JP5591494B2 - 高純度の含フッ素エチリデン−2−メチルプロパンスルフィンアミド、その製造方法及びそれを用いた光学活性含フッ素アミン誘導体の製造方法 - Google Patents
高純度の含フッ素エチリデン−2−メチルプロパンスルフィンアミド、その製造方法及びそれを用いた光学活性含フッ素アミン誘導体の製造方法 Download PDFInfo
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Description
で表されるようなα位に置換基を有する光学活性含フッ素アミン誘導体は、医薬中間体として重要であり、盛んに検討されている。例えば、特許文献1、非特許文献1に示されるα位にアリール基を有する光学活性含フッ素アミン化合物は、骨粗鬆薬としての優れた薬効を示すことが報告されている。また、特許文献2、非特許文献2に示される含フッ素β−ヒドロキシアミノ酸誘導体は、次世代の優れた抗癌剤として検討されている。
このような不斉認識部位を有するイミン化合物として、非フッ素系化合物については多くの検討例がある。特に、非特許文献3において報告されたエチリデン−2−メチルプロパンスルフィンアミドは、高いジアステレオ選択性を示すことが報告されており、また、温和な条件で窒素上の保護基を切断することができるため、極めて利用価値の高い有用な化合物である。含フッ素化合物については、検討例は少ないが、光学活性含フッ素エチリデン−2−メチルプロパンスルフィンアミドについて、非特許文献4において報告されている。
で表される含フッ素エチリデン−2−メチルプロパンスルフィンアミドであって、
下記一般式(2)
で表わされる含フッ素アセトアルデヒド水和物、下記一般式(3)
で表わされる含フッ素ヘミアミナール、下記一般式(4)
で表される含フッ素化合物、下記一般式(5)
で表される含フッ素化合物又は下記一般式(6)
で表される含フッ素化合物の含有量が、CHnFm部位の総計として、含フッ素エチリデン−2−メチルプロパンスルフィンアミドに対して10モル%未満であることを特徴とする高純度光学活性含フッ素エチリデン−2−メチルプロパンスルフィンアミド。
で表される光学活性2−メチルプロパンスルフィンアミドと一般式(2)
で表される含フッ素アセトアルデヒド水和物をゼオライト及びpKa(水中)が2以上6以下のブレンステッド酸の存在下で反応させることを特徴とする前記一般式(1)で表される(1)に記載の高純度含フッ素エチリデン−2−メチルプロパンスルフィンアミドの製造方法。
RpXqM (8)
(式中、Rは置換基を有していてもよいアルキル基、アリル基または置換基を有していてもよいアリール基を表す。Xはハロゲン原子、Mは1A族、2A族、2B族又は3B族の元素を表す。pは1〜3の整数、qは0〜2の整数を表し、p+qはMの価数に等しい。)
で表される有機金属化合物と反応させることを特徴とする、下記一般式(9)
で表される光学活性含フッ素アミン誘導体の製造方法。
20mlシュレンク管中に(S)−2−メチルプロパンスルフィンアミド 0.50g(4.1mmol)、トリフルオロアセトアルデヒド水和物 0.48g(4.1mmol)、ピリジニウム−p−トルエンスルホナート(水中のpKa=5.4)0.05g(0.2mmol)、ジクロロメタン 12g、ゼオライト(東ソー製 ゼオラムA−4)2.5gを入れ、40℃で加熱した。23時間後、ゼオライト2.5gを追加添加し40℃で反応させた。12時間後、反応液をろ過し、ろ液にゼオライトを2.5g添加し、3時間40℃で反応させた。反応終了後、ろ過によりゼオライトを除去し、ジクロロメタンを減圧留去した。濃縮液を19F−NMRで分析したところ、N−(2,2,2−トリフルオロエチリデン)−(S)−2−メチルプロパンスルフィンアミドに対する、一般式(2)〜(6)で表わされる化合物に由来するCF3部位の総計は4モル%(即ち、−71ppmのピークの積分値を100とした−87〜−78ppmのピークの積分値の総計が4)であった。
