JP4532293B2 - 1,1−ジフルオロビニル脂環式化合物の製造方法 - Google Patents
1,1−ジフルオロビニル脂環式化合物の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4532293B2 JP4532293B2 JP2005009189A JP2005009189A JP4532293B2 JP 4532293 B2 JP4532293 B2 JP 4532293B2 JP 2005009189 A JP2005009189 A JP 2005009189A JP 2005009189 A JP2005009189 A JP 2005009189A JP 4532293 B2 JP4532293 B2 JP 4532293B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lithium
- trifluoromethyl
- potassium
- sodium
- formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 39
- -1 vinyl alicyclic compound Chemical class 0.000 claims description 33
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 25
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 21
- 239000004032 superbase Substances 0.000 claims description 17
- 150000007525 superbases Chemical class 0.000 claims description 17
- ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N lithium diisopropylamide Chemical compound [Li+].CC(C)[N-]C(C)C ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 238000005796 dehydrofluorination reaction Methods 0.000 claims description 15
- 229910052700 potassium Chemical group 0.000 claims description 14
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 14
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical group C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 13
- 239000011591 potassium Chemical group 0.000 claims description 13
- BHUCBQYQFBEPPW-UHFFFAOYSA-N 1-propyl-4-[4-(trifluoromethyl)cyclohexyl]cyclohexane Chemical compound C1CC(CCC)CCC1C1CCC(C(F)(F)F)CC1 BHUCBQYQFBEPPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 150000001334 alicyclic compounds Chemical class 0.000 claims description 11
- 239000002585 base Substances 0.000 claims description 11
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 claims description 11
- QXPZOKVSFMRGMQ-UHFFFAOYSA-N trifluoromethylcyclohexane Chemical compound FC(F)(F)C1CCCCC1 QXPZOKVSFMRGMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- HSUGRBWQSSZJOP-RTWAWAEBSA-N diltiazem Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1[C@H]1[C@@H](OC(C)=O)C(=O)N(CCN(C)C)C2=CC=CC=C2S1 HSUGRBWQSSZJOP-RTWAWAEBSA-N 0.000 claims description 6
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 6
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 claims description 5
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical group [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 4
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- CUQOHAYJWVTKDE-UHFFFAOYSA-N potassium;butan-1-olate Chemical compound [K+].CCCC[O-] CUQOHAYJWVTKDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 3
