては特に限定されないが、水酸化ナトリウム水、水酸化カリウム水等が上げられる。溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒があげられる。反応温度は室温あるいは溶媒の還流温度である。
製造方法10
Figure 0004535680
化合物8は、製造方法10に示す様に、化合物7に化合物14をカップリングさせた後、脱保護して得られる化合物15を、芳香環化させることでも製造できる。化合物14の合成は、化合物13にトリメチルシリルアセチレンをソノガシラカップリングさせた後、脱トリメチルシリル化を行なうことで達成できる。ソノガシラカップリングに用いるトリメチルシリルアセチレンは、市販されているものを購入した。トリメチルシリルアセチレンの使用量としては、原料に対して1ないし3当量である。使用する触媒としては、特に限定されないが例えば酢酸パラジウム(II)、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム(II)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(O)等があげられる。触媒の使用量は、原料に対して約10%モルである。必要に応じて、触媒と同量ないし2倍量の添加剤、例えばよう化銅(I)、トリフェニルホスフィン等を加えることができる。使用する塩基としては、特に限定されないが例えばトリエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ピペリジン等があげられる。使用する溶媒としては、反応を阻害しないものであれば特に限定されないが、例えばジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トルエン、キシレン等が好ましい。反応温度は、通常は室温ないし溶媒の還流温度である。
脱トリメチルシリル化はフッ素アニオンあるいは酸で容易に達成できる。フッ素アニオンとしてはフッ化テトラブチルアンモニウム、フッ化水素、フッ化カリウム、フッ化セシウム等が用いられる。溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、水、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン等が上げられる。反応温度は−20℃ないし溶媒の還流温度である。酸としては塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸等が用いられる。溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒が上げられる。反応温度は−20℃あるいは溶媒の還流温度である。
化合物14と7のカップリング反応における化合物14の使用量としては、原料7に対して1ないし2当量である。使用する触媒としては、特に限定されないが例えば酢酸パラジウム(II)、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム(II)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(O)等があげられる。触媒の使用量は、原料に対して約10%モルである。必要に応じて、触媒と同量ないし2倍量の添加剤、例えばよう化銅(I)、トリフェニルホスフィン等を加えることができる。使用する塩基としては、特に限定されないが例えばトリエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ピペリジン等があげられる。使用する溶媒としては、反応を阻害しないものであれば特に限定されないが、例えばジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トルエン、キシレン等が好ましい。反応温度は、通常は室温ないし溶媒の還流温度である。
の保護基の脱保護は、酸あるいは塩基により容易に達成される。酸としては塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸等が用いられる。溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒が上げられる。反応温度は−20℃あるいは溶媒の還流温度である。塩基としては特に限定されないが、水酸化ナトリウム水、水酸化カリウム水等が上げられる。溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒があげられる。反応温度は室温あるいは溶媒の還流温度である。化合物15の芳香環化を、化合物7と化合物14とのカップリングと同条件で行うことで、化合物8が製造できる。
製造方法11
Figure 0004535680
化合物(I)は、アニリン16とアリール酸クロリドを、フリーデル−クラフト反応で反応させケトン17とし、アニリンをジアゾニウム塩とし、塩化錫で還元、閉環させることでも製造することができる。ケトン17を製造するフリーデル−クラフト反応のルイス酸としては、例えば塩化アルミニウム(III)、二塩化エチルアルミニウム等があげられる。溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒が好ましい。反応温度は通常、−50℃ないし溶媒の還流温度である。ケトン17のジアゾニウム塩化は、酸の存在下に亜硝酸ナトリウムを反応させることで達成される。反応溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、その他塩酸、硫酸、酢酸等を用いることができる。反応温度は通常0℃ないし室温である。ジアゾニウム塩の還元、それに続くインダゾール環の閉環は、酸の存在下に塩化錫(II)を反応させることで達成される。反応溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、その他塩酸、硫酸、酢酸等を用いることができる。反応温度は通常0℃ないし室温である。
以下に、側鎖部分の製造方法を含めた3−アリールインダゾール化合物の具体的な製造方法を示すが、3−アリールインダゾール化合物の製造方法はこれに限定される物ではない。
製造方法12
Figure 0004535680
化合物(I)−aは、オルト−ハロゲノフルオロベンゼン18をリチウムアリールとし、アリールアルデヒドを反応させることによりアルコール19とし、酸化してケトン20とした後に、アセタールをエステルへと変換し、ヒドラジンでインダゾール22とし、カルボン酸23に加水分解し、アミド化することで製造することができる。
オルト−ハロゲノフルオロベンゼン18をリチウムアリールへと変換するアルキルリチウムとしては、例えばn−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム、フェニルリチウム等が用いられ、必要に応じてN,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン、ヘキサメチルフォスフォラミド等の添加剤を加えることができる。反応溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒や、その他ベンゼン、トルエン等が好ましい。反応温度は、−78℃ないし室温である。
アルコール19を酸化する酸化剤としては、例えば二酸化マンガン、三酸化硫黄・ピリジン錯体、N−メチルモルホリン−N−オキシド、各種クロム酸酸化剤等を用いることができ、また、スワン酸化、モファツト酸化等で行うこともできる。溶媒としては、反応に関与しないあらゆる溶媒を用いることができ、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、その他酢酸エチル、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド等があげられる。反応温度は、通常−78℃ないし溶媒の還流温度である。
エステル21は、酸によるアルデヒドへの変換、カルボン酸への酸化、エステル化によって製造される。アルデヒドへの変換に用いる酸としては、特には限定されないが例えばp−トルエンスルホン酸、ピリジニウム・p−トルエンスルホネート、塩酸、硫酸等が上げられる。溶媒としては、反応に関与しないあらゆる溶媒を用いることができ、例えばメタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、その他アセトン、テトラヒドロフラン等が上げられる。反応温度は、通常室温ないし溶媒の還流温度である。アルデヒドのカルボン酸への酸化剤としては、例えばジョーンズ試薬、亜塩素酸ナトリウムがあげられる。溶媒としては、反応に関与しないあらゆる溶媒を用いることができ、例えば塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、その他酢酸エチル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等が上げられる。通常0℃ないし溶媒の還流温度である。エステルへの変換は、例えば塩基の存在下に沃化アルキルと反応させるか、ジアゾメタンと反応させることで達成できる。塩基としては、例えば水素化ナトリウム、炭酸カリウム、カリウム−tert−ブトキシド等があげられる。反応温度は、通常0℃ないし溶媒の還流温度である。
エステル21を、ヒドラジン一水和物で環化させる反応は、無溶媒で行うこともできるが、溶媒を用いることもできる。溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒や、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール系溶媒、その他ピリジン、ジメチルスルホキシド、ベンゼン、トルエン等があげられる。ヒドラジン一水和物の使用量は、原料に対し2ないし20当量である。反応温度は、通常0℃ないし溶媒の還流温度である。
エステル22の加水分解は、例えば水酸化ナトリウム水、水酸化カリウム水を用いることで容易に行える。溶媒としては、反応に関与しないあらゆる溶媒を用いることができ、例えばメタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、その他テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒が上げられる。反応温度は、通常0℃ないし溶媒の還流温度である。
カルボン酸23のアミド化は、アミンおよび縮合剤を混合する事で達成される。縮合剤としては、例えばジシクロヘキシルカルボジイミド、ジイソプロピルカルボジイミド、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド・塩酸塩等があげられる。必要に応じて1−ヒドロキシベンゾトリアゾール、N−ヒドロキシスクシンイミド等を添加する事ができる。溶媒としては、反応に関与しないあらゆる溶媒を用いることができ、例えば塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、エーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、その他酢酸エチル、ジメチルホルムアミド、トルエン等が上げられる。反応温度は、通常室温ないし溶媒の還流温度である。
製造方法13
Figure 0004535680
アルコール19は、オルト−ハロゲノフルオロベンゼン18を、製造方法12に従いリチウムアリールとし、ホルミル化剤と反応させることにより、アルデヒド24とした後、金属アリールないし金属ハロゲノアリールと反応させることでも製造できる。オルト−ハロゲノフルオロベンゼン18から、製造方法12に従って調整したリチウムアリールのホルミル化剤としては、例えばジメチルホルムアミド、N−ホルミルピペリジン、メチルフェニルホルムアミド等があげられる。反応溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒や、その他ベンゼン、トルエン等があげられる。反応温度は、−78℃ないし室温である。アルデヒド24に反応させる金属アリールまたは金属ハロゲノアリールは、製造方法2に従って容易に調整することができる。反応溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒や、その他ベンゼン、トルエン等があげられる。反応温度は、−78℃ないし室温である。
製造方法14
Figure 0004535680
カルボン酸23は、フルオロベンゼン25をアルキルリチウムないしはリチウムアミド等でリチウムアリールとし、アリールアルデヒドを反応させることによりアルコール26とし、酸化してケトン27とした後に、ヒドラジンでインダゾール28とし、ニトリルを加水分解する事でも製造することができる。
フルオロベンゼン25をリチウムアリールへと変換するアルキルリチウムとしては、例えばn−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム、フェニルリチウム等が用いられ、必要に応じてN,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン、ヘキサメチルフォスフォラミド等の添加剤を加えることができる。また、リチウムアミドとしては、例えばリチウムジイソプロピルアミド、リチウム2,2,6,6−テトラメチルピペリジド等が用いられる。反応溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒や、その他ベンゼン、トルエン等が好ましい。反応温度は、−78℃ないし室温である。アルコールの酸化、およびヒドラジン・一水和物を用いてのインダゾール環の閉環を製造方法12に準じて行うことで、化合物28が製造できる。化合物28のニトリルの加水分解は、酸またはアルカリを用いて達成される。酸としては塩酸、含水硫酸等があげられる。無溶媒でも反応できるが、溶媒を用いる場合としては、例えばメタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール系溶媒、その他酢酸等があげられる。反応温度は、通常室温ないし溶媒の還流温度である。アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等があげられる。溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール系溶媒等が好ましい。反応温度は、通常室温ないし溶媒の還流温度である。
製造方法15
Figure 0004535680
化合物(I)−bは、製造方法12で製造されたエステル22の1位を保護して化合物29とした後、還元してアルコール30とし、スルホネートあるいはハロゲン31とした後に、シアノ化合物32、カルボン酸33へと変換し、アミド化する事で製造できる。エステル22に導入する1位の保護基としては、例えばtert−ブチルオキシカルボニル基、p−トルエンスルホニル基、トリフェニルメチル基、メトキシメチル基等が上げられる。tert−ブチルオキシカルボニル基およびp−トルエンスルホニル基の導入は、塩基の存在下、エステル22とジ−tert−ブチルジカーボネートあるいはp−トルエンスルホニルクロリドと反応させることにより達成される。塩基としては特に限定はされないが、例えばトリエチルアミン、4−N,N−ジメチルアミノピリジン等が好ましい。溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒や、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、その他ピリジン、酢酸エチル、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド等があげられる。反応温度は、通常0℃ないし溶媒の還流温度である。トリフェニルメチル基およびメトキシメチル基の導入は、塩基の存在下、エステル22とクロロトリフェニルメタンあるいはクロロメチルメチルエーテルと反応させることにより達成される。塩基は特に限定されないが、水素化ナトリウム、カリウムtert−ブトキシド、リチウムジイソプロピルアミド、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム等が好ましい。溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒や、その他ピリジン、酢酸エチル、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド等があげられる。反応温度は、−20℃ないし溶媒の還流温度である。化合物29のエステルの還元剤としては、例えば水素化ジ−iso−ブチルアルミニウム、水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素リチウム等があげられる。溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒や、その他ベンゼン、トルエン等があげられる。反応温度は、−20℃ないし溶媒の還流温度である。アルコール30のスルホネートへの変換は、塩基の存在下、塩化スルホニルと反応させることで達成される。塩化スルホニルとしては、例えば塩化メタンスルホニル、塩化p−トルエンスルホニル等があげられる。塩基は、特に限定されないが、トリエチルアミン、4−ジメチルアミノピリジン、水素化ナトリウム等があげられる。溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒その他ピリジン、ベンゼン、トルエン、ジメチルホルムアミド等があげられる。反応温度は、−20℃ないし溶媒の還流温度である。反応をトリエチルアミン存在下に、ジクロロメタン中で長時間行うことで、クロライドを得ることができる。さらにスルホネートおよびクロライドは、室温下にアセトン中で約1.1当量の沃化ナトリウムと反応させることで、アイオダイドに変換する事ができる。ニトリル32は、スルホネートあるいはハロゲン化物31とシアン化ナトリウム、あるいはシアン化カリウムを反応させることで得られる。反応溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えばメタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒や、その他ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等があげられる。反応温度は、−20℃ないし溶媒の還流温度である。ニトリル32の加水分解は、酸を用いて達成される。酸としては塩酸、含水硫酸等があげられる。無溶媒でも反応できるが、溶媒を用いる場合としては、例えばメタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール系溶媒、その他酢酸等があげられる。反応温度は、通常室温ないし溶媒の還流温度である。この時、保護基も同時に除去される。カルボン酸33のアミド化を、製造方法12に準じて行うことで、化合物(I)−bを製造できる。
製造方法16
Figure 0004535680
化合物30は、製造方法12で製造された1位が無保護のエステル22を還元した後に、1位を保護することでも製造できる。エステル22の還元を、製造方法15に準じて行うことで、アルコール34が製造できる。アルコール34の1位へ、製造方法15に準じて保護基を導入して、化合物30が製造できる。
製造方法17
Figure 0004535680
化合物(I)−cは、製造方法15で製造されたアルコール30を酸化してアルデヒド35とし、Wittig反応でエステル36とした後、カルボン酸37へと変換し、アミド化することで製造できる。アルコール30を酸化する酸化剤としては、例えば二酸化マンガン、三酸化硫黄・ピリジン錯体、N−メチルモルホリン−N−オキシド、各種クロム酸酸化剤等を用いることができ、また、スワン酸化、モファツト酸化等で行うこともできる。溶媒としては、反応に関与しないあらゆる溶媒を用いることができ、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、その他酢酸エチル、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド等があげられる。反応温度は、通常−78℃ないし溶媒の還流温度である。アルデヒド30に対するWittig反応の試薬としては、例えばトリエチルホスホノアセテート、ジフェニルホスホノ酢酸エチル、臭化トリフェニルホスホニウム酢酸エチル等があげられる。塩基としては、特には限定されないが、水素化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、カリウム−tert−ブトキシド、水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム等があげられる。溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒や、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、その他酢酸エチル、アセトニトリル、トルエン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド等があげられる。反応温度は、通常0℃ないし室温である。エステル36の加水分解を、製造方法12に準じて行うことで、同時に1位の保護基が脱保護され、カルボン酸37が製造できる。カルボン酸37のアミド化を、製造方法12に準じて行うことで、化合物(I)−cが製造できる。
製造方法18
Figure 0004535680
化合物(I)−dは、製造方法17で製造されたカルボン酸37を水素添加した後、アミド化することで製造できる。カルボン酸37のオレフィンの水素添加の試薬としては、特に限定されないが、例えばパラジウム−炭素、酸化白金、水酸化パラジウム−炭素等があげられる。水素の圧力は1ないし5気圧である。溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒や、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、その他酢酸エチル、アセトニトリル、トルエン、ジメチルホルムアミド等があげられる。反応温度は、通常室温ないし溶媒の還流温度である。カルボン酸38のアミド化を、製造方法12に準じて行うことで、化合物(I)−dが製造できる。
製造方法19
Figure 0004535680
化合物(I)−eは、化合物39の3位をハロゲン化して化合物40とし、1位を保護して化合物41とした後、アリールボロン酸と鈴木カップリングさせて化合物42とし、還元してアニリン43とし、アミド化して化合物44とした後、1位の脱保護を行うことによって製造できる。化合物39の3位のハロゲン化試薬としては、例えばN−ブロモスクシイミド、N−ヨードスクシイミド、N−クロロスクシイミド、臭素等が用いられ、必要に応じて2,2’−アゾジイソプロピルブチロニトリル、過酸化ベンゾイル等のラジカル開始剤を加えることができる。ハロゲン化試薬の使用量は、原料に対して1.05ないし1.2当量である。溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えばジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、その他酢酸エチル、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド等があげられる。反応温度は、通常室温ないし溶媒の還流温度である。化合物40に導入する1位の保護基としては、例えばtert−ブチルオキシカルボニル基、p−トルエンスルホニル基、トリフェニルメチル基等が上げられる。tert−ブチルオキシカルボニル基およびp−トルエンスルホニル基の導入は、塩基の存在下、化合物40とジ−tert−ブチルジカーボネートあるいはp−トルエンスルホニルクロリドを反応させることにより達成される。塩基としては特に限定はされないが、例えばトリエチルアミン、4−N,N−ジメチルアミノピリジン等が好ましい。溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒や、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、その他ピリジン、酢酸エチル、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド等があげられる。反応温度は、通常0℃ないし溶媒の還流温度である。トリフェニルメチル基の導入は、塩基の存在下、化合物40とクロロトリフェニルメタンを反応させることにより達成される。塩基は特に限定されないが、水素化ナトリウム、カリウムtert−ブトキシド、リチウムジイソプロピルアミド、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム等があげられる。溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒や、その他酢酸エチル、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド等があげられる。反応温度は、−20℃ないし溶媒の還流温度である。化合物41の鈴木カップリングに用いるアリールボロン酸は、市販されているものは購入し、市販されていないものは製造方法3に従って容易に調製することができる。アリールボロン酸の使用量としては、原料に対して1ないし3当量である。使用する触媒としては、例えば酢酸パラジウム(II)、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム(II)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(O)等があげられる。触媒の使用量は、原料に対して約5%モルである。必要に応じて、触媒の2倍モルのホスフィン配位子、例えばトリ−tert−ブチルホスフィン、2−(ジ−tert−ブチルフォスフィノ)ビフェニル、2−(ジシクロヘキシルフォスフィノ)ビフェニル、トリフェニルホスフィン等を加えることができる。使用する塩基としては、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、フッ化カリウム等が上げられる。使用する溶媒としては、反応を阻害しないものであれば特に限定されないが、例えばジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トルエン等があげられる。反応温度は、通常は室温ないし溶媒の還流温度である。化合物42のニトロ基を還元する方法としては、例えばパラジウム−炭素、水酸化パラジウム−炭素、酸化白金、ラネー−ニッケル等を触媒にした水素添加、その他塩化錫(II)還元、鉄−塩化アンモニウム還元等が用いられる。水素添加の溶媒としては反応を阻害しない物であれば特に限定されないがメタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒、その他酢酸エチル、ジメチルホルムアミド、トルエン等があげられる。水素添加の触媒の使用量は、原料に対し重量で5%〜20%である。水素の圧力は、通常常圧ないし5気圧である。反応温度は通常室温から溶媒の還流温度である。塩化錫(II)還元の溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系炭化水素溶媒、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、トルエン等があげられる。反応温度は通常室温ないし溶媒の還流温度である。鉄−塩化アンモニウム還元の溶媒としては、含水メタノール、含水エタノール等のアルコール系溶媒が好ましい。鉄の使用量は、原料に対し3から10当量である。塩化アンモニウムの使用量は、原料に対し重量で10%〜20%である。反応温度は通常溶媒の還流温度である。アニリン43のアミド化は、カルボン酸および縮合剤を混合する事で達成される。縮合剤としては、例えばジシクロヘキシルカルボジイミド、ジイソプロピルカルボジイミド、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド・塩酸塩等があげられる。必要に応じて1−ヒドロキシベンゾトリアゾール、N−ヒドロキシスクシンイミド等を添加する事ができる。溶媒としては、反応に関与しないあらゆる溶媒を用いることができ、例えば塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、エーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、その他酢酸エチル、ジメチルホルムアミド、トルエン等があげられる。反応温度は、通常室温ないし溶媒の還流温度である。また、アニリン43のアミド化は、塩基の存在下に酸クロライドを反応させることでも達成される。塩基としては特に限定はされないが、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン等があげられる。溶媒としては、反応に関与しないあらゆる溶媒を用いることができ、例えば塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、エーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、その他酢酸エチル、トルエン等が上げられる。反応温度は、通常−78℃ないし溶媒の還流温度である。アミド44を脱保護する条件は、tert−ブチルオキシカルボニル基およびトリフェニルメチル基の脱保護の場合は、酸で容易に達成される。酸としては塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸等が用いられる。必要に応じて、チオフェノール、トリ−iso−プロピルシラン等のラジカルスカベンジャーを加えることができる。溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒その他アニソール等があげられる。反応温度は−20℃あるいは溶媒の還流温度である。また、tert−ブチルオキシカルボニル基およびp−トルエンスルホニル基の脱保護の場合は、塩基により容易に達成される。塩基としては特に限定されないが、水酸化ナトリウム水、水酸化カリウム水等が上げられる。溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒があげられる。反応温度は室温あるいは溶媒の還流温度である。
製造方法20
Figure 0004535680
化合物(I)−eは、製造方法19で製造されたアニリン43の保護基を、製造方法19に準じて脱保護して化合物45とした後に、製造方法19の縮合剤を用いたアミド化に準じて、アミド化することでも製造できる。
製造方法21
Figure 0004535680
アニリン45は、製造方法19で製造された1位が無保護のニトロ体40にスティルカップリングを行って化合物46とした後、ニトロ基を還元する事でも製造できる。ニトロ体40のスティルカップリングに用いるアリールトリアルキルスズは、市販されているものは購入し、市販されていないものは製造方法5に従って容易に調製することができる。アリールトリアルキルスズの使用量としては、原料に対して1ないし3当量である。使用する触媒としては、例えば酢酸パラジウム(II)、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム(II)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(O)等があげられる。触媒の使用量は、原料に対して約5%モルである。必要に応じて、触媒の2倍モルのホスフィン配位子、例えばトリ−tert−ブチルホスフィン、2−(ジ−tert−ブチルフォスフィノ)ビフェニル、2−(ジシクロヘキシルフォスフィノ)ビフェニル、トリフェニルホスフィンを加えることができる。使用する溶媒としては、反応を阻害しないものであれば特に限定されないが、例えばジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トルエン、キシレン等があげられる。反応温度は、通常は室温ないし溶媒の還流温度である。ニトロ体46の還元を、製造方法19に準じて行うことでアニリン45を製造できる。
製造方法22
Figure 0004535680
化合物42は、製造方法21で製造された化合物46に、製造方法19に準じて保護基を導入する事でも製造できる。
製造方法23
Figure 0004535680
化合物(I)−fは、製造方法19で製造されたアミド44を、アルキル化してN−アルキルアミド47とした後、脱保護することで製造できる。アミド44のアルキル化は、塩基の存在化、ハロゲノアルキルと反応させることで達成される。塩基としては特に限定はされないが、例えば水素化ナトリウム、炭酸カリウム、カリウム−tert−ブトキシド、水酸化カリウム等があげられる。溶媒としては反応を阻害しない物であれば、特に限定されないが、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、その他ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、トルエン等があげられる。反応温度は、通常0℃から溶媒の還流温度である。N−アルキルアミド47の脱保護を、製造方法19に準じて行うことで化合物(I)−fが製造できる。
製造方法24
Figure 0004535680
化合物(I)−gは、製造方法19で製造されたアニリン43をスルホンアミド48とした後、脱保護することで製造できる。アニリン43のスルホンアミド化は、塩基の存在下に塩化スルホニルと反応させることで達成される。塩基としては、特に限定されないが、トリエチルアミン、4−ジメチルアミノピリジン、炭酸カリウム、水素化ナトリウム、ピリジン等があげられる。塩化スルホニルの使用量は原料に対して1.1ないし1.5当量である。反応溶媒としては、反応を阻害しない溶媒であれば特に限定されないが、例えばジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、その他酢酸エチル、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、トルエン、ジメチルホルムアミド等があげられる。エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒が好ましい。反応温度は通常0℃から室温である。スルホンアミド48の脱保護を、製造方法19に準じて行うことで化合物(I)−gが製造できる。
製造方法25
Figure 0004535680
化合物(I)−gは、製造方法21で製造された1位が無保護のアニリン45を、製造方法24に準じてスルホンアミド化することでも製造できる。
製造方法26
Figure 0004535680
化合物(I)−hは、製造方法24で製造されたスルホンアミド48を、アルキル化した後、脱保護することで製造できる。スルホンアミド48のアルキル化は、塩基の存在下、ハロゲノアルキルと反応させることで達成される。塩基としては特に限定はされないが、例えば水素化ナトリウム、炭酸カリウム、カリウム−tert−ブトキシド、トリエチルアミン等があげられる。溶媒としては反応を阻害しない物であれば、特に限定されないが、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、その他ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、トルエン等があげられる。反応温度は、通常0℃から溶媒の還流温度である。スルホンアミド49の脱保護を、製造方法19に準じて行うことで化合物(I)−hが製造できる。
製造方法27
Figure 0004535680
化合物(I)−iはインダゾール50を、製造方法19に準じてハロゲン化、保護基の導入を行い化合物52とし、クロロ硫酸と反応させて塩化スルホニル53とし、スルホンアミド54とした後、鈴木カップリングで化合物55とし、脱保護することで製造できる。塩化スルホニル53は、ハロゲン体52に1ないし2当量のクロロ硫酸を反応させることで得られる。溶媒は、反応を阻害しない溶媒であれば特に限定されないが、例えば塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒があげられる。反応温度は、通常0℃ないし室温である。塩化スルホニル53のスルホンアミド化は、塩基の存在下にアミンと反応させることで達成される。塩基としては、アミンそのものを過剰に使いアミン自身を塩基とすることもできるが、例えばトリエチルアミン、4−ジメチルアミノピリジン、炭酸カリウム、水素化ナトリウム等を添加することもできる。反応溶媒としては、反応を阻害しない溶媒であれば特に限定されないが、例えばジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、その他酢酸エチル、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、トルエン、ジメチルホルムアミド等があげられる。反応温度は通常0℃から室温である。スルホンアミド54とアリールボロン酸との鈴木カップリングを、製造方法19に準じて行うことで化合物55が製造でき、化合物55の脱保護を製造方法19に準じて行うことで、化合物(I)−iが製造できる。
製造方法28
Figure 0004535680
化合物(I)−jは、製造方法15で製造されたハライドあるいはスルホネート31をアジド化し、還元してアミン57とした後、脱保護して化合物58とし、アミド化を行うことで製造される。アジド56は、化合物31とアジ化ナトリウム、あるいはアジ化カリウムを反応させることで得られる。反応溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えばメタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒や、その他ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド等があげられる。反応温度は、−20℃ないし溶媒の還流温度である。アジド56を還元する方法としては、例えばパラジウム−炭酸カルシウム、パラジウム−炭素、水酸化パラジウム−炭素、酸化白金、ラネー−ニッケル等を触媒にした水素添加が用いられる。水素添加の溶媒としては反応を阻害しない物であれば特に限定されないがメタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒、その他酢酸エチル、ジメチルホルムアミド、トルエン等があげられる。水素添加の触媒の使用量は、原料に対し重量で5%〜20%である。水素の圧力は、通常常圧であるが、5気圧まで加圧する事ができる。反応温度は通常室温から溶媒の還流温度である。アミン57の1位の脱保護を、製造方法3に準じて行うことで化合物58が製造でき、化合物58のアミド化を、製造方法19の縮合剤を用いた方法に準じて行うことで化合物(I)−jが製造できる。
製造方法29
Figure 0004535680
製造方法28で得られる化合物58は、製造例14で製造できるニトリル28を還元することによっても製造できる。還元剤としては、例えば水素化ホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化アルミニウム等があげられる。必要に応じて、三塩化アルミニウム、三フッ化ホウ素、塩化コバルト、ラネーニッケル等の添加剤を加えることができる。反応溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えばメタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒があげられる。反応温度は、−78℃ないし溶媒の還流温度である。
製造方法30
Figure 0004535680
化合物(I)−kは、製造方法15で得られたスルホネートないしハライド31をアミン59とした後、脱保護する事で製造できる。スルホネートないしハライド31のアミン化は、塩基の存在化、アミンと反応させることで製造される。塩基としては、反応させるアミンを過剰に用いてアミン自身を塩基とすることもできるが、例えば水素化ナトリウム、炭酸カリウム、カリウム−tert−ブトキシド等の塩基を添加する事もできる。溶媒としては反応を阻害しない物であれば特に限定されないがメタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒、その他酢酸エチル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、トルエン等があげられる。反応温度は、通常0℃から溶媒の還流温度である。アミン59の脱保護を、製造方法3に準じて行うことで化合物(I)−kが製造できる。
製造方法31
Figure 0004535680
化合物(I)−lは、製造方法15で得られたスルホネートないしハライド31を塩基存在下にアルコールと反応してエーテル60とした後、脱保護する事で製造できる。スルホネートないしハライド31のエーテル化の塩基としては、特には限定されないが、例えば水素化ナトリウム、炭酸カリウム、カリウム−tert−ブトキシド、酸化銀(I)等があげられる。溶媒としては反応を阻害しない物であれば特に限定されないが、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒、その他酢酸エチル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、トルエン等があげられる。反応温度は、通常0℃から溶媒の還流温度である。エーテル60の脱保護を、製造方法3に準じて行う事で化合物(I)−lを製造できる。
製造方法32
Figure 0004535680
化合物(I)−mは、製造方法15で得られたアルコール30とアリールアルコールとを、光延反応で反応させてアリールエーテル61とした後、脱保護する事で製造できる。化合物61は、アルコール30とアリールアルコールを、例えばトリフェニルホスフィンと、ジエチルアゾジカルボキシレートないしジイソプロピルアゾジカルボキシレート存在下に反応させることで、製造される。溶媒としては反応を阻害しない物であれば特に限定されないが、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系炭化水素溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル系溶媒、その他酢酸エチル、ジメチルホルムアミド、トルエン等があげられる。反応温度は、通常0℃から室温である。化合物61の脱保護を、製造方法3に準じて行うことで化合物(I)−mを製造できる。
製造方法33
Figure 0004535680
化合物(I)−nは、製造方法19で得られたアニリン43を、イソシアネートと反応して尿素62とした後、脱保護する事で製造できる。アニリン43の尿素化の溶媒としては、反応を阻害しない物であれば特に限定されないが塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒、その他酢酸エチル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、トルエン等があげられる。反応温度は、通常0℃から溶媒の還流温度である。尿素62の脱保護を、製造方法19に準じて行うことで化合物(I)−nが製造できる。
製造方法34
Figure 0004535680
化合物(I)−oは、製造方法17で得られたアルデヒド35をアルキルリチウム、グリニア試薬、金属アリールあるいは金属ハロゲノアリールと反応させ、アルコール63とし、酸化してケトン64とした後、脱保護する事で製造できる。アルデヒド35に反応させるアルキルリチウムは、市販の物を購入した。グリニア試薬は、アルキルハライドとマグネシウムを用いて調製できる。また、金属アリールあるいは金属ハロゲノアリールは市販の物は購入し、市販されていない物は製造方法3に従い容易に調製できる。反応溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒や、その他ベンゼン、トルエン等があげられる。反応温度は、−78℃ないし室温である。アルコール63を酸化する酸化剤としては、例えば二酸化マンガン、三酸化硫黄・ピリジン錯体、N−メチルモルホリン−N−オキシド、各種クロム酸酸化剤等を用いることができ、また、スワン酸化、モファツト酸化等で行うこともできる。溶媒としては、反応に関与しないあらゆる溶媒を用いることができ、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、その他酢酸エチル、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド等があげられる。反応温度は、通常−78℃ないし溶媒の還流温度である。ケトン64の脱保護を、製造方法3に準じて行う事で化合物(I)−oが製造できる。
製造方法35
Figure 0004535680
製造方法14で得られる化合物27は、フルオロベンゼン65をリチウムアミド等でリチウムアリールとし、アリールアルデヒドを反応させることによりアルコール66とし、酸化してケトンとした後に、Tをシアノ化することによっても製造することができる。
フルオロベンゼン65をリチウムアリールへと変換するリチウムアミドとしては、例えばリチウムジイソプロピルアミド、リチウム2,2,6,6−テトラメチルピペリジド等が用いられる。反応溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒や、その他ベンゼン、トルエン等が好ましい。反応温度は、−78℃ないし室温である。アルコール66の酸化は製造方法12に準じて行うことで化合物67が製造できる。化合物67をニトリル27へと変換する試薬としては、シアン化亜鉛、シアン化リチウム、シアン化ナトリウム、シアン化カリウムなどと、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム、パラジウムジアセテートなどの遷移金属触媒を用い、場合によってはヨウ化銅または、トリフェニルホスフィンや1,1‘−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセンなどのホスフィンリガンドを触媒量加えて反応を行う。用いる溶媒としては、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、プロピオンニトリル、アセトニトリル等が好ましい。反応温度は80℃から150℃の範囲が好ましい。また、シアン化銅と化合物67をジメチルホルムアミドやN−メチルピロリドンなどの溶媒中で140℃から200℃の範囲で反応させることによってもニトリル27が製造できる
製造方法36
Figure 0004535680
製造方法12で得られるカルボン酸23は、製造方法35で得られる化合物67をヒドラジンでインダゾール68とした後、アルキルリチウムでリチウムアリールとし、二酸化炭素と反応させることでも製造できる。
化合物67とヒドラジン・一水和物を用いてのインダゾール環の閉環は、製造方法12に準じて行うことにより、インダゾール68が製造できる。インダゾール68をリチウムアリールへと変換するアルキルリチウムとしては、例えばn−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム、フェニルリチウム等が用いられ、必要に応じてN,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン、ヘキサメチルフォスフォラミド等の添加剤を加えることができる。
得られたリチウムアリールと炭酸ガス、あるいはドライアイスを反応させることでカルボン酸23が製造できる。反応溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒や、その他ベンゼン、トルエン等が好ましい。反応温度は、−78℃ないし室温である。
製造方法37
Figure 0004535680
製造方法19で得られるアニリン43は、製造方法12で得られるカルボン酸23の1位を保護することにより化合物69とした後、Curtius転移によりカーバメート70とし、カーバメートを脱保護することによっても製造できる。
1位の保護基導入は製造方法15に準じて行うことにより、化合物69が製造できる。化合物69のCurtius転移は、例えばジフェニルフォスフォリルアジドとトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等のアミンを用いてイソシアネートとした後にアルコールと反応させるか、チオニルクロライド、オキザリルクロライド等で酸クロライドとし、リチウムアジド、ナトリウムアジド、カリウムアジド等を用いてイソシアネートとした後にアルコールと反応させることで達成される。用いるアルコールは、特に限定されるものではないが、ベンジルアルコールやtert−ブタノールなどが特に好ましい。溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えば、トルエン、ベンゼン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等があげられる。通常反応温度は室温から溶媒の還流温度である。カーバメート70の脱保護は、例えばtert−ブチルオキシカルボニル基の脱保護は、酸で容易に達成される。酸としては塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸等が用いられる。必要に応じて、チオフェノール、トリ−iso−プロピルシラン等のラジカルスカベンジャーを加えることができる。溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、アニソール等があげられる。また、ベンジルオキシカルボニル基の脱保護は、水素添加により容易に達成される。水素添加の試薬としては、特に限定されないが、例えばパラジウム−炭素、酸化白金、水酸化パラジウム−炭素等があげられる。水素の圧力は1ないし5気圧である。溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒や、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、その他酢酸エチル、アセトニトリル、トルエン、ジメチルホルムアミド等があげられる。反応温度は、通常室温ないし溶媒の還流温度である。
製造方法38
Figure 0004535680
製造方法19で得られるアニリン43は、製造方法36で得られる化合物68の1位を保護することにより化合物71とした後、Tをアミノ化することによっても製造できる。
化合物68の1位への保護基導入は、製造方法15に準じて行うことにより、化合物71が製造できる。化合物71のアミノ化に用いるパラジウム触媒としては、例えばトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム、パラジウムジアセテート等が用いられ、ホスフィンリガンドとしては、2,2‘−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ナフチル、1,1‘−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン、トリ(tert−ブチル)ホスフィン等が用いられ、塩基としては、ナトリウムtert−ブトキシド、カリウムtert−ブトキシド、炭酸セシウム等が用いられる。用いるアンモニア等価体としては、特に限定はされないが、ベンゾフェノンイミンが好ましい。得られたイミン体の加水分解に用いる酸は、特に限定はされないが、希塩酸、希硫酸等が用いられる。反応に用いる溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えば、トルエン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等が用いられる。通常反応温度は、室温から120℃である。
製造方法39
Figure 0004535680
化合物(I)−eは、製造方法19で得られる化合物40の1位を、樹脂に結合させて化合物72とした後、アリールボロン酸と鈴木カップリングさせて化合物73とし、還元してアニリン74とし、アミド化して化合物75とした後、酸による樹脂からの切り出しを行うことによっても製造できる。樹脂を用いた合成の利点としては、一度に多検体合成が可能であること、過剰の試薬を洗浄操作で除去できるため、各工程での精製操作が不要であることがあげられる。さらには樹脂自身が、保護基の役目を果たすことがあげられる。塩基存在下に、化合物40と樹脂を反応させることで72が得られる。塩基としては特に限定はされないが、例えばトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、4−N,N−ジメチルアミノピリジン、水素化ナトリウム、カリウム−tert−ブトキシド、炭酸カリウム等があげられる。溶媒としては、反応に関与しない溶媒で、かつ樹脂との親和性が確保できる溶媒であれば特に限定されないが、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒や、その他ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、酢酸エチル、アセトニトリル等があげられる。反応温度は、通常0℃ないし溶媒の還流温度である。化合物72の鈴木カップリングに用いるアリールボロン酸は、市販されているものは購入し、市販されていないものは製造方法3に従って容易に調製することができる。アリールボロン酸は過剰に使用する。触媒としては、例えば酢酸パラジウム(II)、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム(II)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(O)等があげられる。触媒の使用量は、アリールボロン酸に対して約5%モルである。必要に応じて、触媒の2倍モルのホスフィン配位子、例えばトリ−tert−ブチルホスフィン、2−(ジ−tert−ブチルフォスフィノ)ビフェニル、2−(ジシクロヘキシルフォスフィノ)ビフェニル、トリフェニルホスフィン等を加えることができる。使用する塩基としては、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、フッ化カリウム等が上げられる。使用する溶媒としては、反応に関与しない溶媒で、かつ樹脂との親和性が確保できる溶媒であれば特に限定されないが、例えばジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等があげられる。反応温度は、通常は室温ないし溶媒の還流温度である。化合物73のニトロ基を還元する方法としては、例えば塩化錫(II)還元、鉄−塩化アンモニウム還元等が用いられる。塩化錫(II)還元の溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等があげられる。反応温度は通常室温ないし溶媒の還流温度である。鉄−塩化アンモニウム還元の溶媒としては、含水メタノール、含水エタノール等のアルコール系溶媒が好ましい。鉄の使用量は、原料に対し3から10当量である。塩化アンモニウムの使用量は、原料に対し重量で10%〜20%である。反応温度は通常溶媒の還流温度である。アニリン74のアミド化は、縮合剤とカルボン酸を混合する事で達成される。縮合剤としては、例えばジシクロヘキシルカルボジイミド、ジイソプロピルカルボジイミド、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド・塩酸塩等があげられる。必要に応じて1−ヒドロキシベンゾトリアゾール、N−ヒドロキシスクシンイミド等を添加する事ができる。溶媒としては、反応に関与しない溶媒で、かつ樹脂との親和性が確保できる溶媒であれば特に限定されないが、例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、その他ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、酢酸エチル等が上げられる。反応温度は、通常室温ないし溶媒の還流温度である。化合物(I)−eの樹脂から切り出しは、酸で容易に達成される。酸としては塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸等が用いられる。必要に応じて、アニソール、チオフェノール、トリ−iso−プロピルシラン等のラジカルスカベンジャーを加えることができる。溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に限定されないが、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類が上げられる。反応温度は室温あるいは溶媒の還流温度である。
製造方法40
Figure 0004535680
化合物(I)−gは、製造方法39で得られるアニリン74をスルホンアミド76とした後、酸で樹脂からの切り出しを行うことによっても製造できる。アニリン74のスルホンアミド化は、塩基の存在下に塩化スルホニルと反応させることで達成される。塩基としては、特に限定されないが、トリエチルアミン、4−ジメチルアミノピリジン、炭酸カリウム、水素化ナトリウム等があげられる。塩基の使用量は塩化スルホニルに対して0.9〜1.1当量である。反応溶媒としては、反応に関与しない溶媒で、かつ樹脂との親和性が確保できる溶媒であれば特に限定されないが、例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、その他ジメチルスルホキシド、N−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、酢酸エチル、アセトニトリル等があげられる。テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒が好ましい。反応温度は通常0℃から室温である。樹脂からの切り出しを、製造方法39に準じて行うことで化合物(I)−gが製造できる。
なお、本発明化合物の製造における原料化合物は、塩や水和物を形成していてもよく、反応を阻害しないものであれば特に限定されるものではない。また、本発明に係る化合物(I)がフリー体として得られる場合、前記の化合物(I)が形成していてもよい塩の状態に常法に従って変換することができる。また、本発明に係る化合物(I)について得られる種々の異性体(例えば幾何異性体、不斉炭素に基づく光学異性体、立体異性体、互変異性体、等)は、通常の分離手段、例えば再結晶、ジアステレオマー塩法、酵素分割法、種々のクロマトグラフィー(例えば薄層クロマトグラフィー、カラムクロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー、等)を用いることにより精製し、単離することができる。
本願明細書における「塩」とは、本発明にかかる化合物と塩を形成し、且つ薬理学的に許容されるものであれば特に限定されないが、好ましくはハロゲン化水素酸塩(例えばフッ化水素酸塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩等)、無機酸塩(例えば硫酸塩、硝酸塩、過塩素酸塩、リン酸塩、炭酸塩、重炭酸塩等)有機カルボン酸塩(例えば酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、シュウ酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、フマル酸塩、クエン酸塩等)、有機スルホン酸塩(例えばメタンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、エタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩、カンファースルホン酸塩等)、アミノ酸塩(例えばアスパラギン酸塩、グルタミン酸塩等)、四級アミン塩、アルカリ金属塩(例えばナトリウム塩、カリウム塩等)、アルカリ土類金属塩(マグネシウム塩、カルシウム塩等)等があげられ、当該「薬理学的に許容できる塩」として、より好ましくは塩酸塩、シュウ酸塩、トリフルオロ酢酸塩、等である。
本発明にかかる前記式(I)で表わされる化合物もしくはその塩またはそれらの水和物は、慣用される方法により製剤化することが可能で、好ましい剤形としては錠剤、散剤、細粒剤、顆粒剤、被覆錠剤、カプセル剤、シロップ剤、トローチ剤、吸入剤、坐剤、注射剤、軟膏剤、眼軟膏剤、点眼剤、点鼻剤、点耳剤、パップ剤、ローション剤等があげられる。製剤化には、通常用いられる賦形剤、結合剤、崩壊剤、滑沢剤、着色剤、矯味矯臭剤や、および必要により安定化剤、乳化剤、吸収促進剤、界面活性剤、pH調整剤、防腐剤、抗酸化剤などを使用することができ、一般に医薬品製剤の原料として用いられる成分を配合して常法により製剤化可能である。これらの成分としては例えば(1)大豆油、牛脂、合成グリセライド等の動植物油;(2)流動パラフィン、スクワラン、固形パラフィン等の炭化水素;(3)ミリスチン酸オクチルドデシル、ミリスチン酸イソプロピル等のエステル油;(4)セトステアリルアルコール、ベヘニルアルコール等の高級アルコール;(5)シリコン樹脂;(6)シリコン油;(7)ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン硬化ひまし油、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマー等の界面活性剤;(8)ヒドロキシエチルセルロース、ポリアクリル酸、カルボキシビニルポリマー、ポリエチレングリコール、ポリビニルピロリドン、メチルセルロースなどの水溶性高分子;(9)エタノール、イソプロパノールなどの低級アルコール;(10)グリセリン、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ソルビトールなどの多価アルコール;(11)グルコース、ショ糖などの糖;(12)無水ケイ酸、ケイ酸アルミニウムマグネシウム、ケイ酸アルミニウムなどの無機粉体;(13)精製水などがあげられる。
1)賦形剤としては、例えば乳糖、コーンスターチ、白糖、ブドウ糖、マンニトール、ソルビット、結晶セルロース、二酸化ケイ素等;2)結合剤としては、例えばポリビニルアルコール、ポリビニルエーテル、メチルセルロース、エチルセルロース、アラビアゴム、トラガント、ゼラチン、シェラック、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポリビニルピロリドン、ポリプロピレングリコール・ポリオキシエチレン・ブロックポリマー、メグルミン、クエン酸カルシウム、デキストリン、ペクチン等;3)崩壊剤としては、例えば澱粉、寒天、ゼラチン末、結晶セルロース、炭酸カルシウム、炭酸水素ナトリウム、クエン酸カルシウム、デキストリン、ペクチン、カルボキシメチルセルロース・カルシウム等;4)滑沢剤としては、例えばステアリン酸マグネシウム、タルク、ポリエチレングリコール、シリカ、硬化植物油、等;5)着色剤としては医薬品に添加することが許可されているものであれば、いかなるものでもよく;6)矯味矯臭剤としては、ココア末、ハッカ脳、芳香散、ハッカ油、竜脳、桂皮末等;7)抗酸化剤としては、アスコルビン酸、α−トコフェロール、等、医薬品に添加することが許可されているものがそれぞれ用いられる。
1)経口製剤は、本発明にかかる化合物またはその塩に賦形剤、さらに必要に応じて結合剤、崩壊剤、滑沢剤、着色剤、矯味矯臭剤などを加えた後、常法により散剤、細粒剤、顆粒剤、錠剤、被覆錠剤、カプセル剤等とする。2)錠剤・顆粒剤の場合には、糖衣、ゼラチン衣、その他必要により適宜コーティングすることはもちろん差支えない。3)シロップ剤、注射用製剤、点眼剤、等の液剤の場合は、pH調整剤、溶解剤、等張化剤、等と、必要に応じて溶解補助剤、安定化剤、緩衝剤、懸濁化剤、抗酸化剤、等を加えて、常法により製剤化する。該液剤の場合、凍結乾燥物とすることも可能で、また、注射剤は静脈、皮下、筋肉内に投与することができる。懸濁化剤における好適な例としては、メチルセルロース、ポリソルベート80、ヒドロキシエチルセルロース、アラビアゴム、トラガント末、カルボキシメチルセルロースナトリウム、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、等;溶解補助剤における好適な例としては、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ポリソルベート80、ニコチン酸アミド、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート等;安定化剤における好適な例としては、亜硫酸ナトリウム、メタ亜硫酸ナトリウム、エーテル等;保存剤における好適な例としては、パラオキシ安息香酸メチル、パラオキシ安息香酸エチル、ソルビン酸、フェノール、クレゾール、クロロクレゾール等があげられる。また、4)外用剤の場合は、特に製法が限定されず、常法により製造することができる。使用する基剤原料としては、医薬品、医薬部外品、化粧品等に通常使用される各種原料を用いることが可能で、例えば動植物油、鉱物油、エステル油、ワックス類、高級アルコール類、脂肪酸類、シリコン油、界面活性剤、リン脂質類、アルコール類、多価アルコール類、水溶性高分子類、粘土鉱物類、精製水などの原料が挙げられ、必要に応じ、pH調整剤、抗酸化剤、キレート剤、防腐防黴剤、着色料、香料などを添加することができる。さらに、必要に応じて分化誘導作用を有する成分、血流促進剤、殺菌剤、消炎剤、細胞賦活剤、ビタミン類、アミノ酸、保湿剤、角質溶解剤、等の成分を配合することもできる。
本発明にかかる医薬の投与量は、症状の程度、年齢、性別、体重、投与形態・塩の種類、薬剤に対する感受性差、疾患の具体的な種類、等に応じて異なるが、通常、成人の場合は1日あたり経口投与で約30μgないし1000mg、好ましくは100μgないし500mg、さらに好ましくは100μgないし100mgを、注射投与で約1ないし3000μg/kg、好ましくは3ないし1000μg/kgを、それぞれ1回または数回に分けて投与する。
本発明により、新規なインダゾール化合物を提供することができた。本発明にかかる化合物(I)またはその塩は、c−Junアミノ末端リン酸化酵素(JNK)、特にJNK3に対して優れた阻害作用を有する。従って、本発明にかかる化合物(I)またはその塩ならびにこれらを含んでなる医薬組成物は、免疫性疾患、炎症性疾患および/または神経変性疾患の治療剤または予防剤として有用であり、特に急性神経変性疾患(例えば脳血管障害急性期、頭部外傷、脊髄損傷、低酸素による神経障害、低血糖による神経障害等)、慢性神経変性疾患(例えばアルツハイマー病、パーキンソン病、ハンチントン舞踏病、筋萎縮性側索硬化症、多発性硬化症、脊髄小脳変性症等)てんかん、肝性脳症、末梢神経障害、パーキンソン症候群、痙性麻痺、痛み、神経痛、感染性脳脊髄炎、脳血管性痴呆、髄膜炎による痴呆または神経症状等の治療剤または予防剤として有用である。
実施例
以下に示す製造例、実施例および試験例は例示的なものであって、本発明にかかる化合物は如何なる場合も以下の具体例に制限されるものではない。当業者は、以下に示す実施例のみならず本願明細書にかかる特許請求の範囲に様々な変更を加えて本発明を最大限に実施することができ、かかる変更は本願明細書にかかる特許請求の範囲に含まれるものである。
製造例I−1−a
4−フルオロ−3−[(3−フルオロフェニル)(ヒドロキシ)メチル]ベンゾニトリル
窒素雰囲気下、氷冷下にN,N−ジイソプロピルアミン11.1gのテトラヒドロフラン200ml溶液に1.56M n−ブチルリチウムのヘキサン溶液76.3mlを加え、同温で15分間撹拌した。−78℃に冷却後、4−フルオロベンゾニトリル12.1gのテトラヒドロフラン40ml溶液を滴下した。同温で45分間撹拌した後、3−フルオロベンズアルデヒド10.6mlを滴下した。同温で25分間撹拌後、飽和塩化アンモニウム水を加え、溶媒を留去した。残査に酢酸エチル150mlを加え、1規定塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:トルエン=3:97〜1:19)で精製分離し、得られた結晶をジイソプロピィルエーテル−ヘキサンより再結晶し、標記化合物12.7gを淡黄色針状晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 5.97(1H,d,J=4.4Hz),6.40(1H,d,J=4.4Hz),7.09(1H,td,J=8.4,2.8Hz),7.17(1H,d,J=8.0Hz),7.21(1H,d,J=10.0Hz),7.33−7.44(2H,m),7.86(1H,m),8.04(1H,dd,J=2.0,6.8Hz).
