JPH08109143A - ビフェニル化合物の製造方法 - Google Patents
ビフェニル化合物の製造方法Info
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- JPH08109143A JPH08109143A JP7189537A JP18953795A JPH08109143A JP H08109143 A JPH08109143 A JP H08109143A JP 7189537 A JP7189537 A JP 7189537A JP 18953795 A JP18953795 A JP 18953795A JP H08109143 A JPH08109143 A JP H08109143A
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- carbon atoms
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Abstract
(57)【要約】
【課題】効率的な方法で高純度のビフェニル化合物を合
成する。 【解決手段】２−クロロベンゾニトリルのような式
［１］の化合物と４−メチル−フェニルマグネシウムブ
ロミドのような式［２］の化合物とを金属マンガンの存
在下に反応せしめることを特徴とする２−シアノ−４’
−メチルビフェニルのような式［３］で表されるビフェ
ニル化合物の製造方法。 【化１】
成する。 【解決手段】２−クロロベンゾニトリルのような式
［１］の化合物と４−メチル−フェニルマグネシウムブ
ロミドのような式［２］の化合物とを金属マンガンの存
在下に反応せしめることを特徴とする２−シアノ−４’
−メチルビフェニルのような式［３］で表されるビフェ
ニル化合物の製造方法。 【化１】
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、医農薬、液晶、耐
熱性高分子、および液晶性高分子等の中間体として有用
であるビフェニル化合物の製造法に関する。
熱性高分子、および液晶性高分子等の中間体として有用
であるビフェニル化合物の製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ビフェニル化合物の製造法として
は、以下の方法が知られている。
は、以下の方法が知られている。
【０００３】（１）ウルマンカップリングによる方法
（Ann.,1904,332,38）。 （２）オルトアニス酸を１−（４，４−ジメチル−オキ
サゾリン−２−イル）−２−メトキシベンゼンに変換し
た後、アリールグリニャール試薬とカップリングさせる
方法（Tetrahedron,1985,41,837 ）。 （３）オルトアニス酸を化学的に嵩高いオルトアニス酸
エステルへと変換した後、アリールグリニャール試薬と
カップリングさせる方法（J.Chem.Soc.,Chem.commun.,1
991,1375）。 （４）ニッケルまたはパラジウム触媒存在下、アリール
亜鉛クロリドと、臭化またはヨウ化アリールとを交差カ
ップリングさせる方法（Organic Synthesis,1987,66,6
7）。 （５）（２−トリフェニルメチル−２Ｈ−テトラゾール
−５−イル）ベンゼンのオルト位をｎ−ブチルリチウム
を用いてリチオ化した後、塩化亜鉛と反応させ、アリー
ル亜鉛クロリドとした後、ニッケルまたはパラジウム触
媒存在下、臭化またはヨウ化アリールと交差カップリン
グさせる方法（USP5039814）。
（Ann.,1904,332,38）。 （２）オルトアニス酸を１−（４，４−ジメチル−オキ
サゾリン−２−イル）−２−メトキシベンゼンに変換し
た後、アリールグリニャール試薬とカップリングさせる
方法（Tetrahedron,1985,41,837 ）。 （３）オルトアニス酸を化学的に嵩高いオルトアニス酸
エステルへと変換した後、アリールグリニャール試薬と
カップリングさせる方法（J.Chem.Soc.,Chem.commun.,1
991,1375）。 （４）ニッケルまたはパラジウム触媒存在下、アリール
亜鉛クロリドと、臭化またはヨウ化アリールとを交差カ
ップリングさせる方法（Organic Synthesis,1987,66,6
7）。 （５）（２−トリフェニルメチル−２Ｈ−テトラゾール
−５−イル）ベンゼンのオルト位をｎ−ブチルリチウム
を用いてリチオ化した後、塩化亜鉛と反応させ、アリー
ル亜鉛クロリドとした後、ニッケルまたはパラジウム触
媒存在下、臭化またはヨウ化アリールと交差カップリン
グさせる方法（USP5039814）。
【０００４】（６）パラジウム触媒存在下、アリールボ
ロン酸と臭化またはヨウ化アリールあるいはアリールト
リフラートを交差カップリングさせる方法（Synth.Comm
un.,1981,11,513 ）。 （７）ニッケル触媒存在下、アリールグリニャール試薬
とハロゲン化アリールを交差カップリングさせる方法
（Bull.Chem.Soc.Jpn.,1976,49,1958 ）。 （８）１−フルオロ−２−（２−トリチルテトラゾール
−５−イル）ベンゼンとアリールグリニャール試薬をカ
ップリングさせる方法（EP0540356 ）。 （９）塩化マンガン存在下、２−クロロベンゾニトリル
とアリールグリニャール試薬をカップリングさせる方法
（特開平６−９５３６）。
ロン酸と臭化またはヨウ化アリールあるいはアリールト
リフラートを交差カップリングさせる方法（Synth.Comm
un.,1981,11,513 ）。 （７）ニッケル触媒存在下、アリールグリニャール試薬
とハロゲン化アリールを交差カップリングさせる方法
（Bull.Chem.Soc.Jpn.,1976,49,1958 ）。 （８）１−フルオロ−２−（２−トリチルテトラゾール
−５−イル）ベンゼンとアリールグリニャール試薬をカ
ップリングさせる方法（EP0540356 ）。 （９）塩化マンガン存在下、２−クロロベンゾニトリル
とアリールグリニャール試薬をカップリングさせる方法
（特開平６−９５３６）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の方法
は、いずれも副生成物が多く、単離精製操作が煩雑であ
る問題があった。特に（９）の方法で実施した場合に
は、有機金属化合物に由来する副生物が多く生成し、除
去に手間取る問題があった。また、反応基質として安価
な塩化アリールを用いた場合や、シアノ基またはアルコ
キシカルボニル基等の求核試薬に対して不安定な官能基
を有するハロゲン化アリールを用いた場合には、満足な
収率が得られない等の問題があった。
は、いずれも副生成物が多く、単離精製操作が煩雑であ
る問題があった。特に（９）の方法で実施した場合に
は、有機金属化合物に由来する副生物が多く生成し、除
去に手間取る問題があった。また、反応基質として安価
な塩化アリールを用いた場合や、シアノ基またはアルコ
キシカルボニル基等の求核試薬に対して不安定な官能基
を有するハロゲン化アリールを用いた場合には、満足な
収率が得られない等の問題があった。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、従来の技術が
有する種々の欠点を解決するためになされたものであ