- GYVGWLLMJRIAIV-UHFFFAOYSA-N 1-(trifluoromethyl)-1,2-dihydronaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C(F)(F)F)CC=CC2=C1 GYVGWLLMJRIAIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FCKKGWXUSUEISK-UHFFFAOYSA-N C(C(C)C)(=O)N.C(C(C)C)(=O)N.[Li] Chemical compound C(C(C)C)(=O)N.C(C(C)C)(=O)N.[Li] FCKKGWXUSUEISK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000006374 C2-C10 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 claims description 2
- RZYQVFNZQTZPKQ-UHFFFAOYSA-N lithium;ditert-butylazanide Chemical compound [Li+].CC(C)(C)[N-]C(C)(C)C RZYQVFNZQTZPKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DWNRISLZVCBTRN-UHFFFAOYSA-N lithium;piperidin-1-ide Chemical compound [Li]N1CCCCC1 DWNRISLZVCBTRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- RPDAUEIUDPHABB-UHFFFAOYSA-N potassium ethoxide Chemical compound [K+].CC[O-] RPDAUEIUDPHABB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BDAWXSQJJCIFIK-UHFFFAOYSA-N potassium methoxide Chemical compound [K+].[O-]C BDAWXSQJJCIFIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- AWDMDDKZURRKFG-UHFFFAOYSA-N potassium;propan-1-olate Chemical compound [K+].CCC[O-] AWDMDDKZURRKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- SYXYWTXQFUUWLP-UHFFFAOYSA-N sodium;butan-1-olate Chemical compound [Na+].CCCC[O-] SYXYWTXQFUUWLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RCOSUMRTSQULBK-UHFFFAOYSA-N sodium;propan-1-olate Chemical compound [Na+].CCC[O-] RCOSUMRTSQULBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OCEBOBGSOQRMQZ-UHFFFAOYSA-N trifluoromethylcyclopentane Chemical compound FC(F)(F)C1CCCC1 OCEBOBGSOQRMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- MPGUNXSGGLHCOX-UHFFFAOYSA-N 1-(trifluoromethyl)-1,2-dihydroanthracene Chemical compound C1=CC=C2C=C3C(C(F)(F)F)CC=CC3=CC2=C1 MPGUNXSGGLHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 claims 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 claims 1
- PQSZSEKTSSMXOM-UHFFFAOYSA-N lithium tert-butyl(methyl)azanide Chemical compound [Li+].C[N-]C(C)(C)C PQSZSEKTSSMXOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims 1
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 68
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 13
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 12
- 239000000047 product Substances 0.000 description 10
- 208000033962 Fontaine progeroid syndrome Diseases 0.000 description 9
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000002290 gas chromatography-mass spectrometry Methods 0.000 description 9
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 9
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 7
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N n-Butyllithium Substances [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 5
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- TZKMBDGKYXMMIC-UHFFFAOYSA-N 1-(2,2-difluoroethenyl)-4-(4-propylcyclohexyl)cyclohexane Chemical compound C1CC(CCC)CCC1C1CCC(C=C(F)F)CC1 TZKMBDGKYXMMIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 3