製造例I−1−b
3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボニトリル
4−フルオロ−3−[(3−フルオロフェニル)(ヒドロキシ)メチル]ベンゾニトリル12.5gの塩化メチレン200ml溶液に活性化二酸化マンガン43.8gを加え、室温で10時間、さらに35℃で9時間撹拌した後、二酸化マンガンをセライト濾去した。溶媒を留去した後、残査をテトラヒドロフラン25mlおよびメタノール25mlに溶解し、ヒドラジン一水和物12mlを加え室温で7時間撹拌した。反応液に水150mlを加え、氷冷後、析出した結晶を濾取した。結晶を減圧下に乾燥し、標記化合物11.6gを黄色結晶として得た。 H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 7.30(1H,td,J=8.0,2.8Hz),7.58(1H,td,J=8.0,6.4Hz),7.75(1H,dd,J=8.8,1.6Hz),7.79(1H,d,J=8.8Hz),7.83(1H,dd,J=10.4,2.8Hz),7.93(1H,d,J=8.0Hz),8.78(1H,s),13.88(1H,s).
製造例I−1−c
3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボン酸
3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボニトリル10.0gに氷酢酸50ml、水15ml、濃硫酸12mlを順次加え、110℃で6.5時間撹拌した。放冷後、反応液に氷水150mlを加え、析出した結晶を濾取した。得られた結晶を減圧下に乾燥し、標記化合物10.7gを肌色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 7.28(1H,dt,J=2.8,10.1Hz),7.61(1H,dt,J=6.2,8.2Hz),7.67(1H,d,J=8.8Hz),7.72(1H,ddd,J=1.5,2.8,10.1Hz),7.82(1H,d,J=8.2Hz),7.97(1H,d,J=8.8Hz),8.63(1H,s),12.80−12.95(1H,bs),13.67(1H,s)
製造例I−2−a
3−(3−フルオロフェニル)−1H−7−インダゾールカルボニトリル
製造例I−1a〜bの方法に準じて、2−フルオロベンゾニトリル2.42gから標記化合物637mgを黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 7.30(1H,td,J=8.0,2.4Hz),7.40(1H,t,J=8.0Hz),7.60(1H,td,J=8.0,6.8Hz),7.77(1H,d,J=10.0Hz),7.87(1H,d,J=8.0Hz),8.02(1H,d,J=8.0Hz),8.49(1H,d,J=8.0Hz),14.32(1H,s).
製造例I−2−b
3−(3−フルオロフェニル)−1H−7−インダゾールカルボン酸
製造例I−1−cの方法に準じて、3−(3−フルオロフェニル)−1H−7−インダゾールカルボニトリル593mgから標記化合物637mgを黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 7.28(1H,td,J=8.0,2.8Hz),7.36(1H,dd,J=7.2,8.0Hz),7.60(1H,td,J=8.0,6.8Hz),7.76(1H,dd,J=10.0,2.8Hz),7.87(1H,d,J=8.0Hz),8.05(1H,d,J=8.0Hz),8.39(1H,d,J=8.0Hz),13.40(1H,s),13.43(1H,s).
製造例I−3−a
3−フルオロ−2−(1,1,1−トリメチルシリル)ベンゾニトリル
窒素雰囲気下、−30℃下に、N,N−ジイソプロピルアミン5.57gのテトラヒドロフラン100ml溶液に1.59M n−ブチルリチウムのヘキサン溶液33mlを加え、同温で25分間撹拌した。−78℃に冷却後、3−フルオロベンゾニトリル6.06gのテトラヒドロフラン9ml溶液を滴下した。同温で1時間撹拌した後、クロロトリメチルシラン12.7mlを滴下した。同温で1時間撹拌後、飽和塩化アンモニウム水を加え、溶媒を留去した。残査に酢酸エチル130mlを加え、水、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。有機層をシリカパット濾過後、溶媒を減圧下留去し、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン)で精製分離し、標記化合物6.93gを淡青色油状物として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 0.48(9H,s),7.21(1H,ddd,J=1.2,8.4,9.2Hz),7.42(1H,ddd,J=5.6,7.6,8.4Hz),7.50(1H,dd,J=1.2,7.6Hz).
製造例I−3−b
3−フルオロ−4−[(3−フルオロフェニル)(ヒドロキシ)メチル]−2−(1,1,1−トリメチルシリル)ベンゾニトリル
窒素雰囲気下、氷冷下に2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1.61gのテトラヒドロフラン20ml溶液に1.56M n−ブチルリチウムのヘキサン溶液7.0mlを加え、同温で1時間撹拌した。−78℃に冷却後、3−フルオロ−2−(1,1,1−トリメチルシリル)ベンゾニトリル2.0gのテトラヒドロフラン5ml溶液を滴下した。同温で55分間撹拌した後、3−フルオロベンズアルデヒド1.10mlを滴下した。同温で1時間撹拌後、氷酢酸1.5mlを加え、室温に戻した。水40mlを加えた後、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を、1規定塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:9)で精製分離し、標記化合物1.35gを、高粘性の淡黄色油状物として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 0.40(9H,s),5.97(1H,d,J=4.0Hz),6.35(1H,d,J=4.0Hz),7.08(1H,td,J=8.0,2.8Hz),7.15(1H,d,J=8.0Hz),7.17(1H,dd,J=8.0,2.8Hz),7.37(1H,td,J=8.0,6.0Hz),7.72(1H,d,J=8.0Hz),7.76(1H,t,J=8.0Hz).
製造例I−3−c
3−(3−フルオロフェニル)−1H−6−インダゾールカルボニトリル
3−フルオロ−4−[(3−フルオロフェニル)(ハイドロキシ)メチル]−2−(1,1,1−トリメチルシリル)ベンゾニトリル1.35gの塩化メチレン30ml溶液に活性化二酸化マンガン4.5gを加え、室温で5日間撹拌した後、二酸化マンガンをセライト濾去した。溶媒を留去した後、残査をテトラヒドロフラン5mlおよびメタノール5mlに溶解し、ヒドラジン一水和物1.0mlを加え室温で1日間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を、水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、析出した結晶をジイソプロピルエーテルで懸化し、標記化合物62mgを淡黄色結晶として得た。母液を濃縮後、残査ををシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:トルエン=1:9)で精製分離し、標記化合物30mgを黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 7.29(1H,td,J=8.0,2.8Hz),7.54(1H,dd,J=8.4,1.2Hz),7.59(1H,td,J=8.0,6.4Hz),7.77(1H,dd,J=10.4,2.8Hz),7.86(1H,d,J=8.0Hz),8.26(1H,s),8.31(1H,d,J=8.4Hz),13.96(1H,s).
製造例I−3−d
3−(3−フルオロフェニル)−1H−6−インダゾールカルボン酸
3−(3−フルオロフェニル)−1H−6−インダゾールカルボニトリル92mgに氷酢酸1ml、水0.5ml、濃硫酸0.4mlを順次加え、110℃で6時間撹拌した。放冷後、反応液に酢酸エチル35mlを加え、水および飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、標記化合物94mgを山吹色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 7.27(1H,td,J=8.4,2.4Hz),7.59(1H,td,J=8.0,6.4Hz),7.74−7.81(2H,m),7.88(1H,d,J=8.0Hz),8.19(1H,s),8.65(1H,s),8.20(1H,d,J=9.6Hz),13.14(1H,s),13.71(1H,s).
製造例I−4−a
[5−(ジメトキシメチル)−2−フルオロフェニル](3−フルオロフェニル)メタノール
3−ブロモ−4−フルオロベンズアルデヒド21.6gをオルト蟻酸メチル50mlメタノール50mlの混合溶液に溶解し、p−トルエンスルホン酸1水和物0.2gを加え室温で1時間撹拌した。反応液に炭酸水素ナトリウム水溶液を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、3−ブロモ−4−フルオロベンズアルデヒドジメチルアセタール24.3gを無色油状物として得た。これを乾燥テトラヒドロフラン150mlに溶解し、窒素雰囲気下−78℃に冷却し、n−ブチルリチウム(2.5Mヘキサン溶液)59mlを加えた。30分撹拌後、3−フルオロベンズアルデヒド12.7mlを加え、室温に昇温した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え酢酸エチルで2回抽出し、有機層を水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:15)で精製分離し、標記化合物24.3gを淡黄色油状物として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 3.20(3H,s),3.31(3H,s),5.36(1H,s),5.93(1H,d,J=4.4Hz),6.19(1H,d,J=4.4Hz),7.00−7.07(1H,m),7.07−7.15(3H,m),7.25−7.30(1H,m),7.30−7.38(1H,m),7.56(1H,dd,J=2.8,7.4Hz)
製造例I−4−b
[5−(ジメトキシメチル)−2−フルオロフェニル](3−フルオロフェニル)メタノン
[5−(ジメトキシメチル)−2−フルオロフェニル](3−フルオロフェニル)メタノール24.3g、トリエチルアミン27.6mlをジクロロメタン80mlジメチルスルホキシド80mlの混合溶液に溶解し、氷冷下で三酸化硫黄・ピリジン錯体26.3gのジメチルスルホキシド30mlの懸濁液を加え室温で1時間撹拌した。反応液に水を加え酢酸エチルで2回抽出し、有機層を水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:15)で精製分離し、標記化合物18.7gを無色油状物として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 3.25(6H,s),5.45(1H,s),7.40(1H,dd,J=8.8,10.5Hz),7.51−7.63(5H,m),7.63−7.69(1H,m)
製造例I−4−c
標記化合物は以下に示す別法による合成も実施した。[5−(ジメトキシメチル)−2−フルオロフェニル](3−フルオロフェニル)メタノール2.0gをジクロロメタン20mlに溶解し、二酸化マンガン5gを加え室温で一昼夜撹拌した。反応液をセライトろ過し、溶媒を減圧下留去し2.0gの標記化合物を得た。
製造例I−4−d
メチル 4−フルオロ−3−(3−フルオロベンゾイル)ベンゾエート
[5−(ジメトキシメチル)−2−フルオロフェニル](3−フルオロフェニル)メタノン18.7gをテトラヒドロフラン100mlに溶解し、5N塩酸5mlを加え室温で1時間撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで2回抽出し、有機層を水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、4−フルオロ−3−(3−フルオロベンゾイル)ベンズアルデヒド15.8gを無色油状物として得た。この化合物13.8gをジメチルスルホキシド50mlに溶解し、氷冷下で亜塩素酸ナトリウム15.2gの50ml水溶液を1時間要して滴下した。反応液に希塩酸を加え酢酸エチルで2回抽出し、有機層を水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、ジイソプロピルエーテルで濾過し、4−フルオロ−3−(3−フルオロベンゾイル)安息香酸12.9gを無色固体として得た。この化合物11.1gをN,N−ジメチルホルムアミド50mlに溶解し、炭酸カリウム5.8g、沃化メチル2.9mlを加えて室温で12時間撹拌した。反応液に水を加え酢酸エチルで2回抽出し、有機層を水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:15)で精製分離し、標記化合物11.5gを無色油状物として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.93(3H,s),7.25(1H,t,J=9.2Hz),7.32(1H,ddt,J=1.2,2.7,8.0Hz),7.46(1H,dt,J=5.3,8.0Hz),7.50−7.59(2H,m),8.21−7.26(2H,m)
製造例I−4−e
メチル 3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキシレート
メチル 4−フルオロ−3−(3−フルオロベンゾイル)ベンゾエート11.5gをエタノール40mlに溶解し、ヒドラジン一水和物2.4mlを反応掖に加え、室温で12時間撹拌した。反応液に2N塩酸を加え酸性とした後、酢酸エチルで2回抽出し、有機層を水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、ヘキサン−ジイソプロピルエーテルから再結晶し、標記化合物7.0gを無色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.96(3H,s),7.16(1H,t,J=8.3Hz),7.48−7.55(2H,m),7.70(1H,d,J=10.0Hz),7.79(1H,d,J=8.8Hz),8.12(1H,d,J=8.8Hz),8.77(1H,s)
製造例I−4−f
3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボン酸
メチル 3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキシレート2.7gを製造例I−5−bに従い、標記化合物2.1gを無色粉末として得た。
H−NMRは、製造例I−1−cの化合物のそれと一致した。
製造例I−5−a
メチル 3−(2−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキシレート
製造例I−4−aで製造した3−ブロモ−4−フルオロベンズアルデヒドジメチルアセタール3.7gと2−フルオロベンズアルデヒド1.73mlを出発原料として、上述の製造例I−4−a、c〜eに従い標記化合物1.9gを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.95(3H,s),7.26−7.32(1H,m),7.32(1H,dt,J=1.7,7.4Hz),7.44−7.51(1H,m),7.53(1H,d,J=8.7Hz),7.82(1H,dt,J=1.7,7.4Hz),8.13(1H,dd,J=1.6,8.7Hz),8.64(1H,bs)
製造例I−5−b
3−(2−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボン酸
メチル 3−(2−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキシレート1.6gをメタノールーテトラヒドロフラン(1:1)混合溶媒15mlに溶解し、5N水酸化ナトリウム水溶液2mlを加え、70℃で6時間加熱した。反応液を室温に冷却し、反応液に希塩酸を加え酢酸エチルで2回抽出し、有機層を水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、標記化合物1.5gを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 7.38(1H,dt,J=1.2,7.5Hz),7.43(1H,ddd,J=1.2,8.3,10.9Hz),7.50−7.57(1H,m),7.66(1H,d,J=8.7Hz),7.80(1H,dd,J=1.9,7.5Hz),7.95(1H,dd,J=1.2,8.7Hz),8.39(1H,bs),13.71(1H,s)
製造例I−6−a
メチル 3−(2−ピリジル)−1H−5−インダゾールカルボキシレート
製造例I−4−aで製造した3−ブロモ−4−フルオロベンズアルデヒドジメチルアセタール3.7gと2−ピリジンカルボキサルデヒド1.6mlを出発原料として、上述の製造例I−4−a、c〜eに従い標記化合物1.0gを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.88(3H,s),7.31(1H,ddd,J=1.8,5.2,7.8Hz),7.54(1H,d,J=8.6Hz),7.82(1H,dt,J=1.8,7.8Hz),8.13(1H,dd,J=1.8,8.6Hz),8.19(1H,d,J=7.8Hz),8.81(1H,dd,J=1.8,5.2Hz),9.42(1H,d,J=1.8Hz)
製造例1−6−b
3−(2−ピリジル)−1H−5−インダゾールカルボン酸
メチル 3−(2−ピリジル)−1H−5−インダゾールカルボキシレート1.0gを製造例I−5−b従い、標記化合物0.8gを淡黄色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 7.39(1H,ddd,J=1.8,4.6,7.5Hz),7.64(1H,d,J=8.5Hz),7.91(1H,dt,J=1.8,7.5Hz),7.95(1H,dd,J=1.8,8.5Hz),8.18(1H,d,J=8.5Hz),8.77(1H,dd,J=1.8,4.6Hz),9.25(1H,s),13.63(1H,bs)
製造例I−7−a
メチル 3−(3−ピリジル)−1H−5−インダゾールカルボキシレート
製造例I−4−aで製造した3−ブロモ−4−フルオロベンズアルデヒドジメチルアセタール6.5gと3−ピリジンカルボキサルデヒド2.7mlを出発原料として、上述の製造例I−4−a、c〜eに従い標記化合物0.88gを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.96(3H,s),7.49(1H,dd,J=5.1,7.6Hz),7.57(1H,d,J=9.1Hz),8.15(1H,dd,J=1.0,9.1Hz),8.30(1H,dt,J=2.0,7.6Hz),8.71(1H,dd,J=2.0,5.1Hz),8.78(1H,d,J=1.0Hz),9.18(1H,d,J=2.0Hz)
製造例I−7−b
3−(3−ピリジル)−1H−5−インダゾールカルボン酸
メチル 3−(3−ピリジル)−1H−5−インダゾールカルボキシレート0.88gを製造例I−5−b従い、標記化合物0.66gを淡黄色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 7.58(1H,dd,J=5.2,8.0Hz),7.68(1H,d,J=8.8Hz),7.98(1H,dd,J=1.5,8.8Hz),8.34(1H,d,J=1.9,8.0Hz),8.62(1H,s),8.64(1H,dd,J=1.9,5.2Hz),9.15(1H,d,J=1.9Hz),12.80−12.95(1H,bs),13.73(1H,s)
製造例I−8−a
メチル 3−(2−メトキシフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキシレート
製造例I−4−aで製造した3−ブロモ−4−フルオロベンズアルデヒドジメチルアセタール3.7gとo−アニスアルデヒド2.0mlを出発原料として、上述の製造例I−4−a、c〜eに従い標記化合物2.2gを無色油状物として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.89(3H,s),3.93(3H,s),7.11(1H,d,J=8.3Hz),7.13(1H,t,J=7.5Hz),7.47(1H,dt,J=1.7,8.7Hz),7.50(1H,d,J=8.3Hz),7.68(1H,dd,J=1.7,7.5Hz),8.07(1H,dd,J=1.7,8.7Hz),8.58(1H,s)
製造例I−8−b
3−(2−メトキシフェニル)−1H−5−インダゾールカルボン酸
メチル 3−(2−メトキシフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキシレート2.2gを製造例I−5−bに従い、標記化合物2.1gを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 3.79(3H,s),7.07(1H,dt,J=1.2,7.1Hz),7.20(1H,d,J=7.4Hz),7.46(1H,ddd,J=1.9,7.1,9.1Hz),7.53(1H,d,J=1.9,7.4Hz),7.58(1H,dd,J=1.2,9.1Hz),7.90(1H,dd,J=1.6,9.1Hz),8.29(1H,s),13.35−13.50(1H,bs)
製造例I−9−a
メチル 3−(2−キノリル)−1H−5−インダゾールカルボキシレート
製造例I−4−aで製造した3−ブロモ−4−フルオロベンズアルデヒドジメチルアセタール3.7gと2−キノリンカルボキサルデヒド2.4gを出発原料として、上述の製造例I−4−a、c〜eに従い標記化合物1.3gを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 4.03(3H,s),7.57(1H,d,J=8.2Hz),7.59(1H,dd,J=1.8,8.2Hz),7.78(1H,dt,J=1.8,8.2Hz),7.86(1H,d,J=8.2Hz),8.17(1H,dd,J=1.8,8.2Hz),8.27(1H,d,J=8.2Hz),8.33(1H,d,J=8.2Hz),8.35(1H,d,J=8.2Hz),9.62(1H,s)
製造例I−9−b
3−(2−キノリル)−1H−5−インダゾールカルボン酸
メチル 3−(2−キノリル)−1H−5−インダゾールカルボキシレート1.3gを製造例1−5−bに従い、標記化合物1.1gを淡黄色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 7.62(1H,ddd,J=0.9,6.9,8.0Hz),7.69(1H,dd,J=0.9,8.7Hz),7.82(1H,ddd,J=1.5,6.9,8.0Hz),8.00(1H,dd,J=1.8,8.7Hz),8.01(1H,d,J=8.0Hz),8.11(1H,d,J=8.0Hz),8.35(1H,d,J=8.0Hz),8.46(1H,d,J=8.7Hz),9.53(1H,s),13.80(1H,s)
製造例I−10−a
メチル 3−(3−キノリル)−1H−5−インダゾールカルボキシレート
製造例1−4−aで製造した3−ブロモ−4−フルオロベンズアルデヒドジメチルアセタール4.98gと3−キノリンカルボキサルデヒド3.14gを出発原料として、上述の製造例I−4−a、c〜eに従い標記化合物2.1gを淡黄色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 3.90(3H,s),7.68(1H,t,J=7.6Hz),7.74(1H,d,J=8.7Hz),7.81(1H,t,J=7.6Hz),8.02(1H,dd,J=1.6,8.7Hz),8.08(1H,d,J=7.6Hz),8.22(1H,d,J=7.6Hz),8.80(1H,s),8.94(1H,d,J=2.3Hz),9.50(1H,d,J=2.3Hz)
製造例I−10−b
3−(3−キノリル)−1H−5−インダゾールカルボン酸
メチル 3−(3−キノリル)−1H−5−インダゾールカルボキシレート2.1gを製造例I−5−bに従い、標記化合物1.9gを淡黄色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 7.65(1H,t,J=7.6Hz),7.68(1H,d,J=8.7Hz),7.80(1H,t,J=7.6Hz),8.02(1H,dd,J=1.4,8.7Hz),8.22(1H,d,J=7.6Hz),8.22(1H,d,J=7.6Hz),8.77(1H,s),8.93(1H,d,J=2.3Hz),9.51(1H,d,J=2.3Hz),13.75−13.85(1H,bs)
製造例I−11−a
メチル 3−(4−キノリル)−1H−5−インダゾールカルボキシレート
製造例I−4−aで製造した3−ブロモ−4−フルオロベンズアルデヒドジメチルアセタール4.98gと4−キノリンカルボキサルデヒド3.14gを出発原料として、上述の製造例I−4−a、c〜eに従い標記化合物2.00gを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 3.83(3H,s),7.64(1H,t,J=7.6Hz),7.80(1H,d,J=9.2Hz),7.83(1H,t,J=7.6Hz),7.83(1H,d,J=4.3Hz),8.03(1H,dd,J=1.2,9.2Hz),8.14(1H,d,J=7.6Hz),8.38(1H,d,J=1.2Hz),8.39(1H,d,J=7.6Hz),9.07(1H,d,J=4.3Hz)
製造例I−11−b
3−(4−キノリル)−1H−5−インダゾールカルボン酸
メチル 3−(4−キノリル)−1H−5−インダゾールカルボキシレート2.0gを製造例I−5−bに従い、標記化合物1.8gを淡黄色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 7.65(1H,t,J=7.5Hz),7.77(1H,d,J=8.7Hz),7.84(1H,t,J=7.5Hz),7.85(1H,d,J=4.4,Hz),8.02(1H,dd,J=1.4,8.7Hz),8.14(1H,d,J=7.6Hz),8.37(1H,s),8.43(1H,d,J=7.6Hz),9.08(1H,d,J=4.4Hz),14.00(1H,s)
製造例I−12−a
メチル 3−(2−ナフチル)−1H−5−インダゾールカルボキシレート
製造例I−4−aで製造した3−ブロモ−4−フルオロベンズアルデヒドジメチルアセタール7.50gと2−ナフチルアルデヒド5.20gを出発原料として、上述の製造例I−4−a、c〜eに従い標記化合物5.70gを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 3.88(3H,s),7.53−7.60(2H,m),7.71(1H,dd,J=0.9,8.8Hz),7.96−7.99(1H,m),8.00(1H,dd,J=1.3,8.8Hz),8.08(1H,d,J=8.8Hz),8.10−8.13(m,1H),8.12(1H,dd,J=1.8,8.8Hz),8.51(bs,1H),8.78(1H,dd,J=0.9,1.3Hz)
製造例I−12−b
3−(2−ナフチル)−1H−5−インダゾールカルボン酸
メチル 3−(2−ナフチル)−1H−インダゾール−5−カルボキシレート1.0gを製造例I−5−bにの方法に従い、標記化合物0.9gを白色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 7.34−7.62(2H,m),7.70(1H,d,J=8.8Hz),7.96−8.04(2H,m),8.10(1H,d,J=8.8Hz),8.12−8.18(2H,m),8.55(1H,s),8.79(1H,s),12.92(1H,s),13.66(1H,s).
製造例I−13−a
5−(ジメトキシメチル)−2−フルオロベンズアルデヒド
製造例I−4−aで製造した3−ブロモ−4−フルオロベンズアルデヒドジメチルアセタール2.49gを乾燥テトラヒドロフラン20mlに溶解し、窒素雰囲気下−78℃に冷却し、n−ブチルリチウム(1.56Mヘキサン溶液)8.5mlを加えた。30分撹拌後、N,N−ジメチルホルムアミド1.0mlを加え、室温に昇温した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え酢酸エチルで2回抽出し、有機層を水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:12.5)で精製分離し、標記化合物1.35gを無色油状物として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 3.24(6H,s),5.45(1H,s),7.42(1H,dd,J=9.0,10.0Hz),7.68,7.75(1H,m),7.82(1H,dd,J=2.0,7.0Hz),10.21(1H,s)
製造例I−13−b
1,3−ベンゾチアゾール−2−イル[5−(ジメトキシメチル)−2−フルオロフェニル]メタノール
ベンゾチアゾール1.08gを乾燥テトラヒドロフラン15mlに溶解し、窒素雰囲気下−78℃に冷却し、n−ブチルリチウム(1.56Mヘキサン溶液)6.4mlを加えた。5分撹拌後、5−(ジメトキシメチル)−2−フルオロベンズアルデヒド1.35gの乾燥テトラヒドロフラン溶液8mlを反応液に加え10分撹拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え酢酸エチルで2回抽出し、有機層を水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=3:7)で精製分離し、標記化合物1.8gを黄色油状物として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 3.20(6H,s),5.35(1H,s),6.25(1H,s),7.11−7.16(1H,bs),7.21(1H,dd,J=8.2,9.7Hz),7.32−7.37(1H,m),7.39(1H,t,J=7.7Hz),7.45(1H,t,J=7.7Hz),7.55(1H,d,J=2.6,6.7Hz),7.88(1H,d,J=7.7Hz),8.08(1H,d,J=7.7Hz)
製造例I−13−c
メチル 3−(1,3−ベンゾチアゾール−2−イル)−1H−5−インダゾールカルボキシレート
1,3−ベンゾチアゾール−2−イル[5−(ジメトキシメチル)−2−フルオロフェニル]メタノール1.8gを出発原料として、上述の製造例I−4−c〜eに従い標記化合物1.05gを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 4.02(3H,s),7.45(1H,ddd,J=1.1,7.2,8.4Hz),7.55(1H,ddd,J=1.1,7.2,8.4Hz),7.59(1H,dd,J=0.9,8.9Hz),7.97(1H,ddd,J=0.7,1.1,8.1Hz),8.20(1H,dd,J=1.4,8.9Hz),8.23(1H,ddd,J=0.7,1.1,8.1Hz),9.41(1H,dd,J=0.9,1.4Hz),10.36.10.48(1H,bs)
製造例I−13−d
3−(1,3−ベンゾチアゾール−2−イル)−1H−5−インダゾールカルボン酸
メチル 3−(1,3−ベンゾチアゾール−2−イル)−1H−5−インダゾールカルボキシレート1.2gを製造例I−5−bに従い、標記化合物0.95gを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 7.39(1H,t,J=7.2Hz),7.57(1H,t,J=7.2Hz),7.75(1H,dd,J=0.8,8.6Hz),8.04(1H,dd,J=1.8,8.6Hz),8.16(1H,d,J=7.2Hz),8.19(1H,d,J=7.2Hz),9.14(1H,dd,J=0.8,1.8Hz),12.80−13.20(1H,bs),14.07(1H,s)
製造例I−14−a
3−ブロモ−1H−5−インダゾールカルボニトリル
室温下、化合物1H−5−インダゾールカルボニトリル300mg[4−フルオロベンゾニトリルから文献に従い合成、Tetrahedron Lett.,33,7499(1992)およびSynthetic commun.,27,1199(1997)]のジメチルホルムアミド3ml溶液に、N−ブロモスクシンイミド392mgを加え、同温で1日間撹拌した。溶媒を留去後、残査に酢酸エチル25mlを加え、半飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、標記化合物440mgを淡赤色色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 7.59(1H,dd,J=8.4,0.8Hz),7.67(1H,dd,J=8.4,1.6Hz),8.07(1H,dd,J=1.6,0.8Hz).
製造例I−14−b
tert−ブチル 3−ブロモ−5−シアノ−1H−1−インダゾールカルボキシレート
室温下、3−ブロモ−1H−5−インダゾールカルボニトリル6.25gのテトラヒドロフラン100ml溶液に、二炭酸 ジ−tert−ブチル6.76gおよび4−(ジメチルアミノ)ピリジン516mgを加え、同温で一晩撹拌した。溶媒を留去後、残査に酢酸エチル220mlを加え、希塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、標記化合物8.69gを淡赤色色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 1.73(9H,s),7.80(1H,dd,J=8.8,1.6Hz),8.03(1H,d,J=1.6Hz),8.30(1H,d,J=8.8Hz).
製造例I−14−c
3−(4−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボニトリル
tert−ブチル 3−ブロモ−5−シアノ−1H−1−インダゾールカルボキシレート2.0gのテトラヒドロフラン30ml溶液にパラジウム(II)アセテート70mg、2−(ジシクロヘキシルフォスフィノ)ビフェニル218mg、フッ化カリウム1.19g、4−フルオロフェニルボロン酸1.30gを加え、50℃で一日間撹拌した。溶媒を留去後、残査に酢酸エチル40mlを加え、水、飽和食塩水で順次洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下に留去した。残査を塩化メチレン25mlに溶解し、トリフルオロ酢酸5mlを加え、室温で1時間撹拌した。溶媒を留去後、残査に酢酸エチル40mlを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:トルエン=1:19−1:9)で精製分離し、標記化合物1.09gを、山吹色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 7.36(2H,t,J=8.8Hz),7.74(1H,dd,J=8.8,1.2Hz),7.76(1H,dd,J=8.8,1.2Hz),8.10(2H,dd,J=8.8,5.6Hz),8.71(1H,s),13.78(1H,s).
製造例I−14−d
3−(4−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボン酸
3−(4−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボニトリル1.0gに水5ml、濃硫酸4ml、氷酢酸4mlを加え、3時間加熱還流した。放冷後、反応液に氷冷水25mlを加え、析出した結晶を濾取した。濾取した結晶を酢酸エチル250ml溶解し、水および飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。有機層をシリカゲルパットを通過させた後、溶媒を減圧下に留去し、標記化合物968mgを山吹色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 7.41(2H,t,J=8.8Hz),7.66(1H,d,J=8.8Hz),7.95−8.09(3H,m),8.63(1H,s),12.91(1H,s),13.58(1H,s).
製造例I−15−a
3−(3−クロロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボニトリル
製造例I−14−cの方法に準じ、製造例I−14−bで製造したtert−ブチル 3−ブロモ−5−シアノ−1H−1−インダゾールカルボキシレート2.0gと、3−クロロフェニルボロン酸1.46gから、標記化合物137mgを白色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 7.46(1H,dt,J=8.0,1.6Hz),7.51(1H,d,J=8.4Hz),7.64(1H,t,J=8.0Hz),7.67(1H,dd,J=8.4,1.2Hz),7.81(1H,dt,J=8.0,1.6Hz),7.93(1H,t,J=1.6Hz),8.40(1H,d,J=1.2Hz).
製造例I−15−b
3−(3−クロロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボン酸
製造例I−14−dの方法に準じて、3−(3−クロロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボニトリル135mgから、標記化合物115mgを肌色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 7.53(1H,dd,J=8.0,1.6Hz),7.62(1H,td,J=8.0,1.6Hz),7.69(1H,d,J=8.0Hz),7.93−8.05(3H,m),8.63(1H,s),12.90(1H,s),13.71(1H,s).
製造例I−16−a
3−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]−1H−5−インダゾールカルボニトリル
製造例I−14−cの方法に準じ、製造例I−14−bで製造したtert−ブチル 3−ブロモ−5−シアノ−1H−1−インダゾールカルボキシレート500mgと、3−トリフルオロメチルフェニルボロン酸442mgから、標記化合物58mgを白色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 7.63−7.76(4H,m),8.11(1H,d,J=7.6Hz),8.21(1H,s),8.40(1H,s).
製造例I−16−b
3−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]−1H−5−インダゾールカルボン酸
製造例I−14−dの方法に準じて、3−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]−1H−5−インダゾールカルボニトリル57mgから、標記化合物54mgを肌色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 7.71(1H,d,J=8.4Hz),7.83(2H,m),8.01(1H,d,J=8.8Hz),8.24(1H,s),8.32(1H,m),8.66(1H,s),12.96(1H,s),13.77(1H,s).
製造例I−17−a
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−1H−5−インダゾールカルボニトリル
製造例I−14−bで製造したtert−ブチル 3−ブロモ−5−シアノ−1H−1−インダゾールカルボキシレート600mgのテトラヒドロフラン9ml溶液に、パラジウム(II)アセテート21mg、2−(ジ−tert−ブチルフォスフィノ)ビフェニル57mg、フッ化カリウム357mg、2−ベンゾ[b]チオフェンボロン酸498mgを加え、50℃で1時間撹拌した。溶媒を留去後、残査を塩化メチレン2mlに溶解し、トリフルオロ酢酸4mlを加え、室温で1日間撹拌した。溶媒を留去後、残査に酢酸エチル50mlを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:トルエン=1:19)で精製分離し、標記化合物294mgを、山吹色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 7.41(2H,t,J=7.8Hz),7.44(2H,t,J=7.8Hz),7.80(2H,s),7.91(1H,d,J=8.0Hz),8.01(1H,d,J=8.0Hz),8.41(1H,s),8.99(1H,s),13.88(1H,s).
製造例I−17−b
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−1H−5−インダゾールカルボン酸
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−1H−5−インダゾールカルボニトリル288mgに氷酢酸3ml、水1ml、濃硫酸0.8mlを加え110℃で4時間撹拌した。放冷後、酢酸エチル120mlを加え、水および飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。有機層をシリカゲルパットを通過させた後、溶媒を減圧下に留去し、標記化合物307mgを黄土色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 7.36−7.48(2H,m),7.71(1H,d,J=8.8Hz),7.99−8.07(3H,m),8.17(1H,s),8.83(1H,s),13.72(1H,s).
製造例I−18−a
3−(3−メトキシフェニル)−1H−5−インダゾールカルボニトリル
製造例I−17−aの方法に準じ、製造例I−14−bで製造したtert−ブチル 3−ブロモ−5−シアノ−1H−1−インダゾールカルボキシレート200mgと、3−メトキシフェニルボロン酸142mgから、標記化合物66mgを山吹色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 3.87(3H,s),7.03(1H,dd,J=8.0,2.4Hz),7.46(1H,t,J=8.0Hz),7.51(1H,s),7.62(1H,d,J=8.0Hz),7.73(1H,d,J=8.8Hz),7.77(1H,d,J=8.8Hz),8.67(1H,s),13.76(1H,s).
製造例I−18−b
3−(3−メトキシフェニル)−1H−5−インダゾールカルボン酸
製造例I−17−bの方法に準じて、3−(3−メトキシフェニル)−1H−5−インダゾールカルボニトリル65mgから、標記化合物14mgを橙色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 3.86(3H,s),7.04(1H,dd,J=8.4,2.4Hz),7.50(1H,t,J=8.0Hz),7.54(1H,s),7.61(1H,d,J=8.0Hz),7.66(1H,d,J=8.0Hz),7.93(1H,d,J=8.4Hz),8.60(1H,s),12.85(1H,s),13.44(1H,s).