り、ビフェニル化合物の新規な製造法を提供する。
有する種々の欠点を解決するためになされたものであ
り、ビフェニル化合物の新規な製造法を提供する。
【０００７】すなわち、一般式［１］で表される化合物
と一般式［２］で表される化合物とを金属マンガンの存
在下に反応せしめることを特徴とする一般式［３］で表
されるビフェニル化合物の製造方法を提供する。
と一般式［２］で表される化合物とを金属マンガンの存
在下に反応せしめることを特徴とする一般式［３］で表
されるビフェニル化合物の製造方法を提供する。
【０００８】
【化２】
【０００９】ただし、上記一般式において、Ｒ1 、Ｒ
2 、Ｘ、およびＹは下記の意味を示す。 Ｒ1 ：水素原子、フッ素原子、炭素数１〜１０のアルキ
ル基、炭素数１〜５のポリフルオロアルキル基、炭素数
１〜１０のアルコキシル基、またはフェニル基を示す。 Ｒ2 ：水素原子、フッ素原子、炭素数１〜１０のアルキ
ル基、炭素数１〜５のポリフルオロアルキル基、炭素数
１〜１０のアルコキシル基、フェニル基、シアノ基、炭
素数１〜１０のアルコキシカルボニル基、アリールオキ
シカルボニル基、２−トリフェニルメチル−２Ｈ−テト
ラゾール−５−イル基、または４，４−ジメチル−オキ
サゾリン−２−イル基を示す。 Ｘ、Ｙ：それぞれ、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素
原子を示す。
2 、Ｘ、およびＹは下記の意味を示す。 Ｒ1 ：水素原子、フッ素原子、炭素数１〜１０のアルキ
ル基、炭素数１〜５のポリフルオロアルキル基、炭素数
１〜１０のアルコキシル基、またはフェニル基を示す。 Ｒ2 ：水素原子、フッ素原子、炭素数１〜１０のアルキ
ル基、炭素数１〜５のポリフルオロアルキル基、炭素数
１〜１０のアルコキシル基、フェニル基、シアノ基、炭
素数１〜１０のアルコキシカルボニル基、アリールオキ
シカルボニル基、２−トリフェニルメチル−２Ｈ−テト
ラゾール−５−イル基、または４，４−ジメチル−オキ
サゾリン−２−イル基を示す。 Ｘ、Ｙ：それぞれ、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素
原子を示す。
【００１０】なお、以下の説明において「炭素数１〜１
０のアルキル基」としては直鎖、分岐、または環構造の
いずれであってもよい。直鎖構造のアルキル基として
は、メチル基、エチル基、１−プロピル基、１−ブチル
基、１−ペンチル基、１−ヘキシル基等が挙げられる。
分岐構造のアルキル基としては、２−プロピル基、２−
メチル−２−プロピル基（すなわちｔ−ブチル基）、２
−ブチル基、２−メチル−１−ブチル基、２−メチル−
２−ブチル基、２−メチル−３−ブチル基、３−メチル
−１−ブチル基、２，２−ジメチル−１−プロピル基、
等が挙げられる。環構造のアルキル基としては、シクロ
プロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ま
たはこれらの基にメチル基等の低級アルキル基が結合し
た基などが挙げられる。
０のアルキル基」としては直鎖、分岐、または環構造の
いずれであってもよい。直鎖構造のアルキル基として
は、メチル基、エチル基、１−プロピル基、１−ブチル
基、１−ペンチル基、１−ヘキシル基等が挙げられる。
分岐構造のアルキル基としては、２−プロピル基、２−
メチル−２−プロピル基（すなわちｔ−ブチル基）、２
−ブチル基、２−メチル−１−ブチル基、２−メチル−
２−ブチル基、２−メチル−３−ブチル基、３−メチル
−１−ブチル基、２，２−ジメチル−１−プロピル基、
等が挙げられる。環構造のアルキル基としては、シクロ
プロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ま
たはこれらの基にメチル基等の低級アルキル基が結合し
た基などが挙げられる。
【００１１】また、「炭素数１〜５のポリフルオロアル
キル基」とは、上記のアルキル基のうち炭素数が１〜５
の範囲にあるアルキル基の水素原子の２個以上がフッ素
原子に置換された基を意味する。また、ポリフルオロア
ルキル基の炭素−炭素結合の間に、エーテル性の酸素原
子やチオエーテル性のイオウ原子が存在していてもよ
い。ポリフルオロアルキル基のフッ素原子の数は、（ポ
リフルオロアルキル基中のフッ素原子の数）／（ポリフ
ルオロアルキル基に対応する同一炭素数のアルキル基の
水素原子の数）が６０％以上が好ましく、特に８０％以
上である場合が好ましい。ポリフルオロアルキル基は、
アルキル基の水素原子のすべてがフッ素原子に置換され
たパーフルオロアルキル基が好ましい。パーフルオロア
ルキル基は直鎖の構造が好ましい。
キル基」とは、上記のアルキル基のうち炭素数が１〜５
の範囲にあるアルキル基の水素原子の２個以上がフッ素
原子に置換された基を意味する。また、ポリフルオロア
ルキル基の炭素−炭素結合の間に、エーテル性の酸素原
子やチオエーテル性のイオウ原子が存在していてもよ
い。ポリフルオロアルキル基のフッ素原子の数は、（ポ
リフルオロアルキル基中のフッ素原子の数）／（ポリフ
ルオロアルキル基に対応する同一炭素数のアルキル基の
水素原子の数）が６０％以上が好ましく、特に８０％以
上である場合が好ましい。ポリフルオロアルキル基は、
アルキル基の水素原子のすべてがフッ素原子に置換され
たパーフルオロアルキル基が好ましい。パーフルオロア
ルキル基は直鎖の構造が好ましい。
【００１２】本発明のポリフルオロアルキル基の好まし
い具体例としては、ＣＦ3 −、ＣＦ3 ＣＦ2 −、ＣＦ3
（ＣＦ2 ）2 −、ＣＦ3 （ＣＦ2 ）3 −、ＣＦ3 （ＣＦ
2 ）4 −、（ＣＦ3 ）2 ＣＦ−等が挙げられる。
い具体例としては、ＣＦ3 −、ＣＦ3 ＣＦ2 −、ＣＦ3
（ＣＦ2 ）2 −、ＣＦ3 （ＣＦ2 ）3 −、ＣＦ3 （ＣＦ
2 ）4 −、（ＣＦ3 ）2 ＣＦ−等が挙げられる。
【００１３】「炭素数１〜１０のアルコキシル基」と
は、上記のアルキル基の結合部位側の末端に酸素原子が
エーテル結合した基を意味する。アルコキシル基中のア
ルキル部分は、直鎖のアルキル部分が好ましく、特に直
鎖の低級アルキル部分であることが好ましい。これらの
うち、本発明におけるアルコキシル基としては、ＣＨ3
Ｏ−、ＣＨ3 ＣＨ2 Ｏ−、またはＣＨ3 （ＣＨ2 ）3 Ｏ
−等の基が好ましい。
は、上記のアルキル基の結合部位側の末端に酸素原子が
エーテル結合した基を意味する。アルコキシル基中のア
ルキル部分は、直鎖のアルキル部分が好ましく、特に直
鎖の低級アルキル部分であることが好ましい。これらの
うち、本発明におけるアルコキシル基としては、ＣＨ3
Ｏ−、ＣＨ3 ＣＨ2 Ｏ−、またはＣＨ3 （ＣＨ2 ）3 Ｏ
−等の基が好ましい。
【００１４】「炭素数１〜１０の直鎖または分岐のアル
コキシカルボニル基」とは、一般式Ｒ3 Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−
（ここでＲ3 は、上記のアルキル基と同じ炭素数１〜１
０のアルキル基を示す。）で表される基を意味する。該
アルコキシカルボニル基のＲ3 は、直鎖または分岐のア
ルキル基が好ましい。該アルコキシアルボニル基は、化
学的に嵩高い構造であるものが好ましいことから、Ｒ3
が分岐のアルキル基であるものが好ましく、特に、ｔ−