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 3
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 3
- TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N tributylphosphine Chemical compound CCCCP(CCCC)CCCC TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RKMGAJGJIURJSJ-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-Tetramethylpiperidine Substances CC1(C)CCCC(C)(C)N1 RKMGAJGJIURJSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VOPWNXZWBYDODV-UHFFFAOYSA-N Chlorodifluoromethane Chemical compound FC(F)Cl VOPWNXZWBYDODV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012988 Dithioester Substances 0.000 description 2
- 241000244206 Nematoda Species 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- AZSZCFSOHXEJQE-UHFFFAOYSA-N dibromodifluoromethane Chemical compound FC(F)(Br)Br AZSZCFSOHXEJQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005022 dithioester group Chemical group 0.000 description 2
- XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N fluoroethene Chemical class FC=C XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- AHNJTQYTRPXLLG-UHFFFAOYSA-N lithium;diethylazanide Chemical compound [Li+].CC[N-]CC AHNJTQYTRPXLLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- MRTAVLDNYYEJHK-UHFFFAOYSA-M sodium;2-chloro-2,2-difluoroacetate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)C(F)(F)Cl MRTAVLDNYYEJHK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- AJDIZQLSFPQPEY-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-Trichlorotrifluoroethane Chemical compound FC(F)(Cl)C(F)(Cl)Cl AJDIZQLSFPQPEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKQWABWEWKPEHF-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trifluorododec-1-ene Chemical compound CCCCCCCCCCC(F)=C(F)F WKQWABWEWKPEHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKKBTVJMEQQKHF-UHFFFAOYSA-N 1,1-difluoro-2-methyldodec-1-ene Chemical compound CCCCCCCCCCC(C)=C(F)F FKKBTVJMEQQKHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWSPFYZHKPFUDM-UHFFFAOYSA-N 1-fluoro-2-(2-fluoroethenylsulfonyl)ethene Chemical compound FC=CS(=O)(=O)C=CF KWSPFYZHKPFUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NAAKVPPSDPXXSA-UHFFFAOYSA-N 1-propyl-4-[1-(trifluoromethyl)cyclohexyl]cyclohexane Chemical compound C1CC(CCC)CCC1C1(C(F)(F)F)CCCCC1 NAAKVPPSDPXXSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZIVEUPGJSDZEZ-UHFFFAOYSA-N 11-bromo-1,1-difluorododeca-1,11-diene Chemical compound FC(F)=CCCCCCCCCC(Br)=C VZIVEUPGJSDZEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJXFCIARRSATDM-UHFFFAOYSA-N 2-fluoroethenylstannane Chemical compound FC=C[SnH3] UJXFCIARRSATDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000238421 Arthropoda Species 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000238631 Hexapoda Species 0.000 description 1
- 238000006546 Horner-Wadsworth-Emmons reaction Methods 0.000 description 1