製造例I−19−a
3−ベンゾ[b]チオフェン−3−イル−1H−5−インダゾールカルボニトリル
製造例I−17−aの方法に準じ、製造例I−14−bで製造したtert−ブチル 3−ブロモ−5−シアノ−1H−1−インダゾールカルボキシレート500mgと、3−ベンゾ[b]チオフェンボロン酸415mgから、標記化合物303mgを淡褐色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 7.45−7.55(2H,m),7.77(1H,d,J=8.8Hz),7.82(1H,d,J=8.8Hz),8.11(1H,d,J=7.2Hz),8.60(1H,s),8.70(1H,d,J=7.2Hz),8.77(1H,s),13.85(1H,s).
製造例I−19−b
3−ベンゾ[b]チオフェン−3−イル−1H−5−インダゾールカルボン酸
製造例I−17−bの方法に準じ、3−ベンゾ[b]チオフェン−3−イル−1H−5−インダゾールカルボニトリル300mgから、標記化合物301mgを赤色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 7.45−7.55(2H,m),7.71(1H,d,J=8.8Hz),8.01(1H,d,J=8.8Hz),8.11(1H,d,J=7.2Hz),8.40(1H,s),8.57(1H,d,J=7.2Hz),8.66(1H,s),12.89(1H,s),13.65(1H,s).
製造例I−20−a
3−(5−アセチル−2−チエニル)−1H−5−インダゾールカルボニトリル 製造例I−17−aの方法に準じて、製造例I−14−bで製造したtert−ブチル 3−ブロモ−5−シアノ−1H−1−インダゾールカルボキシレート500mgと、5−アセチル−2−チオフェンボロン酸528mgから、標記化合物94mgを緑色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 2.59(3H,s),7.78(1H,d,J=8.8Hz),7.81(1H,d,J=8.8Hz),8.03(1H,d,J=4.0Hz),8.08(1H,d,J=4.0Hz),8.87(1H,s),13.98(1H,s).
製造例I−20−b
3−(5−アセチル−2−チエニル)−1H−5−インダゾールカルボン酸
製造例I−17−bの方法に準じて、3−(5−アセチル−2−チエニル)−1H−5−インダゾールカルボニトリル94mgから、標記化合物85mgを黄土色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 2.59(3H,s),7.70(1H,d,J=8.8Hz),7.87(1H,d,J=3.6Hz),8.01(1H,d,J=8.8Hz),8.03(1H,d,J=3.6Hz),8.69(1H,s),13.00(1H,s),13.82(1H,s).
製造例I−21−a
1H−5−インダゾールカルボン酸
製造例I−14−aで用いた1H−5−インダゾールカルボニトリル867mgに、氷酢酸8ml、水2.5ml、濃硫酸2mlを加え110℃で10時間撹拌した。放冷後、水50mlを加え、析出した結晶を濾取後、減圧下に乾燥し、標記化合物911mgを白色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 7.59(1H,dd,J=0.8,8.8Hz),7.91(1H,dd,J=0.8,8.8Hz),8.24(1H,s),8.45(1H,s),13.36(1H,s).
製造例I−21−b
メチル 1H−5−インダゾールカルボキシレート
氷冷下、1H−5−インダゾールカルボン酸910mgのテトラヒドロフラン60ml溶液に、過剰のジアゾメタンのジエチルエーテル溶液を加え、同温で1時間撹拌した。溶媒を留去後、残査に酢酸エチル50mlを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、標記化合物923mgを淡黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 3.87(3H,s),7.62(1H,d,J=8.8Hz),7.92(1H,d,J=8.8Hz),8.26(1H,s),8.49(1H,s),13.42(1H,s).
製造例I−21−c
1−(tert−ブチル) 5−メチル 3−ブロモ−1H−1,5−インダゾールジカルボキシレート
製造例I−14−a、bの方法に準じて、メチル 1H−5−インダゾールカルボキシレート923mgから、標記化合物1.43gを白色結晶として得た。。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 3.92(3H,s),8.19−8.24(2H,m),8.26(1H,dd,J=1.2,8.8Hz).
製造例I−21−d
メチル 3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−1H−5−インダゾールカルボキシレート
製造例I−17−aの方法に準じ、1−(tert−ブチル) 5−メチル 3−ブロモ−1H−1,5−インダゾールジカルボキシレート700mgと、2−ベンゾ[b]フランボロン酸479mgから、標記化合物281mgを淡緑色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 3.93(3H,s),7.33(1H,t,J=7.6Hz),7.40(1H,t,J=8.0Hz),7.56(1H,s),7.72−7.80(3H,m),8.03(1H,dd,J=1.6,8.8Hz),8.86(1H,s),13.91(1H,s).
製造例I−21−e
3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−1H−5−インダゾールカルボン酸
メチル 3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−1H−5−インダゾールカルボキシレート275mgのメタノール3ml−テトラヒドロフラン3ml溶液に、5規定水酸化ナトリウム水溶液1.5mlを加え、室温で5日間かくはんした。溶媒を留去後、1規定塩酸9mlを加え、酢酸エチル200mlで抽出した。有機層を、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、標記化合物320mgを淡黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 7.32(1H,t,J=7.2Hz),7.39(1H,t,J=8.0Hz),7.54(1H,s),7.71(1H,d,J=8.8Hz),7.84−7.79(2H,m),8.02(1H,d,J=8.8Hz),8.85(1H,s),12.99(1H,s),13.85(1H,s).
製造例I−22−a
メチル 3−(3−アセチルフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキシレ ート
製造例I−17−aの方法に準じ、製造例I−21−cで製造した1−(tert−ブチル) 5−メチル 3−ブロモ−1H−1,5−インダゾールジカルボキシレート355mgと、3−アセチルフェニルボロン酸246mgから、標記化合物92mgを淡褐色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 2.69(3H,s),3.90(3H,s),7.73(1H,d,J=8.8Hz),7.75(1H,t,J=8.0Hz),8.01(1H,dd,J=1.2,8.8Hz),8.06(1H,dt,J=8.0,1.2Hz),8.25(1H,dt,J=8.0,1.2Hz),8.50(1H,t,J=1.2Hz),8.68(1H,d,J=1.2Hz),13.75(1H,s).
製造例I−22−b
3−(3−アセチルフェニル)−1H−5−インダゾールカルボン酸
製造例I−21−eの方法に準じて、メチル 3−(3−アセチルフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキシレート91mgから標記化合物83mgを黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 2.68(3H,s),7.70(1H,d,J=8.8Hz),7.74(1H,t,J=8.0Hz),7.99(1H,d,J=8.8Hz),8.06(1H,d,J=8.0Hz),8.25(1H,d,J=8.0Hz),8.50(1H,s),8.68(1H,s),12.93(1H,s),13.70(1H,s).
製造例I−23−a
3−フェニル−1H−5−インダゾールカルボニトリル
製造例I−14−bで製造したtert−ブチル 3−ブロモ−5−シアノ−1H−1−インダゾールカルボキシレート300mgのジメチルホルムアミド10ml溶液に、トリ−n−ブチル(フェニル)錫376mg、テトラキストリフェニルフォスフィンパラジウム(O)54mgを加え、150℃で45分間撹拌した。溶媒を留去し、残査を酢酸エチル1.5mlに溶解した後、シリカゲル1.5gに吸着させた。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:トルエン=3:97〜1:19)で精製分離し、得られた非結晶性粉末をジイソプロピルエーテルで結晶化し、標記化合物117mgを淡黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 7.46(1H,t,J=8.0Hz),7.55(2H,t,J=8.0Hz),7.73(1H,d,J=8.8Hz),7.77(1H,d,J=8.8Hz),8.05(2H,d,J=8.0Hz),8.71(1H,s),13.76(1H,s).
製造例I−23−b
3−フェニル−1H−5−インダゾールカルボン酸
製造例I−17−bの方法に準じて、3−フェニル−1H−5−インダゾールカルボニトリル116mgから、標記化合物110mgを淡赤色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 7.46(1H,t,J=8.0Hz),7.57(2H,t,J=8.0Hz),7.66(1H,d,J=8.8Hz),7.97(3H,d,J=8.0Hz),8.65(1H,s),12.10(1H,s),13.56(1H,s).
製造例I−24−a
tert−ブチル 3−(3−フルオロフェニル)−5−(ヒドロキシメチル)−1H−1−インダゾールカルボキシレート
氷冷下、実施例I−1−cで製造した3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボン酸10.66gのテトラヒドロフラン270ml溶液に、水素化リチウムアルミニウム2.96gを加え、同温で30分間撹拌した後、7時間加熱還流した。再び氷冷後、水素化リチウムアルミニウム0.99gを追加し、さらに2時間加熱還流した。反応液を氷冷し、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えた後、1規定塩酸200mlを加え、酢酸エチルで2回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。有機層をシリカゲルパットを通過させた後、溶媒を減圧下に留去した。得られた結晶を、テトラヒドロフラン70mlに溶解後、ジ−tert−ブチルジカーボネート7.9gおよび4−N,N−ジメチルアミノピリジン0.44gを加え、室温で1時間撹拌した。反応液に酢酸エチル250mlを加え、1規定塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去後、酢酸エチル−ジイソプロピルエーテルより再結晶し、標記化合物7.44gを白色針状晶として得た。母液を濃縮後、残査ををシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:トルエン=1:9)で精製分離し、標記化合物1.82gを黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 1.68(9H,s),4.68(2H,d,J=5.6Hz),5.38(1H,t,J=5.6Hz),7.41(1H,td,J=8.4,2.4Hz),7.60−7.70(2H,m),7.75(1H,d,J=9.2Hz),7.85(1H,d,J=8.0Hz),8.04(1H,s),8.12(1H,d,J=8.8Hz).
製造例I−24−b
tert−ブチル 5−(クロロメチル)−3−(3−フルオロフェニル)−1H−1−インダゾールカルボキシレート
氷冷下に、tert−ブチル 3−(3−フルオロフェニル)−5−(ハイドロキシメチル)−1H−1−インダゾールカルボキシレート3.0gの塩化メチレン30ml溶液に、トリエチルアミン1.6ml、塩化メタンスルフォニル0.78mlを加え、室温で1日間撹拌した。反応液に、酢酸エチル180mlを加えた後、水、1規定塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン)で精製分離し、標記化合物2.74gを黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 1.69(9H,s),4.99(2H,s),7.42(1H,td,J=8.0,2.4Hz),7.67(1H,td,J=8.0,6.4Hz),7.76(1H,d,J=8.8Hz),7.78(1H,d,J=8.0Hz),7.86(1H,d,J=8.0Hz),8.18(1H,d,J=8.8Hz),8.27(1H,s).
製造例I−24−c
2−[3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾリル]アセトニトリル
tert−ブチル 5−(クロロメチル)−3−(3−フルオロフェニル)−1H−1−インダゾールカルボキシレート1.0gのジメチルスルホキシド5ml溶液にシアン化ナトリウム204mgを加え、室温で50分間撹拌した。反応液に酢酸エチル50mlを加え、水で洗浄した後、水層をジエチルエーテルで再抽出した。合わせた有機層を、水(2回)、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:トルエン=1:9)で精製分離し、ジエチルエーテル−ジイソプロピルエテールで懸化し、標記化合物62mgを黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 4.16(2H,s),7.26(1H,td,J=8.4,2.4Hz),7.42(1H,d,J=8.8Hz),7.59(1H,td,J=8.0,6.4Hz),7.65(1H,d,J=8.8Hz),7.74(1H,d,J=10.4Hz),7.84(1H,d,J=8.0Hz),8.12(1H,s),13.46(1H,s).
製造例I−24−d
2−[3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾリル]酢酸
2−[3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾリル]アセトニトリル50mgを水0.5ml、濃硫酸0.4mlに懸濁し、95℃で2時間撹拌した。反応液に酢酸エチル20mlを加え、水(2回)、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、標記化合物48mgを淡赤色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 3.74(2H,s),7.24(1H,td,J=8.4,2.4Hz),7.32(1H,d,J=8.8Hz),7.52−7.62(2H,m),7.74(1H,d,J=10.4Hz),7.85(1H,d,J=8.0Hz),7.99(1H,s),12.31(1H,s),13.33(1H,s).
製造例I−25−a
tert−ブチル 3−(3−フルオロフェニル)−5−ホルミル−1H−1−インダゾールカルボキシレート
製造例I−24−aで製造したtert−ブチル 3−(3−フルオロフェニル)−5−(ヒドロキシメチル)−1H−1−インダゾールカルボキシレート1.7gを製造例I−4−bと同様な処理により酸化し、標記化合物1.5gを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 1.75(9H,s),7.22(1H,dt,J=2.5,10.0Hz),7.54(1H,dt,J=6.1,8.2Hz),7.73(1H,dd,J=2.5,10.0Hz),7.80(1H,d,J=10.0Hz),8.11(1H,dd,J=1.5,8.8Hz),8.36(1H,d,J=8.8Hz),8.48(1H,s),10.14(1H,s)
製造例I−25−b
エチル (E)−3−[3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾーリル]−2−プロペノエート
ジエチルホスホノ酢酸エチル0.11mlのN,N−ジメチルホルムアミド溶液5mlに、氷冷下で水素化ナトリウム(60%油性)20mgを加え15分撹拌した。反応液にtert−ブチル 3−(3−フルオロフェニル)−5−ホルミル−1H−1−インダゾールカルボキシレート150mgのN,N−ジメチルホルムアミド溶液1mlを加え、室温で30分撹拌した。反応液に水を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:10)で精製分離しtert−ブチル 5−[(E)−3−エトキシ−3−オキソ−1−プロペニル]−3−(3−フルオロフェニル)−1H−1−インダゾールカルボキシレート0.16gを無色油状物として得た。これをテトラヒドロフラン2mlに溶解し、5規定塩酸0.1mlを加え室温で1時間撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで2回抽出し、有機層を水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、標記化合物0.14gを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 1.25(3H,t,J=7.0Hz),4.18(2H,q,J=7.0Hz),6.77(1H,d,J=16.1Hz),7.24(1H,dt,J=2.4,8.0Hz),7.55(1H,dt,J=6.4,8.0Hz),7.60(1H,d,J=8.8Hz),7.79−7.84(1H,m),7.84(1H,d,J=8.8Hz),7.88(1H,d,J=16.1Hz),7.93(1H,d,J=8.0Hz),8.48(1H,s),13.50−13.60(1H,bs)
製造例I−25−c
(E)−3−[3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾリル]−2−プロペン酸
エチル (E)−3−[3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾリル]−2−プロペノエート0.16gのメタノール溶液に、5N水酸化ナトリウム水溶液1mlを反応液に加え室温で30分撹拌した。反応液に希塩酸を加え酸性とし、酢酸エチルで2回抽出し、有機層を水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去し、標記化合物90mgを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 6.56(1H,d,J=16.4Hz),7.24(1H,dt,J=2.2,8.2Hz),7.55(1H,dt,J=6.0,8.2Hz),7.60(1H,d,J=8.6Hz),7.79−7.83(1H,m),7.81(1H,d,J=8.8Hz),7.83(1H,d,J=16.4Hz),7.92(1H,d,J=8.0Hz),8.43(1H,s),12.15−12.35(1H,bs),13.52(1H,s)
製造例I−26−a
3−ブロモ−5−ニトロ−1H−インダゾール
5−ニトロ−1H−インダゾール12.4gの四塩化炭素溶液100mlにN−ブロモスクシンイミド16.2g、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.62gを加え、1時間加熱還流した。反応液を冷却し、得られた結晶をろ過しジエチルエーテルで洗浄し、標記化合物24.0gを淡黄色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 7.78(1H,dd,J=0.5,9.3Hz),8.25(1H,dd,J=2.1,9.3Hz),8.48(1H,dd,J=0.5,2.1Hz)
製造例I−26−b
tert−ブチル 3−ブロモ−5−ニトロ−1H−1−インダゾールカルボキシレート
3−ブロモ−5−ニトロ−1H−インダゾール24.0g、4−(ジメチルアミノ)ピリジン12.2gのテトラヒドロフラン溶液50mlに、室温で炭酸 ジ−tert−ブチル23mlを滴下した。室温で30分撹拌後、水を加え希塩酸で酸性とし、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:10)で精製分離し、標記化合物20.5gを無色針状結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 1.73(9H,s),8.32(1H,d,J=9.0Hz),8.46(1H,dd,J=2.3,9.0Hz),8.59(1H,d,J=2.3Hz)
製造例I−26−c
tert−ブチル 3−(3−フルオロフェニル)−5−ニトロ−1H−1−インダゾールカルボキシレート
tert−ブチル 3−ブロモ−5−ニトロ−1H−1−インダゾールカルボキシレート4.5gのN,N−ジメチルホルムアミド溶液20mlに3−フルオロフェニルボロン酸2.8g、2−(ジ−tert−ブチルホスフィノ)ビフェニル0.16g、酢酸パラジウム60mg、フッ化カリウム2.31gを加え、50℃で2日間加熱した。反応液に水を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:15)で精製分離後、ジイソプロピルエーテル−ヘキサンで再結晶し標記化合物2.2gを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 1.76(9H,s),7.22−7.28(1H,m),7.56(1H,dt,J=5.9,8.0Hz),7.72(1H,d,J=9.5Hz),7.77(1H,d,J=8.0Hz),8.38(1H,d,J=9.1Hz),8.46(1H,dd,J=2.0,9.1Hz),8.89(1H,d,J=2.0Hz)
製造例I−26−d
tert−ブチル 5−アミノ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−1−インダゾールカルボキシレート
tert−ブチル 3−(3−フルオロフェニル)−5−ニトロ−1H−1−インダゾールカルボキシレート180mgのテトラヒドロフラン溶液10mlにパラジウム(5%)炭素100mgを加え、水素雰囲気下、常圧室温で3時間撹拌した。反応液をセライトでろ過し、溶媒を減圧下留去し、標記化合物184mgを淡褐色油状物として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 1.73(9H,s),3.70−3.90(2H,bs),6.98(1H,dd,J=1.9,8.7Hz),7.14(1H,dt,J=1.9,8.1Hz),7.16(1H,d,J=1.9Hz),7.46(1H,dt,J=6.0,8.1Hz),7.67(1H,dt,J=1.9,9.7Hz),7.74(1H,d,J=8.1Hz),7.99(1H,d,J=8.7Hz)
製造例I−27−a
3−ブロモ−6−ニトロ−1H−インダゾール
室温下、6−ニトロ−1H−インダゾール5.0gのジメチルフォルムアミド50ml溶液に、N−ブロモスクシイミド5.73gを加え、同温で1時間撹拌した。溶媒を留去後、残査に酢酸エチル250mlを加え、半飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。有機層をシリカゲルパット濾過後、溶媒を減圧下に留去し、得られた結晶をトルエンで懸化し、標記化合物6.59gを淡褐色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 7.84(1H,d,J=8.8Hz),8.01(1H,dd,J=2.0,8.8Hz),8.50(1H,d,J=2.0Hz).
製造例I−27−b
3−(3−フルオロフェニル)−6−ニトロ−1H−インダゾール
3−ブロモ−6−ニトロ−1H−インダゾール1.0gのN−メチルピロリドン10ml溶液に(3−フルオロフェニル)トリ−n−ブチル錫2.0g、テトラキストリフェニルフォスフィンパラジウム(O)480mgを加え、180℃で2時間撹拌した。反応液に酢酸エチル60mlを加え、水(2回)、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:トルエン=1:49)で精製分離し、標記化合物302mgを橙色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 7.30(1H,td,J=8.8,2.8Hz),7.61(1H,td,J=8.8,6.4Hz),7.79(1H,dd,J=8.8,1.6Hz),7.89(1H,d,J=7.2Hz),8.02(1H,dd,J=8.8,2.0Hz),8.36(1H,d,J=8.8Hz),8.52(1H,d,J=2.0Hz),14.08(1H,s).
製造例I−27−c
3−(3−フルオロフェニル)−1H−6−インダゾールアミン
3−(3−フルオロフェニル)−6−ニトロ−1H−インダゾール300mgのメタノール5ml−酢酸エチル2.5ml溶液に20%水酸化パラジウム−炭素(50%含水品)60mgを加え、室温下に常圧で7.5時間水素添加した。反応液に酢酸エチル2.5mlを加えた後、触媒をセライト濾去した。溶媒を減圧下に留去し、粗生成物を酢酸エチル−ジイソプロピルエーテルで懸化し、標記化合物142mgを白色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 5.72(2H,s),6.60(1H,s),6.62(1H,d,J=8.8Hz),7.18(1H,td,J=8.4,2.4Hz),7.51(1H,td,J=8.0,6.4Hz),7.65(1H,d,J=10.8Hz),7.73(1H,d,J=8.8Hz),7.77(1H,d,J=7.6Hz),12.62(1H,s).
製造例I−28−a
3−(3−フルオロフェニル)−7−ニトロ−1H−インダゾール
製造例I−27−a,bの方法に準じて、7−ニトロ−1H−インダゾール1.13gを出発原料として、標記化合物64mgを紫色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 7.34(1H,td,J=8.4,2.4Hz),7.48(1H,t,J=8.0Hz),7.62(1H,q,J=7.6Hz),7.79(1H,dd,J=10.4,2.4Hz),7.88(1H,d,J=7.6Hz),8.44(1H,d,J=8.0Hz),8.64(1H,d,J=8.0Hz),14.20(1H,s).
製造例I−28−b
3−(3−フルオロフェニル)−1H−7−インダゾールアミン
製造例I−27−cの方法に準じて、3−(3−フルオロフェニル)−7−ニトロ−1H−インダゾール63mgを出発原料として、標記化合物57mgを紫色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 5.43(2H,s),6.53(1H,d,J=7.2Hz),6.96(1H,dd,J=7.2,8.4Hz),7.21(1H,td,J=8.4,2.8Hz),7.25(1H,d,J=8.4Hz),7.54(1H,q,J=7.6Hz),7.69(1H,d,J=10.4Hz),7.81(1H,d,J=8.0Hz),12.91(1H,s).
製造例I−29−a
tert−ブチル 3−(2−ブロモアセチル)−5−ニトロ−1H−1−インダゾールカルボキシレート
製造例I−26−bで製造したtert−ブチル 3−ブロモ−5−ニトロ−1H−1−インダゾールカルボキシレート3.0gのトルエン溶液20mlに、トリブチル(1−エトキシビニル)錫3.2mlおよびテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(O)620mgを加え、窒素雰囲気下100℃で6時間加熱した。反応液を室温に冷却し、減圧下溶媒を留去し、テトラヒドロフラン20mlを残渣に加え、N−ブロモスクシンイミド1.56gを加え室温で1時間撹拌した。反応液にチオ硫酸ナトリウム水溶液を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:7)で精製分離し標記化合物0.9gを無色針状結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 1.78(9H,s),4.80(2H,s),8.34(1H,dd,J=0.6,9.2Hz),8.47(1H,dd,J=2.3,9.2Hz),9.26(1H,dd,J=0.6,2.3Hz)
製造例I−29−b
tert−ブチル 3−(イミダゾ[1,2−a]ピリジン−2−イル)−5−ニトロ−1H−1−インダゾールカルボキシレート
tert−ブチル 3−(2−ブロモアセチル)−5−ニトロ−1H−1−インダゾールカルボキシレート0.88gのテトラヒドロフラン−メタノール(1:1)10mlに溶解し、2−アミノピリジン240mg、炭酸水素ナトリウム210mgを加え1時間加熱還流した。反応液に水を加え酢酸エチルで抽出し、水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去しシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:7)で精製分離し標記化合物0.38gを淡黄色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 1.69(9H,s),7.02(1H,t,J=6.6Hz),7.37(1H,t,J=6.6Hz),7.79(1H,d,J=7.5Hz),8.30(1H,d,J=7.5Hz),8.50(1H,dd,J=2.3,7.5Hz),8.65(1H,d,J=6.6Hz),8.71(1H,s),9.52(1H,d,J=2.3Hz)
製造例I−29−c
tert−ブチル 5−アミノ−3−イミダゾ[1,2−a]ピリジン−2−イル−1H−1−インダゾールカルボキシレート
tert−ブチル 3−イミダゾ[1,2−a]ピリジン−2−イル−5−ニトロ−1H−1−インダゾールカルボキシレート0.48gを製造例I−26−dと同様に処理し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:7)で精製分離し標記化合物0.11gを淡褐色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 1.74(9H,s),6.84(1H,t,J=6.7Hz),6.98(1H,dd,J=2.4,8.9Hz),7.22(1H,dd,J=6.7,8.9Hz),7.71(1H,d,J=8.9Hz),7.93(1H,d,J=8.9Hz),7.95(1H,d,J=2.4Hz),8.19(1H,d,J=6.7Hz),8.33(1H,s)
製造例I−30−a
tert−ブチル 5−(アジドメチル)−3−(3−フルオロフェニル)−1H−1−インダゾールカルボキシレート
製造例I−24−bで製造したtert−ブチル 5−(クロロメチル)−3−(3−フルオロフェニル)−1H−1−インダゾールカルボキシレート600mgのジメチルスルホキシド4ml溶液に、アジ化ナトリウム162mgを加え、室温で50分間撹拌した。反応液にジエチルエーテル25mlを加え、水(3回)、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、標記化合物571mgを淡黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 1.69(9H,s),4.66(2H,s),7.42(1H,td,J=8.0,2.8Hz),7.67(1H,td,J=8.0,6.0Hz),7.70(1H,d,J=8.4Hz),7.77(1H,d,J=10.0Hz),7.87(1H,d,J=8.0Hz),8.19(1H,d,J=8.0Hz),8.21(1H,s).
製造例I−30−b
tert−ブチル 5−(アミノメチル)−3−(3−フルオロフェニル)−1 H−1−インダゾールカルボキシレート
tert−ブチル 5−(アジドメチル)−3−(3−フルオロフェニル)−1H−1−インダゾールカルボキシレート550mgのエタノール10ml−テトラヒドロフラン5ml溶液に5%パラジウム−炭酸カルシウム110mgを加え、室温下に常圧で1.5時間水素添加した。触媒をセライト濾去した後、溶媒を減圧下に留去した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=1:0〜9:1)で精製分離し、標記化合物427mgを、淡緑色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 1.68(9H,s),1.99(2H,s),3.89(2H,s),7.40(1H,td,J=8.8,2.8Hz),7.64(1H,d,J=8.4Hz),7.65(1H,td,J=8.0,6.4Hz),7.78(1H,d,J=10.0Hz),7.87(1H,d,J=8.4Hz),8.07(1H,s),8.09(1H,d,J=8.8Hz).
製造例I−30−c
[3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾリル]メタナミン
tert−ブチル 5−(アミノメチル)−3−(3−フルオロフェニル)−1H−1−インダゾールカルボキシレート300mgの塩化メチレン1ml溶液に、トリフルオロ酢酸2mlを加え、室温で6.5時間撹拌した。溶媒を留去後、残査に酢酸エチル20mlを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水(2回)、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、標記化合物188mgを、黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 3.90(2H,s),7.24(1H,td,J=8.4,2.4Hz),7.40(1H,d,J=8.4Hz),7.55(1H,d,J=8.4Hz),7.57(1H,td,J=8.0,6.4Hz),7.76(1H,d,J=10.4Hz),7.87(1H,d,J=8.0Hz),8.05(1H,s),13.30(1H,s).
製造例I−31
tert−ブチル 3−(3−フルオロフェニル)−5−(ヨードメチル)−1H−1−インダゾールカルボキシレート
製造例I−24−bで製造したtert−ブチル 5−(クロロメチル)−3−(3−フルオロフェニル)−1H−1−インダゾールカルボキシレート500mgのアセトン2.5ml溶液に、沃化ナトリウム218mgを加え、室温で2時間撹拌した。析出した塩化ナトリウムをセライト濾去後、溶媒を減圧下に留去し、表記化合物638mgを山吹色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 1.68(9H,s),4.87(2H,s),7.42(1H,td,J=8.4,2.8Hz),7.67(1H,td,J=8.0,6.4Hz),7.70−7.78(2H,m),7.87(1H,d,J=8.4Hz),8.11(1H,d,J=8.8Hz),8.28(1H,s).
製造例I−32−a
メチル 3−(3−フルオロフェニル)−1−トリチル−1H−5−インダゾールカルボキシレート
製造例I−4−eで製造したメチル 3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキシレート2.43gのテトラヒドロフラン25ml溶液に、60%水素化ナトリウム(油性)720mgを加え、氷冷下に10分間撹拌後、クロロトリフェニルメタン3.26gを加え、同温で30分間、室温で1時間撹拌した。反応液を氷冷し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えた後、酢酸エチル100mlで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下に留去した。残査を酢酸エチル−ジイソプロピルエーテルから結晶化し、表記化合物3.48gを白色結晶として得た。さらに母液を濃縮後ジイソプロピルエーテルから結晶化し、表記化合物0.37gを白色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 3.85(3H,s),6.58(1H,d,J=8.8Hz),7.22(6H,d,J=6.8Hz),7.28−7.40(10H,m),7.58−7.64(2H,m),7.68(1H,dd,J=9.2,1.2Hz),7.74(1H,d,J=7.6Hz),8.62(1H,s).
製造例I−32−b
[3−(3−フルオロフェニル)−1−トリチル−1H−5−インダゾリル]メタノール
氷冷下、メチル 3−(3−フルオロフェニル)−1−トリチル−1H−5−インダゾールカルボキシレート3.85gのテトラヒドロフラン40ml溶液に、水素化リチウムアルミニウム535mgを加え、同温で5分間さらに室温で30分間撹拌した。反応液を氷冷し、飽和硫酸ナトリウム水溶液を加え、水酸化アルミニウムを沈殿させ、有機層をデカンテーションした。残査にテトラヒドロフラン20mlを加え撹拌し、有機層を再デカンテーションした(2回)。合わせた有機層から溶媒を減圧下に留去した。残査を酢酸エチル80mlに溶解後、水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、得られた粗結晶を、ジイソプロピルエーテルから再結晶し、表記化合物3.37gを白色針状晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 4.55(2H,d,J=6.0Hz),5.18(1H,t,J=6.0Hz),6.43(1H,d,J=8.8Hz),7.07(1H,d,J=8.8Hz),7.21(6H,d,J=6.8Hz),7.27−7.40(10H,m),7.52−7.62(2H,m),7.74(1H,d,J=7.6Hz),8.01(1H,s).
製造例I−32−c
5−(クロロメチル)−3−(3−フルオロフェニル)−1−トリチル−1H−インダゾール
氷冷下に、[3−(3−フルオロフェニル)−1−トリチル−1H−5−インダゾリル]メタノール1.21gの塩化メチレン12ml溶液に、トリエチルアミン0.45ml、塩化メタンスルフォニル0.23mlを加え、室温で1晩撹拌した。反応液に、酢酸エチル150mlを加えた後、水、飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、得られた粗結晶をジイソプロピルエーテルから再結晶し、表記化合物1.13gを白色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 4.87(2H,s),6.49(1H,d,J=8.8Hz),7.18(1H,d,J=8.8Hz),7.21(6H,d,J=6.8Hz),7.25−7.40(10H,m),7.56(1H,td,J=8.0,7.2Hz),7.62(1H,d,J=10.0Hz),7.75(1H,d,J=7.6Hz),8.24(1H,s).
製造例I−33
tert−ブチル 5−(ヒドロキシメチル)−3−(2−ナフチル)−1H−1−インダゾールカルボキシレート
製造例I−24−aに準じて、製造例I−12−aで製造したメチル 3−(2−ナフチル)−1H−5−インダゾールカルボキシレート4.1gを出発原料として、標記化合物3.7gを無色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 1.69(9H,s),4.69(2H,d,J=5.5Hz),5.37(1H,t,J=5.5Hz),7.61(1H,d,J=9.6Hz),7.61(1H,ddd,J=1.3,3.2,9.6Hz),7.64(1H,dd,J=1.6,8.5Hz),7.99−8.03(1H,m),8.08−8.12(1H,m),8.11(1H,d,J=1.6Hz),8.14(1H,d,J=8.5Hz),8.14−8.17(1H,m),8.17−8.19(1H,m),8.58(1H,bs)
製造例I−34
[3−(3−フルオロフェニル)−1−(メトキシメチル)−1H−5−インダゾリル]メタノール
製造例I−4−e得られたメチル 3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキシレート1.0gをN,N−ジメチルホルムアミド15mlに溶解し、氷冷下で水素化ナトリウム(60%油性)200mgを加え30分撹拌した。反応液にクロロメチルメチルエーテル0.4mlを加え室温で30分撹拌した。反応液に水を加え酢酸エチルで2回抽出し、有機層を水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:10)で精製分離し、メチル 3−(3−フルオロフェニル)−1−(メトキシメチル)−1H−5−インダゾールカルボキシレート0.95gを無色針状結晶として得た。この化合物をテトラヒドロフラン15mlに溶解し、水素化ジイソブチルアルミニウム8.0ml(トルエン溶液)を室温で滴下した。反応液を冷却しながら水を加え希塩酸で酸性とし酢酸エチルで2回抽出し、有機層を炭酸水素ナトリウム、水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、標記化合物0.78gを無色油状物として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.36(3H,s),4.85(2H,d,J=5.0Hz),5.76(2H,s),7.11(1H,dt,J=2.8,8.3Hz),7.48(1H,dt,J=6.5,8.3Hz),7.50(1H,d,J=8.9Hz),7.62(1H,d,J=8.9Hz),7.68(1H,d,J=10.9Hz),7.77(1H,d,J=8.9Hz),8.00(1H,s)
製造例I−35−a
3−ブロモ−1H−インダゾール
製造例I−14−aの方法に準じて、1H−インダゾール1.00gから、標記化合物1.58gを肌色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 7.23(1H,tt,J=8.0,1.2Hz),7.46(1H,tt,J=8.0,1.2Hz),7.58(1H,dd,J=8.0,1.2Hz).
製造例I−35−b
3−(3−フルオロフェニル)−1H−インダゾール
製造例I−27−bの方法に準じて、3−ブロモ−1H−インダゾール200mgから、標記化合物42mgを白色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 7.20−7.28(2H,m),7.43(1H,td,J=8.0,1.2Hz)7.57(1H,td,J=8.0,6.0Hz),7.61(1H,dd,J=8.0,0.8Hz),7.75(1H,ddd,J=10.4,2.8,1.2Hz),7.86(1H,ddd,J=8.0,1.2,1.2Hz),8.10(1H,dd,J=8.0,0.8Hz),13.37(1H,s).
製造例I−36−a
1−(2,2−ジエトキシエトキシ)−4−フルオロベンゼン
4−フルオロフェノール10.0gおよびブロモアセトアルデヒド ジエチルアセタール16.1mlのジメチルホルムアルデヒド100ml溶液に室温で炭酸カリウム18.5gを加え、120℃で2日間撹拌した。セライト濾過し、濾液を酢酸エチルで希釈した。有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:n−ヘキサン=0:10〜1:20)で精製分離し、標記化合物17.3gを無色油状物として得た。 H−NMR(400MHz,CDCl)δ 1.25(3H,t,J=7.2Hz),3.58−3.67(2H,m),3.71−3.80(2H,m),3.97(2H,d,J=5.2Hz),4.82(1H,t,J=5.2Hz),6.84−6.88(2H,m),6.93−6.99(2H,m)
製造例I−36−b
5−フルオロ[b]ベンゾフラン
1−(2,2−ジエトキシエトキシ)−4−フルオロベンゼン16.0gのn−ヘキサン50ml溶液に室温でamberlyst15 3.2gを加え、200℃で11時間封管した後、amberlyst15を濾去した。溶媒を減圧下留去し、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン)で精製分離し、標記化合物4.8gを無色油状物として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 6.74(1H,dd,J=1.2,2.4Hz),7.02(1H,dt,J=2.4,8.8Hz),7.25(1H,dd,J=2.4,8.8Hz),7.41−7.44(1H,m),7.65(1H,d,J=2.4Hz)
製造例I−36−c
5−フルオロ−2−ベンゾ[b]フランボロン酸
窒素雰囲気下、5−フルオロベンゾフラン2.0gのテトラヒドロフラン150ml溶液に−78℃で1.59M n−ブチルリチウムのn−ヘキサン溶液18.5mlを加え、同温で10分間、0℃で10分間撹拌した。−78℃でトリエトキシボラン3.7mlを加え、0℃まで昇温しながら2時間撹拌した。1規定塩酸30mlを加えて、室温で1時間撹拌した後、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:n−ヘキサン=1:3〜1:1)で精製分離し、標記化合物525mgを無色結晶物として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 7.09(1H,dt,J=2.4,8.8Hz),7.29(1H,dd,J=2.4,8.8Hz),7.33(1H,s),7.44(1H,dd,J=4.0,8.8Hz)
製造例I−36−d
3−ヨード−5−ニトロ−1H−インダゾール
5−ニトロインダゾール17.0gのジメチルホルムアミド100mlに室温でN−ヨードスクシイミド24.6gを加え、80℃で7時間撹拌した。放冷後、反応液に水150mlおよびジエチルエーテル200mlを加え、析出した結晶を濾取した。結晶を水、イソプロパノール、ジエチルエーテルで順次洗浄し、標記化合物27.5gを無色結晶物として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 7.74(1H,d,J=9.2Hz),8.23(1H,dd,J=2.4,9.2Hz),8.30(1H,d,J=2.4Hz),12.01(1H,brs)
製造例I−36−e
3−ヨード−5−ニトロ−1−トリチル−1H−インダゾール
窒素雰囲気下、3−ヨード−5−ニトロ−1H−インダゾール27.5gのテトラヒドロフラン300ml溶液に0℃で60%水素化ナトリウム6.1gを加えて、同温で10分間撹拌した。塩化トリチル39.8gを加え、室温で1時間撹拌した。水を加えて、酢酸エチルで希釈した。有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、得られた粗結晶をジエチルエーテルで洗浄し、標記化合物48.5gを無色結晶物として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 6.42(1H,d,J=9.2Hz),7.13−7.32(15H,m),7.89(1H,ddd,J=0.4,2.4,9.2Hz),8.44(1H,d,J=2.4Hz)
製造例I−36−f
3−(5−フルオロ[b]ベンゾフラン−2−イル)−5−ニトロ−1−トリチル−1H−インダゾール
製造例I−26−cの方法に準じて、3−ヨード−5−ニトロ−1−トリチル−1H−インダゾール500mgおよび5−フルオロ−2−ベンゾ[b]フランボロン酸178mgより、標記化合物255mgを淡黄色結晶物として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 6.49(1H,dd,J=0.8,9.2Hz),7.08(1H,dt,J=2.4,9.2Hz),7.15−7.36(17H,m),7.59(1H,dd,J=4.0,9.2Hz),7.90(1H,dd,J=2.4,9.2Hz),9.25(1H,dd,J=0.8,2.4Hz)
製造例I−36−g
3−(5−フルオロ[b]ベンゾフラン−2−イル)−1−トリチル−1H−インダゾール−5−イルアミン
製造例I−26−dの方法に準じて、3−(5−フルオロベンゾ[b]フラン−2−イル)−5−ニトロ−1−トリチル−1H−インダゾール250mgを出発原料として、標記化合物178mgを無色結晶物として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.67(2H,brs),6.25(1H,dd,J=0.8,9.2Hz),6.49(1H,dd,J=2.4,9.2Hz),6.97(1H,dt,J=2.4,9.2Hz),7.02(1H,d,J=0.8Hz),7.20(1H,dd,J=2.4,9.2Hz),7.20−7.31(15H,m),7.45(1H,d,J=2.4Hz),7.47(1H,dd,J=4.0,9.2Hz)
実施例I−1
N5−(3−ピリジルメチル)−3−(4−フルオロフェニル)−1H−5−イ ンダゾールカルボキサミド
製造例I−14で製造した3−(4−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボン酸150mgのジメチルホルムアミド2.5ml溶液に、3−ピコリルアミン70mgのジメチルホルムアミド0.5ml溶液および1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド・塩酸塩(=WSC・HCl)124mgを加え、室温で4日間撹拌した。溶媒を留去後、残査を酢酸エチル25mlに溶解し、水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去後、得られた粗結晶を酢酸エチル−ジイソプロピルエーテルより再結晶し、標記化合物109mgを淡黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D6)δ 4.55(1H,d,J=5.6Hz),7.34−7.44(3H,m),7.65(1H,d,J=8.8Hz),7.75(1H,d,J=7.2Hz),7.96(1H,d,J=8.8Hz),8.07(2H,dd,J=5.6,8.8Hz),8.46(1H,d,J=8.0Hz),8.58(1H,s),8.61(1H,s),9.23(1H,t,J=5.6Hz),13.49(1H,s).
実施例I−2
N5−(3−ピリジルメチル)−3−(3−クロロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
実施例I−1に準じ、製造例I−15で製造した3−(3−クロロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボン酸60mgと、3−ピコリルアミン35mgから、標記化合物36mgを白色針状晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 4.56(1H,d,J=5.6Hz),7.36(1H,dd,J=4.8,8.0Hz),7.51(1H,d,J=8.0Hz),7.61(1H,t,J=8.0Hz),7.66(1H,d,J=8.8Hz),7.76(1H,d,J=8.0Hz),7.97(1H,d,J=8.0Hz),8.02(1H,s),8.03(1H,d,J=8.8Hz),8.46(1H,dd,J=1.6,4.8Hz),8.59(1H,dJ=1.6Hz),8.62(1H,s),9.26(1H,t,J=5.6Hz),13.62(1H,s).
実施例I−3
N5−(3−ピリジルメチル)−3−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]−1H−5−インダゾールカルボキサミド
実施例I−1に準じ、製造例I−16で製造した3−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]−1H−5−インダゾールカルボン酸53mgと、3−ピコリルアミン28mgから、標記化合物28mgを白色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 4.56(2H,d,J=6.0Hz),7.37(1H,dd,J=4.8,8.0Hz),7.69(1H,d,J=8.8Hz),7.76(1H,d,J=8.0Hz),7.79−7.87(2H,m),7.98(1H,d,J=8.8Hz),8.28(1H,s),8.38(1H,d,J=6.0Hz),8.46(1H,d,J=4.8Hz),8.59(1H,s),8.64(1H,s),9.26(1H,t,J=6.0Hz),13.69(1H,s).