ブトキシカルボニル基等が好ましい。
コキシカルボニル基」とは、一般式Ｒ3 Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−
（ここでＲ3 は、上記のアルキル基と同じ炭素数１〜１
０のアルキル基を示す。）で表される基を意味する。該
アルコキシカルボニル基のＲ3 は、直鎖または分岐のア
ルキル基が好ましい。該アルコキシアルボニル基は、化
学的に嵩高い構造であるものが好ましいことから、Ｒ3
が分岐のアルキル基であるものが好ましく、特に、ｔ−
ブトキシカルボニル基等が好ましい。
【００１５】「アリールオキシカルボニル基」とは一般
式Ｒ4 Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−（ここでＲ4はアリール基を示
す。）で表される基を意味する。Ｒ4 は化学的に嵩高い
構造であるものが好ましく、置換基が結合したフェニル
基等が好ましく、特に４−メチル−２，６−ジ−ｔ−ブ
チルフェニル基、４−メチルフェニル基等が好ましい。
式Ｒ4 Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−（ここでＲ4はアリール基を示
す。）で表される基を意味する。Ｒ4 は化学的に嵩高い
構造であるものが好ましく、置換基が結合したフェニル
基等が好ましく、特に４−メチル−２，６−ジ−ｔ−ブ
チルフェニル基、４−メチルフェニル基等が好ましい。
【００１６】本発明において、一般式［１］のＲ1 は、
水素原子、フッ素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、
炭素数１〜５のポリフルオロアルキル基、炭素数１〜１
０のアルコキシル基、またはフェニル基を示す。これら
のうち、Ｒ1 は、炭素数１〜１０のアルキル基が好まし
く、さらに炭素数１〜６の直鎖構造のアルキル基が好ま
しく、特にメチル基が好ましい。
水素原子、フッ素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、
炭素数１〜５のポリフルオロアルキル基、炭素数１〜１
０のアルコキシル基、またはフェニル基を示す。これら
のうち、Ｒ1 は、炭素数１〜１０のアルキル基が好まし
く、さらに炭素数１〜６の直鎖構造のアルキル基が好ま
しく、特にメチル基が好ましい。
【００１７】また一般式［１］のＸは、塩素原子、臭素
原子またはヨウ素原子を示し、臭素原子が好ましい。
原子またはヨウ素原子を示し、臭素原子が好ましい。
【００１８】本発明の一般式［１］で表される化合物
は、公知の化合物であり容易に入手できる。なお、以下
において、一般式［１］で表される化合物を化合物
［１］、一般式［２］で表される化合物を化合物
［２］、一般式［３］で表される化合物を化合物［３］
と記す。
は、公知の化合物であり容易に入手できる。なお、以下
において、一般式［１］で表される化合物を化合物
［１］、一般式［２］で表される化合物を化合物
［２］、一般式［３］で表される化合物を化合物［３］
と記す。
【００１９】化合物［１］の具体例としては以下の化合
物が挙げられるがこれらに限定されない。
物が挙げられるがこれらに限定されない。
【００２０】２−メチルフェニルマグネシウムブロミ
ド、３−メチルフェニルマグネシウムブロミド、４−メ
チルフェニルマグネシウムブロミド、２−メチルフェニ
ルマグネシウムクロリド、３−メチルフェニルマグネシ
ウムクロリド、４−メチルフェニルマグネシウムクロリ
ド、２−メチルフェニルマグネシウムヨージド、３−メ
チルフェニルマグネシウムヨージド、４−メチルフェニ
ルマグネシウムヨージド等。
ド、３−メチルフェニルマグネシウムブロミド、４−メ
チルフェニルマグネシウムブロミド、２−メチルフェニ
ルマグネシウムクロリド、３−メチルフェニルマグネシ
ウムクロリド、４−メチルフェニルマグネシウムクロリ
ド、２−メチルフェニルマグネシウムヨージド、３−メ
チルフェニルマグネシウムヨージド、４−メチルフェニ
ルマグネシウムヨージド等。
【００２１】上記の化合物［１］のうち、本発明におい
ては、原料の入手および反応生成物の需要等の観点から
現在のところ４−メチルフェニルマグネシウムブロミド
が好ましい。
ては、原料の入手および反応生成物の需要等の観点から
現在のところ４−メチルフェニルマグネシウムブロミド
が好ましい。
【００２２】本発明においては、上記化合物［１］と化
合物［２］とを反応させる。
合物［２］とを反応させる。
【００２３】一般式［２］のＲ2 は、水素原子、フッ素
原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜５のポ
リフルオロアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシル
基、フェニル基、シアノ基、炭素数１〜１０の直鎖また
は分岐のアルコキシカルボニル基、アリールオキシカル
ボニル基、２−トリフェニルメチル−２Ｈ−テトラゾー
ル−５−イル基または４，４−ジメチル−オキサゾリン
−２−イル基を示す。
原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜５のポ
リフルオロアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシル
基、フェニル基、シアノ基、炭素数１〜１０の直鎖また
は分岐のアルコキシカルボニル基、アリールオキシカル
ボニル基、２−トリフェニルメチル−２Ｈ−テトラゾー
ル−５−イル基または４，４−ジメチル−オキサゾリン
−２−イル基を示す。
【００２４】これらのうち、Ｒ2 は、シアノ基が好まし
い。また、シアノ基以外の基である場合には化学的に嵩
高い基が好ましく、４，４−ジメチル−オキサゾリン−
２−イル基、２−トリフェニルメチル−２Ｈ−テトラゾ
ール−５−イル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、４−メ
チル−２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニルオキシカルボニ
ル基等が好ましい。
い。また、シアノ基以外の基である場合には化学的に嵩
高い基が好ましく、４，４−ジメチル−オキサゾリン−
２−イル基、２−トリフェニルメチル−２Ｈ−テトラゾ
ール−５−イル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、４−メ
チル−２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニルオキシカルボニ
ル基等が好ましい。
【００２５】また、一般式［２］のＹは、塩素原子、臭
素原子、またはヨウ素原子を示し、塩素原子が好まし
い。
素原子、またはヨウ素原子を示し、塩素原子が好まし
い。
【００２６】本発明の化合物［２］も公知の化合物であ
り容易に入手できる。一般式［２］の化合物の具体例と
しては以下の化合物が挙げられるがこれらに限定されな
い。
り容易に入手できる。一般式［２］の化合物の具体例と
しては以下の化合物が挙げられるがこれらに限定されな
い。
【００２７】２−クロロベンゾニトリル、３−クロロベ
ンゾニトリル、４−クロロベンゾニトリル、２−ブロモ