- 241001465754 Metazoa Species 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000607479 Yersinia pestis Species 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000975 bioactive effect Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000000779 depleting effect Effects 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical group OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- IOCGMLSHRBHNCM-UHFFFAOYSA-N difluoromethoxy(difluoro)methane Chemical class FC(F)OC(F)F IOCGMLSHRBHNCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000002532 enzyme inhibitor Substances 0.000 description 1
- BADWIIDKTXQYLW-UHFFFAOYSA-N ethenylstannane Chemical compound [SnH3]C=C BADWIIDKTXQYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZAKKJFHOHVTHQ-UHFFFAOYSA-N ethyl 4-(trifluoromethyl)cyclohexane-1-carboxylate Chemical compound CCOC(=O)C1CCC(C(F)(F)F)CC1 WZAKKJFHOHVTHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N lithium butane Chemical compound [Li+].CCC[CH2-] DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002642 lithium compounds Chemical class 0.000 description 1
- ANYSGBYRTLOUPO-UHFFFAOYSA-N lithium tetramethylpiperidide Chemical compound [Li]N1C(C)(C)CCCC1(C)C ANYSGBYRTLOUPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005580 one pot reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- GRJJQCWNZGRKAU-UHFFFAOYSA-N pyridin-1-ium;fluoride Chemical compound F.C1=CC=NC=C1 GRJJQCWNZGRKAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 150000005619 secondary aliphatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000080 stannane Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 1
- QTJXVIKNLHZIKL-UHFFFAOYSA-N sulfur difluoride Chemical compound FSF QTJXVIKNLHZIKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003510 tertiary aliphatic amines Chemical class 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBGVGMSCBYYSLD-UHFFFAOYSA-N tributylstannane Chemical compound CCCC[SnH](CCCC)CCCC DBGVGMSCBYYSLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGEHHAVMRVXCGR-UHFFFAOYSA-N tridecanal Chemical compound CCCCCCCCCCCCC=O BGEHHAVMRVXCGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/25—Preparation of halogenated hydrocarbons by splitting-off hydrogen halides from halogenated hydrocarbons
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B25—HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
- B25C—HAND-HELD NAILING OR STAPLING TOOLS; MANUALLY OPERATED PORTABLE STAPLING TOOLS
- B25C5/00—Manually operated portable stapling tools; Hand-held power-operated stapling tools; Staple feeding devices therefor
- B25C5/10—Driving means
- B25C5/11—Driving means operated by manual or foot power
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B26—HAND CUTTING TOOLS; CUTTING; SEVERING
- B26F—PERFORATING; PUNCHING; CUTTING-OUT; STAMPING-OUT; SEVERING BY MEANS OTHER THAN CUTTING