実施例I−4
N5−(3−ピリジルメチル)−3−(3−メトキシフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
実施例I−1に準じ、製造例I−18で製造した3−(3−メトキシフェニル)−1H−5−インダゾールカルボン酸14mgと、3−ピコリルアミン12mgから、標記化合物8mgを白色無晶形粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 4.56(2H,d,J=5.6Hz),7.02(1H,d,J=8.0Hz),7.37(1H,dd,J=4.8,7.6Hz),7.48(1H,,t,J=8.0Hz),7.53(1H,s),7.62(1H,d,J=8.4Hz),7.64(1H,d,J=8.0Hz),7.75(1H,d,J=7.6Hz),7.95(1H,d,J=8.4Hz),8.46(1H,d,J=4.8Hz),8.58(1H,s),8.62(1H,s),9.26(1H,t,J=5.6Hz),13.49(1H,s).
実施例I−5
N5−[(1S)−1−(ヒドロキシメチル)−2−メチルプロピル]−3−( 3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
製造例I−4で得られた3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボン酸150mgと、バリノールの0.5Mアセトニトリル溶液1.2mlを出発原料として、実施例I−1に準じて、標記化合物50mgを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 0.90(3H,d,J=8.0Hz),0.92(3H,d,J=8.0Hz),1.88−2.00(1H,m),3.48−3.60(2H,m),3.78−3.87(1H,m),4.55−4.66(1H,m),7.23−7.30(1H,m),7.56−7.65(1H,m),7.62(1H,d,J=8.4Hz),7.80(1H,d,J=10.1Hz),7.86−7.96(2H,m),8.15(1H,d,J=8.4Hz),8.54(1H,s)
実施例I−6
N5−[(1R)−2−ヒドロキシ−1−フェニルエチル]−3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
製造例I−4で得られた3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボン酸50mgと、R(−)−2−フェニルグリシノール30mgを出発原料として、実施例I−1に準じて、標記化合物20mgを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 3.64−3.79(2H,m),4.88(1H,t,J=6.0Hz),5.12(1H,dt,J=5.7,8.2Hz),7.19−7.24(1H,m),7.28(1H,dt,J=2.4,8.2Hz),7.29−7.34(2H,m),7.38−7.42(2H,m),7.61(1H,dt,J=6.3,8.2Hz),7.64(1H,d,J=8.9Hz),7.80(1H,d,J=10.1Hz),7.90(1H,d,J=7.7Hz),7.95(1H,d,J=8.9Hz),8.61(1H,s),8.84(1H,d,J=8.2Hz),13.57(1H,s)
実施例I−7
N5−[(1S)−2−ヒドロキシ−1−フェネチル]−3−ベンゾ[b]チオフェン−3−イル−1H−5−インダゾールカルボキサミド
製造例I−19で製造した3−ベンゾ[b]チオフェン−3−イル−1H−5−インダゾールカルボン酸50mgのジメチルホルムアミド4ml溶液に、(2S)−2−アミノ−2−フェニル−1−エタノール28mg、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール・1水和物39mg、および1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド・塩酸塩49mgを加え、室温で5日間撹拌した。反応液に酢酸エチル40mlを加えた後、水、1規定塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去後、得られた粗結晶を酢酸エチル−ジエチルエーテルより再結晶し、標記化合物46mgを淡赤結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 3.66−3.81(2H,m)5.00(1H,t,J=5.6Hz),5.16(1H,td,J=8.0,5.6Hz),7.24(1H,t,J=7.6Hz),7.33(2H,t,J=7.6Hz),7.42(2H,d,J=7.6Hz),7.45−7.55(2H,m),7.68(1H,d,J=8.8Hz),7.99(1H,d,J=8.4Hz),8.11(1H,d,J=8.8Hz),8.50(1H,s),8.65−8.70(2H,m),8.81(1H,d,J=8.0Hz),13.55(1H,s).
実施例I−8
N5−[1−(ヒドロキシメチル)シクロペンチル]−3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
製造例I−4で得られた3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボン酸180mgと、1−アミノ−1−シクロペンタンメタノール115mgを出発原料として、実施例I−7に準じて、標記化合物16mgを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 1.51−1.60(2H,m),1.63−1.72(2H,m),1.72−1.80(2H,m),1.97−2.07(2H,m),3.60(2H,d,J=6.1Hz),4.87(1H,t,J=6.1Hz),7.26(1H,dt,J=2.7,8.7Hz),7.59(1H,dt,J=6.3,7.9Hz),7.59(1H,d,J=8.6Hz),7.80(1H,ddd,J=1.6,2.7,10.5Hz),7.94(1H,s),8.49(1H,s),13.51(1H,s)
実施例I−9
N5−(2−ヒドロキシ−2−フェニルエチル)−3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
製造例I−4で得られた3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボン酸180mgと、2−アミノ−1−フェニルエタノール137mgを出発原料として、実施例I−7に準じて、標記化合物75mgを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 3.30−3.37(1H,m),3.51(1H,ddd,J=4.6,5.8,13.2Hz),4.80(1H,dd,J=4.6,8.3Hz),5.56(1H,d,J=4.6Hz),7.21−7.26(1H,m),7.28(1H,dt,J=2.4,8.4Hz),7.30−7.35(2H,m),7.36−7.40(2H,m),7.60(1H,dt,J=6.3,8.4Hz),7.62(1H,d,J=9.2Hz),7.81(1H,d,J=10.4Hz),7.90(1H,d,J=9.2Hz),7.90(1H,d,J=8.4Hz),8.54(1H,s),8.76(1H,d,J=5.8Hz),13.54(1H,bs)
実施例I−10
N5−(2−ヒドロキシプロピル)−3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
製造例I−4で得られた3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボン酸180mgと、1−アミノ−2−プロパノール0.08mlを出発原料として、実施例I−7に準じて、標記化合物60mgを無色油状物として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 1.29(3H,d,J=5.0Hz),3.38(1H,ddd,J=4.9,7.4,14.0Hz),3.73(1H,ddd,J=3.0,6.5,14.0Hz),4.06−4.13(1H,m),6.75−6.81(1H,m),7.14(1H,dt,J=2.5,8.1Hz),7.49(1H,dt,J=6.2,8.1Hz),7.55(1H,d,J=8.8Hz),7.68(1H,ddd,J=1.4,2.5,9.7Hz),7.76(1H,d,J=8.1Hz),7.86(1H,dd,J=1.8,8.8Hz),8.49(1H,d,J=1.8Hz)
実施例I−11
N5−[1−(4−クロロフェニル)−2−ヒドロキシエチル]−3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
製造例I−4で得られた3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボン酸180mgと、2−アミノ−2−(4−クロロフェニル)−1−エタノール112mgを出発原料として、実施例I−7に準じて、標記化合物55mgを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 4.03(1H,dd,J=5.4,11.4Hz),4.07(1H,dd,J=4.1,11.4Hz),5.30(1H,ddd,J=4.1,5.4,11.4Hz),7.02(1H,d,J=7.0Hz),7.14(1H,dt,J=2.3,8.0Hz),7.36(4H,s),7.49(1H,dt,J=6.0,8.0Hz),7.56(1H,d,J=8.7Hz),7.68(1H,ddd,J=1.5,2.3,9.9Hz),7.76(1H,d,J=8.0Hz),7.87(1H,dd,J=1.7,8.7Hz),8.55(1H,d,J=1.7Hz)
実施例I−12
N5−{2−ヒドロキシ−1−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチル}−3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
製造例I−4で得られた3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボン酸162mgと、2−アミノ−2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]−1−エタノール130mgを出発原料として、実施例I−7に準じて、標記化合物80mgを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 3.66−3.83(2H,m),5.07(1H,t,J=5.5Hz),5.12−5.22(1H,m),7.28(1H,dt,J=2.5,8.7Hz),7.58−7.68(2H,m),7.65(2H,d,J=8.2Hz),7.69(2H,d,J=8.2Hz),7.80(1H,bd,J=10.5Hz),7.90(1H,d,J=8.7Hz),7.94(1H,d,J=8.8Hz),8.62(1H,s),8.94(1H,d,J=7.8Hz),13.58(1H,s)
実施例I−13
N5−(2,3−ジヒドロキシプロピル)−3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
製造例I−4で得られた3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボン酸180mgと、3−アミノ−1,2−プロパンジオール0.08mlを出発原料として、実施例I−7に準じて、標記化合物40mgを無色油状物として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.17−3.24(1H,m),3.24−3.40(2H,m),3.40−3.57(1H,m),3.62−3.70(1H,m),4.59(1H,bs),4.86(1H,bs),7.27(1H,dt,J=2.2,8.4Hz),7.60(1H,dt,J=6.3,8.4Hz),7.63(1H,d,J=9.0Hz),7.81(1H,d,J=10.1Hz),7.91(1H,d,J=8.4Hz),7.93(1H,d,J=9.0Hz),8.59(1H,s),8.65(1H,t,J=5.6Hz)
実施例I−14
N5−[1−(2−フルオロフェニル)−2−ヒドロキシエチル]−3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
製造例I−4で得られた3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボン酸180mgと、2−(2−フルオロフェニル)グリシノール155mgを出発原料として、実施例I−7に準じて、標記化合物51mgを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.66(1H,dd,J=5.3,11.0Hz),3.72(1H,dd,J=8.0,11.0Hz),5.10(1H,t,J=6.0Hz),5.41(1H,ddd,J=5.3,8.0,8.1Hz),7.13−7.19(2H,m),7.25−7.31(2H,m),7.50(1H,dt,J=2.4,7.9Hz),7.62(1H,dt,J=6.3,7.9Hz),7.64(1H,d,J=8.9Hz),7.80(1H,ddd,J=1.6,2.4,10.5Hz),7.90(1H,d,J=7.9Hz),7.94(1H,dd,J=1.6,9.0Hz),8.62(1H,s),8.90(1H,d,J=8.1Hz)
実施例I−15
N3−[3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾリル]ニコチナミド
製造例I−26で製造したtert−ブチル 5−アミノ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−1−インダゾールカルボキシレート100mgと、トリエチルアミン0.1mlのテトラヒドロフラン溶液5mlに、ニコチン酸クロリド塩酸塩55mgを加え室温で2日撹拌した。反応終了後、反応液を製造例I−25−bに従い5N塩酸で処理し、標記化合物62mgを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 7.24(1H,dt,J=2.4,8.3Hz),7.55−7.63(3H,m),7.69(1H,ddd,J=1.7,2.4,10.2Hz),7.79(1H,s),7.80(1H,d,J=8.3Hz),8.32(1H,dt,J=1.9,8.1Hz),8.57(1H,s),8.76(1H,dd,J=1.9,5.0Hz),9.14(1H,d,J=2.4Hz)10.53(1H,s),13.39(1H,s)
実施例I−16
N1−[3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾリル]−2−(2−チエニル)アセタミド
製造例I−26で製造したtert−ブチル 5−アミノ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−1−インダゾールカルボキシレート120mgと、2−チオフェン酢酸クロリド0.05mlを出発原料として実施例I−15に従い、標記化合物20mgを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 4.01(2H,s),7.06−7.13(3H,m),7.34(1H,dd,J=1.8,4.6Hz),7.38(1H,dd,J=1.6,8.6Hz),7.41(1H,bs),7.45(1H,d,J=8.6Hz),7.47(1H,dt,J=6.0,7.8Hz),7.64(1H,d,J=9.9Hz),7.72(1H,d,J=7.8Hz),8.20(1H,d,J=1.6Hz)
実施例I−17
N1−[3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾリル]−2−(4−ピリジル)アセタミド
製造例I−26で製造したtert−ブチル 5−アミノ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−1−インダゾールカルボキシレート50mgと、4−ピリジル酢酸・塩酸塩26mg、トリエチルアミン0.05mlのテトラヒドロフラン溶液5mlに、1,1’−カルボニルジイミダゾール37mgを縮合剤として室温で反応液に加えた。反応終了後、反応液を製造例I−25−bに従い5N塩酸で処理し、標記化合物11mgを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 3.73(2H,s),7.15(1H,dd,J=1.8,9.1Hz),7.20−7.27(1H,m),7.30(2H,d,J=8.8Hz),7.48(2H,d,J=8.8Hz),7.55−7.60(5H,m),10.03(1H,bs),13.35(1H,s)
実施例I−18
N−[3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾリル]メタンスルホナミド
製造例I−26で製造したtert−ブチル 5−アミノ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−1−インダゾールカルボキシレート50mgのテトラヒドロフラン2ml溶液に、トリエチルアミン30μl、および塩化メタンスルホニル15μlを加え、室温で10時間撹拌した。反応液に水を加えた後、酢酸エチルで抽出した。有機層を、1規定塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去後、得られた粗結晶を酢酸エチル−ジエチルエーテルより再結晶し、標記化合物26mgを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 2.92(3H,s),7.24(1H,dt,J=2.7,8.8Hz),7.33(1H,dd,J=1.8,8.8Hz),7.57(1H,t,J=7.5Hz),7.59(1H,d,J=8.8Hz),7.65(1H,d,J=10.4Hz),7.78(1H,d,J=7.5Hz),7.86(1H,d,J=1.8Hz),13.40(1H,bs)
実施例I−19
N1−[3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾリル]−2,2,2−トリフルオロ−1−エタンスルホナミド
製造例I−26で製造したtert−ブチル 5−アミノ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−1−インダゾールカルボキシレート50mgと、塩化2,2,2−トリフルオロ−1−エタンスルホニル0.02mlを出発原料として、実施例I−18に準じ、標記化合物26mgを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 4.48(2H,q,J=10.0Hz),7.24(1H,dt,J=2.6,8.0Hz),7.31(1H,dd,J=1.8,8.9Hz),7.58(1H,dt,J=5.8,8.0),7.61(1H,d,J=8.9Hz),7.67(1H,ddd,J=1.5,2.6,10.1Hz),7.76(1H,d,J=8.0Hz),7.87(1H,d,J=1.8Hz),10.29(1H,bs),13.42(1H,s)
実施例I−20
N1−[3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾリル]−4−メチル−1−ベンゼンスルホナミド
製造例I−26で製造したtert−ブチル 5−アミノ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−1−インダゾールカルボキシレート50mgと、塩化p−トルエンスルホニル30mgを出発原料として、実施例I−18に従い、標記化合物35mgを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 2.28(3H,s),7.15(1H,dd,J=1.8,9.1Hz),7.20−7.27(1H,m),7.30(2H,d,J=8.8Hz),7.48(2H,d,J=8.8Hz),7.55−7.60(5H,m),10.03(1H,bs),13.35(1H,s)
実施例I−21
N4−[3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾリル]−4−モルホリンカルボキサミド
製造例I−26で製造したtert−ブチル 5−アミノ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−1−インダゾールカルボキシレート50mgと、4−モルホリンカルボニルクロリド30mgを出発原料として、実施例I−18に従い、標記化合物30mgを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 3.40−3.47(4H,m),3.58−3.63(4H,m),7.21(1H,dt,J=2.7,8.5Hz),7.48(1H,d,J=8.8Hz),7.53(1H,dd,J=1.4,8.8),7.56(1H,dt,J=6.5,8.0Hz),7.65(1H,ddd,J=1.6,2.7,10.7Hz),7.76(1H,d,J=8.0Hz),8.14(1H,d,J=1.4Hz),8.59(1H,s),13.21(1H,s)
実施例I−22
N1−[(1R)−2−ヒドロキシ−1−フェニルエチル]−(E)−3−[3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾリル]−2−プロペナミド
製造例I−25で得られた(E)−[3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾリル]−2−プロペン酸50mgと、S(+)−2−フェニルグリシノール18mgを出発原料として、実施例I−7に準じて、標記化合物11mgを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 3.61(2H,t,J=5.5Hz),4.93(1H,t,J=5.5Hz),4.98(1H,dt,J=5.5,8.1Hz),6.81(1H,d,J=15.6Hz),7.20−7.25(1H,m),7.24(1H,dt,J=2.6,8.6Hz),7.28−7.36(4H,m),7.56(1H,dt,J=6.0,7.9Hz),7.55(1H,dt,J=7.9,6.2Hz),7.62(1H,d,J=15.6Hz),7.63(1H,d,J=9.0Hz),7.65(1H,d,J=9.0Hz),7.78(1H,ddd,J=1.6,2.3,10.7Hz),7.89(1H,d,J=7.9Hz),8.30(1H,s),8.44(1H,d,J=8.1Hz),13.50(1H,s)
実施例I−23
a;3−(3−フルオロフェニル)−5−{[(3S)テトラヒドロ−3−フラニルオキシ]メチル}−1−トリチル−1H−インダゾール
窒素雰囲気下、(S)−3−ヒドロキシテトラヒドロフラン40mgのテトラヒドロフラン溶液に、60%水素化ナトリウム(油性)15mgを加え、室温で15分間撹拌した。反応液に、製造例I−32で製造した5−(クロロメチル)−3−(3−フルオロフェニル)−1−トリチル−1H−インダゾール150mg、沃化ナトリウム45mgを加え、室温で5日間撹拌した。反応液に水を加えた後、酢酸エチル20mlで抽出した。有機層を半飽和食塩水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去後、得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル:トルエン=0:1〜1:9)で精製分離し、標記化合物84mgを白色無晶形粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 1.90−1.97(2H,m),3.63−3.77(4H,m),4.19−4.25(1H,m),4.50(1H,d,J=15.6Hz),4.52(1H,d,J=15.6Hz),6.46(1H,d,J=8.8Hz),7.09(1H,d,J=8.8Hz),7.17−7.40(16H,m),7.56(1H,td,J=8.0,6.4Hz),7.59(1H,d,J=10.0Hz),7.75(1H,d,J=8.0Hz),8.04(1H,s).
b;3−(3−フルオロフェエル)−5−{[(3S)テトラヒドロ−3−フラニルオキシ]メチル}−1H−インダゾール
3−(3−フルオロフェニル)−5−{[(3S)テトラヒドロ−3−フラニルオキシ]メチル}−1−トリチル−1H−インダゾール82mgの塩化メチレン1.6ml溶液にトリイソプロピルシラン0.05mlおよびトリフルオロ酢酸0.4mlを加え、室温で20分間撹拌した。反応液に酢酸エチル15mlを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水(2回)、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去後、得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル:トルエン=1:4)で精製分離し、標記化合物36mgを高粘性の無色油状物として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 1.93−2.01(2H,m),3.64−3.81(4H,m),4.21−4.28(1H,m),4.59(1H,d,J=15.6Hz),4.62(1H,d,J=15.6Hz),7.24(1H,td,J=8.0,2.4Hz),7.40(1H,d,J=8.4Hz),7.58(1H,td,J=8.0,6.4Hz),7.59(1H,d,J=8.4Hz),7.74(1H,ddd,J=10.4,1.6,2.4Hz),7.86(1H,d,J=8.0Hz),8.04(1H,s),13.38(1H,s).
実施例I−24
N−エチル−N’−[3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾリル]ウレア
製造例I−26で製造したtert−ブチル 5−アミノ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−1−インダゾールカルボキシレート50mgのテトラヒドロフラン溶液5mlに、エチルイソシアネート0.015mlを加え室温で2時間撹拌した。反応終了後、反応液に5N塩酸1mlを加えさらに1時間撹拌した。反応液に炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、ジイソプロピルエーテルを加えてろ過し、標記化合物28mgを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 1.05(3H,t,J=6.5Hz),3.11(2H,dq,J=5.6,6.5Hz),6.06(1H,t,J=5.6Hz),7.21(1H,dt,J=2.9,8.6Hz),7.30(1H,dd,J=1.7,8.9),7.46(1H,d,J=8.9Hz),7.56(1H,dt,J=6.0,8.1Hz),7.64(1H,ddd,J=1.4,2.9,10.6Hz),7.74(1H,d,J=8.6Hz),8.22(1H,s),8.48(1H,s),13.17(1H,s)
実施例I−25
a;[3−(3−フルオロフェニル)−1−(メトキシメチル)−1H−5−インダゾリル](2−チエニル)メタノール
製造例I−34で製造した[3−(3−フルオロフェニル)−1−(メトキシメチル)−1H−5−インダゾリル]メタノール780mgを製造例I−4−cと同様に酸化することにより、3−(3−フルオロフェニル)−1−(メトキシメチル)−1H−5−インダゾールカルボキサルデヒド700mgを無色油状物として得た。
チオフェン0.15mlの乾燥テトラヒドロフラン溶液を、窒素雰囲気下−78℃に冷却し、n−ブチルリチウム(2.5Mヘキサン溶液)1.8mlを滴下し、−20℃で1時間撹拌した。再び−78℃に冷却し、上述で得られた3−(3−フルオロフェニル)−1−(メトキシメチル)−1H−5−インダゾールカルボキサルデヒド0.35gの乾燥テトラヒドロフラン溶液4mlを反応液に加え、室温に昇温した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:6)で精製分離し標記化合物90mgを無色油状物として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.37(3H,s),5.74(2H,s),6.24(1H,s),6.92(1H,dd,J=1.0,3.4Hz),6.95(1H,dd,J=3.4,4.8Hz),7.11(1H,dt,J=2.7,8.2Hz),7.28(1H,dd,J=1.0,4.8Hz),7.48(1H,dt,J=6.5,8.2Hz),7.54(1H,dd,J=1.9,9.0Hz),7.60(1H,d,J=9.0Hz),7.69(1H,ddd,J=1.2,2.7,9.9Hz),7.76(1H,dt,J=1.2,8.2Hz),8.12(1H,d,J=1.9Hz)
b;[3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾリル](2−チエニル)メタノン
[3−(3−フルオロフェニル)−1−(メトキシメチル)−1H−5−インダゾリル](2−チエニル)メタノール90mgを、製造例I−4−cに従い酸化し、[3−(3−フルオロフェニル)−1−(メトキシメチル)−1H−5−インダゾリル](2−チエニル)メタノン85mgを無色粉末として得た。その化合物をテトラヒドロフラン3mlに溶解し、5規定塩酸1mlを加え1日加熱還流した。反応液に炭酸水素ナトリウム水溶液を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:5)で精製分離し標記化合物30mgを無色針状結晶として得た。
上述の反応で不完全に脱保護した副成物である[3−(3−フルオロフェニル)−1−(ヒドロキシメチル)−1H−5−インダゾリル](2−チエニル)メタノン17mgは濃アンモニア水をメタノール中で作用さることにより、さらに標記化合物11mgを得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 7.15(1H,dt,J=2.6,8.4Hz),7.21(1H,dd,J=3.8,4.9Hz),7.50(1H,dt,J=6.6,8.0Hz),7.64(1H,d,J=8.9Hz),7.67−7.72(1H,m),7.71(1H,dd,J=1.0,3.8Hz),7.74−7.79(1H,m),7.76(1H,dd,J=1.0,4.9Hz),8.02(1H,dd,J=1.4,8.9Hz),8.61(1H,d,J=1.4Hz)
実施例I−26
a;tert−ブチル 3−(3−フルオロフェニル)−5−[ヒドロキシ(フェニル)メチル]−1H−1−インダゾールカルボキシレート
製造例I−25−aで製造したtert−ブチル 3−(3−フルオロフェニル)−5−ホルミル−1H−1−インダゾールカルボキシレート160mgと、フェニルリチウムの1.04Nシクロヘキサン溶液0.58mlを出発原料とし、実施例I−25−aに準じて、標記化合物30mgを無色油状物として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 1.73(9H,s),6.02(1H,bs),6.24(1H,s),7.17(1H,ddt,J=1.3,2.7,8.5Hz),7.25−7.30(1H,m),7.32−7.37(2H,m),7.37−7.41(2H,m),7.49(1H,dt,J=6.3,7.8Hz),7.51(1H,dd,J=1.5,8.6Hz),7.72(1H,ddd,J=1.7,2.7,9.7Hz),7.88(1H,dd,J=1.3,7.8Hz),8.06(1H,d,J=1.5Hz),8.13(1H,d,J=8.6Hz)
b;[3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾリル](フェニル)メタノン
tert−ブチル 3−(3−フルオロフェニル)−5−[ヒドロキシ(フェニル)メチル]−1H−1−インダゾールカルボキシレート30mgを出発原料とし、製造例I−4−cに従い酸化し、製造例I−25−bに従い5規定塩酸処理する事により、標記化合物4mgを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 7.25(1H,ddt,J=0.7,2.7,8.6Hz),7.52−7.59(3H,m),7.64−7.70(1H,m),7.69(1H,ddd,J=1.4,2.7,10.4Hz),7.74(1H,dd,J=0.7,8.6Hz),7.75−7.80(3H,m,7.83(1H,dd,J=1.5,8.6Hz),8.38(1H,dd,J=0.7,1.5Hz)
実施例I−27
a;(E)−3−(ジメチルアミノ)−1−(1H−3−インダゾリル)−2− プロペン−1−オン
1H−インダゾール5.0gを出発原料として、製造例I−26−a〜bに従い、ブロム化、tert−ブトキシカルボニル化を行った後、製造例I−29−aに従い3位のアセチル化を行いtert−ブチル 3−アセチル−1H−1−インダゾールカルボキシレート2.5gを得た。このもの1.5gを、製造例I−25−bに準じて5規定塩酸で処理し1−(1H−3−インダゾリル)エタノン860mgを得た。このもの240mgと、N,N−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール0.4mlの、トルエン5ml溶液を9時間加熱還流した。溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=2:1)で精製分離し標記化合物88mgを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 2.88(3H,bs),3.13(3H,bs),6.08(1H,d,J=13.1Hz),7.19(1H,t,J=7.6Hz),7.36(1H,t,J=7.6Hz),7.56(1H,d,J=7.6Hz),7.72(1H,d,J=13.1Hz),8.26(1H,d,J=7.6Hz),13.37(1H,s)
b;4−(1H−3−インダゾリル)−2−ピリミジナミン
金属ナトリウム20mgを乾燥エタノール5mlに溶解した。得られた溶液に、グアニジン塩酸塩76mgおよび(E)−3−(ジメチルアミノ)−1−(1H−3−インダゾリル)−2−プロペン−1−オン85mgを加え、12時間加熱還流した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え酢酸エチルで抽出し、水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで有機層を乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=7:5)で精製分離し、標記化合物55mgを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 6.69(2H,bs),7.22(1H,t,J=7.9Hz),7.24(1H,d,J=5.3Hz),7.40(1H,t,J=7.9Hz),7.58(1H,d,J=7.9Hz),8.26(1H,d,J=5.3Hz),8.67(1H,d,J=7.9Hz)
実施例I−28〜I−100の化合物は、以下に記した合成法I−Aで合成した。
合成法I−A
Figure 0004535680
TRANSTEMTMで標識したポリスチレン樹脂(SynPhase Polystyrene D−Seriese,TritylTM)を96個用意し、10%塩化アセチルの塩化メチレン溶液100ml中で3時間静置した。溶液を除去し、塩化メチレンで3回洗浄し、減圧下で乾燥し、樹脂を製造例I−26−aで製造した3−ブロモ−5−ニトロ−1H−インダゾール15g、ジイソプロピルアミンのN−メチルピロリドン溶液150ml中80℃で4時間加熱した。溶液を除去し、樹脂をN−メチルピロリドン、エタノール、水、メタノール、テトラヒドロフランで順次洗浄し、減圧下で乾燥した。
得られた樹脂を標識に従い8群(各12個)に分配し、予め調製した8種の0.5Mボロン酸N−メチルピロリドン溶液15mlにそれぞれ加えた。各反応液に0.5M2−(ジ−tert−ブチルホスフィノ)ビフェニルのN−メチルピロリドン溶液1.5ml、8Mフッ化カリウム水溶液1.8ml、酢酸パラジウム(II)触媒量を加え、80℃で12時間加熱した。溶液を除去し、樹脂を上述の操作に準じ洗浄し、減圧下で乾燥して得られた樹脂を、2M塩化第二錫N−メチルピロリドン溶液150ml中80℃で4時間加熱した。溶液を除去し、樹脂を溶液を除去し、樹脂を上述の操作に準じ洗浄し、減圧下で乾燥した。
さらに樹脂を標識に従い12群(各8個)に分配し、それぞれに予め調製した12種の0.5Mカルボン酸のN−メチルピロリドン溶液15mlを加えた。各容器に、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール・一水和物1.15g、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド(=WSC)1.2ml、ジイソプロピルエチルアミン2.0mlを順次加え(スルホンアミド化合物においては、テトラヒドロフラン中、塩化スルホニル試薬とジイソプロピルエチルアミンを加えた。)、1時間のソニケーション後、室温で一昼夜静置した。溶液を除去し、溶液を除去し樹脂を上述の操作に準じ洗浄し、減圧下で乾燥した。樹脂を標識に従い、96穴ピンプレートに配列した。
樹脂を、96穴ウェルプレートに予め調製したトリフルオロ酢酸0.5ml、トリイソプロピルシラン0.1ml、ジクロロメタン0.5mlの混合溶液に浸し、10分間のソニケーション後30分静置した。この操作を2回繰り返し、さらに樹脂を、ジメチルホルムアミド1mlで洗浄した。ついで、酸処理したウェル中に窒素を吹き付け、得られた各残渣を、洗浄操作で得られたジメチルホルムアミド溶液に溶解し、LC−MS[展開溶媒;0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル溶液:0.1%トリフルオロ酢酸含有水溶液=1:99〜100:0/20分サイクル、流速;20ml/分、カラム;YMC Combiprep ODS−AM、20mmΦx50mm(Long)]により精製分離し、下記化合物を得た。
実施例I−28
2−(5−{[2−(1,1−ジオキソ−1l ,4−チアジナン−4−イル)アセチル]アミノ}−1H−3−インダゾリル)安息香酸
MS(ESI)m/z 429 MH
実施例I−29
N7−[3−(2,3−ジヒドロ−1H−5−インドリル)−1H−5−インダゾリル]ビシクロ[4.2.0]オクタ−1(6),2,4−トリエン−7−カルボキサミド
MS(ESI)m/z 381 MH
実施例I−30
N1−[3−(8−キノリル)−1H−5−インダゾリル]−2,4−ジクロロベンザミド
MS(ESI)m/z 433 M
実施例I−31
N1−{3−[4−(メチルスルホニル)フェニル]−1H−5−インダゾリル}−2−(2,4−ジクロロフェニル)アセタミド
MS(ESI)m/z 474 M
実施例I−32
N1−(3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−1H−5−インダゾリル)−1−シクロペンタンカルボキサミド
MS(ESI)m/z 362 MH
実施例I−33
N7−(3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−1H−5−インダゾリル)−2,3−ジヒドロベンゾ[b]フラン−7−カルボキサミド
MS(ESI)m/z 412 MH
実施例I−34
N1−(3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−1H−5−インダゾリル)−3−(2−チエニル)プロパナミド
MS(ESI)m/z 404 MH
実施例I−35
N1−(3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−1H−5−インダゾリル)−(E)−3−シクロプロピル−2−プロペナミド
MS(ESI)m/z 360 MH
実施例I−36
N1−[3−(2−ナフチル)−1H−5−インダゾリル]−1−シクロプロパンカルボキサミド
MS(ESI)m/z 328 MH
実施例I−37
N2−[3−(2−ナフチル)−1H−5−インダゾリル]−2−チオフェンカルボキサミド
MS(ESI)m/z 370 MH
実施例I−38
N1−[3−(2−ナフチル)−1H−5−インダゾリル]−8−ヒドロキシオクタナミド
MS(ESI)m/z 402 MH
実施例I−39
N1−(3−{3−[(シクロプロピルカルボニル)アミノ]フェニル}−1H−5−インダゾリル)−1−シクロプロパンカルボキサミド
MS(ESI)m/z 361 MH
実施例I−40
N1−3−[4−(ベンジルオキシ)フェニル]−1H−5−インダゾリル3−オキソ−1−シクロペンタンカルボキサミド
MS(ESI)m/z 426 MH
実施例I−41
N1−[3−(2−ナフチル)−1H−5−インダゾリル]−4−(ヒドロキシメチル)ベンザミド
MS(ESI)m/z 394 MH
実施例I−42
N1−[3−(2−ナフチル)−1H−5−インダゾリル]−4−メトキシ−1−シクロヘキサンカルボキサミド
MS(ESI)m/z 400 MH
実施例I−43
N1−[3−(2−ナフチル)−1H−5−インダゾリル]−2−ヒドロキシ−3−フェニルプロパナミド
MS(ESI)m/z 408 MH
実施例I−44
N1−(3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−1H−5−インダゾリル)−trans−4−ヒドロキシ−1−シクロヘキサンカルボキサミド
MS(ESI)m/z 392 MH
実施例I−45
N1−(3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−1H−5−インダゾリル)−2−(3−ピリジル)アセタミド
MS(ESI)m/z 369 MH
実施例I−46
N1−(3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−1H−5−インダゾリル)−2−(3−チエニル)アセタミド
MS(ESI)m/z 374 MH
実施例I−47
N2−(3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−1H−5−インダゾリル)−1,2,3,4−テトラヒドロ−2−ナフタレンカルボキサミド
MS(ESI)m/z 408 MH
実施例I−48
N2−(3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−1H−5−インダゾリル)−2−フラミド
MS(ESI)m/z 344 MH
実施例I−49
N3−(3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−1H−5−インダゾリル)−3−フラミド
MS(ESI)m/z 344 MH
実施例I−50
N1−(3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−1H−5−インダゾリル)−2−ヒドロキシ−2−フェニルアセタミド
MS(ESI)m/z 384 MH
実施例I−51
N1−[3−(4−アセチルフェニル)−1H−5−インダゾリル]−2−(2−ピリジル)アセタミド
MS(ESI)m/z 371 MH
実施例I−52
N1−[3−(4−アセチルフェニル)−1H−5−インダゾリル]−2−(3 ,4−ジメトキシフェニル)アセタミド
MS(ESI)m/z 430 MH
実施例I−53
N1−[3−(2−ナフチル)−1H−5−インダゾリル]−4−オキソペンタナミド
MS(ESI)m/z 358 MH
実施例I−54
N1−(3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−1H−5−インダゾリル)−3−メトキシプロパナミド
MS(ESI)m/z 352 MH
実施例I−55
N3−(3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−1H−5−インダゾリル)テトラヒドロ−3−フランカルボキサミド
MS(ESI)m/z 364 MH
実施例I−56
N1−(3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−1H−5−インダゾリル)−3−オキソ−1−インダンカルボキサミド
MS(ESI)m/z 408 MH
実施例I−57
N1−[3−(4−アセチルフェニル)−1H−5−インダゾリル]−3−フェノキシプロパナミド
MS(ESI)m/z 400 MH
実施例I−58
N1−[3−(2−ナフチル)−1H−5−インダゾリル]−3−ヒドロキシ−2−(ヒドロキシメチル)−2−メチルプロパナミド
MS(ESI)m/z 376 MH
実施例I−59
N1−[3−(2−ナフチル)−1H−5−インダゾリ]−2−(2−オキソシクロペンチル)アセタミド
MS(ESI)m/z 384 MH
実施例I−60
N2−(3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−1H−5−インダゾリル)−(2S)−5−オキソテトラヒドロ−1H−2−ピロールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 377 MH
実施例I−61
N2−(3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−1H−5−インダゾリル)−(2R)−5−オキソテトラヒドロ−1H−2−ピロールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 377 MH
実施例I−62
N2−(3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−1H−5−インダゾリル)テトラヒドロ−2−フランカルボキサミド
MS(ESI)m/z 348 MH
実施例I−63
N3−(3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−1H−5−インダゾリル)−2,2−ジメチル−5−オキソテトラヒドロ−3−フランカルボキサミド
MS(ESI)m/z 390 MH
実施例I−64
N−(3−フェニル−1H−5−インダゾリル)メタンスルホナミド
MS(ESI)m/z 288 MH
実施例I−65
4−({[3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾリル]アミノ}スルホニル)安息香酸
MS(ESI)m/z 412 MH
実施例I−66
N1−[5−({[3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾリル]アミノ}スルホニル)−4−メチル−1,3−チアゾール−2−イル]アセタミド
MS(ESI)m/z 446 MH
実施例I−67
N2−[3−(4−メトキシフェニル)−1H−5−インダゾリル]−4−(フェニルスルホニル)−2−チオフェンスルホナミド
MS(ESI)m/z 526 MH
実施例I−68
N2−[3−(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)−1H−5−インダゾリル]−2−プロパンスルホナミド
MS(ESI)m/z 360 MH
実施例I−69
N1−[3−(2−チエニル)−1H−5−インダゾリル]−3,5−ジ(トリフルオロメチル)−1−ベンゼンスルホナミド
MS(ESI)m/z 492 MH
実施例I−70
N,N−ジメチル−N’−{3−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]−1H−5−インダゾリル}スルファミド
MS(ESI)m/z 385 MH
実施例I−71
N2−{3−[3,5−ジ(トリフルオロメチル)フェニル]−1H−5−インダゾリル}−5−(2−ピリジル)−2−チオフェンスルホナミド
MS(ESI)m/z 569 MH
実施例I−72
N2−[3−(2,4−ジクロロフェニル)−1H−5−インダゾリル]−2−フラミド
MS(ESI)m/z 372 MH
実施例I−73
N1−[3−(3−エトキシフェニル)−1H−5−インダゾリル]−3−ヒドロキシ−3−メチルペンタナミド
MS(ESI)m/z 368 MH
実施例I−74
N1−(3−ジベンゾ[b,d]フラン−4−イル−1H−5−インダゾリル)−1−シクロプロパンカルボキサミド
MS(ESI)m/z 368 MH
実施例I−75
N1−{3−[4−(tert−ブチル)フェニル]−1H−5−インダゾリル}−1−フェニル−1−シクロプロパンカルボキサミド
MS(ESI)m/z 410 MH
実施例I−76
N1−[3−(2−ナフチル)−1H−5−インダゾリル]−3−ヒドロキシ−2,2−ジメチルプロパナミド
MS(ESI)m/z 360 MH
実施例I−77
N1−{3−[3−フルオロ−4−(フェニル)フェニル}−2−オキソ−2−フェニルアセタミド
MS(ESI)m/z 436 MH
実施例I−78
N1−{3−[4−(トリフルオロメトキシ)フェニル]−1H−5−インダゾリル}−4−(ジメチルアミノ)ベンザミド
MS(ESI)m/z 441 MH
実施例I−79
N1−[3−(4−フェノキシフェニル)−1H−5−インダゾリル]−3−ヒドロキシ−3−メチルブタナミド
MS(ESI)m/z 402 MH
実施例I−80
N1−[3−(3,4−ジクロロフェニル)−1H−5−インダゾリル]−(1S,2S)−2−フェニルシクロプロパン−1−カルボキサミド
MS(ESI)m/z 422 M
実施例I−81
N7−[3−(3−アセチルフェニル)−1H−5−インダゾリル]ビシクロ[ 4.2.0]オクタ−1(6),2,4−トリエン−7−カルボキサミド
MS(ESI)m/z 382 MH
実施例I−82
N4−[3−(3−アセチルフェニル)−1H−5−インダゾリル]イソニコチナミド
MS(ESI)m/z 357 MH
実施例I−83
N1−[3−(3−アセチルフェニル)−1H−5−インダゾリル]−(2R)−2−アミノ−2−シクロヘキシルエタナミド
MS(ESI)m/z 391 MH
実施例I−84
N1−[3−(5−アセチル−2−チエニル)−1H−5−インダゾリル]−1−シクロブタンカルボキサミド
MS(ESI)m/z 340 MH
実施例I−85
N1−[3−(4−ビフェニル)−1H−5−インダゾリル]−1−フェニル−1−シクロペンタンカルボキサミド
MS(ESI)m/z 458 MH
実施例I−86
N3−[3−(3−ビフェニル)−1H−5−インダゾリル]−1,2,3,4−テトラヒドロ−3−イソキノリンカルボキサミド
MS(ESI)m/z 445 MH
実施例I−87
N1−{3−[3,5−ジ(トリフルオロメチル)フェニル]−1H−5−インダゾリル}−(2R)−2−アミノ−3,3−ジフェニルプロパナミド
MS(ESI)m/z 569 MH
実施例I−88
N1−(3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−1H−5−インダゾリル)−(2R)−2−アミノ−3,3−ジメチルブタナミド
MS(ESI)m/z 363 MH
実施例I−89
N1−(3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−1H−5−インダゾリル)−(2R)−2−アミノ−3−(ベンジルオキシ)プロパナミド
MS(ESI)m/z 427 MH
実施例I−90
N1−(3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−1H−5−インダゾリル)−(2R)−2−アミノ−3−フェニルプロパナミド
MS(ESI)m/z 413 MH
実施例I−91
N1−(3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−1H−5−インダゾリル)−(2R)−2−アミノ−3−メチルブタナミド
MS(ESI)m/z 365 MH
実施例I−92
N2−[3−(2−チエニル)−1H−5−インダゾリル]−2−ピリジンカルボキサミド
MS(ESI)m/z 321 MH
実施例I−93
N1−[3−(2−フリル)−1H−5−インダゾリル]−3−ヒドロキシ−2−フェニルプロパナミド
MS(ESI)m/z 348 MH
実施例I−94
N−[3−(2−ナフチル)−1H−5−インダゾリル]メタンスルホナミド
MS(ESI)m/z 338 MH
実施例I−95
N1−[3−(2−ナフチル)−1H−5−インダゾリル]アセタミド
MS(ESI)m/z 302 MH
実施例I−96
N1−{3−[2−(トリフルオロメチル)フェニル]−1H−5−インダゾリ ル}−2−(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)アセタミド
MS(ESI)m/z 440 MH
実施例I−97
N1−[3−(3−チエニル)−1H−5−インダゾリル]−2−メトキシアセタミド
MS(ESI)m/z 288 MH
実施例I−98
N1−[3−(1H−2−ピローリリル)−1H−5−インダゾリル]−(3S)−3−ヒドロキシ−3−フェニルプロパナミド
MS(ESI)m/z 347 MH
実施例I−99
N1−[3−(2,4−ジメトキシ−5−ピリミジニル)−1H−5−インダゾリル]−2−(2−チエニル)アセタミド
MS(ESI)m/z 396 MH
実施例I−100
N1−[3−(3−ピリジル)−1H−5−インダゾリル]−(3R)−3−ヒドロキシ−3−フェニルプロパナミド
MS(ESI)m/z 359 MH
実施例I−101〜I−107の化合物は、以下に記した合成法I−Bで合成した。
合成法I−B
合成法I−Aに従い塩化第二錫までの処理を行った後、樹脂を標識に従い2群(各48個)に分配し、それぞれにFmoc基でアミノ基が保護された2種のアミノ酸の、0.5M N−メチルピロリドン溶液を加えアミド化をおこなった。樹脂を洗浄した後、全ての樹脂を20%のピペリジンを含むN−メチルピロリドン溶液で処理し、Fmoc基を除去した。
得られた樹脂を標識に従い12群(各8個)に分配し、その内の10群に予め調製した5種のアルキルブロミドの 0.5M N−メチルピロリドン溶液と炭酸セシウム加え、アミノ基のアルキル化を行った。以後、合成法I−Aに準じて酸処理を行った後、合成法I−Aに準じLC−MSでの分離精製を行い、下記化合物を得た。
実施例I−101
N2−[3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−1H−5−インダゾリル]−(2S)テトラヒドロ−1H−2−ピロールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 347 MH
実施例I−102
N2−[3−(5−アセチル−2−チエニル)−1H−5−インダゾリル]−(2S)−1−ベンジルテトラヒドロ−1H−2−ピロールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 445 MH
実施例I−103
N2−[3−(3−エトキシフェニル)−1H−5−インダゾリル]−(2S)−1−[3−(トリフルオロメチル)ベンジル]テトラヒドロ−1H−2−ピロールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 509 MH
実施例I−104
N4−[3−(2−ナフチル)−1H−5−インダゾリル]−4−ピペリジンカルボキサミド
MS(ESI)m/z 371 MH
実施例I−105
N4−[3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−1H−5−インダゾリル]−1−ベンジル−4−ピペリジンカルボキサミド
MS(ESI)m/z 467 MH
実施例I−106
N4−[3−(4−アセチルフェニル)−1H−5−インダゾリル]−1−(2,4−ジフルオロベンジル)−4−ピペリジンカルボキサミド
MS(ESI)m/z 489 MH
実施例I−107
{3−[4−({[3−(1−ナフチル)−1H−5−インダゾリル]アミノ} カルボニル)ピペリジノ]メチル}安息香酸メチル
MS(ESI)m/z 519 MH
実施例I−108〜I−156の化合物は、以下に記した合成法I−Cで合成した。
合成法I−C
製造例I−1〜I−25で製造した、種々のインダゾールカルボン酸180mgのジメチルホルムアミド溶液6mlを、0.5mlずつ数本の試験管に分注し、各々に1.1当量の、種々のアミンを加えた。反応液に1−ヒドロキシベンズトリアゾール・一水和物の1M ジメチルホルムアミド溶液0.065ml、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド(=WSC)の1M ジメチルホルムアミド溶液0.130ml、ジイソプロピルエチルアミン0.05mlを順次加え、ソニケーションを10分間した後、一昼夜静置した。それぞれの反応液を合成法I−Aに準じた条件で、LC−MSにより分離精製し、被験化合物を得た。
実施例I−108
[3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾリル](モルホリノ)メタノン
MS(ESI)m/z 326 MH
実施例I−109
[3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾリル](4−メチルピペラジノ)メタノン
MS(ESI)m/z 339 MH
実施例I−110
[3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾリル](4−ヒドロキシ−4−フェニルピペリジノ)メタノン
MS(ESI)m/z 416 MH
実施例I−111
N5−(3−モルホリノプロピル)−3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 383 MH
実施例I−112
N5−[(1S)−1−(ヒドロキシメチル)−3−メチルブチル]−3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 342 MH
実施例I−113
N5−[(1S)−2−ヒドロキシ−1−(1H−1−イミダゾリルメチル)エチル]−3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 380 MH
実施例I−114
N5−[(1S)−1−ベンジル−2−ヒドロキシエチル]−3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 390 MH
実施例I−115
N5−[(1S)−1−(ヒドロキシメチル)プロピル]−3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 328 MH
実施例I−116
N5−[(1R)−1−(ヒドロキシメチル)プロピル]−3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 328 MH
実施例I−117
N5−(2−ピペリジノエチル)−3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 367 MH
実施例I−118
N5−(trans−4−ヒドロキシシクロヘキシル)−3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 354 MH
実施例I−119
N5−[2−(2−ヒドロキシエトキシ)エチル]−3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 344 MH
実施例I−120
N5−エチル−N5−(2−ヒドロキシエチル)−3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 328 MH
実施例I−121