実施例1で得られたN−(2,2,2−トリフルオロエチリデン)−(S)−2−メチルプロパンスルフィンアミド濃縮液をクーゲルロール蒸留設備にて、0.6kPaの圧力で液温40℃にて蒸留精製を行った。得られた留分を19F−NMRで分析したところ、一般式(2)〜(6)で表わされる化合物に由来するCF3部位の総計は0.9モル%(即ち、−71ppmのピークの積分値を100とした−87〜−78ppmのピークの積分値の総計が0.9)であった。
20mlシュレンク管にブロモベンゼン 0.77g(4.9mmol)、テトラヒドロフラン 3mlを入れ、ドライアイス−アセトン浴中で−78℃に冷却した。次いで、1mol/L n−ブチルリチウム n−ヘキサン溶液 4.1ml(4.1mmol)を添加し、同温度で1時間攪拌した(溶液Aとする)。
ゼオライトの使用量を計6.0g(2.0g 3回)とした以外は実施例1と同様の操作を行い、N−(2,2,2−トリフルオロエチリデン)−(S)−2−メチルプロパンスルフィンアミドを合成した。濃縮液を19F−NMRで分析したところ、一般式(2)〜(6)で表わされる化合物に由来するCF3部位の総計は9モル%(即ち、−71ppmのピークの積分値を100とした−87〜−78ppmのピークの積分値の総計が9)であった。
実施例4で得られたN−(2,2,2−トリフルオロエチリデン)−(S)−2−メチルプロパンスルフィンアミド(純分として 3.8mmol)を用いた以外は、実施例3と同様の操作を行った。抽出液を19F−NMRで分析したところ(ベンゾトリフルオリドを内部標準として使用)、目的とするN−(1−フェニル−2,2,2−トリフルオロエチル)−2−メチルプロパンスルフィンアミドの収率は84%であった。なお、ジアステレオ選択性は98:2と高い値であった。
実施例2で得られたN−(2,2,2−トリフルオロエチリデン)−(S)−2−メチルプロパンスルフィンアミド(純分として 3.8mmol)を用いた以外は、実施例3と同様の操作を行った。抽出液を19F−NMRで分析したところ(ベンゾトリフルオリドを内部標準として使用)、目的とするN−(1−フェニル−2,2,2−トリフルオロエチル)−2−メチルプロパンスルフィンアミドの収率は85%であった。なお、ジアステレオ選択性は98:2と高い値であった。
ピリジニウム−p−トルエンスルホナートを使用しなかった以外、実施例1と同様の操作を行いN−(2,2,2−トリフルオロエチリデン)−(S)−2−メチルプロパンスルフィンアミドを合成した。濃縮液を19F−NMRで分析したところ、一般式(2)〜(6)で表わされる化合物に由来するCF3部位の総計は33モル%(即ち、−71ppmのピークの積分値を100とした−87〜−78ppmのピークの積分値の総計が33)であった。
比較例1で得られたN−(2,2,2−トリフルオロエチリデン)−(S)−2−メチルプロパンスルフィンアミド(純分として 3.8mmol)を用いた以外は、実施例3と同様の操作を行った。抽出液を19F−NMRで分析したところ(ベンゾトリフルオリドを内部標準として使用)、目的とするN−(1−フェニル−2,2,2−トリフルオロエチル)−2−メチルプロパンスルフィンアミドの収率は62%であった。なお、ジアステレオ選択性は98:2であった。
Claims (4)
- 下記一般式(1)
で表される含フッ素エチリデン−2−メチルプロパンスルフィンアミドであって、
下記一般式(2)
で表わされる含フッ素アセトアルデヒド水和物、下記一般式(3)
で表わされる含フッ素ヘミアミナール、下記一般式(4)
で表される含フッ素化合物、下記一般式(5)
で表される含フッ素化合物又は下記一般式(6)
で表わされる含フッ素化合物の含有量が、CHnFm部位の総計として、含フッ素エチリデン−2−メチルプロパンスルフィンアミドに対して10モル%未満であることを特徴とする高純度光学活性含フッ素エチリデン−2−メチルプロパンスルフィンアミド。
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