- B26F1/00—Perforating; Punching; Cutting-out; Stamping-out; Apparatus therefor
- B26F1/32—Hand-held perforating or punching apparatus, e.g. awls
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
1,1−ジフルオロビニル脂環式化合物を高収率で製造することができる。
オゾン層破壊化学物質、例えばジフルオロジブロモメタンまたはクロロジフルオロメタンを使用しないで1,1−ジフルオロビニル脂環式化合物を製造することができる。
1,1−ジフルオロビニルシクロヘキサンを高収率(>90%)で調製することができる。
R1およびR2は、H、C1〜20アルキル、好ましくはC1〜3アルキル、C1〜10アルコキシおよびカルボアルコキシ、C1〜10アルキルエーテル、C2〜10アルケニル、アリール、C1〜6アルキル置換アリール、それらの脂環式および縮合多環式誘導体であり、
nは、少なくとも2の整数、典型的に4〜10、好ましくは5〜8の整数であり、
Xは、CH=CH、O、NR3(R3はC1〜6アルキル、C1〜3アルコキシ、C1〜3カルボアルコキシ基である)またはSであり、そして
yは、0または1である。
リチウムジシクロヘキシルアミド/KtBuOを使用した1,1−ジフルオロビニルシクロヘキサンの合成
N2装入管、ゴム隔膜およびガラス栓を備えた100mLの三口丸底フラスコに、固体のリチウムジシクロヘキシルアミド(0.86g、4.5mモル)を投入した。THF(3mL)を注射器により添加し、混合物を−10℃に冷却した。この溶液に、ヘキサン(2mL)中のトリフルオロメチルシクロヘキサン(456mg、3.0mモル)溶液を滴下し、続いて固体のKtBuO(505mg、4.5mモル)を添加した。混合物を10分間にわたり攪拌し、次に、30分間でRTに調整した。反応をGCMSにより監視し完了を確認した。再度−10℃に冷却後、水(2mL)の添加により反応を冷却し、ヘキサン(10mL)中で抽出し、乾燥し(MgSO4)、濾過し、そして溶媒を蒸留してGCによる92%収率で生成物を得た。
リチウムジイソプロピルアミド/KtBuOを使用した1,1−ジフルオロビニルシクロヘキサンの合成
実施例1に記載される装置を用いて、THF/ヘキサン中のリチウムジイソプロピルアミド溶液を、ジイソプロピルアミン(0.63mL、4.5mモル)および2.5M・BuLi(1.8mL、4.5mモル)から−50℃で調製した。溶液を−10℃に調整し、トリフルオロメチルシクロヘキサンのヘキサン溶液(2mL中456mg、3.0mモル)を添加し、続いてKtBuO(505mg、4.5mモル)を添加した。混合物を10分間にわたり攪拌し、次に、30分間でRTに調整した。反応をGCMSにより監視し完了を確認した。再度−10℃に冷却後、水(2mL)の添加により反応を冷却し、ヘキサン(10mL)中で抽出し、乾燥し(MgSO4)、濾過し、そして溶媒を蒸留してGCによる97%収率で生成物を得た。
リチウム2,2−6,6−テトラメチルピペリジド/KtBuOを使用した1,1−ジフルオロビニルシクロヘキサンの合成
上述の装置を用いて、THF/ヘキサン中のリチウム2,2−6,6−テトラメチルピペリジドの溶液を、2,2−6,6−テトラメチルピペリジン(1.0mL、6.0mモル)および2.5M・BuLi(2.4mL、6.0mモル)から−50℃で調製した。溶液を−10℃に調整し、トリフルオロメチルシクロヘキサンのヘキサン溶液(2mL中456mg、3.0mモル)を添加し、続いてKtBuO(673mg、6.0mモル)を添加した。混合物を10分間にわたり攪拌し、次に、30分間でRTに調整した。反応をGCMSにより監視し完了を確認した。再度−10℃に冷却後、水(2mL)の添加により反応を冷却し、ヘキサン(10mL)中で抽出し、乾燥し(MgSO4)、濾過し、そして溶媒を蒸留してGCによる95%収率で生成物を得た。
リチウムジイソプロピルアミド/KtBuOを使用した4(4’−プロピルシクロヘキシル)−1−ジフルオロビニルシクロヘキサンの合成
THF/ヘキサン中のリチウムジイソプロピルアミド溶液を、ジイソプロピルアミン(0.8mL、5.475mモル)および2.5M・BuLi(2.2mL、5.475mモル)から−50℃で調製した。溶液を−10℃に調整し、4(4’−プロピルシクロヘキシル)−1−トリフルオロメチルシクロヘキサンのヘキサン溶液(2mL中1.0g、3.65mモル)を添加し、続いてKtBuO(0.614mg、5.475mモル)を添加した。混合物を10分間にわたり攪拌し、次に、30分間でRTに調整した。反応をGCMSにより監視し完了を確認した。再度−10℃に冷却後、水(2mL)の添加により反応を冷却し、ヘキサン(10mL)中で抽出し、乾燥し(MgSO4)、濾過し、そして溶媒を蒸留してGCによる98%収率で生成物を得た。ヘキサン中の粗生成物をシリカゲルのカラムを通し濾過して純粋な化合物、すなわち4(4’−プロピルシクロヘキシル)−1−ジフルオロビニルシクロヘキサンを得た。
リチウムジシクロヘキシルアミド/KtBuOを使用した4(4’−プロピルシクロヘキシル)−1−ジフルオロビニルシクロヘキサンの合成
N2装入管、ゴム隔膜およびガラス栓を備えた100mLの三口丸底フラスコに、固体のリチウムジシクロヘキシルアミド(1.4g、7.3mモル)を投入した。THF(3mL)を注射器により添加し、混合物を−10℃に冷却した。この溶液に、ヘキサン(2mL)中の4(4’−プロピルシクロヘキシル)−1−トリフルオロメチルシクロヘキサン(1.0g、3.65mモル)溶液を滴下し、続いて固体のKtBuO(818mg、7.3mモル)を添加した。混合物を10分間にわたり攪拌し、次に、30分間でRTに調整した。反応をGCMSにより監視し完了を確認した。再度−10℃に冷却後、水(2mL)の添加により反応を冷却し、ヘキサン(10mL)中で抽出し、乾燥し(MgSO4)、濾過し、そして溶媒を蒸留してGCによる95%収率で生成物を得た。
リチウムテトラメチルピペリジド/KtBuOを使用した4(4’−プロピルシクロヘキシル)−1−ジフルオロビニルシクロヘキサンの合成