N5−[4−(アミノスルホニル)ベンジル]−3−(2−メトキシフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 437 MH
実施例I−122
N5−[(1R,2R)−2−(ヒドロキシメチル)シクロヘキシル]−3−(2−フルオロフェニル)1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 368 MH
実施例I−123
N5−[(1R,2R)−2−ヒドロキシシクロヘキシル]−3−(2−キノリル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 387 MH
実施例I−124
N5−[1−(メトキシメチル)プロピル]−3−(2−キノリル)1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 375 MH
実施例I−125
N5−[4−(メチルスルホニル)ベンジル]−3−(2−キノリル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 457 MH
実施例I−126
N5−[(1R,2S)−2−(ヒドロキシメチル)シクロヘキシル]−3−(3−キノリル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 401 MH
実施例I−127
N5−[2−(1H−3−インドリル)エチル]−3−(4−キノリル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 368 MH
実施例I−128
N5−(5−ヒドロキシペンチル)−3−(−(1,3−ベンゾチアゾール−2−イル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 381 MH
実施例I−129
N5−シクロプロピル−3−フェニル−1H−5−インダゾールカルボキサミド MS(ESI)m/z 278 MH
実施例I−130
N5−[2−(アセチルアミノ)エチル]−3−(2−ナフチル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 373 MH
実施例I−131
N5−(3−ピリジルメチル)−3−(5−アセチル2−チエニル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 377 MH
実施例I−132
N5−[(1S)−2−アミノ−1−メチル−2−オキソエチル]−3−(3−アセチルフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 373 M+Na
実施例I−133
N6−(3−メトキシベンジル)−3−(3−フルオロフェニル)−1H−6− インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 376 MH
実施例I−134
N7−[3−(1H−1−イミダゾリル)プロピル]−3−(3−フルオロフェニル)−1H−7−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 364 MH
実施例I−135
N1−シクロプロピル−2−[3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾリル]アセタミド
MS(ESI)m/z 310 MH
実施例I−136
N1−(3−メトキシフェネチル)−2−[3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾリル]アセタミド
MS(ESI)m/z 404 MH
実施例I−137
N5−[3−(2−オキソテトラハイドロ−1H−1−ピローリリル)プロピル]−3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 419 MH
実施例I−138
N5−[2−(2−チエニル)エチル]−3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 404 MH
実施例I−139
N5−(2−フェノキシエチル)−3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 398 MH
実施例I−140
N5−(3−テトラハイドロ−1H−1−ピローリリルプロピル)−3−ベンゾ [b]フラン−2−イル−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 389 MH
実施例I−141
N5−[2−(1H−3−インドリル)エチル]−3−(2−ナフチル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 431 MH
実施例I−142
N5−(2,3−ジヒドロ−1H−2−インデニル)−3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 372 MH
実施例I−143
N5−シクロプロピル−3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 296 MH
実施例I−144
N5−(2−フリルメチル)−3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 336 MH
実施例I−145
N5−テトラヒドロ−2−フラニルメチル−3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 340 MH
実施例I−146
N5−(2−モルホリノエチル)−3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 369 MH
実施例I−147
N5−(2,3−ジヒドロ−1,4−ベンゾジオキシン−6−イル)−3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 390 MH
実施例I−148
N5−[(2R)−3,4−ジヒドロ−2H−2−クロメニルメチル]−3−(2−ピリジル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 385 MH
実施例I−149
N5−[1−(メトキシメチル)プロピル]−3−(2−ピリジル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 325 MH
実施例I−150
N5−(1,3−ベンゾジオキソール−5−イルメチル)−3−(3−ピリジル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 373 MH
実施例I−151
N5−シクロプロピルメチル−3−(2−ナフチル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 342 MH
実施例I−152
N5−[(3R)−2−オキソテトラヒドロ−1H−3−フラニル]−3−(2−ナフチル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 372 MH
実施例I−153
N5−[2−(2−フリル)−2−オキソエチル]−3−(2−ナフチル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 396 MH
実施例I−154
N5−[2−(1,3−チアゾール−2−イル)エチル]−3−(2−ナフチル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 399 MH
実施例I−155
N5−(2−エトキシエチル)−3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 328 MH
実施例I−156
N5−[(3S)−2−オキソテトラヒドロ−1H−3−フラニル]−3−(2−キノリル)−1H−5−インダゾールカルボキサミド
MS(ESI)m/z 373 MH
実施例I−157〜I−162の化合物は、以下に記した合成法I−Dで合成した。
合成法I−D
製造例I−27、I−28、I−30で得られた各種アミンを、ジメチルホルムアミドで5mg/mlの濃度に溶解し、1mlずつ試験管に分注した。それぞれに予め調製した、種々のカルボン酸の0.5Mジメチルホルムアミド溶液0.05ml、1−ヒドロキシベンズトリアゾール・一水和物の1Mジメチルホルムアミド溶液0.025ml、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド(=WSC)の1Mジメチルホルムアミド溶液0.05mlを加え、室温で一夜撹拌した。[スルホンアミド化合物においては、テトラヒドロフラン中で、トリエチルアミン存在下に、塩化メタンスルホニルと反応させた。] それぞれを合成法I−Aに準じた条件で、LC−MSにより分離精製し、下記化合物を得た。
実施例I−157
ベンジル N−((1S)−2−{[3−(3−フルオロフェニル)−1H−6−インダゾリル]アミノ}−1−メチル−2−オキソエチル)カルバメート
MS(ESI)m/z 433 MH
実施例I−158
N1−[3−(3−フルオロフェニル)−1H−7−インダゾリル]−3−フェノキシベンザミド
MS(ESI)m/z 424 MH
実施例I−159
N1−{[3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾリル]メチル}−1−シクロプロパンカルボキサミド
MS(ESI)m/z 310 MH
実施例I−160
N1−{[3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾリル]メチル}−3−メトキシベンザミド
MS(ESI)m/z 376 MH
実施例I−161
N1−{[3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾリル]メチル}−3−フェノキシプロパナミド
MS(ESI)m/z 390 MH
実施例I−162
N3−{[3−(3−フルオロフェニル)−1H−5−インダゾリル]メチル}テトラハイドロ−3−フランカルボキサミド
MS(ESI)m/z 340 MH
実施例I−163〜I−166の化合物は、以下に記した合成法I−Eで合成した。
合成法I−E
製造例I−29,I−36で得られたアミンを、ジメチルホルムアミドで20mg/mlの濃度に溶解し、0.5mlずつ試験管に分注した。それぞれに予め調製した、種々のカルボン酸の0.5Mジメチルホルムアミド溶液0.08ml、1−ヒドロキシベンズトリアゾール・一水和物の0.5Mジメチルホルムアミド溶液0.1ml、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミドの1Mジメチルホルムアミド溶液0.1ml、ジイソプロピルエチルアミン0.05mlを順次加え、一昼夜静置した。反応試験管に水を加え酢酸エチルで2回抽出し、溶媒を窒素吹き付けにより風乾して得られる残渣に、10%トリエチルシランを含有した1:1トリフルオロ酢酸ジクロロメタン混合溶液1mlを加え、1時間静置した。反応液を窒素吹き付けにより風乾して得られる残渣をN,N−ジメチルホルムアミド0.5mlに溶解して、それぞれを合成法I−Aに準じた条件で、LC−MSにより分離精製し、下記化合物を得た。
実施例I−163
N1−(3−イミダゾ[1,2−a]ピリジン−2−イル−1H−5−インダゾリル)−2−(3−チエニル)アセタミド
MS(ESI)m/z 374 MH
実施例I−164
N2−(3−イミダゾ[1,2−a]ピリジン−2−イル−1H−5−インダゾリル)−1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−2−カルボキサミド
MS(ESI)m/z 408 MH
実施例I−165
シクロプロパンカルボン酸[3−(5−フルオロベンゾ[b]フラン−2−イル)−1H−インダゾール−5−イル]アミド
MS(ESI)m/z 336 MH
実施例I−166
5−オキソ−ピロリジン−(2S)−2−カルボン酸[3−(5−フルオロベンゾ[b]フラン−2−イル)−1H−インダゾール−5−イル]アミド
MS(ESI)m/z 379 MH
実施例I−167〜I−168の化合物は、以下に記した合成法I−Fで合成した。
合成法I−F
製造例I−33で製造したtert−ブチル 3−(2−ナフチル)−5−(ヒドロキシメチル)−1H−1−インダゾールカルボキシレート0.19gを出発原料として、製造例I−30a〜bに従い、tert−ブチル 5−(アミノメチル)−3−(2−ナフチル)−1H−1−インダゾールカルボキシレート0.15gを無色油状物として得た。これを、合成法I−Eの方法に準じて、種々のカルボン酸と反応させ、酸処理した後、それぞれの反応液を実施例I−Aに準じた条件で、LC−MSにて分離精製し、以下の化合物を得た。
実施例I−167
N1−{[3−(2−ナフチル)−1H−5−インダゾリル]メチル}−3−メトキシプロパナミド
MS(ESI)m/z 360 MH
実施例I−168
N1−{[3−(2−ナフチル)−1H−5−インダゾリル]メチル}−2−(3−チエニル)アセタミド
MS(ESI)m/z 398 MH
実施例I−169〜I−171の化合物は、以下に記した合成法I−Gで合成した。
合成法I−G
製造例I−33で製造したtert−ブチル 5−(ヒドロキシメチル)−3−(2−ナフチル)−1H−1−インダゾールカルボキシレート373mgの乾燥テトラヒドロフラン10ml溶液に、氷冷下でトリエチルアミン0.17mlおよび塩化メタンスルホニル0.09mlを滴下し、20分撹拌した。得られた反応液1mlずつを試験管に分注し、各々に種々のアミンの1Mジメチルホルムアミド溶液を0.4mlずつ加え、一昼夜撹拌した。懸濁した反応液は少量の水を加えた後、メンブランフィルターでろ過した。それぞれの反応液を合成法I−Aに準じた条件で、LC−MSにて分離精製し、被験化合物を得た。
実施例I−169
4−{[3−(2−ナフチル)−1H−5−インダゾリル]メチル}モルホリン MS(ESI)m/z 344 MH
実施例I−170
5−(2,3−ジヒドロ−1H−1−インドリルメチル)−3−(2−ナフチル)−1H−インダゾール
MS(ESI)m/z 376 MH
実施例I−171
5−{[4−(2−メトキシフェニル)ピペラジノ]メチル}−3−(2−ナフチル)−1H−インダゾール
MS(ESI)m/z 449 MH
実施例I−172〜173の化合物は、以下に記した合成法I−Hで合成した。
合成法I−H
製造例I−33で得られたtert−ブチル 5−(ヒドロキシメチル)−3−(2−ナフチル)−1H−1−インダゾールカルボキシレート15mgおよびテトラヒドロフラン0.5mlを試験管に分注し、種々のフェノール類1当量を加えた。それぞれにトリフェニルホスフィン15mg、ジエチルアゾジカルボキシレートの40%トルエン溶液0.02mlを加え、1週間静置した。反応液を合成法I−Aに準じた条件で、LC−MSにて分離精製し、溶媒を窒素吹き付けにより留去して得られる残渣に、10%トリエチルシランを含有した1:1トリフルオロ酢酸ジクロロメタン混合溶液1mlを加え、1時間静置した。反応液を窒素吹き付けにより留去して得られる残渣をN,N−ジメチルホルムアミド0.5mlに溶解し合成法I−Aに準じた条件で、LC−MSにて分離精製し、下記化合物を得た。
実施例I−172
5−[(3−メトキシフェノキシ)メチル]−3−(2−ナフチル)−1H−インダゾール
MS(ESI)m/z 381 MH
実施例I−173
7−[3−(2−ナフチル)−1H−5−インダゾリル]メトキシ−2H−2−クロメノン
MS(ESI)m/z 419 MH
製造例II−1−a
1−ブロモ−4−フルオロ−2−メトキシ−ベンゼン
2−ブロモ−5−フルオロ−フェノール10gをN,N−ジメチルホルムアミド105mlに溶解し氷冷下で炭酸カリウム10.9gとヨードメタン4.9mlを加え、室温で3時間攪拌した。反応液に水を加え、ジエチルエーテルで抽出し、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去することにより標記化合物9.75gを黄色油状物として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.88(3H,s),6.59(1H,td,J=8.4,2.8Hz),6.65(1H,dd,J=10.4,2.8Hz),7.47(1H,dd,J=8.4,6.0Hz)
製造例II−1−b
(5−ブロモ−2−フルオロ−4−メトキシ−フェニル)−(3−フルオロ−フェニル)−メタノン
塩化アルミニウム716mgをシクロロメタン24.4mlに懸濁し、−60℃で攪拌下に3−フルオロベンゾイルクロライド0.65mlと、製造例II−1−aで得られた1−ブロモ−4−フルオロ−2−メトキシ−ベンゼン1gを加えた。2時間30分かけて室温まで昇温し、さらに3時間攪拌した。氷冷下で反応液に水を加え、ジエチルエーテルで抽出し、得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:10)で精製分離し、標記化合物856mgを白色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.98(3H,s),6.69(1H,d,J=11.6Hz),7.27−7.58(4H,m),7.83(1H,d,J=7.2Hz)
製造例II−1−c
4−フルオロ−5−(3−フルオロ−ベンゾイル)−2−メトキシ−ベンゾニトリル
製造例II−1−bで得られた(5−ブロモ−2−フルオロ−4−メトキシ−フェニル)−(3−フルオロ−フェニル)−メタノン856mgをN,N−ジメチルホルムアミド13.1mlに溶解し、シアン化亜鉛185mg、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム13.6mg、1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン17.4mgを加えて、窒素雰囲気下に120℃で7時間攪拌した。室温に戻してから反応液に水を加え、ジエチルエーテルで抽出し、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:2)で精製分離し、標記化合物203mgを淡黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 4.03(3H,s),6.78(1H,d,J=11.6Hz),7.30−7.37(1H,m),7.42−7.56(3H,m),7.89(1H,d,J=7.6Hz)
製造例II−1−d
3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボニトリル
製造例II−1−cで得られた4−フルオロ−5−(3−フルオロ−ベンゾイル)−2−メトキシ−ベンゾニトリル203mgをテトラヒドロフラン3ml、メタノール3mlに溶解し、室温攪拌下にヒドラジン一水和物7.4mlを加えた。室温で14時間攪拌後水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を1N塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、生成した結晶をジエチルエーテルで洗浄することにより、標記化合物172mgを淡黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDOD)δ 4.01(3H,s),7.14(1H,s),7.18(1H,td,J=8.4,2.8Hz),7.54(1H,td,J=8.4,6.0Hz),7.62−7.68(1H,m),7.76(1H,J=8.4Hz),8.37(1H,s)
製造例II−1−e
3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸
製造例II−1−dで得られる3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボニトリル172mgを酢酸2ml、水0.7ml、硫酸0.5mlに溶解し、110℃で18時間攪拌した。室温に戻してから水を加え、生成した結晶を水で洗浄することにより標記化合物159mgを淡桃色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDOD)δ 3.99(3H,s),7.12(1H,s),7.14−7.20(1H,m),7.55(1H,td,J=8.0,6.0Hz),7.61−7.67(1H,m),7.76(1H,d,J=8.0Hz),8.53(1H,s)
製造例II−2−a
(3−ブロモ−6−フルオロ−2−メトキシ−フェニル)−(3−フルオロ−フェニル)−メタノール
ジイソプロピルアミン1.64mlをテトラヒドロフラン27mlに溶解し、−50℃で攪拌下にノルマルブチルリチウム(1.57M ヘキサン溶液)6.8mlを加えた。−30℃で30分間攪拌した後、−60℃にし、製造例II−1−aで得られた1−ブロモ−4−フルオロ−2−メトキシ−ベンゼン2gを加えた。−60℃で1時間攪拌後、3−フルオロ−ベンズアルデヒド1.55mlを加え、1時間攪拌した。反応液に、飽和塩化アンモニア水溶液を加えた後、ジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去することにより、標記化合物2.4gを黄褐色油状物として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.52(3H,s),3.56(1H,d,J=10.4Hz),6.16(1H,d,J=11.6Hz),6.86(1H,t,J=8.8Hz),6.92−6.99(1H,m),7.07−7.16(2H,m),7.30(1H,td,J=8.0,6.0Hz),7.51(1H,dd,J=8.8,6.0Hz)
製造例II−2−b
(3−ブロモ1−6−フルオロ−2−メトキシ−フェニル)−(3−フルオロ−フェニル)−メタノン
製造例II−2−aで得られる(3−ブロモ−6−フルオロ−2−メトキシ−フェニル)−(3−フルオロ−フェニル)−メタノール2.4gをジクロロメタン24.3mlに溶解し、氷冷攪拌下1−メチルモルフォリン−N−オキシド1.28g、粉末状4Aモレキュラーシーブ3.65g、テトラプロピルアンモニウムパールテネート128mgを加え、室温で3時間攪拌した。反応液にイソプロピルアルコールを加えた後、セライトろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:8)で精製分離し、標記化合物2.07gを淡黄色油状物として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.80(3H,s),6.86(1H,dd,J=8.8,8.0Hz),7.29−7.36(1H,m),7.42−7.50(1H,m),7.54−7.61(2H,m),7.66(1H,dd,J=8.8,5.6Hz)
製造例II−2−c
5−ブロモ−3−(3−フルオロ−フェニル)−4−メトキシ−1H−インダゾール
製造例II−1−dの方法に準じて、製造例II−2−bで得られる(3−ブロモ1−6−フルオロ−2−メトキシ−フェニル)−(3−フルオロ−フェニル)−メタノン0.959gから、標記化合物0.703gを淡黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.51(3H,s),7.10−7.17(1H,m),7.17(1H,d,J=8.8Hz),7.45(1H,td,J=8.0,6.0Hz),7.56(1H,d,J=8.8Hz),7.69−7.75(1H,m),7.77(1H,d,J=8.0Hz)
製造例II−2−d
3−(3−フルオロ−フェニル)−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸
製造例II−2−cで得られる、5−ブロモ−3−(3−フルオロ−フェニル)、−4−メトキシ−1H−インダゾール230mgをテトラヒドロフラン4.78mlに溶解し、−78℃で攪拌下、ノルマルブチルリチウム(1.59Mヘキサン溶液)0.99mlを加えた。−78℃で30分攪拌した後、ドライアイスを加えた。同温で10分間攪拌した後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えた。酢酸エチルで抽出し、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:1)で精製分離し、標記化合物41.1mgを得た。
H−NMR(400MHz,CDOD)δ 3.55(3H,s),7.14−7.21(1H,m),7.36(1H,d,J=8.8Hz),7.50(1H,td,J=8.0,6.0Hz),7.60−7.65(1H,m),7.72(1H,d,J=8.0Hz),7.88(1H,d,J=8.8Hz)
製造例II−3−a
2,4−ジフルオロ−3−{(3−フルオロ−フェニル)−ヒドロキシメチル}−ベンゾニトリル
製造例II−2−aの方法に準じて、2,4−ジフルオロ−ベンゾニトリル5gから標記化合物9.35gを黄色油状物質として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 6.30(1H,s),6.98−7.18(4H,m),7.33(1H,td,J=8.0,6.0Hz),7.58−7.65(1H,m)
製造例II−3−b
2,4−ジフルオロ−3−(3−フルオロ−ベンゾイル)−ベンゾニトリル
製造例II−2−bの方法に準じて、製造例II−3−aで得られる2,4−ジフルオロ−3−{(3−フルオロ−フェニル)−ヒドロキシメチル}−ベンゾニトリル9.35gから、標記化合物6.29gを淡黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 7.19(1H,t,J=8.0Hz),7.36−7.44(1H,m),7.52(1H,td,J=8.0,6.0Hz),7.55−7.60(2H,m),7.78−7.86(1H,m)
製造例II−3−c
4−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−カルボニトリル
製造例II−1−dの方法に準じて、製造例II−3−bで得られる2,4−ジフルオロ−3−(3−フルオロ−ベンゾイル)−ベンゾニトリル952mgから標記化合物479mgを淡黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDOD)δ 7.17−7.23(1H,m),7.49−7.66(4H,m),7.70−7.75(1H,m)
製造例II−3−d
4−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−カ ルボン酸
製造例II−1−eの方法に準じて、製造例II−3−cで得られる4−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−カルボニトリル220mgから、標記化合物246mgを薄灰色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDOD)δ 7.14−7.21(1H,m),7.39(1H,d,J=8.8Hz),7.51(1H,td,J=8.0,6.0Hz),7.57−7.64(1H,m),7.68−7.73(1H,m),7.96(1H,dd,J=8.8,6.4Hz)
製造例II−4−a
(5−ブロモ−2−フルオロ−4−メチル−フェニル)−(3−フルオロ−フェニル)−メタノール
製造例II−2−aの方法に準じて、2−ブロモ−5−フルオロ−トルエン5.98gから、標記化合物11.6gを淡黄色油状物として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 2.36(3H,s),6.06(1H,s),6.93(1H,d,J=11.2Hz),6.96−7.00(1H,m),7.08−7.18(1H,m),7.31(1H,td,J=8.0,6.0Hz),7.63(1H,d,J=7.2Hz)
製造例II−4−b
(5−ブロモ1−2−フルオロ−4−メチル−フェニル)−(3−フルオロ−フェニル)−メタノン
製造例II−2−bの方法に準じて、製造例II−4−aで得られる(5−ブロモ−2−フルオロ−4−メチル−フェニル)−(3−フルオロ−フェニル)−メタノール11.6gから、標記化合物6.63gを黄色油状物として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 2.48(3H,s),7.08(1H,d,J=10.4Hz),7.28−7.35(1H,m),7.46(1H,td,J=8.0,5.6Hz),7.49−7.60(2H,m),7.73(1H,d,J=6.4Hz)
製造例II−4−c
5−ブロモ−3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メチル−1H−インダゾー
製造例II−1−dの方法に準じて、製造例II−4−bで得られる(5−ブロモ1−2−フルオロ−4−メチル−フェニル)−(3−フルオロ−フェニル)−メタノン2.42gから、標記化合物1.57gを白色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 2.56 3H,s),7.09−7.16(1H,m),7.40(1H,s),7.49(1H,td,J=8.0,6.0Hz),7.62−7.68(1H,m),7.70−7.75(1H,m),8.21(1H,s),10.10(1H,brs)
製造例II−4−d
3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メチル−1H−インダゾール−5−カルボン酸
製造例II−2−dの方法に準じて、製造例II−4−cで得られる5−ブロモ−3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メチル−1H−インダゾール670mgから、標記化合物195mgを薄褐色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDOD)δ 2.71(3H,s),7.12−7.20(1H,m),7.41(1H,s),7.50−7.81(4H,m),8.61(1H,s)
製造例II−5−a
1,5−ジブロモ−2,4−ジフルオロベンゼン
1−ブロモ−2,4−ジフルオロベンゼン1.6gを硫酸8.29mlに懸濁し、氷冷下にN−ブロモスクシンイミド1.62gを加えた。室温で17時間攪拌した後、反応液を氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン)で分離精製し、標記化合物2.18gを淡黄色油状物として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 6.99(1H,t,J=8.0Hz),7.77(1H,t,J=6.8Hz)
製造例II−5−b
(5−ブロモ−2,4−ジフルオロ−フェニル)−(3−フルオロ−フェニル) −メタノール
製造例II−5−aで得られる、1,5−ジブロモ−2,4−ジフルオロベンゼン2.02gをジエチルエーテル38ml溶解し、−70℃で攪拌下、ノルマルブチルリチウム(1.58Mヘキサン溶液)4.9mlを加えた。1時間攪拌した後、m−フルオロベンズアルデヒド4.9mlを加え、15分攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:10)で分離精製し、標記化合物0.96gを得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 6.07(1H,d,J=3.2Hz),6.87(1H,dd,J=9.6,8.4Hz),6.95−7.04(1H,m),7.07−7.18(2H,m),7.33(1H,td,J=8.4,6.0Hz),7.73(1H,t,J=8.0Hz)
製造例II−5−c
(5−ブロモ−2,4−ジフルオロ−フェニル)−(3−フルオロ−フェニル−メタノン
製造例II−2−bの方法に準じて、製造例II−5−bで得られる(5−ブロモ−2,4−ジフルオロ−フェニル)−(3−フルオロ−フェニル)−メタノール17.0gから、標記化合物8.34gを得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 7.02(1H,t,J=8.4Hz),7.30−7.64(4H,m),7.82(1H,t,J=7.6Hz)
製造例II−5−d
2,4−ジフルオロ−5−(3−フルオロ−ベンゾイル)−ベンゾニトリル
製造例II−1−cの方法に準じて、製造例II−5−cで得られる(5−ブロモ−2,4−ジフルオロ−フェニル)−(3−フルオロ−フェニル−メタノン4.03gから、標記化合物1.63gを黄褐色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 7.13(1H,t,J=8.8Hz),7.34−7.56(4H,m),7.93(1H,t,J=7.2Hz)
製造例II−5−e
6−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−カルボニトリル
製造例II−1−dの方法に準じて、製造例II−5−dで得られる2,4−ジフルオロ−5−(3−フルオロ−ベンゾイル)−ベンゾニトリル1.63gから、標記化合物0.982gを淡黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 7.26−7.36(1H,m),7.50−7.63(1H,m),7.73(1H,d,J=10.0Hz),7.80−7.86(1H,m),7.91(1H,d,J=8.0Hz),8.88(1H,d,J=6.0Hz)
製造例II−5−f
6−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸
製造例II−1−eの方法に準じて、製造例II−5−eで得られる6−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−カルボニトリル653mgから、標記化合物415mgを淡黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 7.27−7.35(1H,m),7.49(1H,d,J=11.2Hz),7.63(1H,td,J=8.0,6.0Hz),7.70−7.76(1H,m),7.82(1H,d,J=8.0Hz)
製造例II−6
3−(3−フルオロ−フェニル)−6−ヒドロキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸
製造例II−1−eで得られる、3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸96.2mgをジクロロメタン3.36mlに溶解し、氷冷下で三臭化ホウ素(1.0Mジクロロメタン溶液)4.0mlを加え、室温で1時間30分攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去することにより、標記化合物粗生成物84.1mgを得た。
H−NMR(400MHz,CDOD)δ 6.93(1H,s),7.13−7.23(1H,m),7.50−7.79(3H,m),8.63(1H,s)
製造例II−7−a
2−アミノ−4−フルオロ−安息香酸 エチルエステル
2−アミノ−4−フルオロ−安息香酸10gをエタノール129mlに溶解し、硫酸6.45mlを加え11時間加熱還流した。室温に戻し、減圧下に溶媒を半分程度までに留去し、水を加えて、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:5)で分離精製し、標記化合物7.57gを淡黄色油状物として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 1.38(3H,t,J=6.8Hz),4.32(2H,q,J=6.8Hz),5.88(2H,brs),6.28−6.38(2H,m),7.88(1H,dd,J=8.8,6.8Hz)
製造例II−7−b
2−アセチルアミノ−4−フルオロ−安息香酸 エチルエステル
製造例II−7−aで得られる、2−アミノ−4−フルオロ−ベンゾイック−アシッド エチルエステル3.84gをピリジン50mlに溶解し、氷冷下にアセチルクロライド1.64mlを加え、1時間攪拌した。反応液に水を加え、ジエチルエーテルで抽出し、得られた有機層を1N塩酸、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し減圧濃縮することにより、標記化合物4.0gを得た。 H−NMR(400MHz,CDCl)δ 1.41(3H,t,J=6.8Hz),2.14(3H,s),4.38(2H,q,J=6.8Hz),6.73−6.81(1H,m),8.06(1H,dd,J=8.8,6.4Hz),8.53(1H,dd,J=12.0,2.4Hz),11.3(1H,brs)
製造例II−7−c
2−アセチルアミノ−4−フルオロ−5−ヨード−安息香酸 エチルエステル
硫酸銀3.12gを硫酸45mlに懸濁させ、水5mlを加えて室温で15分攪拌した。ヨージンモノクロライド1mlを加え室温で1時間攪拌した後、ろ過した。得られたろ液44mlに氷冷下、製造例II−7−bで得られる、2−アセチルアミノ−4−フルオロ−ベンゾイック−アシッド エチルエステル2gを加え、1時間攪拌した。反応液を氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:5)で分離精製し、標記化合物2.9gを白色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 1.43(3H,t,J=6.8Hz),2.24(3H,s),4.39(2H,q,J=6.8Hz),8.41(1H,d,J=7.2Hz),8.59(1H,d,J=11.2Hz)
製造例II−7−d
2−アセチルアミノ−4−フルオロ−5−(3−フルオロ−ベンゾイル)−安息香酸 エチルエステル
製造例II−7−cで得られる、2−アセチルアミノ−4−フルオロ−5−ヨード−ベンゾイック−アシッド エチルエステル812mgをアニソール13.9mlに溶解し、炭酸カリウム956mg、3−フルオロフェニル−ボロン酸356mg、ビストリフェニルホスフィンパラジウムジクロライド49mgを加えた。反応系内を一酸化炭素で置換し、一酸化炭素雰囲気下(常圧)、80℃で14時間攪拌した。室温に戻し、反応系内を窒素で置換してから水を加え、酢酸エチルで抽出し、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:5)で分離精製し、標記化合物234mgを淡黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 1.43(3H,t,J=6.8Hz),2.27(3H,s),4.41(2H,q,J=6.8Hz),7.05−7.12(1H,m),7.20−7.46(3H,m),8.15(1H,d,J=8.8Hz),8.64(1H,d,J=13.6Hz)
製造例II−7−e
6−アセチルアミノ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 エチルエステル
製造例II−1−dの方法に準じて、製造例II−7−dで得られる2−アセチルアミノ−4−フルオロ−5−(3−フルオロ−ベンゾイル)−ベンゾイック−アシッド エチルエステル234mgから、標記化合物160mgを淡黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 1.47(3H,t,J=6.8Hz),2.32(3H,s),4.46(2H,q,J=6.8Hz),7.12−7.19(1H,m),7.51(1H,td,J=8.0,6.0Hz),7.64−7.70(1H,m),7.75(1H,d,J=8.0Hz),8.79(1H,s),8.99(1H,s)
製造例II−7−f
6−アセチルアミノ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸
製造例II−7−eで得られる、6−アセチルアミノ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 エチルエステル160mgをエタノール3ml、5N水酸化ナトリウム水溶液1mlに溶解し、50℃で2時間攪拌した。室温に戻してから、1N塩酸を加え酢酸エチルで抽出し、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去することにより、標記化合物155mgを淡黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDOD)δ 2.24(3H,s),7.14−7.21(1H,m),7.56(1H,td,J=8.0,6.0Hz),7.63−7.68(1H,m),7.77(1H,d,J=8.0Hz),8.79−8.85(2H,m)
製造例II−8−a
4−フルオロ−3−[(3−フルオロフェニル)−ヒドロキシメチル]−5−メトキシベンゾニトリル
窒素雰囲気下、4−フルオロ−3−メトキシベンゾニトリル15.0gおよびN,N,N’,N’,N”−ペンタメチルジエチレントリアミン21.8mlのテトラヒドロフラン300ml溶液に、−78℃で1.59M ノルマルブチルリチウムのヘキサン溶液65.5mlを加え、同温で1時間撹拌した。同温で3−フルオロベンズアルデヒド10.5mlを滴下し、同温で1時間撹拌した後、水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を、飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ノルマルヘキサン=1:10〜1:3)で精製分離し、標記化合物7.1gを無色油状物として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 2.55(1H,brs),3.89(3H,s),6.13(1H,s),6.98(1H,dt,J=2.0,8.0Hz),7.10(1H,d,J=8.0Hz),7.12(1H,dd,J=2.0,8.0Hz),7.16(1H,d,J=8.0Hz),7.31(1H,dt,J=5.6,8.0Hz),7.50(1H,dd,J=2.0,5.6Hz)
製造例II−8−b
4−フルオロ−3−(3−フルオロベンゾイル)−5−メトキシベンゾニトリル 4−フルオロ−3−[(3−フルオロフェニル)−ヒドロキシメチル]−5−メトキシベンゾニトリル7.0gのトルエン70ml溶液に、室温で活性化二酸化マンガン11.1gを加え、60℃で1日撹拌した後、二酸化マンガンをセライト濾去した。溶媒を留去し、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:n−ヘキサン=1:3)で精製分離し、標記化合物640mgを無色結晶物として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.99(3H,s),7.35(1H,dt,J=1.2,5.6Hz),7.37(1H,dd,J=2.0,8.0Hz),7.42(1H,dd,J=2.0,5.6Hz),7.48(1H,dt,J=5.6,8.0Hz),7.51−7.58(2H,m)
製造例II−8−c
3−(3−フルオロフェニル)−7−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボニトリル
4−フルオロ−3−(3−フルオロベンゾイル)−5−メトキシベンゾニトリル640mgのエタノール6ml溶液に、室温でヒドラジン一水和物3mlを加え、70℃で1日撹拌した。反応液を減圧下に濃縮し、析出した結晶を濾取した。結晶をエタノール、ジエチルエーテルで順次洗浄し、標記化合物590mgを無色結晶物として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 4.03(3H,s),7.23−7.29(1H,m),7.25(1H,d,J=1.2Hz),7.55(1H,dt,J=6.4,8.0Hz),7.78(1H,ddd,J=1.2,2.4,6.4Hz),7.88(1H,dt,J=1.2,8.0Hz),8.31(1H,d,J=1.2Hz)
製造例II−8−d
3−(3−フルオロフェニル)−7−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸
3−(3−フルオロフェニル)−7−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボニトリル450mgに氷酢酸6ml、水2ml、濃硫酸2mlを順次加え、100℃で1日撹拌した。放冷後、反応液に水を加え、析出した結晶を濾取した。結晶をイソプロパノール、ジエチルエーテルで順次洗浄し、標記化合物428mgを無色結晶物として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 4.03(3H,s),7.27(1H,dt,J=2.4,8.0Hz),7.37(1H,s),7.60(1H,dt,J=6.4,8.0Hz),7.69(1H,ddd,J=1.2,2.4,6.4Hz),7.80(1H,d,J=8.0Hz),8.24(1H,s)
製造例II−9−a
(5−ブロモ−2−フルオロ−3−メチルフェニル)−(3−フルオロフェニル)メタノール
窒素雰囲気下、N,N−ジイソプロピルアミン16.3mlのテトラヒドロフラン400ml溶液に0℃で1.57M ノルマルブチルリチウムのヘキサン溶液74.1mlを加え、同温で30分間撹拌した。−78℃に冷却後、5−ブロモ−2−フルオロトルエン20.0gのテトラヒドロフラン40ml溶液を滴下した。同温で1時間撹拌した後、3−フルオロベンズアルデヒド11.2mlを滴下し、同温で3時間撹拌した。1規定塩酸で中和し、酢酸エチルで希釈した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ノルマルヘキサン=1:20)で精製分離し、標記化合物20.6gを無色油状物として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 2.23(3H,s),2.34(1H,d,J=4.0Hz),6.06(1H,d,J=4.0Hz),6.98(1H,dt,J=2.4,8.0Hz),7.12(1H,d,J=8.0Hz),7.17(1H,d,J=8.0Hz),7.25(1H,d,J=6.0Hz),7.31(1H,dt,J=6.0,8.0Hz),7.50(1H,dd,J=2.4,6.0Hz)
製造例II−9−b
5−ブロモ−3−(3−フルオロフェニル)−7−メチル−1H−インダゾール
(5−ブロモ−2−フルオロ−3−メチルフェニル)−(3−フルオロフェニル)メタノール20.0gのトルエン200ml溶液に、室温で活性化二酸化マンガン16.7gを加え、80℃で2時間撹拌した後、二酸化マンガンをセライト濾去した。溶媒を留去した後、残渣のエタノール100ml溶液に、室温でヒドラジン一水和物15.5mlを加え、1日加熱還流した。減圧下に濃縮し、酢酸エチルで希釈し、有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣のピリジン20ml溶液を、封管中200℃で10時間撹拌した。冷却後、減圧下に濃縮し、残渣を酢酸エチルおよび5規定塩酸に溶解させ、水層を酢酸エチルで抽出した。有機層をあわせて飽和食塩水で洗浄し,無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。得られた粗結晶を酢酸エチルで洗浄し、標記化合物11.3gを無色結晶物として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 2.58(3H,s),7.15(1H,ddd,J=0.8,2.4,8.0Hz),7.33(1H,dd,J=0.8,1.6Hz),7.53(1H,dt,J=6.0,8.0Hz),7.61(1H,ddd,J=1.6,2.4,6.0Hz),7.72(1H,ddd,J=0.8,1.6,8.0Hz),8.31(1H,dd,J=0.8,1.6Hz)
製造例II−9−c
5−ブロモ−3−(3−フルオロフェニル)−7−メチル−1−トリチル−1H−インダゾール
5−ブロモ−3−(3−フルオロフェニル)−7−メチル−1H−インダゾール2.56gのジメチルホルムアミド30ml溶液に、室温で水素化ナトリウム0.50gを加え、同温で15分間撹拌した。同温でトリフェニルメタンクロライド2.34gを加えて1日撹拌した。反応液に水を加えて、酢酸エチルで希釈し、有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ノルマルヘキサン=1:10)で精製分離し、得られた結晶をジエチルエーテルで洗浄し、標記化合物1.94gを無色結晶物として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 1.43(3H,s),7.01(1H,ddd,J=0.8,2.4,8.0Hz),7.08(1H,dd,J=0.8,1.6Hz),7.10−7.32(15H,m),7.37(1H,dt,J=6.0,8.0Hz),7.41(1H,ddd,J=1.6,2,4,6.0Hz),7.54(1H,ddd,J=0.8,1.6,8.0Hz),8.07(1H,dd,J=0.8,1.6Hz)
製造例II−9−d
3−(3−フルオロフェニル)−7−メチル−1H−インダゾール−5−カルボ ニトリル
5−ブロモ−3−(3−フルオロフェニル)−7−メチル−1−トリチル−1H−インダゾール1.5gのジメチルホルムアミド15ml溶液に、室温でシアン化亜鉛0.64g、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(O)0.32gを加えて、100℃で1日撹拌した。同温でテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(O)0.32gを追加し、130℃で1日撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ノルマルヘキサン=1:10〜1:1)で精製分離し、得られた結晶をジエチルエーテルで洗浄し、標記化合物431mgを無色結晶物として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 2.57(3H,s),7.26(1H,dd,J=2.4,8.0Hz),7.53(1H,s),7.56(1H,dt,J=6.0,8.0Hz),7.79(1H,dt,J=2.4,6.0Hz),7.89(1H,d,J=8.0Hz),8.55(1H,s)
製造例II−9−e
3−(3−フルオロフェニル)−7−メチル−1H−インダゾール−5−カルボン酸
3−(3−フルオロフェニル)−7−メチル−1H−インダゾール−5−カルボニトリル430mgに氷酢酸6.0ml、水2.0ml、濃硫酸2.0mlを順次加え、100℃で1日撹拌した。放冷後、反応液に水20mlを加え、析出した結晶を濾取した。得られた結晶を水、ジエチルエーテルで順次洗浄し、標記化合物360mgを無色結晶物として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 2.58(3H,s),7.27(1H,dd,J=2.4,8.0Hz),7.61(1H,q,J=8.0Hz),7.71(1H,dd,J=2.4,8.0Hz),7.76(1H,s),7.81(1H,d,J=8.0Hz),8.46(1H,s)
製造例II−10−a
(3−ブロモ−6−フルオロ−2−メトキシ−フェニル)−ナフタレン−2−イル−メタノール
窒素雰囲気下、−78℃でN,N−ジイソプロピルアミン0.64gのテトラヒドロフラン9ml溶液に2.66M n−ブチルリチウムのヘキサン溶液2.38mlを加え、同温で1時間撹拌後、製造例II−1−aで得られた1−ブロモ−4−フルオロ−2−メトキシ−ベンゼン1.18gを滴下した。同温で1時間20分撹拌した後、2−ナフトアルデヒド0.99gのテトラヒドロフラン4ml溶液を滴下した。同温で1時間20分撹拌後、氷冷下で水を加え、ジエチルエーテルで2回抽出した。水、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製分離し、標記化合物1.72gを淡黄色オイルとして得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.46(3H,s),3.68(1H,d,J=10.8Hz),6.35(1H,d,J=10.8Hz),6.88(1H,t,J=8.8Hz),7.42−7.53(4H,m),7.80−7.85(4H,m)
製造例II−10−b
(3−ブロモ−6−フルオロ−2−メトキシ−フェニル)−ナフタレン−2−イル−メタノン
(3−ブロモ−6−フルオロ−2−メトキシ−フェニル)−ナフタレン−2−イル−メタノール1.72gの塩化メチレン34.4ml溶液に、活性化二酸化マンガン5.16gを加え、室温で17時間撹拌した後、二酸化マンガンをセライト濾去した。溶媒を留去して、標記化合物1.63gを黄色オイルとして得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.80(3H,s),6.91(1H,dd,J=8.0,8.8Hz),7.51−7.55(1H,m),7.59−7.68(2H,m),7.87−7.93(3H,m),8.02(1H,dd,J=1.6,8.4Hz),8.20(1H,bs)
製造例II−10−c
5−ブロモ−4−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール
(3−ブロモ−6−フルオロ−2−メトキシ−フェニル)−ナフタレン−2−イル−メタノン1.63gをピリジン15mlに溶解し、ヒドラジン一水和物2.2mlを加え100℃で6時間撹拌した。反応液に水を加えた後、酢酸エチルで2回抽出した。有機層を、1規定塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去した後、得られた結晶をヘキサンで1回洗浄して、減圧下に乾燥し、標記化合物0.923gを茶色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDOD)δ 3.39(3H,s),7.31(1H,d,J=8.8Hz),7.52−7.58(3H,m),7.91−8.03(4H,m),8.40(1H,bs)
ESI−MS:m/z=351,353(M−H)
製造例II−10−d
4−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸
窒素雰囲気下、−78℃で5−ブロモ−4−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール0.923gのテトラヒドロフラン26ml溶液に、2.66M n−ブチルリチウムのヘキサン溶液2.94mlを加え、同温で1時間15分撹拌後、同温で10分間二酸化炭素ガスをバブルした。さらに同温で15分間撹拌した後、室温で20分間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて、酢酸エチルで2回抽出し、有機層を飽和食塩水で1回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、得られた結晶をヘキサン:ジエチルエーテル=1:1溶媒で1回洗浄後、減圧下に乾燥し、標記化合物0.586gを茶色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDOD)δ 3.48(3H,s),7.36(1H,d,J=8.8Hz),7.51−7.55(2H,m),7.88−8.02(5H,m),8.39(1H,bs)
ESI−MS:m/z=317(M−H)
製造例II−11−a
3−ブロモ−6−フルオロ−2−メトキシ−ベンズアルデヒド
窒素雰囲気下、−78℃でN,N−ジイソプロピルアミン5gのテトラヒドロフラン89ml溶液に、2.66M n−ブチルリチウムのヘキサン溶液18.7mlを加え、同温で1時間10分撹拌後、製造例II−1−aで得られた1−ブロモ−4−フルオロ−2−メトキシ−ベンゼン9.27gを滴下した。同温で1時間30分撹拌した後、N−ホルミルピペリジン5.52mlを滴下した。同温で25分間撹拌後、同温で酢酸9mlを加え、室温で水を加えた後、ジエチルエーテルで3回抽出した。0.2N塩酸水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製分離し、標記化合物5.65gを薄黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.97(3H,s),6.90(1H,dd,J=9.0,9.6Hz),7.76(1H,dd,J=5.6,9.0Hz),10.35(1H,s)
製造例II−11−b
ベンゾ[b]フラン−2−イル−(3−ブロモ−6−フルオロ−2−メトキシ−フェニル)−メタノール
窒素雰囲気下、−78℃で2,3−ベンゾフラン1.12gのテトラヒドロフラン10ml溶液に、2.66M n−ブチルリチウムのヘキサン溶液3.56mlを加え、同温で10分間撹拌後、氷冷下で15分間撹拌し、再び−78℃で8分間撹拌した。その後、同温で3−ブロモ−6−フルオロ−2−メトキシ−ベンズアルデヒド2gのテトラヒドロフラン3.5ml溶液を滴下した。同温で30分間撹拌した後、同温で飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、室温で水を加え、ジエチルエーテルで2回抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製分離し、標記化合物2gを黄色オイルとして得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.74−3.78(4H,m),6.28(1H,d,J=10.4Hz),6.647−6.652(1H,m),6.86(1H,t,J=9.2Hz),7.18−7.26(2H,m),7.40−7.43(1H,m),7.51−7.54(2H,m)
製造例II−11−c
ベンゾ[b]フラン−2−イル−(3−ブロモ−6−フルオロ−2−メトキシ−フェニル)−メタノン
製造例II−10−bに従い、ベンゾ[b]フラン−2−イル−(3−ブロモ−6−フルオロ−2−メトキシ−フェニル)−メタノール2gから、標記化合物1.93gを黄色オイルとして得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.86(3H,s),6.90(1H,dd,J=8.0,8.8Hz),7.29−7.33(1H,m),7.37(1H,bs),7.48−7.53(1H,m),7.58−7.61(1H,m),7.64−7.69(2H,m)
製造例II−11−d
3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−5−ブロモ−4−メトキシ−1H−インダゾール
製造例II−10−cに従い、ベンゾ[b]フラン−2−イル−(3−ブロモ−6−フルオロ−2−メトキシ−フェニル)−メタノン1.93gから、標記化合物1.38gを茶色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDOD)δ 3.86(3H,s),7.25−7.37(3H,m),7.53(1H,d,J=1.2Hz),7.57−7.61(2H,m),7.69−7.71(1H,m)
ESI−MS:m/z=341,343(M−H)
製造例II−11−e
3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸
製造例II−10−dに従い、3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−5−ブロモ−4−メトキシ−1H−インダゾール0.69gから、標記化合物0.2gを茶色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDOD)δ 3.48(3H,s),7.36(1H,d,J=8.8Hz),7.51−7.55(2H,m),7.88−8.02(5H,m),8.39(1H,bs)
ESI−MS:m/z=307(M−H).