ベンゾニトリル等のブロモベンゾニトリル類、２−ヨー
ドベンゾニトリル等のヨードベンゾニトリル類、２−
（４，４−ジメチル−オキサゾリン−２−イル）クロロ
ベンゼン、３−（４，４−ジメチル−オキサゾリン−２
−イル）クロロベンゼン、４−（４，４−ジメチル−オ
キサゾリン−２−イル）クロロベンゼン、２−（４，４
−ジメチル−オキサゾリン−２−イル）ブロモベンゼ
ン、３−（４，４−ジメチル−オキサゾリン−２−イ
ル）ブロモベンゼン、４−（４，４−ジメチル−オキサ
ゾリン−２−イル）ブロモベンゼン、２−（４，４−ジ
メチル−オキサゾリン−２−イル）ヨードベンゼン、３
−（４，４−ジメチル−オキサゾリン−２−イル）ヨー
ドベンゼン、４−（４，４−ジメチル−オキサゾリン−
２−イル）ヨードベンゼン。
ンゾニトリル、４−クロロベンゾニトリル、２−ブロモ
ベンゾニトリル等のブロモベンゾニトリル類、２−ヨー
ドベンゾニトリル等のヨードベンゾニトリル類、２−
（４，４−ジメチル−オキサゾリン−２−イル）クロロ
ベンゼン、３−（４，４−ジメチル−オキサゾリン−２
−イル）クロロベンゼン、４−（４，４−ジメチル−オ
キサゾリン−２−イル）クロロベンゼン、２−（４，４
−ジメチル−オキサゾリン−２−イル）ブロモベンゼ
ン、３−（４，４−ジメチル−オキサゾリン−２−イ
ル）ブロモベンゼン、４−（４，４−ジメチル−オキサ
ゾリン−２−イル）ブロモベンゼン、２−（４，４−ジ
メチル−オキサゾリン−２−イル）ヨードベンゼン、３
−（４，４−ジメチル−オキサゾリン−２−イル）ヨー
ドベンゼン、４−（４，４−ジメチル−オキサゾリン−
２−イル）ヨードベンゼン。
【００２８】２−（２−トリフェニルメチル−２Ｈ−テ
トラゾール−５−イル）クロロベンゼン、３−（２−ト
リフェニルメチル−２Ｈ−テトラゾール−５−イル）ク
ロロベンゼン、４−（２−トリフェニルメチル−２Ｈ−
テトラゾール−５−イル）クロロベンゼン、２−（２−
トリフェニルメチル−２Ｈ−テトラゾール−５−イル）
ブロモベンゼン、３−（２−トリフェニルメチル−２Ｈ
−テトラゾール−５−イル）ブロモベンゼン、４−（２
−トリフェニルメチル−２Ｈ−テトラゾール−５−イ
ル）ブロモベンゼン、２−（２−トリフェニルメチル−
２Ｈ−テトラゾール−５−イル）ヨードベンゼン、３−
（２−トリフェニルメチル−２Ｈ−テトラゾール−５−
イル）ヨードベンゼン、４−（２−トリフェニルメチル
−２Ｈ−テトラゾール−５−イル）ヨードベンゼン。
トラゾール−５−イル）クロロベンゼン、３−（２−ト
リフェニルメチル−２Ｈ−テトラゾール−５−イル）ク
ロロベンゼン、４−（２−トリフェニルメチル−２Ｈ−
テトラゾール−５−イル）クロロベンゼン、２−（２−
トリフェニルメチル−２Ｈ−テトラゾール−５−イル）
ブロモベンゼン、３−（２−トリフェニルメチル−２Ｈ
−テトラゾール−５−イル）ブロモベンゼン、４−（２
−トリフェニルメチル−２Ｈ−テトラゾール−５−イ
ル）ブロモベンゼン、２−（２−トリフェニルメチル−
２Ｈ−テトラゾール−５−イル）ヨードベンゼン、３−
（２−トリフェニルメチル−２Ｈ−テトラゾール−５−
イル）ヨードベンゼン、４−（２−トリフェニルメチル
−２Ｈ−テトラゾール−５−イル）ヨードベンゼン。
【００２９】２−クロロ安息香酸−ｔ−ブチルエステ
ル、２−クロロ安息香酸−（４−メチル−２，６−ジ−
ｔ−ブチルフェニル）エステル等の２−クロロ安息香酸
エステル類、３−クロロ安息香酸エステル類、４−クロ
ロ安息香酸エステル類、２−ブロモ安息香酸−ｔ−ブチ
ルエステル、２−ブロモ安息香酸−（４−メチル−２，
６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）エステル等の２−ブロモ
安息香酸エステル類、３−ブロモ安息香酸エステル類、
４−ブロモ安息香酸エステル類、２−ヨード安息香酸−
ｔ−ブチルエステル、２−ヨード安息香酸−（４−メチ
ル−２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）エステル等の２
−ヨード安息香酸エステル類、３−ヨード安息香酸エス
テル類、４−ヨード安息香酸エステル類等。
ル、２−クロロ安息香酸−（４−メチル−２，６−ジ−
ｔ−ブチルフェニル）エステル等の２−クロロ安息香酸
エステル類、３−クロロ安息香酸エステル類、４−クロ
ロ安息香酸エステル類、２−ブロモ安息香酸−ｔ−ブチ
ルエステル、２−ブロモ安息香酸−（４−メチル−２，
６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）エステル等の２−ブロモ
安息香酸エステル類、３−ブロモ安息香酸エステル類、
４−ブロモ安息香酸エステル類、２−ヨード安息香酸−
ｔ−ブチルエステル、２−ヨード安息香酸−（４−メチ
ル−２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）エステル等の２
−ヨード安息香酸エステル類、３−ヨード安息香酸エス
テル類、４−ヨード安息香酸エステル類等。
【００３０】これらのうち、化合物［２］としては２−
クロロベンゾニトリルが好ましい。
クロロベンゾニトリルが好ましい。
【００３１】本発明においては、上記の化合物［１］と
化合物［２］との反応を金属マンガンの存在下に実施せ
しめることが最大の特徴である。
化合物［２］との反応を金属マンガンの存在下に実施せ
しめることが最大の特徴である。
【００３２】金属マンガンの形態としては特に限定され
ず、本発明の反応においては扱いやすさ等の点から微粉
末状のものを用いるのが好ましい。
ず、本発明の反応においては扱いやすさ等の点から微粉
末状のものを用いるのが好ましい。
【００３３】本発明において、化合物［１］の量には、
特に注目すべき利点がある。すなわち、反応を塩化マン
ガンのようなマンガン（II）塩の存在下で実施する場合
には、化合物［１］を化合物［２］に対して１．５倍当
量以上の過剰量を用いるのが好ましい。しかし、本発明
の金属マンガンを用いる方法では、化合物［２］の１当
量に対して、化合物［１］の１．０当量〜１．５当量未
満程度が好ましく、特に１．０〜１．３当量を用いれ
ば、充分反応を進ませることができる。
特に注目すべき利点がある。すなわち、反応を塩化マン
ガンのようなマンガン（II）塩の存在下で実施する場合
には、化合物［１］を化合物［２］に対して１．５倍当
量以上の過剰量を用いるのが好ましい。しかし、本発明
の金属マンガンを用いる方法では、化合物［２］の１当
量に対して、化合物［１］の１．０当量〜１．５当量未
満程度が好ましく、特に１．０〜１．３当量を用いれ
ば、充分反応を進ませることができる。
【００３４】化合物［１］は高い反応性を有する化合物
であるため、過剰量用いると、化合物同士が反応した
り、目的物にさらに反応して副反応物が生成する恐れが
ある。また、反応後の後処理において、該副反応物の除
去に手間取る問題もある。しかし、本発明の金属マンガ
ンを存在させる方法では、化合物［１］を化学量論量程
度用いれば、充分な反応成績を得られる。
であるため、過剰量用いると、化合物同士が反応した
り、目的物にさらに反応して副反応物が生成する恐れが
ある。また、反応後の後処理において、該副反応物の除
去に手間取る問題もある。しかし、本発明の金属マンガ