上述の装置を用いて、THF/ヘキサン中のリチウム2,2−6,6−テトラメチルピペリジドの溶液を、2,2−6,6−テトラメチルピペリジン(1.85mL、10.95mモル)および2.5M・BuLi(4.38mL、10.95mモル)から−50℃で調製した。溶液を−10℃に調整し、トリフルオロメチル化合物(2mL中1.0g、3.65mモル)のヘキサン溶液を添加し、続いてKtBuO(1.23g、10.95mモル)を添加した。混合物を10分間にわたり攪拌し、次に、30分間でRTに調整した。反応をGCMSにより監視し完了を確認した。再度−10℃に冷却後、水(2mL)の添加により反応を冷却し、ヘキサン(10mL)中で抽出し、乾燥し(MgSO4)、濾過し、そして溶媒を蒸留してGCによる48%収率で生成物を得た。
リチウムジエチルアミド/KtBuOを使用した4(4’−プロピルシクロヘキシル)−1−トリフルオロメチルシクロヘキサンの反応
前記した実施例とは対照的に、リチウムジアルキルアミドの形成において、第2アルキル基を有するアミンの代わり第1アルキル基を有するアミンを使用した。さらに詳細には、N2装入管、ゴム隔膜およびガラス栓を備えた100mLの三口丸底フラスコに、固体のリチウムジエチルアミド(569mg、7.3mモル)を添加した。THF(3mL)を注射器により添加し、混合物を−10℃に冷却した。この溶液に、ヘキサン(2mL)中の4(4’−プロピルシクロヘキシル)−1−トリフルオロメチルシクロヘキサン(1.0g、3.65mモル)溶液を滴下し、続いて固体のKtBuO(818mg、7.3mモル)を添加した。混合物を10分間にわたり攪拌し、次に、30分間でRTに調整した。反応をGCMSにより監視し完了を確認した。再度−10℃に冷却後、水(2mL)の添加により反応を冷却し、ヘキサン(10mL)中で抽出し、乾燥し(MgSO4)、濾過し、そして溶媒を蒸留して−CF3加水分解生成物、4(4’−プロピルシクロヘキシル)−1−N,N−ジエチルアミドシクロヘキサンを得た。
4(4’−プロピルシクロヘキシル)−1−トリフルオロメチルシクロヘキサンとKtBuOの反応
前記した実施例とは対照的に、塩基のカリウムブトキシド使用して(4’−プロピルシクロヘキシル)−1−トリフルオロメチルシクロヘキサンのデハイドロフルオリネーションを行うことが試みられた。さらに詳細には、ヘキサン(2mL)中の4(4’−プロピルシクロヘキシル)−1−トリフルオロメチルシクロヘキサン(1.0g、3.65mモル)溶液を固体のKtBuO(818mg、7.3mモル)に滴下した。混合物をRTで攪拌した。反応をGCMSにより監視し完了を確認した。
4(4’−プロピルシクロヘキシル)−1−トリフルオロメチルシクロヘキサンとリチウムジイソプロピルアミドの反応
前記した実施例とは対照的に、第2炭素原子に結合された窒素を有するリチウムジアルキルアミドのみを使用した。THF/ヘキサン中のリチウムジイソプロピルアミドの溶液を、ジイソプロピルアミン(0.8mL、5.475mモル)および2.5M・BuLi(2.2mL、5.475mモル)から−50℃で調製した。溶液を−10℃に調整し、4(4’−プロピルシクロヘキシル)−1−トリフルオロメチルシクロヘキサンのへキサン溶液(2mL中1.0g、3.65mモル)を添加した。混合物を10分間にわたり攪拌し、次に、24時間でRTに調整した。反応をGCMSにより監視し完了を確認した。
Claims (18)
- トリフルオロメチル基が脂環式化合物のペンダント基としてあるトリフルオロメチル脂環式化合物を、式:M+NRR-で表される立体障害超塩基(式中、Mは、ナトリウムまたはカリウムであり、アルキルアミンの窒素原子に結合され、かつR基は、それぞれ独立にアルキル基又は第2または第3炭素原子を有する脂環式基を表すか、2つのR基が窒素原子と一緒になったとき、第2または第3炭素原子を有する脂環式基を表す)と反応させることにより、前記トリフルオロメチル脂環式化合物のデハイドロフルオリネーションを実施することを含む、1,1−ジフルオロビニル脂環式化合物の製造方法。
- 式(I)中のnが4〜10である、請求項2に記載の方法。
- 前記立体障害超塩基が、第2または第3アルキルまたはシクロアルキルアミンのリチウムジアルキルアミドとナトリウムまたはカリウムアルコキシドの現場での反応により形成される、請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。
- 前記リチウムジアルキルアミドが、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムジシクロヘキシルアミド、リチウムジイソブチルアミド、リチウム−N−メチル−N−(t−ブチル)アミドおよびリチウムジ−t−ブチルアミドからなる群から選択される、請求項4に記載の方法。
- 前記ナトリウムまたはカリウムアルコキシドが、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、ナトリウムプロポキシド、カリウムプロポキシド、カリウムブトキシド、ナトリウムブトキシドおよびカリウム−t−ブトキシドからなる群から選択される、請求項4又は5に記載の方法。
- 前記立体障害超塩基が、リチウムジアルキルアミド1モル当り1〜5モルのナトリウムまたはカリウムアルコキシドを反応させることにより形成される、請求項4〜6のいずれか1項に記載の方法。
- 前記立体障害超塩基が、リチウム2,2−6,6−テトラメチルピペリジドまたはリチウムピペリジドとナトリウムまたはカリウムアルコキシドの現場での反応により形成される、請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。
- 前記トリフルオロメチル脂環式化合物が、トリフルオロメチルシクロヘキサン、トリフルオロメチルシクロペンタン、1−トリフルオロメチル−ジヒドロナフタレン、4(4’−プロピルシクロヘキシル)−1−トリフルオロメチルシクロヘキサン、4−カルボエトキシ−1−トリフルオロメチルシクロヘキサン、1−カルボアルコキシ−4−トリフルオロメチルシクロヘキサン、3,3’−ジメチルジオキサン−1−トリフルオロメチルシクロヘキサン、1−トリフルオロメチル−ジヒドロアントラセンおよび環サイズC4〜C10のCF3基を有する脂環式環状化合物からなる群から選択される、請求項1〜8のいずれか1項に記載の方法。
- トリフルオロメチル脂環式化合物1モル当り1〜5モルの立体障害超塩基が添加される、請求項1〜9のいずれか1項に記載の方法。
- 式(I)中のyが0であり、かつnが5〜8である、請求項2に記載の方法。
- 前記塩基を形成するアルコキシドが、カリウム−t−ブトキシドである、請求項11に記載の方法。