製造例II−12−a
ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−(3−ブロモ−6−フルオロ−2−メトキシ−フェニル)−メタノール
製造例II−11−bに従い、製造例II−11−aによって得られた3−ブロモ−6−フルオロ−2−メトキシ−ベンズアルデヒド2gとベンゾ[b]チオフェンから、標記化合物2.14gをオレンジ色オイルとして得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.66(3H,s),4.05(1H,d,J=11.2Hz),6.38(1H,d,J=11.2Hz),6.88(1H,t,J=9.2Hz),6.97−6.98(1H,m),7.26−7.33(2H,m),7.54(1H,dd,J=6.0,8.8Hz),7.64−7.66(1H,m),7.77−7.79(1H,m)製造例II−12−b
ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−(3−ブロモ−6−フルオロ−2−メトキシ−フェニル)−メタノン
製造例II−10−bに従い、ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−(3−ブロモ−6−フルオロ−2−メトキシ−フェニル)−メタノール2.14gから、標記化合物2.04gをオレンジ色オイルとして得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.85(3H,s),6.91(1H,dd,J=7.6,8.8Hz),7.37−7.41(1H,m),7.46−7.50(1H,m),7.64−7.68(2H,m),7.81−7.84(1H,m),7.88−7.90(1H,m)
製造例II−12−c
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−5−ブロモ−4−メトキシ−1H−インダゾール
製造例II−10−cに従い、ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−(3−ブロモ−6−フルオロ−2−メトキシ−フェニル)−メタノン2.04gから、標記化合物1.42gを黒緑色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDOD)δ 3.76(3H,s),7.29(1H,d,J=8.8Hz),7.33−7.39(2H,m),7.58(1H,d,J=8.8Hz),7.86−7.88(2H,m),8.10(1H,bs)
ESI−MS:m/z=357,359(M−H)
製造例II−12−d
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸
製造例II−10−dに従い、3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−5−ブロモ−4−メトキシ−1H−インダゾール1.42gから、標記化合物0.64gを黒緑色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDOD)δ 3.84(3H,s),7.33−7.39(3H,m),7.86−7.90(3H,m),8.14(1H,bs)
ESI−MS:m/z=323(M−H)
製造例II−13−a
2,4−ジフルオロ−3−ホルミル−ベンゾニトリル
窒素雰囲気下、氷冷下にN,N−ジイソプロピルアミン11.1gのテトラヒドロフラン100ml溶液に1.6M n−ブチルリチウムのヘキサン溶液66mlを加え、同温で20分間撹拌した。−78℃に冷却後、2、4−ジフルオロベンゾニトリル13.9gのテトラヒドロフラン15ml溶液を滴下した。同温で10分間撹拌した後、ジメチルホルムアミド8.6mlを滴下し、同温で15分間撹拌した。反応液に、氷酢酸20mlを加えた後、水200mlを加え、ジエチルエーテルで二回抽出した。有機層を、0.2規定塩酸、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、得られた粗結晶を、ジエチルエーテル−ノルマルヘキサンでトリチュレーションし、標記化合物8.61gを山吹色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 7.53(1H,t,J=8.8Hz),8.33(1H,ddd,J=6.0,7.2,8.8Hz),10.17(1H,s)
製造例II−13−b
4−フルオロ−1H−インダゾール−5−カルボニトリル
製造例II−13−aで得られた2,4−ジフルオロ−3−ホルミル−ベンゾニトリル8.55gをテトラヒドロフラン40mlおよびメタノール40mlに溶解し、ヒドラジン一水和物5.1mlを加え室温で3日間攪拌、50℃で3時間、70度で3時間攪拌した。反応液に氷水150mlを加え、酢酸エチル300mlおよびテトラヒドロフラン100mlを加え、不要物を濾去した。有機層を、水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:トルエン=1:9−1:4)で精製分離し、標記化合物509mgを、山吹色結晶として得た。さらに、不純物との混合部分をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ノルマルヘキサン=1:4−1:0)で再度精製し、標記化合物1.80gを山吹色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 7.58(1H,d,J=8.8Hz),7.70(1H,dd,J=6.0,8.8Hz),8.45(1H,s),13.94(1H,s)
製造例II−13−c
4−フルオロ−1H−インダゾール−カルボン酸 メチルエステル
製造例II−13−bで得られた4−フルオロ−1H−インダゾール−5−カルボニトリル1.65gに氷酢酸8ml、水8ml、濃硫酸16mlを加え110℃で4時間撹拌した。放冷後、氷水150mgを加え、析出したカルボン酸を濾取した。氷冷下、得られたカルボン酸のジメチルホルムアミド12ml−テトラヒドロフラン40ml溶液に、過剰のジアゾメタンのジエチルエーテル溶液を加え、同温で45分間撹拌した。溶媒を減圧下に留去後、残渣を酢酸エチル100mlに溶解し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、標記化合物1.98gを山吹色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 3.87(3H,s),7.45(1H,d,J=8.8Hz),7.82(1H,dd,J=6.8,8.8Hz),8.36(1H,s),13.70(1H,s)
製造例II−13−d
3−ブロモ−4−フルオロ−1H−5−インダゾールカルボン酸 メチルエステル
室温下、製造例II−13−cで得られた4−フルオロ−1H−5−インダゾールカルボン酸 メチルエステル2.2gのジメチルホルムアミド20ml溶液に、N−ブロモスクシンイミド2.12gを加え、同温で1時間撹拌した。溶媒を留去後、残査に酢酸エチル120mlを加え、半飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、標記化合物3.0gを山吹色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 3.88(3H,s),7.48(1H,d,J=8.8Hz),7.85(1H,dd,J=6.4,8.8Hz),14.00(1H,s)
製造例II−13−e
3−ブロモ−4−フルオロ−1−トリチル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 メチルエステル
氷冷下、製造例II−13−dで得られた3−ブロモ−4−フルオロ−1H−5−インダゾールカルボン酸 メチルエステルル2.99gのテトラヒドロフラン30ml溶液に、60%水素化ナトリウム526mgを加え25分間撹拌した後、トリフェニルメチルクロライド3.21gを加え、同温で15分間、さらに室温で45分間撹拌した。反応液を再び氷冷し、飽和炭酸水素ナトリウム水を加えた後、酢酸エチル100mlで抽出した。有機層を、水(2回)、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:9)で精製分離し、得られた結晶をジイソプロピルエーテルより再結晶し、標記化合物1.73gを白色針状晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 3.83(3H,s),6.30(1H,d,J=8.8Hz),7.12−7.20(6H,m),7.30−7.40(9H,m),7.55(1H,dd,J=6.8,8.8Hz)
製造例II−13−f
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−フルオロ−1H−5−インダゾールカルボン酸 メチルエステル
製造例II−13−eで得られた、3−ブロモ−4−フルオロ−1−トリチル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 メチルエステル515mgのジメチルホルムアミド7.5ml溶液に、2−ベンゾ[b]チオフェンボロン酸267mg、フッ化カリウム291mgの1ml水溶液、2−(ジ−tert−ブチルフォスフィノ)ビフェニル30mg、パラジウム(II)アセテート12mgを順次加え、55℃で1時間撹拌した。反応液を氷冷後、析出した結晶を濾取した。得られた結晶を、酢酸エチルとテトラヒドロフランの混合溶液に溶解後、水、半飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、粗カップリング体504mgを得た。得られた粗カップリング体350mgを塩化メチレン4mlに懸濁し、トリフルオロ酢酸2ml、トリイソプロピルシラン0.1mlを加え、室温で15分間撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水を加えた後、酢酸エチル50mlで抽出した。有機層を、飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:トルエン=1:9)で精製分離し、標記化合物154mgを、淡黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 3.91(3H,s),7.38−7.45(2H,m),7.52(1H,d,J=8.8Hz),7.91(1H,dd,J=6.8,8.8Hz),7.96−8.03(2H,m),8.05(1H,s),14.01(1H,s).
製造例II−13−g
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−フルオロ−1H−5−インダゾールカルボン酸
製造例II−13−fで得られた、3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−フルオロ−1H−5−インダゾールカルボン酸 メチルエステル152mgのテトラヒドロフラン2mlとメタノール2mlの混合溶液に、5規定水酸化ナトリウム水溶液1mlを加え、55℃で2.5時間撹拌した。放冷後、1規定塩酸5.5mlを加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を、水および飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、得られた粗生成物をテトラヒドロフラン−酢酸エチルより再結晶し、標記化合物104mgを淡赤色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 7.36−7.43(2H,m),7.47(1H,d,J=8.8Hz),7.88(1H,dd,J=6.4,8.8Hz),7.95−8.00(2H,m),8.03(1H,s),13.16(1H,s).
製造例II−14−a
4−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−5−インダゾールカルボン酸 メチルエステル
製造例II−13−fの方法に準じ、製造例II−13−eで製造した3−ブロモ−4−フルオロ−1−トリチル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 メチルエステル515mgと、2−ナフタレンボロン酸258mgから、鈴木カップリング体495mgを得た。カップリング体350mgを製造例II−13−fの方法に準じて、トリチル基を脱保護して標記化合物154mgを山吹色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 3.88(3H,s),7.52(1H,d,J=8.8Hz),7.56−7.62(2H,m),7.89(1H,dd,J=6.4,8.0Hz),7.96−8.10(4H,m)8.39(1H,s),13.94(1H,s)
製造例II−14−b
4−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−5−インダゾールカルボン酸 製造例II−13−gの方法に準じて、製造例II−14−aで製造した4−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−5−インダゾールカルボン酸 メチルエステル152mgから、標記化合物63mgを山吹色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 7.49(1H,d,J=8.8Hz),7.55−7.61(2H,m),7.88(1H,dd,J=6.4,8.8Hz),7.96−8.08(4H,m),8.39(1H,s),13.08(1H,s),13.88(1H,s).
製造例II−15−a
3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−1H−5−インダゾールカルボン酸 メチルエステル
製造例II−13−fの方法に準じ、製造例II−13−eで製造した3−ブロモ−4−フルオロ−1−トリチル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 メチルエステル308mgと、2−ベンゾ[b]フランボロン酸145mgから、標記化合物123mgを山吹色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 3.91(3H,s),7.32(1H,t,J=7.6Hz),7.39(1H,dd,J=7.6,8.4Hz),7.51(1H,s),7.54(1H,d,J=8.8Hz),7.69(1H,d,J=8.4Hz),7.78(1H,d,J=7.6Hz),7.91(1H,dd,J=6.4,8.8Hz),14.15(1H,s)
製造例II−15−b
3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−1H−5−インダゾールカルボン酸
製造例II−13−gの方法に準じ、製造例II−15−aで得られた3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−1H−5−インダゾールカルボン酸 メチルエステル121mgから、標記化合物115mgを山吹色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 7.32(1H,t,J=7.6Hz),7.39(1H,dd,J=7.6,8.0Hz),7.50(1H,s),7.50(1H,d,J=8.8Hz),7.69(1H,d,J=8.0Hz),7.76(1H,d,J=7.6Hz),7.90(1H,dd,J=6.8,8.8Hz),13.18(1H,s),14.09(1H,s)
製造例II−16−a
ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−(5−ブロモ−2,4−ジフルオロフェニル)メタノン
製造例II−5−aで得られる、1,5−ジブロモ−2,4−ジフルオロベンゼン17.7gを原料として、製造例II−5−bと同様にn−ブチルリチウムでリチオ化し、N,N−ジメチルホルムアミドを用いてホルミル化して5−ブロモ−2,4−ジフルオロベンズアルデヒド10.7gを得た。このものに、製造例II−12−aと同様に、ベンゾチオフェンを反応させてアルコールとし、次いで製造例II−10−bと同様な方法で酸化し、標記化合物9.7gを無色油状物として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 7.07(1H,t,J=8.6Hz),7.44(1H,t,J=8.4Hz),7.52(1H,t,J=8.4Hz),7.77(1H,s),8.65(1H,d,J=6.6Hz),13.50−13.60(1H,bs).
製造例II−16−b
5−(ベンゾ[b]チオフェン−2−カルボニル)−2,4−ジフルオロ−ベンゾニトリル
製造例II−1−cに準じて、ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−(5−ブロモ−2,4−ジフルオロフェニル)メタノン2.98gから、標記化合物1.46gを淡黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 7.16(1H,t,J=8.8Hz),7.44(1H,t,J=8.0Hz),7.53(1H,t,J=8.0Hz),7.73(1H,s),7.88(1H,d,J=8.0Hz),7.91(1H,d,J=8.0Hz).
製造例II−16−c
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−6−フルオロ−1H−インダゾール−5−カルボニトリル
製造例II−10−cに準じて、5−(ベンゾ[b]チオフェン−2−カルボニル)−2,4−ジフルオロ−ベンゾニトリル1.46gから、標記化合物1.08gを淡黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 7.37−7.45(2H,m),7.74(1H,d,J=10.0Hz),7.86−7.91(1H,m),7.97−8.01(1H,m),8.39(1H,s),9.06(1H,d,J=6.0Hz).
製造例II−16−d
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−6−フルオロ−1H−インダゾール−5−カルボン酸
製造例II−16−cで得られた、3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−6−フルオロ−1H−インダゾール−5−カルボニトリル600mgを、製造例II−1−eと同様な方法で加水分解し、標記化合物310mgを淡褐色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 7.36−7.43(2H,m),7.50(1H,d,J=10.9Hz),7.97−8.02(2H,m),8.16(1H,s),8.73(1H,d,J=6.9Hz),13.15−13.30(1H,bs),13.69(1H,s).
製造例II−17−a
(5−ブロモ−2,4−ジフルオロフェニル)ナフタレン−2−イル−メタノン 製造例II−5−aで得られる、1,5−ジブロモ−2,4−ジフルオロベンゼン13.6gを、製造例II−5−bと同様にn−ブチルリチウムを用いてリチオ化した後、2−ナフトアルデヒドと反応させてアルコールを得、次いでアルコールを製造例II−10−bと同様な方法で酸化し、標記化合物13.5gを無色油状物として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 7.51−7.59(2H,m),7.63(1H,d,J=9.0Hz),7.93−7.96(1H,m),8.02(1H,d,J=8.4Hz),8.14−8.18(1H,m),8.15(1H,dd,J=1.6,8.4Hz),8.56(1H,d,J=1.6Hz),8.61(1H,d,J=6.5Hz),13.45−13.65(1H,bs).
製造例II−17−b
2,4−ジフルオロ−5−(ナフタレン−2−カルボニル)−ベンゾニトリル
製造例II−1−cに準じて、(5−ブロモ−2,4−ジフルオロフェニル)ナフタレン−2−イル−メタノン3.76gから、標記化合物2.3gを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 7.15(1H,t,J=8.8Hz),7.60(1H,t,J=7.8Hz),7.67(1H,t,J=7.8Hz),7.91−7.97(4H,m),7.97(1H,t,J=7.0Hz),8.19(1H,s).
製造例II−17−c
6−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボニトリル
製造例II−10−cに準じて、2,4−ジフルオロ−5−(ナフタレン−2−カルボニル)−ベンゾニトリル2.1gとヒドラジン・一水和物を反応させ、標記化合物1.6gを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 7.53−7.61(2H,m),7.72(1H,d,J=9.6Hz),7.93−7.98(1H,m),8.03(1H,d,J=8.5Hz),8.14−8.19(1H,m),8.18(1H,d,J=8.5Hz),8.65(1H,s),9.03(1H,d,J=6.0Hz),13.83−13.97(1H,bs).
製造例II−17−d
6−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸
製造例II−17−cで得られた6−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボニトリル700mgを、製造例II−1−eと同様な方法で加水分解し、標記化合物610mgを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 7.47(1H,d,J=11.3Hz),7.53−7.60(2H,m),7.94−7.99(1H,m),8.07(1H,d,J=8.6Hz),8.09−8.14(1H,m),8.11(1H,d,J=8.6Hz),8.50(1H,s),8.67(1H,d,J=7.2Hz),13.05−13.25(1H,bs),13.62(1H,s).
製造例II−18−a
5−ブロモ−3−(3−フルオロ−フェニル)−4−メトキシ−1−トリチル−1H−インダゾール
製造例II−2−cで得られる、5−ブロモ−3−(3−フルオロ−フェニル)−4−メトキシ−1H−インダゾール530mgをジメチルホルムアミド8.3mlに溶解し、氷冷で攪拌下、水素化ナトリウム(60%含有)99mgを加え、15分攪拌した後、トリフェニルメチルクロライド483mgを加えた。室温で1時間攪拌した後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:8)で精製分離し、標記化合物998mgを淡黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.54(3H,s),6.16(1H,d,J=8.8Hz),7.01−7.08(1H,m),7.11(1H,d,J=8.8Hz),7.16−7.40(16H,m),7.64−7.69(1H,m),7.74(1H,d,J=8.0Hz).
製造例II−18−b
3−(3−フルオロ−フェニル)−4−メトキシ−1−トリチル−1H−インダゾール−5−イルアミン
製造例II−18−aで得られる、5−ブロモ−3−(3−フルオロ−フェニル)−4−メトキシ−1−トリチル−1H−インダゾール810mgをトルエン7.2mlに溶解し、t−ブトキシナトリウム194mg、ベンゾフェノンイミン0.29ml、2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル135mg、トリス(ジベンジリデンアセトン)ビスパラジウム74.5mgを加え、窒素雰囲気下80℃で8時間攪拌した。反応液を室温に戻し、ジエチルエーテルを加えた後、セライトろ過をし、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン7.2mlに溶解し、2N塩酸0.36mlを加えて室温で3時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、ジエチルエーテルで抽出し、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:3)で精製分離し、標記化合物426mgを赤褐色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.46(3H,s),6.11(1H,d,J=8.8Hz),6.55(1H,d,J=8.8Hz),6.96−7.04(1H,m),7.20−7.62(16H,m),7.68−7.74(1H,m),7.76(1H,d,J=8.0Hz).
製造例II−19−a
4−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1−トリチル−1H−インダゾール−5−カルボン酸
製造例II−18−aの方法に準じて、製造例II−3−dで得られる4−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸1.25gから、標記化合物1.29gを黄土色アモルファスとして得た。
H−NMR(400MHz,CDOD)δ 6.34(1H,d,J=9.2Hz),7.08−7.16(1H,m),7.16−7.37(16H,m),7.38−7.67(3H,m).
製造例II−19−b
{4−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1−トリチル−1H−インダゾール−5−イル}−カルバミック酸 ベンジルエステル
製造例II−19−aで得られる、4−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1−トリチル−1H−インダゾール−5−カルボン酸1.29gをトルエン12.5mlに溶解し、室温攪拌下トリエチルアミン0.38mlとジフェニルホスホリルアジド0.566mlを加えて室温で2時間、120℃で1時間30分攪拌した。反応液に、ベンジルアルコール0.776mlを加えて120℃で1時間30分攪拌した。室温に戻し、水を加えて酢酸エチルで抽出し、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:5)で精製分離し、標記化合物652mgを黄土色油状物として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 5.19(2H,s),6.23(1H,d,J=9.2Hz),6.70−7.71(26H,m)
製造例II−19−c
4−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1−トリチル−1H−インダゾール−5−イルアミン
製造例II−19−bで得られる{4−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1−トリチル−1H−インダゾール−5−イル}−カルバミン酸 ベンジルエステル652mgをメタノール20mlに溶解し、10%パラジウム−炭素652mgを加えて、室温常圧下で接触水素還元を行った。4時間攪拌後、セライトろ過し、得られたろ液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:5)で精製分離し、標記化合物297mgを得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.54(2H,brs),6.09(1H,d,J=8.8Hz),6.56(1H,t,J=8.8Hz),6.96−7.40(17H,m),7.51(1H,d,J=10.4Hz),7.69(1H,d,J=7.6Hz)
製造例II−20−a
6−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1−トリチル−1H−インダゾール−5−カルボン酸
製造例II−18−aの方法に準じて、製造例II−5−fで得られる6−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸352mgから、標記化合物496mgを黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 6.13(1H,d,J=12.8Hz),6.96−7.78(19H,m),8.73(1H,d,J=10.4Hz).
製造例II−20−b
{6−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1−トリチル−1H−インダゾール−5−イル}−カルバミック酸 ベンジルエステル
製造例II−19−bの方法に準じて、製造例II−20−aで得られる6−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸496mgから、標記化合物760mg(粗精製物)を得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 5.24(2H,s),6.09(1H,d,J=12.0Hz),6.80−6.86(1H,brs),7.00−7.07(1H,m),7.14−7.46(22H,m),7.54−7.60(1H,m),7.65−7.73(1H,m)
製造例II−20−c
6−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1−トリチル−1H−インダゾール−5−イルアミン
製造例II−19−cの方法に準じて、製造例II−20−bで得られる{6−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1−トリチル−1H−インダゾール−5−イル}−カルバミン酸 ベンジルエステル760mgから、標記化合物185mgを淡黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.65(2H,brs),6.06(1H,d,J=12.0Hz),6.97−7.05(1H,m),7.16−7.44(17H,m),7.54(1H,d,J=6.0Hz),7.63(1H,d,J=7.2Hz)
製造例II−21
4−ブロモ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1−トリチル−1H−インダゾール−5−イルアミン
3−(3−フルオロ−フェニル)−1−トリチル−1H−インダゾール−5−イルアミン1.04gをジクロロメタン22.3mlに溶解し、炭酸水素ナトリウムを375mg加え、氷冷攪拌下に、臭素0.12mlのジクロロメタン50ml溶液を50分間かけて滴下した。氷冷下で2時間攪拌した後、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液を加え、ジエチルエーテルで抽出し、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:5)で分離精製し、標記化合物1.18gを白色フォームとして得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.97(2H,brs),6.31(1H,d,J=8.8Hz),6.52(1H,d,J=8.8Hz),7.02−7.09(1H,m),7.18−7.43(18H,m).
製造例II−22−a
5−ブロモ−3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メトキシ−1H−インダゾール
製造例II−1−dの方法に準じて、製造例II−1−bで得られる(5−ブロモ−2−フルオロ−4−メトキシ−フェニル)−(3−フルオロ−フェニル)−メタノン5.05gから、標記化合物2.68gを淡黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.94(3H,s),6.85(1H,s),7.09−7.16(1H,m),7.48(1H,td,J=8.0,6.0Hz),7.61−7.66(1H,m),7.68−7.74(1H,m),8.17(1H,s).
製造例II−22−b
5−ブロモ−3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メトキシ−1−トリチル−1H−インダゾール
製造例II−18−aの方法に準じて、製造例II−22−aで得られる5−ブロモ−3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メトキシ−1H−インダゾール914mgから、標記化合物1.64gを淡黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.38(3H,s),5.74(1H,s),7.00−7.06(1H,m),7.14−7.36(15H,m),7.40(1H,td,J=8.0,6.0Hz),7.55(1H,d,J=10.4Hz),7.65(1H,d,J=8.0Hz),8.15(1H,s)
製造例II−22−c
3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メトキシ−1−トリチル−1H−インダゾール−5−イルアミン
製造例II−18−bの方法に準じて、製造例II−22−bで得られる5−ブロモ−3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メトキシ−1−トリチル−1H−インダゾール674mgから、標記化合物526mgを黄土色アモルファスとして得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.37(3H,s),3.77(2H,brs),5.65(1H,s),6.95−7.02(1H,m),7.17−7.40(17H,m),7.57(1H,d,J=10.4Hz),7.67(1H,d,J=8.0Hz)
製造例II−23
3−(3−フルオロフェニル)−7−メチル−1−トリチル−1H−インダゾール−5−イルアミン
製造例II−9−cで得られた、5−ブロモ−3−(3−フルオロフェニル)−7−メチル−1−トリチル−1H−インダゾール2.0gのトルエン20ml溶液に、室温でベンゾフェノン イミン0.73g、トリス(ジベンジリデンアセトン)(クロロホルム)ジパラジウム(O)95mg、2,2’−ビス(ジフェニルフォスフィノ)−1,1’−ビナフチル0.17g、ナトリウム−tert−ブチラート0.53gを加えて、1日加熱還流した。水、酢酸エチルで希釈し、有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をテトラヒドロフラン30mlに溶解し、室温で5規定塩酸10mlを加えて、同温で30分間撹拌した。5規定水酸化ナトリウム水溶液で中和し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:n−ヘキサン=1:10〜1:3)で精製分離し、得られた結晶をジエチルエーテルで洗浄し、標記化合物0.86gを無色結晶物として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 1.38(3H,s),3.61(2H,brs),6.45(1H,dd,J=2.4,0.8Hz),6.95(1H,dt,J=0.8,8.0Hz),7.12−7.31(16H,m),7.32(1H,dt,J=6.0,8.0Hz),7.43(1H,ddd,J=1.2,2.4,10.4Hz),7.55(1H,dt,J=1.2,8.0Hz)
製造例II−24−a
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−5−ブロモ−6−フルオロ−1H−インダゾール
製造例II−16−aで得られたベンゾ[b]チオフェン−2−イル−(5−ブロモ−2,4−ジフルオロフェニル)メタノン5.7gに、製造例II−10−cと同様な方法でヒドラジン一水和物を反応させ、標記化合物0.6gを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 7.34−7.43(2H,m),7.65(1H,d,J=8.8Hz),7.90(1H,bd,J=7.6Hz),7.97(1H,bd,J=7.6Hz),8.28(1H,s),8.65(1H,d,J=6.6Hz),13.50−13.60(1H,bs).
製造例II−24−b
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−5−ブロモ−6−フルオロ−1−トリチル−1H−インダゾール
製造例II−18−aに準じて、3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−5−ブロモ−6−フルオロ−1H−インダゾール269mgから、標記化合物350mgを淡黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 6.12(1H,d,J=9.6Hz),7.18−7.38(15H,m),7.73−7.84(5H,m),8.27(1H,d,J=6.4Hz).
製造例II−24−c
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−6−フルオロ−1−トリチル−1H−インダゾール−5−イルアミン
製造例II−1−cに準じて、3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−5−ブロモ−6−フルオロ−1−トリチル−1H−インダゾール350mgから、標記化合物280mgを淡黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 5.88(1H,d,J=12.4Hz),7.12−7.42(17H,m),7.47(1H,d,J=8.4Hz),7.82(1H,s),7.86(1H,d,J=6.8Hz),7.93(1H,d,J=6.8Hz).
製造例II−25−a
5−ブロモ−6−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール
製造例II−17−aで得られた、(5−ブロモ−2,4−ジフルオロフェニル)ナフタレン−2−イル−メタノン7.0gに、製造例II−10−cと同様な方法でヒドラジン一水和物を反応させ、標記化合物1.5gを無色粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 7.51−7.59(2H,m),7.63(1H,d,J=9.0Hz),7.93−7.96(1H,m),8.02(1H,d,J=8.4Hz),8.14−8.18(1H,m),8.15(1H,dd,J=1.6,8.4Hz),8.56(1H,d,J=1.6Hz),8.61(1H,d,J=6.5Hz),13.45−13.65(1H,bs).
製造例II−25−b
5−ブロモ−6−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1−トリチル−1H−インダゾール
製造例II−18−aに準じて、5−ブロモ−6−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール811mgから、標記化合物1.22gを白色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 6.17(1H,d,J=10.0Hz),7.21−7.35(15H,m),7.45−7.54(2H,m),7.81−7.97(4H,m),8.26−8.31(2H,m).製造例II−25−c
6−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1−トリチル−1H−インダゾール−5−イルアミン
製造例II−1−cに準じて、5−ブロモ−6−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1−トリチル−1H−インダゾール1.22gから、標記化合物970mgを淡黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 5.94(1H,d,J=12.0Hz),7.20−7.40(15H,m),7.47−7.59(3H,m),7.86−8.00(4H,m),8.31(1H,s).
製造例II−26
C−{3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メトキシ−1H−インダゾール−5−イル}−メチルアミン
リチウムアルミニウムハイドライド71mgをテトラヒドロフラン4.7mlに懸濁し、氷冷攪拌下、塩化アルミニウム249mgを加え10分間攪拌した。反応液に、製造例II−1−dで得られた3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボニトリル50mgを加え室温で3時間攪拌した。反応液を氷冷し、27%アンモニア水を加えでからセライトろ過をした。ろ液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(NHシリカゲル)(酢酸エチル)で精製分離し、標記化合物108mgを得た。
H−NMR(400MHz,CDOD)δ 4.02(3H,s),4.25(2H,s),7.10−7.19(2H,m),7.54(1H,td,8.0,6.0Hz),7.63−7.69(1H,m),7.78(1H,d,8.0Hz)
製造例II−27−a
4−フルオロ−3−(3−フルオロ−ベンゾイル)−2−メトキシ−ベンゾニトリル
製造例II−1−cの方法に準じて、製造例II−2−bで得られる(3−ブロモ1−6−フルオロ−2−メトキシ−フェニル)−(3−フルオロ−フェニル)−メタノン2.07gから標記化合物399mgを淡黄色油状物として得た。 H−NMR(400MHz,CDCl)δ 4.00(3H,s),7.01(1H,t,J=8.0Hz),7.32−7.76(5H,m).
製造例II−27−b
3−(3−フルオロ−フェニル)−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボニトリル
製造例II−1−dの方法に準じて、製造例II−27−a得られる4−フルオロ−3−(3−フルオロ−ベンゾイル)−2−メトキシ−ベンゾニトリル399mgから、標記化合物364mgを淡黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.94(3H,s),7.13−7.29(2H,m),7.47(1H,td,J=8.0,6.0Hz),7.52(1H,d,J=8.8Hz),7.61−7.66(1H,m),7.67−7.72(1H,m).
製造例II−27−c
C−{3−(3−フルオロ−フェニル)−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−イル}−メチルアミン
製造例II−26の方法に準じて、製造例II−27−bで得られる3−(3−フルオロ−フェニル)−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボニトリル50mgから、標記化合物25.8mgを得た。
H−NMR(400MHz,CDOD)δ 3.92(5H,s),7.10−7.18(1H,m),7.31(1H,d,J=8.4Hz),7.43(1H,d,J=8.4Hz),7.44−7.80(3H,m).7.47(1H,td,J=8.0,6.0Hz),7.52(1H,d,J=8.8Hz),7.61−7.66(1H,m),7.67−7.72(1H,m).
製造例II−28
C−{6−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−イル}−メチルアミン
製造例II−26の方法に準じて、製造例II−5−eで得られる6−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−カルボニトリル100mgから、標記化合物120mgを黄土色粗結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDOD)δ 4.34(2H,s),7.08−7.24(1H,m),7.42(1H,d,J=10.6Hz),7.56(1H,td,J=8.0,6.0Hz),7.67−7.74(1H,m),7.80−7.85(1H,m),8.26(1H,d,J=7.2Hz)
製造例II−29
C−(3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−6−フルオロ−1H−インダゾール−5−イル)−メチルアミン
製造例II−26の方法に準じて、製造例II−16−cで得られる3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−6−フルオロ−1H−インダゾール−5−カルボニトリル300mgから、標記化合物394mgを黄色粗結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 4.23(2H,s),7.37−7.46(2H,m),7.53(1H,d,J=10.4Hz),7.89(1H,d,J=7.2Hz),8.00(1H,d,J=7.2Hz),8.23(1H,s),8.62(1H,d,J=7.2Hz).
製造例II−30
C−(3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−6−フルオロ−1H−インダゾール−5−イル)−メチルアミン
製造例II−26の方法に準じて、製造例II−17−cで得られる6−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボニトリル300mgから、標記化合物495mgを茶色粗結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−d)δ 4.23(2H,s),7.51(1H,d,J=10.0Hz),7.52−7.64(2H,m),7.97(1H,d,J=8.8Hz),8.05(1H,d,J=8.8Hz),8.14−8.21(2H,m),8.62(1H,d,J=7.2Hz),8.65(1H,s).
製造例II−31−a
(6−ブロモ−2,3−ジフルオロフェニル)トリメチルシリル
窒素雰囲気下、N,N−ジイソプロピルアミン18.2mlのテトラヒドロフラン200ml溶液に0℃で1.57M n−ブチルリチウムのヘキサン溶液66.0mlを加え、同温で10分間撹拌した。−78℃に冷却後、1−ブロモ−3,4−ジフルオロベンゼン20.0gのテトラヒドロフラン100ml溶液を滴下し、同温で30分間撹拌した後、クロロトリメチルシラン32.9mlを滴下し、室温にまで徐々に昇温し、1日間撹拌した。水、酢酸エチルで希釈し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン)で精製分離し、標記化合物20.3gを無色油状物として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 0.47(9H,s),6.99(1H,dt,J=9.6,8.8Hz),7.27(1H,ddd,J=2.0,4.0,8.8Hz).
製造例II−31−b
(5−ブロモ−2,3−ジフルオロフェニル)−(3−フルオロフェニル)メタノン
製造例II−2−aの方法に準じて、(6−ブロモ−2,3−ジフルオロフェニル)トリメチルシリル5.0gと3−フルオロ−ベンズアルデヒドを反応させることにより得た粗生成物を、ジメチルホルムアミド50mlおよび水5mlに溶解し、室温でフッ化セシウムを加えて同温で3時間撹拌した。酢酸エチルで希釈し、有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。得られた粗生成物を製造例II−8−bの方法に準じて酸化し、標記化合物4.52gを無色油状物として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 7.34(1H,ddt,J=1.2,2.4,8.0Hz),7.43(1H,td,J=2.4,5.2Hz),7.48(1H,dt,J=5.2,8.0Hz),7.50−7.58(4H,m).
製造例II−31−c
3,4−ジフルオロ−5−(3−フルオロベンゾイル)ベンゾニトリル
製造例II−9−dの方法に準じて、(5−ブロモ−2,3−ジフルオロフェニル)−(3−フルオロフェニル)メタノン4.5gより、標記化合物3.5gを淡黄色油状物として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 7.38(1H,ddd,J=1.2,2.4,8.0Hz),7.47−7.55(3H,m),7.63−7.71(2H,m).
製造例II−31−d
7−フルオロ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−インダゾール−5−カルボニトリル
製造例II−1−dの方法に準じて、3,4−ジフルオロ−5−(3−フルオロベンゾイル)ベンゾニトリル3.5gより、標記化合物3.2gを無色結晶物として得た。
H−NMR(400MHz,CDOD)δ 7.20(1H,dd,J=2.0,8.0Hz),7.49(1H,dd,J=1.2,10.4Hz),7.56(1H,dt,J=6.0,8.0Hz),7.69(1H,td,J=2.0,10.4Hz),7.78(1H,d,J=8.0Hz),8.33(1H,d,J=1.2Hz).
製造例II−31−e
7−フルオロ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸
製造例II−1−eの方法に準じて、7−フルオロ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−インダゾール−5−カルボニトリル3.2gより、標記化合物2.1gを無色結晶物として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 7.31(1H,ddd,J=1.2,2.4,8.0Hz),7.62(1H,dt,J=6.0,8.0Hz),7.70(1H,dd,J=1.2,11.6Hz),7.72(1H,ddd,J=1.2,2.4,10.0Hz),7.81(1H,dt,J=1.2,8.0Hz),8.44(1H,d,J=1.2Hz).
製造例II−32−a
(5−ブロモ−2,3−ジフルオロフェニル)ナフタレン−2−イルメタノン
製造例II−31−aの方法に準じて、(6−ブロモ−2,3−ジフルオロフェニル)トリメチルシリル5.0gより、標記化合物5.5gを無色結晶物として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 7.48(1H,td,J=2.0,8.8Hz),7.52−7.59(2H,m),7.64(1H,dt,J=1.2,8.0Hz),7.88−7.98(4H,m),8.23(1H,s).