ンを存在させる方法では、化合物［１］を化学量論量程
度用いれば、充分な反応成績を得られる。
【００３５】一方、金属マンガンの量は特に限定され
ず、化合物［２］の１モルに対して通常は０．０１〜１
０モル程度が用いられ、０．０５〜１モルを用いるのが
好ましい。
ず、化合物［２］の１モルに対して通常は０．０１〜１
０モル程度が用いられ、０．０５〜１モルを用いるのが
好ましい。
【００３６】本発明の反応は、通常の場合溶媒の存在下
で実施するのが好ましい。該溶媒としては不活性溶媒が
好ましく、特に、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂
肪族炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、ｔ−ブチ
ルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等の低級エーテ
ル系溶媒が好ましい。これらの不活性溶媒のうち、特に
低級エーテル系溶媒が好ましい。溶媒の量は、化合物
［２］の１重量部に対して１〜１００重量部程度、好ま
しくは１〜１０重量部である。
で実施するのが好ましい。該溶媒としては不活性溶媒が
好ましく、特に、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂
肪族炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、ｔ−ブチ
ルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等の低級エーテ
ル系溶媒が好ましい。これらの不活性溶媒のうち、特に
低級エーテル系溶媒が好ましい。溶媒の量は、化合物
［２］の１重量部に対して１〜１００重量部程度、好ま
しくは１〜１０重量部である。
【００３７】また、本発明の反応系には、他の化合物が
存在していてもよい。他の化合物としては、クロロトリ
アルキルシラン類を存在させるのが好ましく、特にクロ
ロトリメチルシラン、クロロトリエチルシラン等が好ま
しい。該クロロトリアルキルシラン類は、金属マンガン
の活性化の作用をすると考えられる。クロロトリアルキ
ルシラン類の量は、金属マンガンの１当量に対して０．
０１〜１当量程度が好ましい。
存在していてもよい。他の化合物としては、クロロトリ
アルキルシラン類を存在させるのが好ましく、特にクロ
ロトリメチルシラン、クロロトリエチルシラン等が好ま
しい。該クロロトリアルキルシラン類は、金属マンガン
の活性化の作用をすると考えられる。クロロトリアルキ
ルシラン類の量は、金属マンガンの１当量に対して０．
０１〜１当量程度が好ましい。
【００３８】反応温度は−１００℃〜溶媒還流温度まで
用いられるが、好ましくは−４０℃〜室温である。反応
時間は１〜７２時間、好ましくは１〜２４時間である。
用いられるが、好ましくは−４０℃〜室温である。反応
時間は１〜７２時間、好ましくは１〜２４時間である。
【００３９】反応により得られた粗生成物は、目的や用
途に応じた精製処理を実施するのが好ましい。該精製処
理の手段としては、特に限定されず、通常の抽出操作、
またはカラムクロマトグラフィ等を実施するのが好まし
い。また、反応粗生成物中に残留する化合物や副生成物
等を不活性化する目的で加水分解等の処理を実施しても
よいが、必須ではない。
途に応じた精製処理を実施するのが好ましい。該精製処
理の手段としては、特に限定されず、通常の抽出操作、
またはカラムクロマトグラフィ等を実施するのが好まし
い。また、反応粗生成物中に残留する化合物や副生成物
等を不活性化する目的で加水分解等の処理を実施しても
よいが、必須ではない。
【００４０】以上の反応により合成される化合物［３］
としては、下記の化合物が例示されうるがこれらに限定
されない。
としては、下記の化合物が例示されうるがこれらに限定
されない。
【００４１】２−シアノ−２’−メチルビフェニル、２
−シアノ−３’−メチルビフェニル、２−シアノ−４’
−メチルビフェニル、３−シアノ−２’−メチルビフェ
ニル、４−シアノ−２’−メチルビフェニル、４−シア
ノ−３’−メチルビフェニル、２−シアノ−２’−
（４，４−ジメチル−オキサゾリン−２−イル）ビフェ
ニル、２−シアノ−３’−（４，４−ジメチル−オキサ
ゾリン−２−イル）ビフェニル、２−シアノ−４’−
（４，４−ジメチル−オキサゾリン−２−イル）ビフェ
ニル、３−シアノ−２’−（４，４−ジメチル−オキサ
ゾリン−２−イル）ビフェニル。
−シアノ−３’−メチルビフェニル、２−シアノ−４’
−メチルビフェニル、３−シアノ−２’−メチルビフェ
ニル、４−シアノ−２’−メチルビフェニル、４−シア
ノ−３’−メチルビフェニル、２−シアノ−２’−
（４，４−ジメチル−オキサゾリン−２−イル）ビフェ
ニル、２−シアノ−３’−（４，４−ジメチル−オキサ
ゾリン−２−イル）ビフェニル、２−シアノ−４’−
（４，４−ジメチル−オキサゾリン−２−イル）ビフェ
ニル、３−シアノ−２’−（４，４−ジメチル−オキサ
ゾリン−２−イル）ビフェニル。
【００４２】４−シアノ−２’−（４，４−ジメチル−
オキサゾリン−２−イル）ビフェニル、２−シアノ−
２’−（２−トリフェニルメチル−２Ｈ−テトラゾール
−５−イル）ビフェニル、２−シアノ−３’−（２−ト
リフェニルメチル−２Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビ
フェニル、２−シアノ−４’−（２−トリフェニルメチ
ル−２Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル、３−
シアノ−２’−（２−トリフェニルメチル−２Ｈ−テト
ラゾール−５−イル）ビフェニル、４−シアノ−２’−
（２−トリフェニルメチル−２Ｈ−テトラゾール−５−
イル）ビフェニル。
オキサゾリン−２−イル）ビフェニル、２−シアノ−
２’−（２−トリフェニルメチル−２Ｈ−テトラゾール
−５−イル）ビフェニル、２−シアノ−３’−（２−ト
リフェニルメチル−２Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビ
フェニル、２−シアノ−４’−（２−トリフェニルメチ
ル−２Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル、３−
シアノ−２’−（２−トリフェニルメチル−２Ｈ−テト
ラゾール−５−イル）ビフェニル、４−シアノ−２’−
（２−トリフェニルメチル−２Ｈ−テトラゾール−５−
イル）ビフェニル。
【００４３】２−（２−メチルフェニル）安息香酸−ｔ
−ブチルエステル、２−（３−メチルフェニル）安息香
酸−ｔ−ブチルエステル、２−（４−メチルフェニル）
安息香酸−ｔ−ブチルエステル、３−（２−メチルフェ
ニル）安息香酸−ｔ−ブチルエステル、３−（３−メチ
ルフェニル）安息香酸−ｔ−ブチルエステル、３−（４
−メチルフェニル）安息香酸−ｔ−ブチルエステル、４
−（２−メチルフェニル）安息香酸−ｔ−ブチルエステ
ル、４−（３−メチルフェニル）安息香酸−ｔ−ブチル
エステル、４−（４−メチルフェニル）安息香酸−ｔ−
ブチルエステル、２−（２−メチルフェニル）安息香酸