- 式(I)中のR1およびR2がHであり、かつnが5である、請求項12に記載の方法。
- 式(I)中のXがNR3であり、かつyが1である、請求項2に記載の方法。
- 式(I)中のR3がH、C1〜3アルキル、C1〜3アルコキシまたはC1〜3カルボアルコキシである、請求項14に記載の方法。
- 式(I)中のXがOであり、かつyが1である、請求項2に記載の方法。
- 式(I)中のR1およびR2がHである、請求項16に記載の方法。
- 前記トリフルオロメチル脂環式化合物が4(4’−プロピルシクロヘキシル)−1−トリフルオロメチルシクロヘキサンである、請求項10に記載の方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/763,366 US7030283B2 (en) | 2004-01-23 | 2004-01-23 | Process for producing 1,1-difluorovinyl cycloaliphatic compounds |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005206600A JP2005206600A (ja) | 2005-08-04 |
JP4532293B2 true JP4532293B2 (ja) | 2010-08-25 |
Family
ID=34634607
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005009189A Expired - Fee Related JP4532293B2 (ja) | 2004-01-23 | 2005-01-17 | 1,1−ジフルオロビニル脂環式化合物の製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7030283B2 (ja) |
EP (1) | EP1557404A1 (ja) |
JP (1) | JP4532293B2 (ja) |
KR (1) | KR100597984B1 (ja) |
TW (1) | TWI296268B (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7845537B2 (en) | 2006-01-31 | 2010-12-07 | Ethicon Endo-Surgery, Inc. | Surgical instrument having recording capabilities |
JP4435866B2 (ja) * | 2008-05-19 | 2010-03-24 | パナソニック株式会社 | 蓄電デバイス用非水溶媒および蓄電デバイス用非水電解液と、それらを用いた非水系蓄電デバイス、リチウム二次電池および電気二重層キャパシタ |
EP2352157B1 (en) * | 2008-10-21 | 2014-04-16 | Panasonic Corporation | Non-aqueous solvent and non-aqueous electrolytic solution for energy storage device, and energy storage device employing the same, such as lithium secondary battery or electric double-layer capacitor |
JP5308314B2 (ja) * | 2009-06-18 | 2013-10-09 | パナソニック株式会社 | 蓄電デバイス用非水溶媒および蓄電デバイス用非水電解液、ならびに、これらを用いた蓄電デバイス、リチウム二次電池および電気二重層キャパシタ |
US9307989B2 (en) | 2012-03-28 | 2016-04-12 | Ethicon Endo-Surgery, Llc | Tissue stapler having a thickness compensator incorportating a hydrophobic agent |
US9204880B2 (en) | 2012-03-28 | 2015-12-08 | Ethicon Endo-Surgery, Inc. | Tissue thickness compensator comprising capsules defining a low pressure environment |
US9232941B2 (en) | 2010-09-30 | 2016-01-12 | Ethicon Endo-Surgery, Inc. | Tissue thickness compensator comprising a reservoir |
US9314246B2 (en) | 2010-09-30 | 2016-04-19 | Ethicon Endo-Surgery, Llc | Tissue stapler having a thickness compensator incorporating an anti-inflammatory agent |
JP5059987B2 (ja) * | 2010-11-16 | 2012-10-31 | パナソニック株式会社 | 蓄電デバイス用非水溶媒 |
US9198662B2 (en) | 2012-03-28 | 2015-12-01 | Ethicon Endo-Surgery, Inc. | Tissue thickness compensator having improved visibility |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3618115A1 (de) * | 1986-05-30 | 1987-12-03 | Bayer Ag | Halogenolefine |
US4997855A (en) * | 1987-03-02 | 1991-03-05 | Fmc Corporation | Vinyl fluorides and pesticidal uses |
JP3622231B2 (ja) | 1994-06-24 | 2005-02-23 | 旭硝子株式会社 | トリフルオロ−2−(トランス−4−置換シクロヘキシル)エチレンとその製造方法 |
JP4734579B2 (ja) * | 2000-08-10 | 2011-07-27 | Jnc株式会社 | ジフルオロメチルエーテル誘導体およびその製造方法 |