製造例II−32−b
3,4−ジフルオロ−5−(ナフタレン−2−カルボニル)ベンゾニトリル
製造例II−9−dの方法に準じて、(5−ブロモ−2,3−ジフルオロフェニル)ナフタレン−2−イルメタノン5.5gより、標記化合物2.94gを無色結晶物として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 7.58(1H,dt,J=1.2,8.0Hz),7.64−7.72(3H,m),7.90−7.96(4H,m),8.19(1H,s).
製造例II−32−c
7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボニトリル
製造例II−1−dの方法に準じて、3,4−ジフルオロ−5−(ナフタレン−2−カルボニル)ベンゾニトリル2.94gより、標記化合物2.60gを無色結晶物として得た。
H−NMR(400MHz,CDOD)δ 7.48−7.56(3H,m),7.88−7.93(1H,m),7.98−8.11(3H,m),8.44(1H,s),8.47(1H,d,J=0.8Hz).
製造例II−32−d
7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸
7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボニトリル1.0gに氷酢酸5.0ml、水5.0ml、濃硫酸10.0mlを順次加え、120℃で1日撹拌した。放冷後、反応液に水20mlを加え、析出した結晶を濾取した。得られた結晶を水、ジエチルエーテルで順次洗浄し、標記化合物1.0gを無色結晶物として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 7.55−7.60(2H,m),7.71(1H,dd,J=0.8,11.2Hz),7.96−7.99(1H,m),8.08−8.14(3H,m),8.51(1H,s),8.59(1H,d,J=0.8Hz).
製造例II−33−a
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−フルオロ−1−トリチル−1H−5−インダゾールカルボン酸
製造例II−13−fで得られた、カップリング体(3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−フルオロ−1−トリチル−1H−5−インダゾールカルボン酸 メチルエステル)149mgのテトラヒドロフラン4mlとメタノール1mlの混合溶媒に、5規定水酸化ナトリウム水溶液0.5mlを加え、50℃で2時間撹拌した。反応液に1規定塩酸3mlを加え、酢酸エチル20mlで抽出した。有機層を、水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、標記化合物145mgを、黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 6.29(1H,ddJ=1.2,8.8Hz),7.14−7.23(6H,m),7.27−7.42(11H,m),7.55(1H,t,J=8.8Hz),7.91−7.97(2H,m),8.02(1H,s),13.19(1H,s).
製造例II−33−b
{3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−フルオロ−1−トリチル−1H−インダゾール−5−イル}カルバミック酸 ベンジルエステル
製造例II−19−bに準じて、製造例II−33−aで得られる、3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−フルオロ−1−トリチル−1H−5−インダゾールカルボン酸143mgから、標記化合物73mgを無色粘張油状物として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 5.14(2H,s),6.23(1H,d,J=8.8Hz),7.13−7.45(23H,m),7.89−7.99(3H,m),9.43(1H,s).
製造例II−33−c
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−フルオロ−1−トリチル−1H−インダゾール−5−イルアミン
製造例II−19−cに準じて、製造例II−33−bで製造した、{3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−フルオロ−1−トリチル−1H−インダゾール−5−イル}カルバミン酸 ベンジルエステル68mgから、標記化合物52mgを山吹色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 5.00(2H,s),6.00(1H,d,J=8.8Hz),6.69(1H,t,J=8.8Hz),7.10−7.40(17H,m),7.83−7.93(3H,m)
製造例II−34−a
4−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1−トリチル−1H−5−インダゾールカルボン酸
製造例II−33−aの方法に準じて、製造例II−14−aで得られたカップリング体(4−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1−トリチル−1H−5−インダゾールカルボン酸 メチルエステル)139mgから、標記化合物127mgを黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 6.34(1H,dd,J=0.8,8.8Hz),7.18−7.40(16H,m),7.50−7.60(2H,m),7.84(1H,d,J=8.4Hz),7.93−8.08(3H,m),8.30(1H,s),13.09(1H,s)
製造例II−34−b
{4−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1−トリチル−1H−インダゾール−5−イル}カルバミック酸 ベンジルエステル
製造例II−19−bに準じて、製造例II−34−aで得られる、4−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1−トリチル−1H−5−インダゾールカルボン酸125mgから、標記化合物54mgを無色粘張油状物として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 5.11(2H,s),6.27(1H,d,J=8.8Hz),7.20−7.45(21H,m),7.52−7.58(2H,m),7.83(1H,d,J=8.4Hz),7.92−8.00(3H,m),8.26(1H,s),9.35(1H,s).
製造例II−34−c
4−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1−トリチル−1H−インダゾール−5−イルアミン
製造例II−19−cに準じて、製造例II−34−bで製造した、{4−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1−トリチル−1H−インダゾール−5−イル}カルバミン酸 ベンジルエステル54mgから、標記化合物41mgを淡赤色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 4.92(2H,s),6.07(1H,d,J=8.8Hz),6.70(1H,t,J=8.8Hz),7.20−7.40(15H,m),7.51−7.58(2H,m),7.86(1H,d,J=8.8Hz),7.91−7.98(3H,m)8.28(1H,s)
製造例II−35−a
1−ブロモ−4−フルオロ−2−プロポキシ−ベンゼン
2−ブロモ−5−フルオロ−フェノール5gをN,N−ジメチルホルムアミド66mlに溶解し氷冷下で炭酸カリウム5.42gとヨードプロパン3.07mlを加え、室温で10時間攪拌した。反応液に水を加え、ジエチルエーテルで抽出し、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去することにより標記化合物8.29gを黄色油状物として得た。 H−NMR(400MHz,CDCl)δ 1.08(3H,t,J=7.2Hz),1.80−1.93(2H,m),3.95(2H,t,J=6.0Hz),6.54(1H,td,J=8.8,2.4Hz),6.61(1H,dd,J=10.8,2.4Hz),7.44(1H,dd,J=8.8,6.0Hz)
製造例II−35−b
ベンゾ[b]フラン−2−イル−(3−ブロモ−6−フルオロ−2−プロポキシ−フェニル)−メタノール
製造法II−2−aに準じて、1−ブロモ−4−フルオロ−2−プロポキシ−ベンゼン3gから、標記化合物5.59gを淡黄色オイルとして得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 0.96(3H,t,J=7.2Hz),1.80−1.93(2H,m),3.95(2H,t,J=6.4Hz),6.29(1H,d,J=9.2Hz),6.84(1H,t,J=9.2Hz),7.16−7.76(6H,m)
製造例II−35−c
ベンゾ[b]フラン−2−イル−(3−ブロモ−6−フルオロ−2−プロポキシ−フェニル)−メタノン
製造例II−2−bに準じて、ベンゾ[b]フラン−2−イル−(3−ブロモ−6−フルオロ−2−プロポキシ−フェニル)−メタノール5.59gから、標記化合物1.46gを黄色オイルとして得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 0.86(3H,t,J=7.2Hz),1.61−1.72(2H,m),3.96(2H,t,J=6.8Hz),6.87(1H,t,J=9.2Hz),7.29−7.70(6H,m)
製造例II−35−d
3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−5−ブロモ−4−プロポキシ−1H−インダゾール
製造例II−10−cに準じて、ベンゾ[b]フラン−2−イル−(3−ブロモ−6−フルオロ−2−プロポキシ−フェニル)−メタノン1.46gから、標記化合物801mgを淡黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 0.92(3H,t,J=7.2Hz),1.65−1.78(2H,m),3.77(2H,t,J=6.4Hz),7.28(1H,t,J=7.2Hz),7.33−7.38(1H,m),7.36(1H,d,J=8.8Hz),7.44(1H,s),7.59(1H,d,J=8.8Hz),7.64(1H,d,J=8.8Hz),7.72(1H,d,J=8.8Hz)
製造例II−35−e
3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−プロポキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸
製造例II−10−dに準じて、3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−5−ブロモ−4−プロポキシ−1H−インダゾール326mgから標記化合物45mgを得た。
H−NMR(400MHz,CDOD)δ 0.86(3H,t,J=7.2Hz),1.70−1.81(2H,m),3.95(2H,t,J=7.2Hz),7.27(1H,t,J=7.6Hz),7.32−7.38(2H,m),7.53(1H,s),7.58(1H,d,J=7.6Hz),7.68(1H,d,J=7.6Hz),7.89(1H,d,J=8.8Hz)
製造例II−36−a
7−フルオロ−3−(3−フルオロフェニル)−1−トリチル−1H−インダゾール−5−カルボン酸
製造例II−9−cの方法に準じて、製造例II−31−eで得られた7−フルオロ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸1.0gより、標記化合物1.4gを無色結晶物として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 7.10−7.13(5H,m),7.25−7.35(11H,m),7.45(1H,d,J=12.0Hz),7.53(1H,d,J=8.0Hz),7.59(1H,dt,J=6.4,8.0Hz),7.69(1H,d,J=8.0Hz),8.44(1H,d,J=1.2Hz).
製造例II−36−b
7−フルオロ−3−(3−フルオロフェニル)−1−トリチル−1H−インダゾール−5−イルアミン
7−フルオロ−3−(3−フルオロフェニル)−1−トリチル−1H−インダゾール−5−カルボン酸1.0gのトルエン20ml溶液に室温でトリエチルアミン0.40mlとジフェニルホスホリルアジド0.46mlを加え、同温で2時間、120℃で1時間30分攪拌した。反応液に、ベンジルアルコール1.0mlを加えて120℃で1時間30分攪拌した。室温まで冷却後、水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。得られた粗生成物のメタノール20mlおよびテトラヒドロフラン10mlの混合溶液に、室温で10%パラジウム−炭素1.0gを加えて、同温常圧下で接触水素還元を行った。4時間攪拌後、セライトろ過し、得られた濾液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:5)で精製分離し、標記化合物540mgを得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 5.19(2H,d,J=8.4Hz),6.33(1H,dd,J=1.6,14.0Hz),6.95(1H,d,J=1.6Hz),7.08−7.41(16H,m),7.42(1H,ddd,J=1.2,1.6,10.0Hz),7.49(1H,dt,J=6.0,10.0Hz),7.56(1H,d,J=8.0Hz).
製造例II−37−a
7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1−トリチル−1H−インダゾール−5−カルボン酸
製造例II−9−cの方法に準じて、製造例II−32−dで得られた7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸500mgより、標記化合物840mgを無色結晶物として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 7.14−7.36(15H,m),7.46(1H,dd,J=1.2,12.4Hz),7.55−7.58(2H,m),7.85(1H,dd,J=2.0,8.8Hz),7.92−7.96(1H,m),8.03(1H,d,J=1.2,8.8Hz),8.06−8.09(1H,m),8.41(1H,s),8.56(1H,d,J=1.2Hz).
製造例II−37−b
7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1−トリチル−1H−インダゾール−5−イルアミン
製造例II−36−bの方法に準じて、7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1−トリチル−1H−インダゾール−5−カルボン酸870mgより、標記化合物320mgを無色結晶物として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 5.18(2H,d,J=8.4Hz),6.36(1H,dd,J=1.6,9.6Hz),7.11(1H,d,J=1.6Hz),7.22−7.33(15H,m),7.50(1H,dt,J=1.2,6.8Hz),7.54(1H,dt,J=1.2,6.8Hz),7.80(1H,dd,J=1.2,8.8Hz),7.88−7.97(3H,m),8.27(1H,s).
製造例II−38−a
(4−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1−トリチル−1H−インダゾール−5−イル)−カルバミック酸 ベンジルエステル
製造例II−10−dで得られる4−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸493mgをジメチルホルムアミド10mlに溶解し、氷冷攪拌下、水素化ナトリウム(60%含有)136mgを加え、15分攪拌した後、トリフェニルメチルクロライド454mgを加えた。室温で2時間攪拌した後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=20:1)で精製分離し、トリチル体728mgを黄土色アモルファスとして得た。得られた化合物をトルエン10mlに溶解し、室温攪拌下トリエチルアミン0.27mlとジフェニルホスホリルアジド0.28mlを加えて室温で2時間、120℃で1時間30分攪拌後、ベンジルアルコール0.67mlを加えて120℃で1時間30分攪拌した。室温に戻し、水を加えて酢酸エチルで抽出し、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:4)で精製分離し、標記化合物466mgを黄土色油状物として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.38(3H,s),5.20(2H,s),6.29(1H,d,J=9.6Hz),7.17−7.49(23H,m),7.84−7.90(3H,m),8.02(1H,d,J=7.2Hz),8.44(1H,s).
製造例II−38−b
4−メトキシ−3−ナフタレン2−イル−1−トリチル−1H−インダゾール−5−イルアミン
製造例II−38−aで得られる(4−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1−トリチル−1H−インダゾール−5−イル)−カルバミック酸 ベンジルエステル466mgを酢酸エチル−メタノール(1:1)混合溶媒20mlに溶解し10%パラジウム−炭素300mgを加えて、室温常圧下で接触水素還元を行った。反応混合物をセライト濾過後、溶媒を留去し標記化合物252mgを得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 3.37(3H,s),6.21(1H,d,J=8.8Hz),6.81(1H,d,J=9.2Hz),7.06(1H,t,J=7.6Hz),7.18−7.61(17H,m),7.97−8.01(3H,m),8.46(1H,s).
製造例II−39−a
(3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−メトキシ−1−トリチル−1H−インダゾール−5−イル)−カルバミック酸 ベンジルエステル
製造例II−12−dで得られる3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸548mgをジメチルホルムアミド10mlに溶解し、氷冷攪拌下、水素化ナトリウム(60%含有)149mgを加え、15分攪拌した後、トリフェニルメチルクロライド495mgを加えた。室温で2時間攪拌した後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:メトノール=20:1)で精製分離し、トリチル体854mgを黄土色アモルファスとして得た。得られた化合物をトルエン10mlに溶解し、室温攪拌下トリエチルアミン0.32mlとジフェニルホスホリルアジド0.36mlを加えて室温で2時間、120℃で1時間30分攪拌後、ベンジルアルコール0.78mlを加えて120℃で1時間30分攪拌した。室温に戻し、水を加えて酢酸エチルで抽出し、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:4)で精製分離し、標記化合物939mgを黄土色油状物として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.70(3H,s),5.20(2H,s),6.23(1H,d,J=9.2Hz),7.21−7.39(23H,m),7.78(2H,d,J=8.4Hz),8.01(1H,s).
製造例II−39−b
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−メトキシ−1−トリチル−1H−インダゾール−5−イルアミン
製造例II−39−aで得られる(3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−メトキシ−1−トリチル−1H−インダゾール−5−イル)−カルバミック酸 ベンジルエステル939mgを酢酸エチル−メタノール(2:1)混合溶媒20mlに溶解し20%水酸化パラジウム−炭素300mgを加えて、室温常圧下で接触水素還元を行った。反応混合物をセライト濾過後、溶媒を留去し標記化合物458mgを得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 3.63(3H,s),6.02(1H,d,J=8.8Hz),6.68(1H,d,J=8.8Hz),7.00(1H,t,J=7.2Hz),7.10−7.36(16H,m),7.87(2H,t,J=8.0Hz),8.07(1H,s).
製造例II−40
C−(7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イル)メチルアミン
製造例II−26の方法に準じて、製造例II−32−cで得られる7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボニトリル280mgより、標記化合物260mgを無色結晶物として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 3.86(2H,s),7.28(1H,d,J=12.0Hz),7.50−7.60(2H,m),7.95(1H,d,J=8.4Hz),7.98(1H,s),8.03(1H,d,J=8.4Hz),8.10(1H,d,J=8.4Hz),8.16(1H,dd,J=1.6,8.4Hz),8.54(1H,s).
製造例II−41−a
5−ブロモ−2−フルオロ−4−メトキシ−ベンズアルデヒド
製造例II−1−aで得られた1−ブロモ−4−フルオロ−2−メトキシ−ベンゼン8.4gをジクロロメタン200mlに溶解し、窒素雰囲気下0℃で四塩化チタン21mlとジクロロメチルメチルエーテル5.6mlを加えて、室温で4時間30分撹拌した。その後、反応溶液を氷水にゆっくりと注ぎ入れ、ジエチルエーテルで2回抽出し、得られた有機層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で1回ずつ洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、標記化合物9.44gを白色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.97(3H,s),6.67(1H,d,J=12.0Hz),8.05(1H,d,J=7.6Hz),10.15(1H,s)
製造例II−41−b
4−フルオロ−5−ホルミル−2−メトキシ−ベンゾニトリル
5−ブロモ−2−フルオロ−4−メトキシ−ベンズアルデヒド5.33gを1−メチル−2−ピロリドン73mlに溶解し、シアン化銅2.46gを加えて、180℃で5時間30分攪拌した。室温に戻してから反応液に水を加え、ジエチルエーテルで抽出し、セライトろ過した後、得られた有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製分離し、標記化合物0.983gを淡黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 4.03(3H,s),6.76(1H,d,J=12.0Hz),8.14(1H,d,J=7.2Hz),10.17(1H,s)
製造例II−41−c
6−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボニトリル
製造例II−1−dの方法に準じて、4−フルオロ−5−ホルミル−2−メトキシ−ベンゾニトリル0.983gから、標記化合物0.915gを淡黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDOD)δ 3.99(3H,s),7.10(1H,s),8.06(1H,s),8.15(1H,s)
製造例II−41−d
3−ブロモ−6−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボニトリル
製造例II−13−dの方法に準じて、6−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボニトリル0.915gから、標記化合物1.2gを黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDOD)δ 4.00(3H,s),7.10(1H,s),7.97(1H,s)
製造例II−41−e
3−ブロモ−6−メトキシ−1−トリチル−1H−インダゾール−5−カルボニトリル
製造例II−9−cの方法に準じて、3−ブロモ−6−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボニトリル1.2gから、標記化合物2.41gを茶色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.36(3H,s),5.60(1H,s),7.14−7.17(5H,m),7.24−7.32(10H,m),7.81(1H,s)
製造例II−41−f
6−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1−トリチル−1H−インダゾール−5−カルボニトリル
製造例II−13−fの方法に準じ、3−ブロモ−6−メトキシ−1−トリチル−1H−インダゾール−5−カルボニトリル600mgと、2−ナフタレンボロン酸260mgから、鈴木カップリング体である標記化合物249mgを白色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.39(3H,s),5.73(1H,s),7.14−7.33(16H,m),7.49−7.53(2H,m),7.84−7.95(3H,m),8.28(1H,s),8.38(1H,s)
製造例II−41−g
6−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸
製造例II−1−eの方法に準じて、6−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1−トリチル−1H−インダゾール−5−カルボニトリル249mgから、標記化合物104.3mgを茶色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDOD)δ 4.02(3H,s),7.15(1H,s),7.53−7.58(2H,m),7.91−7.94(1H,m),8.00−8.06(3H,m),8.41(1H,s),8.66(1H,s)
ESI−MS:m/z=319(M+H)
製造例II−42−a
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−6−メトキシ−1−トリチル−1H−インダゾール−5−カルボニトリル
製造例II−13−fの方法に準じ、製造例II−41−eから得られる3−ブロモ−6−メトキシ−1−トリチル−1H−インダゾール−5−カルボニトリル600mgと、2−ベンゾ[b]チオフェンボロン酸269mgから、鈴木カップリング体である標記化合物292.5mgを白色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 3.37(3H,s),5.69(1H,s),7.14−7.89(20H,m),8.34(1H,s)
製造例II−42−b
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−6−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸
製造例II−1−eの方法に準じて、3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−6−メトキシ−1−トリチル−1H−インダゾール−5−カルボニトリル292.5mgから、標記化合物133.6mgを茶色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDOD)δ 4.00(3H,s),7.12(1H,s),7.34−7.40(2H,m),7.88−7.92(2H,m),7.95(1H,s),8.69(1H,s)
ESI−MS:m/z=325(M+H)
製造例II−43−a
3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−フルオロ−1−トリチル−1H−5−インダゾールカルボン酸
製造例II−33−aの加水分解反応に準じて、製造例II−15−aのカップリング反応で得られた3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−フルオロ−1−トリチル−1H−5−インダゾールカルボン酸 メチルエステル152mgから、標記化合物146mgを、山吹色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 6.36(1H,dJ=8.8Hz),7.18−7.40(17H,m),7.44(1H,s),7.56(1H,dd,J=7.2,8.8Hz),7.63(1H,d,J=8.0Hz),7.74(1H,d,J=7.6Hz),13.19(1H,s).
製造例II−43−b
{3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−フルオロ−1−トリチル−1H−インダゾール−5−イル}カルバミック酸 ベンジルエステル
製造例II−19−bに準じて、製造例II−43−aで得られる、3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−フルオロ−1−トリチル−1H−5−インダゾールカルボン酸144mgから、標記化合物26mgを白色非晶形粉末として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 5.12(2H,s),6.28(1H,d,J=9.2Hz),7.16−7.44(24H,m),7.60(1H,d,J=8.4Hz),7.73(1H,d,J=8.0Hz),9.40(1H,s).
製造例II−43−c
3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−フルオロ−1−トリチル−1H−インダゾール−5−イルアミン
製造例II−19−cに準じて、製造例II−43−bでで得られる、{3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−フルオロ−1−トリチル−1H−インダゾール−5−イル}カルバミン酸 ベンジルエステル26mgから、標記化合物24mgを淡黄色粘張性油状物として得た。
H−NMR(400MHz,DMSO−D)δ 4.99(2H,s),6.06(1H,d,J=8.8Hz),6.69(1H,t,J=8.8Hz),7.14−7.41(18H,m),7.57(1H,d,J=8.0Hz),7.69(1H,d,J=7.6Hz)
以下に、実施例化合物の代表的な、合成方法を示す。
合成法II−A
製造例IIで製造された各種カルボン酸を、ジメチルホルムアミドに溶解し、試験管に分注した。それぞれに予め調製した、1.2当量の種々のアミンの1Mジメチルホルムアミド溶液、1.2当量の1−ヒドロキシベンズトリアゾール・一水和物の1Mジメチルホルムアミド溶液、および4当量のジイソプロピルエチルアミン、2当量の1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(=WSC・HCl)を順次加え、室温で一夜撹拌した。この反応液を、LC−MS[展開溶媒;0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル溶液:0.1%トリフルオロ酢酸含有水溶液=20:80〜80:20、10分サイクル、流速;30ml/分、カラム;YMC Combiprep ODS−AM、20mmΦx50mm(Long)]により精製分離し、実施例化合物を得た。
合成法II−B
製造例IIで製造された各種アミンを、ジメチルホルムアミドに溶解し、試験管に分注した。それぞれに予め調製した、1.2当量の種々カルボン酸の1Mジメチルホルムアミド溶液、1.2当量の1−ヒドロキシベンズトリアゾール・一水和物の1Mジメチルホルムアミド溶液、および4当量のジイソプロピルエチルアミン、2当量の1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド・塩酸塩(=WSC・HCl)を順次加え、室温で一夜撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。溶媒を窒素吹き付けにより風乾して得られる残渣に、トリフルオロ酢酸:ジクロロメタン=1:5混合溶液液を加え、室温で一夜撹拌した。反応液を窒素吹き付けにより風乾して得られる残渣を、ジメチルホルムアミドに溶解した。それぞれを合成法II−Aに準じた条件で、LC−MSにより精製分離し、実施例化合物を得た。
合成法II−C
製造例IIで製造された各種アミンを、ジメチルホルムアミドに溶解し、試験管に分注した。それぞれに予め調製した、1.2当量の種々カルボン酸の1Mジメチルホルムアミド溶液、1.2当量の1−ヒドロキシベンズトリアゾール・一水和物の1Mジメチルホルムアミド溶液、および4当量のジイソプロピルエチルアミン、2当量の1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド・塩酸塩(=WSC・HCl)を順次加え、室温で一夜撹拌した。この反応液を、合成法II−Aに準じた条件で、LC−MSにより精製分離し、実施例化合物を得た。
合成法II−D
製造例IIで製造された各種アミンを、ジクロロメタンに溶解し、試験管に1mlずつ分注した。それぞれに、3当量のトリエチルアミン、2当量の種々スルホニルクロライドを順次加え、室温で一夜撹拌した。反応液にトリフルオロ酢酸0.2mlを加え、室温で一夜撹拌した。反応液を窒素吹き付けにより風乾して得られる残渣を、ジメチルホルムアミドに溶解した。それぞれを合成法II−Aに準じた条件で、LC−MSにより精製分離し、実施例化合物を得た。
合成法II−E
製造例IIで製造された各種アミンを、ジクロロメタン1mlに溶解した。それぞれに、トリフルオロ酢酸0.2mlを加え、室温で一夜撹拌した。反応液を窒素吹き付けにより風乾して得られる残渣を、ジメチルホルムアミドに溶解した。それぞれを合成法II−Aに準じた条件で、LC−MSにより精製分離し、実施例化合物を得た。
実施例II−1〜II−152の化合物は、製造例II−1〜II−17で製造された各種カルボン酸を用い、合成法II−Aで合成した。
実施例II−1
3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (フラン−2−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 366 MH
実施例II−2
3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−アセチルアミノ−エチル)−アミド
MS(ESI)m/z 371 MH
実施例II−3
3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−1−ヒドロキシメチル−2−メチル−プロピル]−アミド
MS(ESI)m/z 372 MH
実施例II−4
3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (ピリジン−3−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 377 MH
実施例II−5
3−(3−フルオロ−フェニル)−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (フラン−2−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 366 MH
実施例II−6
3−(3−フルオロ−フェニル)−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−アセチルアミノ−エチル)−アミド
MS(ESI)m/z 371 MH
実施例II−7
3−(3−フルオロ−フェニル)−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−1−ヒドロキシメチル−2−メチル−プロピル]−アミド
MS(ESI)m/z 372 MH
実施例II−8
3−(3−フルオロ−フェニル)−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (ピリジン−3−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 377 MH
実施例II−9
3−(3−フルオロ−フェニル)−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カ ルボン酸 シクロプロピルアミド
MS(ESI)m/z 326 MH
実施例II−10
3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 シクロプロピルアミド
MS(ESI)m/z 326 MH
実施例II−11
4−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 シクロプロピルアミド
MS(ESI)m/z 314 MH
実施例II−12
4−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−アセチルアミノ−エチル)−アミド
MS(ESI)m/z 359 MH
実施例II−13
4−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−ジメチルアミノ−エチル)−アミド
MS(ESI)m/z 345 MH
実施例II−14
3−(3−フルオロ−フェニル)−6−ヒドロキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 シクロプロピルアミド
MS(ESI)m/z 312 MH
実施例II−15
3−(3−フルオロ−フェニル)−6−ヒドロキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (フラン−2−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 352 MH
実施例II−16
3−(3−フルオロ−フェニル)−6−ヒドロキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−アセチルアミノ−エチル)−アミド
MS(ESI)m/z 357 MH
実施例II−17
3−(3−フルオロ−フェニル)−6−ヒドロキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (ピリジン−3−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 363 MH
実施例II−18
3−(3−フルオロ−フェニル)−6−ヒドロキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−ジメチルアミノ−エチル)−アミド
MS(ESI)m/z 343 MH
実施例II−19
3−(3−フルオロ−フェニル)−6−ヒドロキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (1H−イミダゾール−4−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 352 MH
実施例II−20
6−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (フラン−2−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 354 MH
実施例II−21
6−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−アセチルアミノ−エチル)−アミド
MS(ESI)m/z 359 MH
実施例II−22
6−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (ピリジン−3−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 365 MH
実施例II−23
6−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−ジメチルアミノ−エチル)−アミド
MS(ESI)m/z 345 MH
実施例II−24
6−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (1H−イミダゾール−4−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 354 MH
実施例II−25
6−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 シクロプロピルアミド
MS(ESI)m/z 314 MH
実施例II−26
3−(3−フルオロ−フェニル)−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 3−メトキシ−ベンジルアミド
MS(ESI)m/z 406 MH
実施例II−27
6−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 3−メトキシ−ベンジルアミド
MS(ESI)m/z 394 MH
実施例II−28
3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メチル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 3−メトキシ−ベンジルアミド
MS(ESI)m/z 390 MH
実施例II−29
4−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 3−メトキシ−ベンジルアミド
MS(ESI)m/z 394 MH
実施例II−30
3−(3−フルオロ−フェニル)−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [3−(2−オキソ−ピロリジン−1−イル)−プロピル]−アミド MS(ESI)m/z 411 MH
実施例II−31
3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メチル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [3−(2−オキソ−ピロリジン−1−イル)−プロピル]−アミド
MS(ESI)m/z 395 MH
実施例II−32
4−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [3−(2−オキソ−ピロリジン−1−イル)−プロピル]−アミド MS(ESI)m/z 399 MH
実施例II−33
3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メチル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−チオフェン−2−イル−エチル)−アミド
MS(ESI)m/z 380 MH
実施例II−34
4−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−チオフェン−2−イル−エチル)−アミド
MS(ESI)m/z 384 MH
実施例II−35
4−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (テトラヒドロフラン−2−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 358 MH
実施例II−36
4−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−エトキシ−エチル)−アミド
MS(ESI)m/z 346 MH
実施例II−37
3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メチル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−エトキシ−エチル)−アミド
MS(ESI)m/z 342 MH
実施例II−38
3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メチル−1H−インダゾール−5−カル ボン酸 シクロプロピルメチル−アミド
MS(ESI)m/z 324 MH
実施例II−39
3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メチル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−メチルスルファニル−エチル)−アミド
MS(ESI)m/z 344 MH
実施例II−40
4−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−メチルスルファニル−エチル)−アミド
MS(ESI)m/z 348 MH
実施例II−41
3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メチル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−1−カルバモイル−エチル]−アミド
MS(ESI)m/z 341 MH
実施例II−42
4−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−1−カルバモイル−エチル]−アミド
MS(ESI)m/z 345 MH
実施例II−43
3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メチル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−2−ヒドロキシ−1−フェニル−エチル]−アミド
MS(ESI)m/z 390 MH
実施例II−44
4−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−2−ヒドロキシ−1−フェニル−エチル]−アミド
MS(ESI)m/z 394 MH
実施例II−45
3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メチル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−チアゾール−2−イル−エチル)−アミド
MS(ESI)m/z 381 MH
実施例II−46
4−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−チアゾール−2−イル−エチル)−アミド
MS(ESI)m/z 385 MH
実施例II−47
3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メチル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(3R)−2−オキソ−テトラヒドロフラン−3−イル]−アミド
MS(ESI)m/z 354 MH
実施例II−48
4−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(3R)−2−オキソ−テトラヒドロフラン−3−イル]−アミド MS(ESI)m/z 358 MH
実施例II−49
3−(3−フルオロフェニル)−7−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 シクロプロピルアミド
MS(ESI)m/z 326 MH
実施例II−50
3−(3−フルオロフェニル)−7−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−メチルスルファニルエチル)アミド
MS(ESI)m/z 360 MH
実施例II−51
3−(3−フルオロフェニル)−7−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−1−ヒドロキシメチル−2−メチル−プロピル]アミド
MS(ESI)m/z 372 MH
実施例II−52
3−(3−フルオロフェニル)−7−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [テトラヒドロフラン−(2S)−2−イルメチル]アミド
MS(ESI)m/z 370 MH
実施例II−53
3−(3−フルオロフェニル)−7−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [テトラヒドロフラン−(2R)−2−イルメチル]アミド
MS(ESI)m/z 370 MH
実施例II−54
3−(3−フルオロフェニル)−7−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (フラン−2−イルメチル)アミド
MS(ESI)m/z 366 MH
実施例II−55
3−(3−フルオロフェニル)−7−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (5−メチルフラン−2−イルメチル)アミド
MS(ESI)m/z 380 MH
実施例II−56
3−(3−フルオロフェニル)−7−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (チオフェン−2−イルメチル)アミド
MS(ESI)m/z 382 MH
実施例II−57
3−(3−フルオロフェニル)−7−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (ベンゾ[b]フラン−2−イルメチル)アミド
MS(ESI)m/z 416 MH
実施例II−58
3−(3−フルオロフェニル)−7−メチル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 シクロプロピルアミド
MS(ESI)m/z 310 MH
実施例II−59
3−(3−フルオロフェニル)−7−メチル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−メチルスルファニルエチル)アミド
MS(ESI)m/z 344 MH
実施例II−60
3−(3−フルオロフェニル)−7−メチル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−1−ヒドロキシメチル−2−メチル−プロピル]アミド
MS(ESI)m/z 356 MH
実施例II−61
3−(3−フルオロフェニル)−7−メチル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [テトラヒドロフラン−(2S)−2−イルメチル]アミド
MS(ESI)m/z 354 MH
実施例II−62
3−(3−フルオロフェニル)−7−メチル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [テトラヒドロフラン−(2R)−2−イルメチル]アミド
MS(ESI)m/z 354 MH
実施例II−63
3−(3−フルオロフェニル)−7−メチル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (フラン−2−イルメチル)アミド
MS(ESI)m/z 350 MH
実施例II−64
3−(3−フルオロフェニル)−7−メチル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (5−メチルフラン−2−イルメチル)アミド
MS(ESI)m/z 364 MH
実施例II−65
3−(3−フルオロフェニル)−7−メチル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (チオフェン−2−イルメチル)アミド
MS(ESI)m/z 366 MH
実施例II−66
3−(3−フルオロフェニル)−7−メチル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (ベンゾ[b]フラン−2−イルメチル)アミド
MS(ESI)m/z 400 MH
実施例II−67
4−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン 酸 (2−チオフェン−2−イル−エチル)−アミド
MS(ESI)m/z 428 MH
実施例II−68
4−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−メチルスルファニル−エチル)−アミド
MS(ESI)m/z 392 MH
実施例II−69
4−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−1−カルバモイル−エチル]−アミド
MS(ESI)m/z 389 MH
実施例II−70
4−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−2−ヒドロキシ−1−フェニル−エチル]−アミド
MS(ESI)m/z 438 MH
実施例II−71
4−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−チアゾール−2−イル−エチル)−アミド
MS(ESI)m/z 429 MH
実施例II−72
4−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(3R)−2−オキソ−テトラヒドロフラン−3−イル]−アミド
MS(ESI)m/z 402 MH
実施例II−73
4−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (テトラヒドロフラン−2−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 402 M
実施例II−74
4−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−エトキシ−エチル)−アミド
MS(ESI)m/z 390 MH
実施例II−75
4−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 シクロプロピルメチル−アミド
MS(ESI)m/z 372 MH
実施例II−76
4−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (フラン−2−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 398 MH
実施例II−77
4−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (5−メチル−フラン−2−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 412 MH
実施例II−78
4−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 シクロプロピルアミド
MS(ESI)m/z 358 MH
実施例II−79
4−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 3−メトキシ−ベンジルアミド
MS(ESI)m/z 438 MH
実施例II−80
4−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [3−(2−オキソ−ピロリジン−1−イル)−プロピル]−アミド
MS(ESI)m/z 443 MH
実施例II−81
4−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−1−ヒドロキシメチル−2−メチル−プロピル]−アミド
MS(ESI)m/z 404 MH
実施例II−82
4−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (フラン−3−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 398 MH
実施例II−83
4−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (ピリジン−2−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 409 MH
実施例II−84
4−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (チオフェン−2−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 414 MH
実施例II−85
3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−チオフェン−2−イル−エチル)−アミド
MS(ESI)m/z 418 MH
実施例II−86
3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−メチルスルファニル−エチル)−アミド
MS(ESI)m/z 382 MH
実施例II−87
3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−1−カルバモイル−エチル]−アミド
MS(ESI)m/z 379 MH
実施例II−88
3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−2−ハイドロキシ−1−フェニル−エチル]−アミド MS(ESI)m/z 428 MH
実施例II−89
3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−チアゾール−2−イル−エチル)−アミド
MS(ESI)m/z 419 MH
実施例II−90
3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(3R)−2−オキソ−テトラヒドロフラン−3−イル]−アミド
MS(ESI)m/z 392 MH
実施例II−91
3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (テトラヒドロフラン−2−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 392 M
実施例II−92
3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−エトキシ−エチル)−アミド
MS(ESI)m/z 380 MH
実施例II−93
3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 シクロプロピルメチル−アミド
MS(ESI)m/z 362 MH
実施例II−94
3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (フラン−2−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 388 MH
実施例II−95
3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (5−メチル−フラン−2−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 402 MH
実施例II−96
3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 シクロプロピルアミド
MS(ESI)m/z 348 MH
実施例II−97
3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 3−メトキシ−ベンジルアミド
MS(ESI)m/z 428 MH
実施例II−98
3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [3−(2−オキソ−ピロリジン−1−イル)−プロピル]−アミド
MS(ESI)m/z 433 MH
実施例II−99
3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−1−ヒドロキシメチル−2−メチル−プロピル]−アミド
MS(ESI)m/z 394 MH
実施例II−100
3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (フラン−3−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 388 MH
実施例II−101
3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (ピリジン−2−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 399 MH
実施例II−102
3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (チオフェン−2−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 404 MH
実施例II−103
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−チオフェン−2−イル−エチル)−アミド
MS(ESI)m/z 434 MH
実施例II−104
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−メチルスルファニル−エチル)−アミド
MS(ESI)m/z 398 MH
実施例II−105
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−1−カルバモイル−エチル]−アミド
MS(ESI)m/z 395 MH
実施例II−106
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−2−ハイドロキシ−1−フェニル−エチル]−アミド
MS(ESI)m/z 444 MH
実施例II−107
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−チアゾール−2−イル−エチル)−アミド
MS(ESI)m/z 435 MH
実施例II−108
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(3R)−2−オキソ−テトラヒドロフラン−3−イル]−アミド
MS(ESI)m/z 408 MH
実施例II−109
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (テトラヒドロフラン−2−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 408 M
実施例II−110
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−エトキシ−エチル)−アミド
MS(ESI)m/z 396 MH
実施例II−111
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 シクロプロピルメチル−アミド
MS(ESI)m/z 378 MH
実施例II−112
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (フラン−2−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 404 MH
実施例II−113
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (5−メチル−フラン−2−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 418 MH
実施例II−114
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 シクロプロピルアミド
MS(ESI)m/z 364 MH
実施例II−115
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 3−メトキシ−ベンジルアミド
MS(ESI)m/z 444 MH
実施例II−116
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [3−(2−オキソ−ピロリジン−1−イル)−プロピル]−アミド
MS(ESI)m/z 449 MH
実施例II−117
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−1−ヒドロキシメチル−2−メチル−プロピル]−アミド
MS(ESI)m/z 410 MH
実施例II−118
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (フラン−3−イルメチル)−アミド
MS(ESI) m/z 404 MH
実施例II−119
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (ピリジン−2−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 415 MH
実施例II−120
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (チオフェン−2−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 420 MH
実施例II−121
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−フルオロ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 シクロプロパナミド
MS(ESI)m/z 352 MH
実施例II−122
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−フルオロ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (フラン−2−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 392 MH
実施例II−123
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−フルオロ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−1−ヒドロキシメチル−2−メチル−プロピル] −アミド
MS(ESI)m/z 398 MH
実施例II−124
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−フルオロ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−アセチルアミノ−エチル)−アミド
MS(ESI)m/z 397 MH
実施例II−125
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−フルオロ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−チオフェン−2−イル−エチル)−アミド
MS(ESI)m/z 422 MH
実施例II−126
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−フルオロ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−1−カルバモイル−エチル]]−アミド
MS(ESI)m/z 765 2MH
実施例II−127
4−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 シクロプロパナミド
MS(ESI)m/z 346 MH
実施例II−128
4−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (フラン−2−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 386 MH
実施例II−129
4−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−1−ヒドロキシメチル−2−メチル−プロピル]−アミド
MS(ESI)m/z 392 MH
実施例II−130
4−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−アセチルアミノ−エチル)−アミド
MS(ESI)m/z 391 MH
実施例II−131
4−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−チオフェン−2−イル−エチル)−アミド
MS(ESI)m/z 416 MH
実施例II−132
4−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−1−カルバモイル−エチル]]−アミド
MS(ESI)m/z 753 2MH
実施例II−133
3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−フルオロ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 シクロプロパナミド
MS(ESI)m/z 336 MH
実施例II−134
3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−フルオロ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (フラン−2−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 376 MH
実施例II−135
3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−フルオロ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−1−ヒドロキシメチル−2−メチル−プロピル]−アミド
MS(ESI)m/z 382 MH
実施例II−136
3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−フルオロ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−アセチルアミノ−エチル)−アミド
MS(ESI)m/z 381 MH
実施例II−137
3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−フルオロ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−チオフェン−2−イル−エチル)−アミド
MS(ESI)m/z 406 MH
実施例II−138
3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−フルオロ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−1−カルバモイル−エチル]]−アミド
MS(ESI)m/z 733 2MH
実施例II−139
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−6−フルオロ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 シクロプロピルアミド
MS(ESI)m/z 352 MH
実施例II−140
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−6−フルオロ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (フラン−2−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 392 MH
実施例II−141
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−6−フルオロ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(2S)−テトラヒドロフラン−2−イルメチル]−アミド MS(ESI)m/z 396 MH
実施例II−142
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−6−フルオロ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(2R)−テトラヒドロフラン−2−イルメチル]−アミド MS(ESI)m/z 396 MH
実施例II−143
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−6−フルオロ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (ピリジン−3−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 403 MH
実施例II−144
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−6−フルオロ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−1−ヒドロキシメチル−2−メチル−プロピル]−アミド
MS(ESI)m/z 398 MH
実施例II−145
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−6−フルオロ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [3−(2−オキソピロリジン−1−イル)プロピル]−アミド
MS(ESI)m/z 437 MH
実施例II−146
6−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 シクロプロピルアミド
MS(ESI)m/z 346 MH
実施例II−147
6−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (フラン−2−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 386 MH
実施例II−148
6−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(2S)−テトラヒドロフラン−2−イルメチル]−アミド
MS(ESI)m/z 390 MH
実施例II−149
6−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(2R)−テトラヒドロフラン−2−イルメチル]−アミド
MS(ESI)m/z 390 MH
実施例II−150
6−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (ピリジン−3−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 397 MH
実施例II−151
6−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−1−ヒドロキシメチル−2−メチル−プロピル]−アミド
MS(ESI)m/z 392 MH
実施例II−152
6−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [3−(2−オキソピロリジン−1−イル)プロピル]アミド
MS(ESI)m/z 431 MH
実施例II−153〜II−197の化合物は、製造例II−18〜II−25で製造された各種アミンを用い、合成法II−Bで合成した。
実施例II−153
シクロプロパンカルボン酸 {3−(3−フルオロ−フェニル)−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−イル}−アミド
MS(ESI)m/z 326 MH
実施例II−154
(2S)−5−オキソ−ピロリジン−2−カルボン酸 {3−(3−フルオロ−フェニル)−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−イル}−アミド
MS(ESI)m/z 369 MH
実施例II−155
(2R)−5−オキソ−ピロリジン−2−カルボン酸 {3−(3−フルオロ−フェニル)−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−イル}−アミド
MS(ESI)m/z 369 MH
実施例II−156
ピリジン−3−イル−酢酸 {3−(3−フルオロ−フェニル)−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−イル}−アミド
MS(ESI)m/z 377 MH
実施例II−157
シクロプロパンカルボン酸 {4−ブロモ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−イル}−アミド
MS(ESI)m/z 376,378 MH
実施例II−158
ピリジン−3−イル−酢酸 {4−ブロモ−3−(3−フルオロ−フェニル)− 1H−インダゾール−5−イル}−アミド
MS(ESI)m/z 425,427 MH
実施例II−159
シクロプロパンカルボン酸 {4−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−イル}−アミド
MS(ESI)m/z 314 MH
実施例II−160
(2S)−5−オキソ−ピロリジン−2−カルボン酸 {4−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−イル}−アミド
MS(ESI)m/z 357 MH
実施例II−161
(2R)−5−オキソ−ピロリジン−2−カルボン酸 {4−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−イル}−アミド
MS(ESI)m/z 357 MH
実施例II−162
3−ジメチルアミノ−N−{4−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−イル}−プロピオンアミド
MS(ESI)m/z 344 MH
実施例II−163
シクロプロパンカルボン酸 {6−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−イル}−アミド
MS(ESI)m/z 314 MH
実施例II−164
(2S)−5−オキソ−ピロリジン−2−カルボン酸 {6−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−イル}−アミド
MS(ESI)m/z 357 MH
実施例II−165
(2R)−5−オキソ−ピロリジン−2−カルボン酸 {6−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−イル}−アミド
MS(ESI)m/z 357 MH
実施例II−166
ピリジン−3−イル−酢酸 {6−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−イル}−アミド
MS(ESI)m/z 365 MH
実施例II−167
3−ジメチルアミノ−N−{6−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−イル}−プロピオンアミド
MS(ESI)m/z 345 MH
実施例II−168
シクロプロパンカルボン酸 {3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メトキシ−1H−インダゾール−5−イル}−アミド
MS(ESI)m/z 326 MH
実施例II−169
(2S)−5−オキソ−ピロリジン−2−カルボン酸 {3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メトキシ−1H−インダゾール−5−イル}−アミド
MS(ESI)m/z 369 MH
実施例II−170
(2R)−5−オキソ−ピロリジン−2−カルボン酸 {3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メトキシ−1H−インダゾール−5−イル}−アミド
MS(ESI)m/z 369 MH
実施例II−171
ピリジン−3−イル−酢酸 {3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メトキシ−1H−インダゾール−5−イル}−アミド
MS(ESI)m/z 377 MH
実施例II−172
3−ジメチルアミノ−N−{3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メトキシ−1H−インダゾール−5−イル}−プロピオンアミド
MS(ESI)m/z 357 MH
実施例II−173
N−{3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メトキシ−1H−インダゾール−5−イル}−2−チオフェン−2−イル−アセトアミド
MS(ESI)m/z 382 MH
実施例II−174
フラン−2−カルボン酸 {3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メトキシ−1H−インダゾール−5−イル}−アミド
MS(ESI)m/z 352 MH
実施例II−175
N−{3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メトキシ−1H−インダゾール−5−イル}−3−メトキシ−プロピオンアミド
MS(ESI)m/z 344 MH
実施例II−176
N−[3−(3−フルオロフェニル)−7−メチル−1H−インダゾール−5−イル]アセトアミド
MS(ESI)m/z 284 MH
実施例II−177
シクロプロパンカルボン酸 [3−(3−フルオロフェニル)−7−メチル−1H−インダゾール−5−イル]アミド
MS(ESI)m/z 310 MH
実施例II−178
(2R)−5−オキソ−ピロリジン−2−カルボン酸 [3−(3−フルオロフェニル)−7−メチル−1H−インダゾール−5−イル]アミド
MS(ESI)m/z 353 MH
実施例II−179
(2S)−5−オキソ−ピロリジン−2−カルボン酸 [3−(3−フルオロフェニル)−7−メチル−1H−インダゾール−5−イル]アミド
MS(ESI)m/z 353 MH
実施例II−180
テトラヒドロフラン−3−カルボン酸 [3−(3−フルオロフェニル)−7−メチル−1H−インダゾール−5−イル]アミド
MS(ESI)m/z 340 MH
実施例II−181
テトラヒドロフラン−2−カルボン酸 [3−(3−フルオロフェニル)−7−メチル−1H−インダゾール−5−イル]アミド
MS(ESI)m/z 340 MH
実施例II−182
N−[3−(3−フルオロフェニル)−7−メチル−1H−インダゾール−5−イル]−2−チオフェン−2−イル−アセトアミド
MS(ESI)m/z 366 MH
実施例II−183
N−[3−(3−フルオロフェニル)−7−メチル−1H−インダゾール−5−イル]−2−チオフェン−3−イル−アセトアミド
MS(ESI)m/z 366 MH
実施例II−184
シクロプロパンカルボン酸 {6−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イル}−アミド
MS(ESI)m/z 346 MH
実施例II−185
N−(6−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イル)−アセトアミド
MS(ESI)m/z 320 MH
実施例II−186
(2S)−5−オキソ−ピロリジン−2−カルボン酸 {6−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イル}−アミド
MS(ESI)m/z 389 MH
実施例II−187
(2R)−5−オキソ−ピロリジン−2−カルボン酸 {6−フルオロ−3−ナ フタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イル}−アミド
MS(ESI)m/z 389 MH
実施例II−188
ピリジン−3−イル−酢酸 (6−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イル)−アミド
MS(ESI)m/z 397 MH
実施例II−189
N−(6−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イル)−2−チオフェン−2−イル−アセトアミド
MS(ESI)m/z 402 MH
実施例II−190
フラン−2−カルボン酸 (6−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イル)−アミド
MS(ESI)m/z 372 MH
実施例II−191
N−(6−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イル)−3−メトキシ−プロピオンアミド
MS(ESI)m/z 364 MH
実施例II−192
シクロプロパンカルボン酸 (3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−6−フルオロ−1H−インダゾール−5−イル)−アミド
MS(ESI)m/z 352 MH
実施例II−193
N−(3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−6−フルオロ−1H−インダゾール−5−イル)−アセタミド
MS(ESI)m/z 326 MH
実施例II−194
(2R)−5−オキソピロリジン−2−カルボン酸 (3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−6−フルオロ−1H−インダゾール−5−イル)−アミド
MS(ESI)m/z 395 MH
実施例II−195
N−(3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−6−フルオロ−1H−インダゾール−5−イル)−2−チオフェン−2−イル−アセタミド
MS(ESI)m/z 408 MH
実施例II−196
フラン−2−カルボン酸 (3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−6−フルオロ−1H−インダゾール−5−イル)−アミド
MS(ESI)m/z 378 MH
実施例II−197
N−(3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−6−フルオロ−1H−インダゾール−5−イル)−3−メトキシ−プロピオンアミド
MS(ESI)m/z 370 MH
実施例II−198〜II−211の化合物は、製造例II−26〜II−30で製造された各種アミンを用い、合成法II−Cで合成した。
実施例II−198
N−{3−(3−フルオロ−フェニル)−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−イルメチル}−3−メトキシ−ベンズアミド
MS(ESI)m/z 406 MH
実施例II−199
N−{6−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−イルメチル}−3−メトキシ−ベンズアミド
H−NMR(400MHz,CDOD)δ 3.83(3H,s),4.73(2H,d,J=6.0Hz),7.06−7.18(2H,m),7.29(1H,d,J=10.6Hz),7.33−7.76(6H,m),8.05(1H,d,J=7.2Hz),8.99(1H,brs)
実施例II−200
N−{3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メトキシ−1H−インダゾール−5−イルメチル}−3−メトキシ−ニコチナミド
MS(ESI)m/z 407 MH
実施例II−201
N−{3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メトキシ−1H−インダゾール−5−イルメチル}−ニコチナミド
MS(ESI)m/z 377 MH
実施例II−202
3−シアノ−N−{3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メトキシ−1H−インダゾール−5−イルメチル}−ベンズアミド
MS(ESI)m/z 401 MH
実施例II−203
3−フルオロ−N−{3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メトキシ−1H−インダゾール−5−イルメチル}−ベンズアミド
MS(ESI)m/z 394 MH
実施例II−204
N−{6−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−イルメチル}−3−メトキシ−ニコチナミド
MS(ESI)m/z 395 MH
実施例II−205
N−{6−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−イルメチル}−ニコチナミド
MS(ESI)m/z 365 MH
実施例II−206
3−シアノ−N−{6−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−イルメチル}−ベンズアミド
MS(ESI)m/z 389 MH
実施例II−207
3−フルオロ−N−{6−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−イルメチル}−ベンズアミド
MS(ESI)m/z 382 MH
実施例II−208
N−(6−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イルメチル)−3−メトキシ−ベンズアミド
MS(ESI)m/z 426 MH
実施例II−209
N−(6−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イルメチル)−2−メトキシ−ベンズアミド
MS(ESI)m/z 426 MH
実施例II−210
N−(3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−6−フルオロ−1H−インダゾール−5−イルメチル)−3−メトキシ−ベンズアミド
MS(ESI)m/z 432 MH
実施例II−211
N−(3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−6−フルオロ−1H−インダゾール−5−イルメチル)−2−メトキシ−ベンズアミド
MS(ESI)m/z 432 MH
実施例II−212〜II−218の化合物は、製造例II−18、19、22、23、24、26、28で製造された各種アミンを用い、合成法II−Dで合成した。
実施例II−212
N−{3−(3−フルオロ−フェニル)−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−イル}−メタンスルホナミド
MS(ESI)m/z 336 MH
実施例II−213
N−{4−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−イル}−メタンスルホナミド
MS(ESI)m/z 324 MH
実施例II−214
N−{3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メトキシ−1H−インダゾール− 5−イル}−メタンスルホナミド
MS(ESI)m/z 336 MH
実施例II−215
N−[3−(3−フルオロフェニル)−7−メチル−1H−インダゾール−5−イル]メタンスルホナミド
MS(ESI)m/z 320 MH
実施例II−216
N−{3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メトキシ−1H−インダゾール−5−イルメチル}−3−メトキシ−ベンゼンスルホナミド
MS(ESI)m/z 442 MH
実施例II−217
N−{6−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−イルメチル}−3−メトキシ−ベンゼンスルホナミド
MS(ESI)m/z 430 MH
実施例II−218
N−(3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−6−フルオロ−1H−インダゾール−5−イル)−メタンスルホナミド
MS(ESI)m/z 362 MH
実施例II−219〜II−225の化合物は、製造例II−18〜II−25で製造された各種アミンを用い、合成法II−Eで合成した。
実施例II−219
3−(3−フルオロ−フェニル)−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−イル−アミン
MS(ESI)m/z 258 MH
実施例II−220
4−ブロモ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−イル−アミン
MS(ESI)m/z 306,308 MH
実施例II−221
4−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−イル−アミン
MS(ESI)m/z 246 MH
実施例II−222
6−フルオロ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−5−イル−アミン
MS(ESI)m/z 246 MH
実施例II−223
3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メトキシ−1H−インダゾール−5−イル−アミン
MS(ESI)m/z 258 MH
実施例II−224
6−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イルアミン
MS(ESI)m/z 278 MH
実施例II−225
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−6−フルオロ−1H−インダゾール−5−イルアミン
MS(ESI)m/z 284 MH
実施例II−226−a
シクロプロパンカルボン酸 {4−ブロモ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1−トリチル−1H−インダゾール−5−イル}アミド
製造例II−21で得られる、4−ブロモ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1−トリチル−1H−インダゾール−5−イルアミン513mgをテトラヒドロフラン19mlに溶解し、氷冷攪拌下、トリエチルアミン0.261mlとシクロプロパンカルボニルクロライド0.089mlを加え、室温で90分間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:2)で分離精製し、標記化合物471mgを淡黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ 0.82−0.90(2H,m),1.02−1.09(2H,m),1.53−1.60(1H,m),6.45(1H,d,J=9.2Hz),7.05−7.13(1H,m),7.19−7.93(20H,m)
実施例II−226−b
5−(シクロプロパンカルボニル−アミド)−3−(3−フルオロ−フェニル)−1−トリチル−1H−インダゾール−4−カルボン酸
製造例II−2−dの方法に準じて、実施例II−226−aで得られるシクロプロパンカルボン酸 {4−ブロモ−3−(3−フルオロ−フェニル)−1−トリチル−1H−インダゾール−5−イル}アミド144mgから、標記化合物17.8mgを得た。
H−NMR(400MHz,CDOD)δ 0.72−1.71(5H,m),6.48(1H,d,J=9.2Hz),6.98−7.05(1H,m),7.20−7.50(19H,m)
実施例II−226−c
5−(シクロプロパンカルボニル−アミド)−3−(3−フルオロ−フェニル)−1H−インダゾール−4−カルボン酸
実施例II−226−bで得られる、5−(シクロプロパンカルボニル−アミド)−3−(3−フルオロ−フェニル)−1−トリチル−1H−インダゾール−4−カルボン酸178mgをテトラヒドロフラン2ml、ジクロロメタン2mlに溶解し、トリフルオロ酢酸0.5mlを加え、室温で16時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル)で分離精製し、標記化合物96.9mgを薄桃色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CD3OD)δ 0.83−1.00(4H,m),1.73−1.83(1H,m),7.10−7.17(1H,m),7.23−7.28(1H,m),7.31−7.36(1H,m),7.44(1H,dt,J=6.0,8.0Hz),7.68(1H,d,J=9.2Hz),7.87(1H,d,J=9.2Hz)
実施例II−227
N−{3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メトキシ−1H−インダゾール−5−イルメチル}−3−メトキシ−ベンズアミド
製造例26で得られるC−{3−(3−フルオロ−フェニル)−6−メトキシ−1H−インダゾール−5−イル}−メチルアミン25.6mgをジメチルホルムアミド1.9mlに溶解し、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール15.3mg、ジイソプロピルエチルアミン0.066ml、3−メトキシ安息香酸14.4mgを加え、氷冷攪拌下、1−エチル−3−(3’−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド ハイドロクロライド(=WSC.HCl)27.2mgを加えた。室温で5時間攪拌した後、水を加えて酢酸エチルで抽出、得られた有機層を0.5N水酸化ナトリウム水溶液、1N塩酸、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン:メタノール=10:1)で精製分離し、標記化合物9.24mgを淡黄色結晶として得た。
H−NMR(400MHz,CDOD)δ 3.83(3H,s),3.98(3H,s),4.66(2H,s),7.03(1H,s),7.07−7.14(2H,m),7.34−7.43(3H,m),7.47(1H,dt,J=6.0,8.0Hz),7.59−7.64(1H,m),7.72(1H,d,J=8.0Hz),7.89(1H,s).
実施例II−228〜II−265の化合物は、製造例II−31〜II−32で製造された各種カルボン酸を用い、合成法II−Aで合成した。
実施例II−228
7−フルオロ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 シクロプロピルアミド
MS(ESI)m/z 314 MH
実施例II−229
7−フルオロ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−インダゾール−5−カル ボン酸 シクロプロピルメチルアミド
MS(ESI)m/z 328 MH
実施例II−230
7−フルオロ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−メチルスルファニルエチル)アミド
MS(ESI)m/z 348 MH
実施例II−231
7−フルオロ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−1−ヒドロキシメチル−2−メチルプロピル]アミド
MS(ESI)m/z 360 MH
実施例II−232
7−フルオロ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−2−ヒドロキシ−1−フェニルエチル]アミド
MS(ESI)m/z 394 MH
実施例II−233
7−フルオロ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(2R)−テトラヒドロフラン−2−イルメチル]アミド
MS(ESI)m/z 358 MH
実施例II−234
7−フルオロ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(2S)−テトラヒドロフラン−2−イルメチル]アミド
MS(ESI)m/z 358 MH
実施例II−235
7−フルオロ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−1−ヒドロキシメチル−3−メチルスルファニルプロピル]アミド
MS(ESI)m/z 392 MH
実施例II−236
7−フルオロ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−インダゾール−5−カル ボン酸 (2−ヒドロキシ−1−ヒドロキシメチルエチル)アミド
MS(ESI)m/z 348 MH
実施例II−237
7−フルオロ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−1−ヒドロキシメチル−3−メチルブチル]アミド
MS(ESI)m/z 374 MH
実施例II−238
7−フルオロ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−2−ヒドロキシ−1−(1H−イミダゾール−4−イルメチル)エチル]アミド
MS(ESI)m/z 398 MH
実施例II−239
7−フルオロ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−1−カルバモイルエチル]アミド
MS(ESI)m/z 345 MH
実施例II−240
7−フルオロ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(3R)−2−オキソ−テトラヒドロフラン−3−イル]アミド
MS(ESI)m/z 358 MH
実施例II−241
7−フルオロ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (フラン−2−イルメチル)アミド
MS(ESI)m/z 354 MH
実施例II−242
7−フルオロ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (5−メチルフラン−2−イルメチル)アミド
MS(ESI)m/z 368 MH
実施例II−243
7−フルオロ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−インダゾール−5−カル ボン酸 (フラン−3−イルメチル)アミド
MS(ESI)m/z 354 MH
実施例II−244
7−フルオロ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (ベンゾ[b]フラン−2−イルメチル)アミド
MS(ESI)m/z 404 MH
実施例II−245
7−フルオロ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (チオフェン−2−イルメチル)アミド
MS(ESI)m/z 370 MH
実施例II−246
7−フルオロ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (ピリジン−3−イルメチル)アミド
MS(ESI)m/z 365 MH
実施例II−247
7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 シクロプロピルアミド
MS(ESI)m/z 346 MH
実施例II−248
7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 シクロプロピルメチルアミド
MS(ESI)m/z 360 MH
実施例II−249
7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−メチルスルファニルエチル)アミド
MS(ESI)m/z 380 MH
実施例II−250
7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−1−ヒドロキシメチル−2−メチルプロピル]アミド
MS(ESI)m/z 392 MH
実施例II−251
7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−2−ヒドロキシ−1−フェニルエチル]アミド
MS(ESI)m/z 426 MH
実施例II−252
7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(2R)−テトラヒドロフラン−2−イルメチル]アミド
MS(ESI)m/z 390 MH
実施例II−253
7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(2S)−テトラヒドロフラン−2−イルメチル]アミド
MS(ESI)m/z 390 MH
実施例II−254
7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−1−ヒドロキシメチル−3−メチルスルファニルプロピル]アミド
MS(ESI)m/z 424 MH
実施例II−255
7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (2−ヒドロキシ−1−ヒドロキシメチルエチル)アミド
MS(ESI)m/z 380 MH
実施例II−256
7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−1−ヒドロキシメチル−3−メチルブチル]アミド
MS(ESI)m/z 406 MH
実施例II−257
7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−2−ヒドロキシ−1−(1H−イミダゾール−4−イルメチル )エチル]アミド
MS(ESI)m/z 430 MH
実施例II−258
7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−1−カルバモイルエチル]アミド
MS(ESI)m/z 377 MH
実施例II−259
7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(3R)−2−オキソ−テトラヒドロフラン−3−イル]アミド
MS(ESI)m/z 390 MH
実施例II−260
7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (フラン−2−イルメチル)アミド
MS(ESI)m/z 386 MH
実施例II−261
7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (5−メチルフラン−2−イルメチル)アミド
MS(ESI)m/z 400 MH
実施例II−262
7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (フラン−3−イルメチル)アミド
MS(ESI)m/z 386 MH
実施例II−263
7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (ベンゾ[b]フラン−2−イルメチル)アミド
MS(ESI)m/z 436 MH
実施例II−264
7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (チオフェン−2−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 402 MH
実施例II−265
7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (ピリジン−3−イルメチル)アミド
MS(ESI)m/z 397 MH
実施例II−266〜II−267の化合物は、製造例II−33〜II−34で製造された各種アミンを用い、合成法II−Dで合成した。
実施例II−266
N−(3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−フルオロ−1H−インダゾール−5−イル)−メタンスルホナミド
MS(ESI)m/z 362 MH
実施例II−267
N−(4−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イル)−メタンスルホナミド
MS(ESI)m/z 356 MH
実施例II−268〜II−278の化合物は、製造例II−33〜II−34で製造された各種アミンを用い、合成法II−Bで合成した。
実施例II−268
シクロプロパンカルボン酸 (3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−フルオロ−1H−インダゾール−5−イル)−アミド
MS(ESI)m/z 352 MH
実施例II−269
(2S)−5−オキソ−ピロリジン−2−カルボン酸 (3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−フルオロ−1H−インダゾール−5−イル)−アミド
MS(ESI)m/z 395 MH
実施例II−270
テトラヒドロフラン−2−カルボン酸 (3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−フルオロ−1H−インダゾール−5−イル)−アミド
MS(ESI)m/z 382 MH
実施例II−271
フラン−2−カルボン酸 (3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−フルオロ−1H−インダゾール−5−イル)−アミド
MS(ESI)m/z 378 MH
実施例II−272
N−(3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−フルオロ−1H−インダゾール−5−イル)−2−チオフェン−2−イル−アセタミド
MS(ESI)m/z 408 MH
実施例II−273
チオフェン−2−カルボン酸 (3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−フルオロ−1H−インダゾール−5−イル)−アミド
MS(ESI)m/z 394 MH
実施例II−274
シクロプロパンカルボン酸 (4−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イル)−アミド
MS(ESI)m/z 346 MH
実施例II−275
(2S)−5−オキソ−ピロリジン−2−カルボン酸 (4−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イル)−アミド
MS(ESI)m/z 389 MH
実施例II−276
テトラヒドロフラン−2−カルボン酸 (4−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イル)−アミド
MS(ESI)m/z 376 MH
実施例II−277
フラン−2−カルボン酸 (4−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イル)−アミド
MS(ESI)m/z 372 MH
実施例II−278
N−(4−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イル)−2−チオフェン−2−イル−アセタミド
MS(ESI)m/z 402 MH
実施例II−279〜II−282の化合物は、製造例II−35で製造されたカルボン酸を用い、合成法II−Aで合成した。
実施例II−279
3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−プロポキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 シクロプロピルアミド
MS(ESI)m/z 376 MH
実施例II−280
3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−プロポキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸(フラン−2−イルメチル)アミド
MS(ESI)m/z 416 MH
実施例II−281
3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−プロポキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 ((1S)−1−ヒドロキシメチル−2−メチル−プロピル)−アミド
MS(ESI)m/z 422 MH
実施例II−282
3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−プロポキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 ((1S)−2−ヒドロキシ−1−フェニル−エチル)−アミド
MS(ESI)m/z 456 MH
実施例II−283〜II−315の化合物は、製造例II−36〜II−39で製造された各種アミンを用い、合成法II−Bで合成した。
実施例II−283
N−[7−フルオロ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−インダゾール−5−イル]アセトアミド
MS(ESI)m/z 288 MH
実施例II−284
(2R)−5−オキソ−ピロリジン−2−カルボン酸 [7−フルオロ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−インダゾール−5−イル]アミド
MS(ESI)m/z 357 MH
実施例II−285
(2S)−5−オキソ−ピロリジン−2−カルボン酸 [7−フルオロ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−インダゾール−5−イル]アミド
MS(ESI)m/z 357 MH
実施例II−286
テトラヒドロフラン−3−カルボン酸 [7−フルオロ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−インダゾール−5−イル]アミド
MS(ESI)m/z 344 MH
実施例II−287
テトラヒドロフラン−2−カルボン酸 [7−フルオロ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−インダゾール−5−イル]アミド
MS(ESI)m/z 344 MH
実施例II−288
N−[7−フルオロ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−インダゾール−5−イル]−2−チオフェン−3−イルアセトアミド
MS(ESI)m/z 370 MH
実施例II−289
N−[7−フルオロ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−インダゾール−5−イル]−2−チオフェン−2−イルアセトアミド
MS(ESI)m/z 370 MH
実施例II−290
N−(7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イル)アセトアミド
MS(ESI)m/z 320 MH
実施例II−291
シクロプロピルカルボン酸 (7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H −インダゾール−5−イル)アミド
MS(ESI)m/z 346 MH
実施例II−292
(2R)−5−オキソ−ピロリジン−2−カルボン酸 (7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イル)アミド
MS(ESI)m/z 389 MH
実施例II−293
(2S)−5−オキソ−ピロリジン−2−カルボン酸 (7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イル)アミド
MS(ESI)m/z 389 MH
実施例II−294
テトラヒドロフラン−3−カルボン酸 (7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イル)アミド
MS(ESI)m/z 376 MH
実施例II−295
テトラヒドロフラン−2−カルボン酸 (7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イル)アミド
MS(ESI)m/z 376 MH
実施例II−296
N−(7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イル)−2−チオフェン−3−イルアセトアミド
MS(ESI)m/z 402 MH
実施例II−297
N−(7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イル)−2−チオフェン−2−イルアセトアミド
MS(ESI)m/z 402 MH
実施例II−298
N−(4−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イル)−アセトアミド
MS(ESI)m/z 332 MH
実施例II−299
シクロプロパンカルボン酸 (4−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イル)−アミド
MS(ESI)m/z 358 MH
実施例II−300
(2R)−5−オキソ−ピロリジン−2−カルボン酸 (4−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イル)−アミド
MS(ESI)m/z 401 MH
実施例II−301
(2S)−5−オキソ−ピロリジン−2−カルボン酸 (4−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イル)−アミド
MS(ESI)m/z 401 MH
実施例II−302
フラン−2−カルボン酸 (4−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イル)−アミド
MS(ESI)m/z 384 MH
実施例II−303
チオフェン−2−カルボン酸 (4−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イル)−アミド
MS(ESI)m/z 400 M
実施例II−304
N−(4−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イル)−2−チオフェン−2−イル−アセトアミド
MS(ESI)m/z 414 MH
実施例II−305
3−メトキシ−N−(4−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イル)プロピオンアミド
MS(ESI)m/z 376 MH
実施例II−306
3−ジメチルアミノ−N−(4−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イル)プロピオンアミド
MS(ESI)m/z 389 MH
実施例II−307
N−(3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−イル)−アセトアミド
MS(ESI)m/z 338 MH
実施例II−308
シクロプロパンカルボン酸 (3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−イル)−アミド
MS(ESI)m/z 364 MH
実施例II−309
(2R)−5−オキソ−ピロリジン−2−カルボン酸 (3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−イル)−アミド
MS(ESI)m/z 407 MH
実施例II−310
(2S)−5−オキソ−ピロリジン−2−カルボン酸 (3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−イル)−アミド
MS(ESI)m/z 407 MH
実施例II−311
フラン−2−カルボン酸 (3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−イル)−アミド
MS(ESI)m/z 390 MH
実施例II−312
チオフェン−2−カルボン酸 (3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−イル)−アミド
MS(ESI)m/z 406 M
実施例II−313
N−(3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−イル)−2−チオフェン−2−イル−アセトアミド
MS(ESI)m/z 420 MH
実施例II−314
N−(3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−イル)−3−メトキシ−プロピオンアミド
MS(ESI)m/z 382 MH
実施例II−315
N−(3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−イル)−3−ジメチルアミノ−プロピオンアミド
MS(ESI)m/z 395 MH
実施例II−316〜II−319の化合物は、製造例II−40で製造されたアミンを用い、合成法II−Cで合成した。
実施例II−316
N−(7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イルメチル)−3−メトキシベンズアミド
MS(ESI)m/z 426 MH
実施例II−317
N−(7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イルメチル)−2−メトキシベンズアミド
MS(ESI)m/z 426 MH
実施例II−318
3−シアノ−N−(7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イルメチル)ベンズアミド
MS(ESI)m/z 421 MH
実施例II−319
3−フルオロ−N−(7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イルメチル)ベンズアミド
MS(ESI)m/z 414 MH
実施例II−320〜II−323の化合物は、製造例II−36〜II−39で製造された各種アミンを用い、合成法II−Dで合成した。
実施例II−320
N−[7−フルオロ−3−(3−フルオロフェニル)−1H−インダゾール−5−イル]メタンスルホナミド
MS(ESI)m/z 324 MH
実施例II−321
N−(7−フルオロ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イル)メタンスルホナミド
MS(ESI)m/z 356 MH
実施例II−322
N−(4−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−イル)−メタンスルホナミド
MS(ESI)m/z 368 MH
実施例II−323
N−(3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−4−メトキシ−1H−インダゾール−5−イル)−メタンスルホナアミド
MS(ESI)m/z 374 MH
実施例II−324〜II−340の化合物は、製造例II−41〜II−42で製造された各種カルボン酸を用い、合成法II−Aで合成した。
実施例II−324
6−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 シクロプロピルアミド
MS(ESI)m/z 358 MH
実施例II−325
6−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(3R)−2−オキソ−テトラヒドロ−フラン−3−イル]−アミド
MS(ESI)m/z 402 MH
実施例II−326
6−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (フラン−2−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 398 MH
実施例II−327
6−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−2−ヒドロキシ−1−フェニル−エチル]−アミド
MS(ESI)m/z 438 MH
実施例II−328
6−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−1−ヒドロキシメチル−2−メチル−プロピル]−アミド
MS(ESI)m/z 404 MH
実施例II−329
6−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 シクロプロピルメチル−アミド
MS(ESI)m/z 372 MH
実施例II−330
6−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (チオフェン−2−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 414 M
実施例II−331
6−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−1−カルバモイル−エチル]−アミド
MS(ESI)m/z 389 MH
実施例II−332
6−メトキシ−3−ナフタレン−2−イル−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (テトラヒドロフラン−2−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 402 MH
実施例II−333
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−6−メトキシ−1H−インダゾール− 5−カルボン酸 シクロプロピルアミド
MS(ESI)m/z 364 MH
実施例II−334
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−6−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(3R)−2−オキソ−テトラヒドロ−フラン−3−イル]−アミド
MS(ESI)m/z 408 MH
実施例II−335
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−6−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (フラン−2−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 404 MH
実施例II−336
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−6−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−2−ヒドロキシ−1−フェニル−エチル]−アミド
MS(ESI)m/z 444 MH
実施例II−337
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−6−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 [(1S)−1−ヒドロキシメチル−2−メチル−プロピル]−アミド
MS(ESI)m/z 410 MH
実施例II−338
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−6−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 シクロプロピルメチル−アミド
MS(ESI)m/z 378 MH
実施例II−339
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−6−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (チオフェン−2−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 420 MH
実施例II−340
3−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−6−メトキシ−1H−インダゾール−5−カルボン酸 (テトラヒドロフラン−2−イルメチル)−アミド
MS(ESI)m/z 408 MH
実施例II−341〜II−344の化合物は、製造例II−43で製造されたアミンを用い、合成法II−Bで合成した。
実施例II−341
シクロプロパンカルボン酸 (3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−フルオロ−1H−インダゾール−5−イル)−アミド
MS(ESI)m/z 336 MH
実施例II−342
(2S)−5−オキソ−ピロリジン−2−カルボン酸 (3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−フルオロ−1H−インダゾール−5−イル)−アミド
MS(ESI)m/z 379 MH
実施例II−343
フラン−2−カルボン酸 (3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−フルオロ−1H−インダゾール−5−イル)−アミド
MS(ESI)m/z 362 MH
実施例II−344
N−(3−ベンゾ[b]フラン−2−イル−4−フルオロ−1H−インダゾール−5−イル)−2−チオフェン−2−イル−アセタミド
MS(ESI)m/z 392 MH
本発明にかかる化合物(I)またはその塩は、JNK阻害作用を測定する試験において優れた作用を示した。例えば、JNK3に対する阻害作用は以下の如くであった。
試験例1
[JNK3阻害測定]
ヒト型JNK3はグルタチオンS−トランスフェラーゼ(GST)との融合タンパク質として大腸菌で発現し(GST−JNK3)、グルタチオンセファロース4Bビーズで精製した。またc−Junのアミノ酸配列1−169をGSTとの融合タンパク質として大腸菌で作製し(GST−c−Jun)、グルタチオンセファロース4Bビーズで精製し基質として使用した。化合物は100%ジメチルスルフォキシドを用いて10mMで希釈後、10%ジメチルスルフォキシド水溶液で希釈系列を作製した。96穴OPTIプレート(パッカード社製)に1wellあたり希釈化合物20μl、基質溶液30μl(1.2μg GST−c−Jun、0.04μg GST−JNK3、0.2μCi [γ−33P]ATP、25mM HEPES pH=7.5,10mM MgAcetate,3.33μM ATP)、酵素溶液50μl(0.04μg GST−JNK3、25mM HEPES pH=7.5,10mM MgAcetate)を混合して100μlとし、30分間反応した。反応停止液(80mM ATP、5mg/mlグルタチオンSPAビーズ(アマシャムファルマシアバイオテク製))を100μl添加することにより反応停止後、30分間振盪した。室温1000xgで5分間遠心分離後、TopCountTM(パッカード社製)により発光強度を測定した。活性は、JNKの酵素活性を50%阻害する濃度、即ち、IC50(nM)で表わした。
<結果>本発明に斯かる化合物(I)またはその塩は、いずれも優れたJNK3阻害活性を示した。以下に、そのIC50値の例を示す。
Figure 0004535680
なお、製造例と実施例の化合物の構造式を以下に一覧で示す。
Figure 0004535680
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Claims (28)

  1. 一般式で表わされる化合物もしくはその塩またはそれらの水和物。
    Figure 0004535680
    式中、Rは置換基を有していてもよいC6−14芳香族炭化水素環式基または置換基を有していてもよい5〜14員芳香族複素環式基を意味する;
    、RおよびRはそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよいC1−6アルキル基、置換基を有していてもよいC1−6アルコキシ基、置換基を有していてもよいC2−7アシル基、−CO−NR2a2b、−NR2bCO−R2aまたは−NR2a2bを意味するが、R、RおよびRのうち少なくとも1つは水素原子ではない(前記式中、R2aおよびR2bはそれぞれ独立して水素原子または置換基を有していてもよいC1−6アルキル基を意味する。);
    Lは単結合、置換基を有していてもよいC1−6アルキレン基、置換基を有していてもよいC2−6アルケニレン基または置換基を有していてもよいC2−6アルキニレン基を意味する;
    Xは−CO−NR−V−、−NR−CO−V−、−NR−SO−V−(前記式中、Rは、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、置換基を有していてもよいC1−6アルキル基、置換基を有していてもよいC2−6アルケニル基、置換基を有していてもよいC2−6アルキニル基、置換基を有していてもよいC1−6アルコキシ基、置換基を有していてもよいC2−6アルケニルオキシ基、置換基を有していてもよいC1−6アルキルチオ基、置換基を有していてもよいC2−6アルケニルチオ基、置換基を有していてもよいC3−8シクロアルキル基、置換基を有していてもよいC3−8シクロアルケニル基、置換基を有していてもよい5〜14員非芳香族複素環式基、置換基を有していてもよいC6−14芳香族炭化水素環式基または置換基を有していてもよい5〜14員芳香族複素環式基を意味し、Vは単結合または置換基を有していてもよいC1−6アルキレン基を意味する。)で表わされる基を意味する;
    Yは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、水酸基、シアノ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよいC1−6アルキル基、置換基を有していてもよいC2−6アルケニル基、置換基を有していてもよいC2−6アルキニル基、置換基を有していてもよいC1−6アルコキシ基、置換基を有していてもよいC3−8シクロアルキル基、置換基を有していてもよいC3−8シクロアルケニル基、置換基を有していてもよい5〜14員非芳香族複素環式基、置換基を有していてもよいC6−14芳香族炭化水素環式基、置換基を有していてもよい5〜14員芳香族複素環式基、アミノ基または−W−R15(式中、Wは、−CO−または−SO−を意味し、R15は、置換基を有していてもよいC1−6アルキル基、置換基を有していてもよいC6−14芳香族炭化水素環式基、置換基を有していてもよい5〜14員芳香族複素環式基またはアミノ基を意味する。
  2. 、RおよびRがそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子または置換基を有していてもよいC1−6アルコキシ基である請求項1記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物。
  3. が水素原子である請求項1または2記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物。
  4. が水素原子である請求項1〜3いずれか1項記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物。
  5. が水素原子である請求項1〜4いずれか1項記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物。
  6. Lが単結合またはメチレン基である請求項1〜5いずれか1項記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物。
  7. Lが単結合である請求項1〜5いずれか1項記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物。
  8. がC6−14芳香族炭化水素環式基または5〜14員芳香族複素環式基であり、かつ、Rが下記置換基群aから選ばれる1〜3個の基で置換されていてもよい基である請求項1〜7いずれか1項記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物。
    <置換基群a> (1)下記<置換基群b>から選ばれる1〜3個の基でそれぞれ置換されていてもよい(a)C1−6アルキル基、(b)C1−6アルコキシ基、(c)C1−7アシル基、(d)アミド基、(e)アミノ基、(f)C3−8シクロアルキル基、(2)ハロゲン原子、(3)水酸基、(4)ニトロ基、(5)シアノ基および(6)カルボキシル基からなる群;
    <置換基群b> C1−6アルキル基、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基およびカルボキシル基からなる群。
  9. がフェニル基、ナフチル基、または5〜10芳香族複素環式基であり、かつ、Rが請求項8記載の置換基群aから選ばれる1〜3個の基で置換されていてもよい基である請求項1〜7いずれか1項記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物。
  10. がフェニル基、2−ナフチル基、ピリジル基、2−チエニル基、2−フリル基、2−ベンゾフリル基、2−キノリル基または2−ベンゾチエニル基であり、かつ、Rが請求項8記載の置換基群aから選ばれる1〜3個の基で置換されていてもよい基である請求項1〜7いずれか1項記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物。
  11. が2−ナフチル基、2−ベンゾフリル基または2−ベンゾチエニル基であり、かつ、Rが請求項8記載の置換基群aから選ばれる1〜3個の基で置換されていてもよい基である請求項1〜7いずれか1項記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物。
  12. 置換基群aが(1)ハロゲン原子、水酸基およびシアノ基からなる群から選ばれる1〜3個の基でそれぞれ置換されていてもよいC1−6アルキル基、(2)ハロゲン原子、水酸基およびシアノ基からなる群から選ばれる1〜3個の基でそれぞれ置換されていてもよいC1−6アルコキシ基、(3)ハロゲン原子、(4)水酸基および(5)シアノ基からなる群である請求項8〜11いずれか1項記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物。
  13. 置換基群aがハロゲン原子である請求項8〜11いずれか1項記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物。
  14. が水素原子である請求項1〜13いずれか1項記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物。
  15. Xが−CO−NH−(CH−(式中、tは0または1を意味する。)で表わされる基である請求項1〜13いずれか1項記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物。
  16. Xが−NH−CO−(CH−(式中、tは0または1を意味する。)で表わされる基である請求項1〜13いずれか1項記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物。
  17. YがC1−6アルキル基、C6−14芳香族炭化水素環式基、C1−6アルコキシ基、C3−8シクロアルキル基、5〜14員非芳香族複素環式基または5〜14員芳香族複素環式基であり、かつ、Yが下記置換基群a2から選ばれる1〜3個の基で置換されていてもよい基である請求項1〜16いずれか1項記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物。
    <置換基群a2> (1)下記<置換基群b2>から選ばれる1〜3個の基でそれぞれ置換されていてもよい(a)C1−6アルキル基、(b)C2−6アルケニル基、(c)C2−6アルキニル基、(d)C1−6アルコキシ基、(e)C2−7アシル基、(f)アミド基、(g)アミノ基、(h)C3−8シクロアルキル基、(i)C3−8シクロアルケニル基、(j)C6−14芳香族炭化水素環式基、(k)5〜14員芳香族複素環式基、(l)C6−14アリロキシ基および(m)5〜14員非芳香族複素環式基、(2)ハロゲン原子、(3)水酸基、(4)ニトロ基、(5)シアノ基および(6)カルボキシル基からなる群;
    <置換基群b2> C1−6アルキル基、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基およびカルボキシル基からなる群。
  18. YがC3−8シクロアルキル基、フェニル基、5または6員非芳香族複素環式基または5または6員芳香族複素環式基であり、かつ、Yが請求項17記載の置換基群a2から選ばれる1〜3個の基で置換されていてもよい基である請求項1〜16いずれか1項記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物。
  19. Yがフリル基、チエニル基、ピロリル基、フェニル基、ピリジル基、C3−8シクロアルキル基、テトラヒドロフラン−イル基、テトラヒドロチオフェン−イル基、ピロリジニル基、テトラヒドロフラン−2−オン−イル基、ピロリジン−2−オン−イル基または式
    Figure 0004535680
    (式中、Y2aは、−CONHまたは−CHOHで表わされる基を意味し、Y2bおよびY2cはそれぞれ独立して水素原子、置換基を有していてもよいフェニル基または置換基を有していてもよいC1−6アルキル基を意味する。)で表わされる基であり、かつ、Yが、請求項17記載の置換基群a2から選ばれる1〜3個の基で置換されていてもよい基である請求項1〜16いずれか1項記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物。
  20. Yがフリル基またはチエニル基であり、かつ、Yが請求項17記載の置換基群a2から選ばれる1〜3個の基で置換されていてもよい基である請求項1〜16いずれか1項記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物。
  21. 置換基群a2が(1)下記<置換基群b2>から選ばれる1〜3個の基でそれぞれ置換されていてもよい(a)C1−6アルキル基、(b)C1−6アルコキシ基、(c)C1−7アシル基、(d)アミド基、(e)アミノ基、(f)C3−8シクロアルキル基、(2)ハロゲン原子、(3)水酸基、(4)ニトロ基、(5)シアノ基および(6)カルボキシル基からなる群であり、<置換基群b2>が C1−6アルキル基、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基およびカルボキシル基からなる群である請求項17〜20いずれか1項記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物。
  22. 置換基群a2が(1)C1−6アルコキシ基、(2)ハロゲン原子、(3)シアノ基からなる群である請求項17〜20いずれか1項記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物。
  23. 請求項1記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物および薬理学上許容される担体からなる医薬組成物。
  24. 請求項1記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物を含有してなるc−Junアミノ末端リン酸化酵素(JNK)の阻害剤。
  25. 請求項1記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物を含有してなるc−Junアミノ末端リン酸化酵素1(JNK1)、c−Junアミノ末端リン酸化酵素2(JNK2)および/またはc−Junアミノ末端リン酸化酵素3(JNK3)の阻害剤。
  26. 請求項1記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物を含有してなる免疫性疾患または炎症性疾患の治療剤または予防剤。
  27. 請求項1記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物を含有してなる神経変性疾患の治療剤または予防剤。
  28. 請求項1記載の化合物もしくはその塩またはそれらの水和物を含有してなるアルツハイマー病、パーキンソン病、ハンチントン舞踏病、筋萎縮性側索硬化症、多発性硬化症または脊髄小脳変性症の治療剤または予防剤
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