−（４−メチル−２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）エ
ステル、
−ブチルエステル、２−（３−メチルフェニル）安息香
酸−ｔ−ブチルエステル、２−（４−メチルフェニル）
安息香酸−ｔ−ブチルエステル、３−（２−メチルフェ
ニル）安息香酸−ｔ−ブチルエステル、３−（３−メチ
ルフェニル）安息香酸−ｔ−ブチルエステル、３−（４
−メチルフェニル）安息香酸−ｔ−ブチルエステル、４
−（２−メチルフェニル）安息香酸−ｔ−ブチルエステ
ル、４−（３−メチルフェニル）安息香酸−ｔ−ブチル
エステル、４−（４−メチルフェニル）安息香酸−ｔ−
ブチルエステル、２−（２−メチルフェニル）安息香酸
−（４−メチル−２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）エ
ステル、
【００４４】２−（３−メチルフェニル）安息香酸−
（４−メチル−２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）エス
テル、２−（３−メチルフェニル）安息香酸−（４−メ
チル−２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）エステル、３
−（２−メチルフェニル）安息香酸−（４−メチル−
２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）エステル、３−（３
−メチルフェニル）安息香酸−（４−メチル−２，６−
ジ−ｔ−ブチルフェニル）エステル、４−（３−メチル
フェニル）安息香酸−（４−メチル−２，６−ジ−ｔ−
ブチルフェニル）エステル、４−（４−メチルフェニ
ル）安息香酸−（４−メチル−２，６−ジ−ｔ−ブチル
フェニル）エステル、２−（２−メチルフェニル）安息
香酸−ｔ−ブチルエステル、２−（３−メチルフェニ
ル）安息香酸−ｔ−ブチルエステル、２−（４−メチル
フェニル）安息香酸−ｔ−ブチルエステル、３−（２−
メチルフェニル）安息香酸−ｔ−ブチルエステル、３−
（３−メチルフェニル）安息香酸−ｔ−ブチルエステ
ル、４−（３−メチルフェニル）安息香酸−ｔ−ブチル
エステル、４−（４−メチルフェニル）安息香酸−ｔ−
ブチルエステル。
（４−メチル−２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）エス
テル、２−（３−メチルフェニル）安息香酸−（４−メ
チル−２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）エステル、３
−（２−メチルフェニル）安息香酸−（４−メチル−
２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）エステル、３−（３
−メチルフェニル）安息香酸−（４−メチル−２，６−
ジ−ｔ−ブチルフェニル）エステル、４−（３−メチル
フェニル）安息香酸−（４−メチル−２，６−ジ−ｔ−
ブチルフェニル）エステル、４−（４−メチルフェニ
ル）安息香酸−（４−メチル−２，６−ジ−ｔ−ブチル
フェニル）エステル、２−（２−メチルフェニル）安息
香酸−ｔ−ブチルエステル、２−（３−メチルフェニ
ル）安息香酸−ｔ−ブチルエステル、２−（４−メチル
フェニル）安息香酸−ｔ−ブチルエステル、３−（２−
メチルフェニル）安息香酸−ｔ−ブチルエステル、３−
（３−メチルフェニル）安息香酸−ｔ−ブチルエステ
ル、４−（３−メチルフェニル）安息香酸−ｔ−ブチル
エステル、４−（４−メチルフェニル）安息香酸−ｔ−
ブチルエステル。
【００４５】本発明の化合物［３］は、医農薬、液晶、
耐熱性高分子、および液晶性高分子等の中間体として有
用である。例えば、特開昭６３−２３８６８および特表
平４−５０６２２２に記載される方法を用いることによ
り、アンギオテンシンII拮抗剤として有用なビフェニル
メチルイミダゾリン誘導体を合成できる。
耐熱性高分子、および液晶性高分子等の中間体として有
用である。例えば、特開昭６３−２３８６８および特表
平４−５０６２２２に記載される方法を用いることによ
り、アンギオテンシンII拮抗剤として有用なビフェニル
メチルイミダゾリン誘導体を合成できる。
【００４６】
【実施例】以下に実施例により本発明を説明するが、本
発明はこれらに限定されない。
発明はこれらに限定されない。
【００４７】［実施例１］２−シアノ−４’−メチルビ
フェニルの合成 金属マンガンの微粉末（３．８５ｇ、０．０７ｍｏ
ｌ）、２−クロロベンゾニトリル（９．６ｇ、０．０７
ｍｏｌ）のテトラヒドロフラン懸濁液（７０ｃｃ）にク
ロロトリメチルシラン（０．１ｃｃ）を室温で加え１０
分間撹拌した。反応液を−１０℃に冷却した後、−１０
℃〜０℃で４−メチルフェニルマグネシウムブロミドの
１Ｍテトラヒドロフラン溶液の７７ｃｃ（０．０７７ｍ
ｏｌ）を滴下した。滴下終了後、反応温度を徐々に室温
まで昇温し、２時間撹拌した。反応液を氷冷した後、１
Ｎ塩酸を滴下し、酢酸エチル（１００ｃｃ×２）で抽出
した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。ろ過後、溶媒を減圧下留去した。
残渣中には、４−メチルフェニルマグネシウムブロミド
のホモカップリング体である４，４’−ジメチルジフェ
ニルが４重量％含まれていた。残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィで精製し、表題化合物（１１．１ｇ、
収率８２％）を得た。
フェニルの合成 金属マンガンの微粉末（３．８５ｇ、０．０７ｍｏ
ｌ）、２−クロロベンゾニトリル（９．６ｇ、０．０７
ｍｏｌ）のテトラヒドロフラン懸濁液（７０ｃｃ）にク
ロロトリメチルシラン（０．１ｃｃ）を室温で加え１０
分間撹拌した。反応液を−１０℃に冷却した後、−１０
℃〜０℃で４−メチルフェニルマグネシウムブロミドの
１Ｍテトラヒドロフラン溶液の７７ｃｃ（０．０７７ｍ
ｏｌ）を滴下した。滴下終了後、反応温度を徐々に室温
まで昇温し、２時間撹拌した。反応液を氷冷した後、１
Ｎ塩酸を滴下し、酢酸エチル（１００ｃｃ×２）で抽出
した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。ろ過後、溶媒を減圧下留去した。
残渣中には、４−メチルフェニルマグネシウムブロミド
のホモカップリング体である４，４’−ジメチルジフェ
ニルが４重量％含まれていた。残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィで精製し、表題化合物（１１．１ｇ、
収率８２％）を得た。
【００４８】［実施例２］２−シアノ−４’−メチルビ
フェニルの合成 金属マンガンの微粉末の量を３８５ｍｇ（０．００７ｍ
ｏｌ）とした以外は実施例１と同様の操作を行った。残
渣中には、４−メチルフェニルマグネシウムブロミドの
ホモカップリング体である４，４’−ジメチルジフェニ
ルが４重量％含まれていた。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィで精製し、表題化合物（９．１ｇ、収率
６７％）を得た。
フェニルの合成 金属マンガンの微粉末の量を３８５ｍｇ（０．００７ｍ
ｏｌ）とした以外は実施例１と同様の操作を行った。残
渣中には、４−メチルフェニルマグネシウムブロミドの
ホモカップリング体である４，４’−ジメチルジフェニ
ルが４重量％含まれていた。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィで精製し、表題化合物（９．１ｇ、収率
６７％）を得た。
【００４９】［比較例１］２−シアノ−４’−メチルビ
フェニルの合成 無水塩化マンガン（０．８８ｇ、０．００７ｍｏｌ）、
２−クロロベンゾニトリル（９．６ｇ、０．０７ｍｏ
ｌ）のテトラヒドロフラン懸濁液（２０ｃｃ）を１０℃
に冷却した後、１０±２℃で、４−メチルフェニルマグ
ネシウムブロミドの１Ｍテトラヒドロフラン溶液の１２
２ｃｃ（０．１２２ｍｏｌ）を滴下した。滴下には１．
５時間を要した。滴下終了後、混合物をこの温度で１５
分間保った。つぎに、１００ｃｃの３．７％塩酸を加
え、同じ温度で加水分解した。混合物を沈降させ、酢酸
エチル（１００ｃｃ×２）で抽出した。有機層を飽和食
塩水（１００ｃｃ）で洗浄した後、無水硫酸マグネシウ
ム（１０ｇ）で乾燥した。ろ過後、溶媒を減圧下留去し
た。残渣中には、４，４’−ジメチルジフェニルが１６
重量％含まれていた。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィで精製し、表題化合物（８．８ｇ、収率６５
％）を得た。
フェニルの合成 無水塩化マンガン（０．８８ｇ、０．００７ｍｏｌ）、
２−クロロベンゾニトリル（９．６ｇ、０．０７ｍｏ
ｌ）のテトラヒドロフラン懸濁液（２０ｃｃ）を１０℃
に冷却した後、１０±２℃で、４−メチルフェニルマグ
ネシウムブロミドの１Ｍテトラヒドロフラン溶液の１２
２ｃｃ（０．１２２ｍｏｌ）を滴下した。滴下には１．
５時間を要した。滴下終了後、混合物をこの温度で１５
分間保った。つぎに、１００ｃｃの３．７％塩酸を加
え、同じ温度で加水分解した。混合物を沈降させ、酢酸
エチル（１００ｃｃ×２）で抽出した。有機層を飽和食
塩水（１００ｃｃ）で洗浄した後、無水硫酸マグネシウ
ム（１０ｇ）で乾燥した。ろ過後、溶媒を減圧下留去し
た。残渣中には、４，４’−ジメチルジフェニルが１６
重量％含まれていた。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィで精製し、表題化合物（８．８ｇ、収率６５
％）を得た。
【００５０】［比較例２］２−シアノ−４’−メチルビ
フェニルの合成 無水塩化マンガン量を８．８１ｇ（０．０７ｍｏｌ）、
４−メチルフェニルマグネシウムブロミドの１Ｍテトラ
ヒドロフラン溶液の量を７７ｃｃ（０．０７７ｍｏｌ）
としたこと以外は比較例１と同様の操作を行った。残渣
中には、４−メチルフェニルマグネシウムブロミドのホ
モカップリング体である４，４’−ジメチルジフェニル
が６２重量％含まれていた。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィで精製し、表題化合物（４．０ｇ、収率
３０％）を得た。
フェニルの合成 無水塩化マンガン量を８．８１ｇ（０．０７ｍｏｌ）、
４−メチルフェニルマグネシウムブロミドの１Ｍテトラ
ヒドロフラン溶液の量を７７ｃｃ（０．０７７ｍｏｌ）
としたこと以外は比較例１と同様の操作を行った。残渣
中には、４−メチルフェニルマグネシウムブロミドのホ
モカップリング体である４，４’−ジメチルジフェニル
が６２重量％含まれていた。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィで精製し、表題化合物（４．０ｇ、収率
３０％）を得た。
【００５１】［比較例３］２−シアノ−４’−メチルビ
フェニルの合成 無水塩化マンガン量を８８１ｍｇ（０．００７ｍｏｌ）
としたこと以外は比較例２と同様の操作を行った。残渣
中には、４−メチルフェニルマグネシウムブロミドのホ
モカップリング体である４，４’−ジメチルジフェニル
が２８重量％含まれていた。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィで精製し、表題化合物（５．６ｇ、収率
４０％）を得た。
フェニルの合成 無水塩化マンガン量を８８１ｍｇ（０．００７ｍｏｌ）
としたこと以外は比較例２と同様の操作を行った。残渣
中には、４−メチルフェニルマグネシウムブロミドのホ
モカップリング体である４，４’−ジメチルジフェニル
が２８重量％含まれていた。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィで精製し、表題化合物（５．６ｇ、収率
４０％）を得た。
【００５２】
【発明の効果】本発明の方法によれば、医農薬、液晶、
耐熱性高分子、および液晶性高分子等の中間体として有
用であるビフェニル化合物を、効率的かつ容易に合成で
きる。本発明の方法は、特殊な試薬および過剰な試薬を
必要とせず、後処理も簡単である。また、過剰量の原料
を用いる必要もなく、かつ、副生成物の生成も少ない非
常に優れた方法である。
耐熱性高分子、および液晶性高分子等の中間体として有
用であるビフェニル化合物を、効率的かつ容易に合成で
きる。本発明の方法は、特殊な試薬および過剰な試薬を
必要とせず、後処理も簡単である。また、過剰量の原料
を用いる必要もなく、かつ、副生成物の生成も少ない非
常に優れた方法である。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 17/263 22/08 25/18 41/30 43/205 Ｄ 7419−4Ｈ 43/225 Ｄ 7419−4Ｈ 67/343 69/76 Ａ 9546−4Ｈ 69/94 9546−4Ｈ 255/50 Ｃ０７Ｄ 257/04 Ｄ 263/10 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００
Claims (10)
- 【請求項１】一般式［１］で表される化合物と一般式
［２］で表される化合物とを金属マンガンの存在下に反
応せしめることを特徴とする一般式［３］で表されるビ
フェニル化合物の製造方法。 【化１】 ただし、上記一般式において、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｘ、および
Ｙは、下記の意味を示す。 Ｒ1 ：水素原子、フッ素原子、炭素数１〜１０のアルキ
ル基、炭素数１〜５のポリフルオロアルキル基、炭素数
１〜１０のアルコキシル基、またはフェニル基を示す。 Ｒ2 ：水素原子、フッ素原子、炭素数１〜１０のアルキ
ル基、炭素数１〜５のポリフルオロアルキル基、炭素数
１〜１０のアルコキシル基、フェニル基、シアノ基、炭
素数１〜１０のアルコキシカルボニル基、アリールオキ
シカルボニル基、２−トリフェニルメチル−２Ｈ−テト
ラゾール−５−イル基、または４，４−ジメチル−オキ
サゾリン−２−イル基を示す。 Ｘ、Ｙ：それぞれ、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素
原子を示す。 - 【請求項２】一般式［１］のＲ1 が炭素数１〜６の直鎖
構造のアルキル基である請求項１の製造方法。 - 【請求項３】一般式［１］のＸが臭素原子である請求項
１または２の製造方法。 - 【請求項４】一般式［１］で表される化合物が４−メチ
ル−フェニルマグネシウムブロミドである請求項１の製
造方法。 - 【請求項５】一般式［２］のＲ2 がシアノ基である請求
項１〜４のいずれかの製造方法。 - 【請求項６】一般式［２］のＹが塩素原子である請求項
１〜５のいずれかの製造方法。 - 【請求項７】一般式［２］で表される化合物が２−クロ
ロベンゾニトリルである請求項１〜４のいずれかの製造
方法。 - 【請求項８】一般式［２］で表される化合物の１当量に
対して、一般式［１］で表される化合物の１当量以上
１．５当量未満を用いる請求項１〜７のいずれかの製造
方法。 - 【請求項９】不活性溶媒の存在下に反応せしめる請求項
１〜８のいずれかの製造方法。 - 【請求項１０】クロロトリアルキルシラン類の存在下に
反応せしめる請求項１〜９のいずれかの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7189537A JPH08109143A (ja) | 1994-08-17 | 1995-07-25 | ビフェニル化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6-193420 | 1994-08-17 | ||
| JP19342094 | 1994-08-17 | ||
| JP7189537A JPH08109143A (ja) | 1994-08-17 | 1995-07-25 | ビフェニル化合物の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08109143A true JPH08109143A (ja) | 1996-04-30 |
Family
ID=26505518
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7189537A Pending JPH08109143A (ja) | 1994-08-17 | 1995-07-25 | ビフェニル化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08109143A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998012174A1 (fr) * | 1996-09-20 | 1998-03-26 | Sanofi | Procede pour la preparation de derives de 4-methyl-biphenyle |
| EP0854135A2 (en) * | 1997-01-21 | 1998-07-22 | SUMIKA FINE CHEMICALS Co., Ltd. | Process for preparing 2-cyanobiphenyl compound |
| US5874606A (en) * | 1998-03-31 | 1999-02-23 | Occidental Chemical Corporation | Process for making o-arylbenzonitriles |
| WO2008059724A1 (fr) * | 2006-11-13 | 2008-05-22 | Toray Fine Chemicals Co., Ltd. | Procédé de production de 2,2'-bis(trifluorométhyl)-4,4'-diaminobiphényle |
| CN110105242A (zh) * | 2019-06-11 | 2019-08-09 | 山东汉兴医药科技有限公司 | 一种2-氰基-4’-甲基联苯的连续化合成方法 |
| CN115611769A (zh) * | 2021-07-16 | 2023-01-17 | 赛诺威(厦门)科技有限公司 | 一种沙坦联苯连续流合成方法及装置 |
-
1995
- 1995-07-25 JP JP7189537A patent/JPH08109143A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998012174A1 (fr) * | 1996-09-20 | 1998-03-26 | Sanofi | Procede pour la preparation de derives de 4-methyl-biphenyle |
| FR2753705A1 (fr) * | 1996-09-20 | 1998-03-27 | Sanofi Sa | Procede pour la preparation de derives de 4-methyl-biphenyle |
| EP0854135A2 (en) * | 1997-01-21 | 1998-07-22 | SUMIKA FINE CHEMICALS Co., Ltd. | Process for preparing 2-cyanobiphenyl compound |
| EP0854135A3 (en) * | 1997-01-21 | 1998-11-04 | SUMIKA FINE CHEMICALS Co., Ltd. | Process for preparing 2-cyanobiphenyl compound |
| US5998652A (en) * | 1997-01-21 | 1999-12-07 | Sumika Fine Chemicals Co., Ltd. | Process for preparing 2-cyanobiphenyl compound |
| US5874606A (en) * | 1998-03-31 | 1999-02-23 | Occidental Chemical Corporation | Process for making o-arylbenzonitriles |
| WO2008059724A1 (fr) * | 2006-11-13 | 2008-05-22 | Toray Fine Chemicals Co., Ltd. | Procédé de production de 2,2'-bis(trifluorométhyl)-4,4'-diaminobiphényle |
| JP5212692B2 (ja) * | 2006-11-13 | 2013-06-19 | 東レ・ファインケミカル株式会社 | ２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニルの製造方法 |
| CN110105242A (zh) * | 2019-06-11 | 2019-08-09 | 山东汉兴医药科技有限公司 | 一种2-氰基-4’-甲基联苯的连续化合成方法 |
| CN110105242B (zh) * | 2019-06-11 | 2022-11-11 | 山东普洛汉兴医药有限公司 | 一种2-氰基-4’-甲基联苯的连续化合成方法 |
| CN115611769A (zh) * | 2021-07-16 | 2023-01-17 | 赛诺威(厦门)科技有限公司 | 一种沙坦联苯连续流合成方法及装置 |
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