-
2004
- 2004-01-23 US US10/763,366 patent/US7030283B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2005
- 2005-01-17 JP JP2005009189A patent/JP4532293B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2005-01-18 EP EP05000895A patent/EP1557404A1/en not_active Withdrawn
- 2005-01-18 TW TW094101465A patent/TWI296268B/zh not_active IP Right Cessation
- 2005-01-22 KR KR1020050006103A patent/KR100597984B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI296268B (en) | 2008-05-01 |
JP2005206600A (ja) | 2005-08-04 |
EP1557404A1 (en) | 2005-07-27 |
US7030283B2 (en) | 2006-04-18 |
KR20050076778A (ko) | 2005-07-27 |
KR100597984B1 (ko) | 2006-07-13 |
TW200524852A (en) | 2005-08-01 |
US20050165260A1 (en) | 2005-07-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4532293B2 (ja) | 1,1−ジフルオロビニル脂環式化合物の製造方法 | |
JP6511346B2 (ja) | ハロゲン化環式化合物の合成方法 | |
JP5564487B2 (ja) | シクロヘキサンカルボン酸誘導体の新規な製造方法 | |
JP3676222B2 (ja) | ジャスモン酸エステル誘導体及びその中間体の製造法 | |
EP2522648A1 (en) | Process for producing difluorocyclopropane compound | |
WO2007139182A1 (ja) | パーフルオロアルキル基を有するフルオロアミン、その製造方法及びそれを用いるフッ素化方法、並びにパーフルオロアルキル基を有するアミドの回収方法 | |
JP2744669B2 (ja) | ハロゲノベンゼン誘導体 | |
JP4540197B2 (ja) | (e)−3−メチル−2−シクロペンタデセノンの製造法 | |
JP6249472B2 (ja) | ビス(トリフルオロメチル)亜鉛・dmpu錯体、その製造方法並びにそれを用いたトリフルオロメチル基含有化合物の製造方法 | |
JPH08109143A (ja) | ビフェニル化合物の製造方法 | |
JP4768999B2 (ja) | 含フッ素化合物、およびその製造方法 | |
JP2009149591A (ja) | フルオロアルキルアルコールの製造方法 | |
JPWO2010013666A1 (ja) | カルバメート化合物の製造方法 | |
JP6635999B2 (ja) | カリウム塩の製造方法、及びカリウム塩 | |
JP2005097158A (ja) | 含フッ素有機化合物の製造方法 | |
JP4370187B2 (ja) | 含フッ素不飽和エステルの製造方法 | |
JP3646739B2 (ja) | 芳香族化合物およびその製造法 | |
JP5591494B2 (ja) | 高純度の含フッ素エチリデン−2−メチルプロパンスルフィンアミド、その製造方法及びそれを用いた光学活性含フッ素アミン誘導体の製造方法 | |
KR20140124807A (ko) | 알칼리 토금속이 착화된 금속 비스아미드 | |
JP4839678B2 (ja) | ジハロゲン化ビアリール誘導体の製造方法 | |
JP5049067B2 (ja) | 含フッ素非環状n,o−アセタール化合物の製造方法 | |
JP2021178811A (ja) | 芳香族エーテル化合物又は芳香族スルフヒドリル化合物の製造方法 | |
JP2007169271A (ja) | α−トリフルオロメチルケトン化合物の製造方法 | |
Zhang et al. | A novel stereoselective synthesis of trisubstituted 1, 3-dienes by a hydrostannylation-Stille tandem reaction of alkylarylacetylenes with alkenyl halides | |
JP2011148733A (ja) | モノベンゾイルエステル化合物の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080905 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081014 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090114 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090210 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20090508 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20090513 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090722 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100511 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100610 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130618 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |