JP4520302B2 - 洗浄装置、被洗浄材料の精製方法及び洗浄装置の使用 - Google Patents
洗浄装置、被洗浄材料の精製方法及び洗浄装置の使用 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4520302B2 JP4520302B2 JP2004537091A JP2004537091A JP4520302B2 JP 4520302 B2 JP4520302 B2 JP 4520302B2 JP 2004537091 A JP2004537091 A JP 2004537091A JP 2004537091 A JP2004537091 A JP 2004537091A JP 4520302 B2 JP4520302 B2 JP 4520302B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- region
- cleaned
- fluid resistance
- crystal
- cleaning device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 108
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims description 78
- 238000000746 purification Methods 0.000 title claims description 37
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 22
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 130
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 86
- 239000000047 product Substances 0.000 claims description 67
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 27
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 25
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 21
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 18
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 claims description 17
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 14
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 claims description 14
- 235000013305 food Nutrition 0.000 claims description 12
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 12
- 239000000446 fuel Substances 0.000 claims description 10
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 7
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 claims description 7
- 230000010349 pulsation Effects 0.000 claims description 4
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 2
- 238000007670 refining Methods 0.000 claims 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 44
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 20
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 19
- HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N Acrolein Chemical compound C=CC=O HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 10
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 10
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 10
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 9
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 9
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 5
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 5
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- WNZQDUSMALZDQF-UHFFFAOYSA-N 2-benzofuran-1(3H)-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)OCC2=C1 WNZQDUSMALZDQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 4
- 239000012452 mother liquor Substances 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NOTSENYEYVSAHZ-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-3-methylbenzene-1,4-diol Chemical compound CCC1=C(C)C(O)=CC=C1O NOTSENYEYVSAHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CYUZOYPRAQASLN-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxypropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCOC(=O)C=C CYUZOYPRAQASLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- -1 methyl diisocyanate Chemical compound 0.000 description 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 3
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 3
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 2
- 235000013361 beverage Nutrition 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N chloroacetic acid Chemical compound OC(=O)CCl FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011538 cleaning material Substances 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 2
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 230000008439 repair process Effects 0.000 description 2
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 2
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- 210000001124 body fluid Anatomy 0.000 description 1
- 239000010839 body fluid Substances 0.000 description 1
- 238000009529 body temperature measurement Methods 0.000 description 1
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 238000011217 control strategy Methods 0.000 description 1
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000003651 drinking water Substances 0.000 description 1
- 235000020188 drinking water Nutrition 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000012847 fine chemical Substances 0.000 description 1
- 230000002431 foraging effect Effects 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000011796 hollow space material Substances 0.000 description 1
- 238000010191 image analysis Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D9/00—Crystallisation
- B01D9/004—Fractional crystallisation; Fractionating or rectifying columns
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D9/00—Crystallisation
- B01D9/004—Fractional crystallisation; Fractionating or rectifying columns
- B01D9/0045—Washing of crystals, e.g. in wash columns
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D9/00—Crystallisation
- B01D9/005—Selection of auxiliary, e.g. for control of crystallisation nuclei, of crystal growth, of adherence to walls; Arrangements for introduction thereof
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D9/00—Crystallisation
- B01D9/0059—General arrangements of crystallisation plant, e.g. flow sheets
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/041—Cleaning travelling work
- B08B3/042—Cleaning travelling work the loose articles or bulk material travelling gradually through a drum or other container, e.g. by helix or gravity
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/42—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C51/43—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by change of the physical state, e.g. crystallisation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Description
【0001】
本発明は、洗浄装置、精製装置、合成装置、被洗浄材料の精製方法、精製のための、洗浄装置または精製装置の使用、精製によって得られた対象製品の使用に関する。
【背景技術】
【0002】
化学工業で製造される製品の純度に対する要求が高まっている。これは、比較的少量で生産されるファインケミカルや薬品に特に当てはまる。最近では、大量生産される化学製品にもより高い純度が求められる傾向にある。これらの物質のほとんどは、大量生産されるポリマーの合成に使用される出発物質である。そのような物質としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、スチレン、アクリルアミド、カプロラクタム、ナフタレン、フェノールが挙げられる。特に、これらの出発物質から製造される製品が医学、食品、衛生分野で使用される場合に高い純度が要求される。医学及び衛生分野における適用例としては、部分的に中和された架橋ポリアクリル酸により実質的に構成される吸収性ポリマーが挙げられ、それらは水性体液を吸収するための創傷帯やおしめとして医学及び衛生分野で使用される。食品分野では、例えば、アクリル酸またはアクリルアミドの少なくとも一方により構成される凝集剤が飲料水の処理に使用されている。
【0003】
重合プロセスに使用される出発物質に高い純度が要求される別の理由は、使用されるモノマーが高い純度で存在していれば、重合プロセスが実質的にさらに制御された状態で進行するということである。それによって、それらのモノマーから合成されるポリマーの特性において、極めて重要である、分子量と分子量分布を、さらに良好に制御することができる。
【0004】
高い純度が工業規模で要求される別の領域は、排水処理分野である。技術的な合成では、有機溶媒が、水や水性溶媒に置き換えられてきており、合成プロセスからの排水量が増加している。一方、環境保護規則によって、水を溶媒として使用する合成により得られる製品と副生成物を、排水から可能な限り完全に除去することが求められている。
【0005】
食品分野では、消費を目的とする製品の純度を高めることが、より求められている。これは、濃縮物を製造する場合に特に当てはまる。そのため、食品に有害ではない経済的な濃縮プロセスが強く求められている。
【0006】
また、暖房装置、ジェットエンジン、内燃機関のさらなる技術開発によって、性能と排気ガスの最適化のために、純度の高い燃料を使用することが必要となっている。
【0007】
しかし、化合物を合成したり、天然源から物質を得る場合には、所望の物質は、通常、純粋な製品ではない。逆に、合成を行ったり、天然源から物質を得る場合には、一部が所望の物質であり、残りが溶媒、出発物質、副生成物、望ましくない異性体などの不純物である化合物の混合物が得られる。不純物から所望の物質を分離するために、蒸留分離法が、工業規模で頻繁に使用されている。しかし、蒸留分離法は、高いエネルギーの使用を伴うとともに、熱感受性であって、通常は反応性を有する最終製品の場合には、比較的厳しい熱的条件であるために、所望の製品がさらに反応し、収率が低下することになる。
【0008】
所望の製品が、結晶化できる化合物であり、合成プロセスの後に化合物の液体混合物中に存在している場合には、所望の製品を精製するため、すなわち、副生成物が溶解状態または液体状態で存在している、通常は「供給原料(feed)」と呼ばれる化合物の液体混合物から、物質を分離するための、非常に穏やかな方法として、溶融結晶化が望ましい。溶融結晶化では、所望の化合物を、母液と呼ばれる液体から、固体として結晶化させ、結晶化させた化合物を分離し、再溶融させる。そして、溶融物を純粋な製品を得る。
【0009】
従来技術から公知の結晶化方法としては、単離する化合物を静止冷却面に沈殿させる、静的・動的層結晶化や、懸濁液中での結晶成長に基づく懸濁結晶化が知られている。懸濁結晶化は、連続プロセスで行うことができるという点で、層結晶化に対して利点を有する。また、結晶の成長速度が比較的低いために、結晶の純度が通常は非常に高い。しかし、低い成長速度にも関わらず、溶液中での結晶化では比較的大きな面積、すなわち、各粒子の全表面積を結晶成長に利用することができるため、懸濁結晶化によって、高い製品収率を達成することができる。したがって、懸濁結晶化は、対象製品における高い純度を達成するための、非常に効果的で経済的な方法を代表するものである。
【0010】
また、層結晶化と比較して、結晶の成長速度が比較的低いため、液体中に存在する不純物は、ほとんど結晶格子に組み込まれず、母液に残ることになる。したがって、単一段階の結晶化プロセスであっても、所望の化合物の高純度結晶が通常得られる。
【0011】
最終製品の純度にとって重要なさらなる工程は、大部分が不純物と精製される混合物の非結晶化部分により構成される、懸濁液中の液体構成成分から、懸濁液中に存在する結晶を分離することである。通常、分離は固液分離プロセスによって行われる。分離は1以上の段階で進行し、少なくとも最後の段階では、通常、洗浄装置として、洗浄カラム(washing column)を使用する。このような洗浄装置では、結晶化装置内で生成された結晶の懸濁液を導入し、結晶の懸濁液を圧縮して、結晶床(crystal bed)を形成させる。洗浄液、好ましくは溶融した結晶を含む溶融物は、結晶床を逆流方向に通過させる。
【0012】
圧縮結晶床の形成には様々な方法が使用されている。例えば、米国再発行特許第24,038号には、洗浄カラムの上部に結晶懸濁液を導入し、結晶床を沈降プロセスによって形成させる、重力式洗浄カラムが記載されている。しかし、このようなカラムでは、沈降プロセスにおいて、垂直流路が形成され、母液または結晶懸濁液と洗浄液の逆混合(back−mixing)が発生する恐れがある。
【0013】
ドイツ特許第1947251号に開示されているように、重力式洗浄カラムには、結晶床内における垂直液体流路の形成を防止するための、攪拌機構が、少なくともカラムの高さの一部にわたって設けられる。しかし、そのような攪拌機構は、攪拌運動によって結晶床の渦が発生し、洗浄装置の分離性能に不利な影響を与えるという欠点がある。
【0014】
そのような攪拌機構は、液圧式または機械的洗浄カラムの場合には必要ではない。例えば、欧州特許第0 920 894 A1号は、懸濁液を圧力下で密閉ハウジングに供給し、圧力によって、圧縮結晶床を形成させる液圧式洗浄カラムを開示している。欧州特許第0 920 894 A1号では、圧力は、結晶懸濁液の液相を透過させる半透過性ピストンによって生成される。ドイツ特許出願公開第28 00 540号では、結晶床を形成させるために、結晶を圧縮する手段として、螺旋状の回転式供給部が使用されている。
【0015】
結晶を溶融領域に供給するために、結晶床内で圧縮された結晶を再粉砕する目的で、ドイツ特許出願公開第100 39 025 A1号は、ビルドアップ面(build−up face)の反対側に配置され、通常はローターブレードまたはスクレーパーの形態の、回転式除去手段を提案している。
【0016】
結晶床に結晶を供給し、供給された結晶を圧縮し、圧縮された結晶を分離するための、上述した可動手段に共通することは、結晶床が非均質になってしまうということである。そのような可動部品を洗浄カラムに組み込むことによるコストの増加に加えて、メンテナンスにもかなりのコストが必要となる。洗浄カラムの可動部品のメンテナンスには、洗浄カラムの運転を停止するとともに、部品の分解、清掃、修理または交換が必要となる。洗浄カラムの可動部品のさらなる欠点は、反応性物質を精製する際に発生する。例えば、アクリル酸を精製する場合には、可動部品のシャフトの密閉領域で、望ましくない自然発生重合がしばしば発生するので、洗浄カラムの運転を停止し、形成されたポリマーを除去し、部品を分解、修理または交換することが必要となる。
【0017】
この問題に関して、ドイツ特許第37 86 471 T2号は、結晶床の領域に可動部を有さない洗浄カラムを開示している。また、ドイツ特許第37 86 471 T2号は、入口開口部の封止や詰まりを減少または防止するための、異なるアプローチを開示している。しかし、これらの方法では、結晶床、結晶懸濁液、結晶懸濁液と結晶床の遷移領域における、複雑な流体状態が考慮されていない。それらの状態は、「液圧洗浄カラムの性能に対する圧縮率の影響(Effect of Compressibility on Performance of Hydraulic Wash Columns),L.van Oord−Knol,O.S.L.Bruinsma,P.J.Jansen,AIChE Journal,2002年7月,Col.48,No.7,1478頁参照」及び「液圧式充填床洗浄カラムの一般的な制御方法(A general Control Strategy For Hydraulic Packed Bed Wash Columns),P.J.Jansens,O.S.L.Bruinsma,G.M.van Rosmalen,R.de Goede,Trans IchemE,Vol.72,Part A,1994年9月,695頁参照」に、洗浄カラムの安全な操作のために重要であるものとして記載されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0018】
したがって、本発明は、従来技術から生じる欠点を軽減または克服するという課題に基づくものである。
【0019】
特に、本発明の課題の1つは、好適な分離性能を提供しながらも、可能な限り経済的で容易に製造することができる洗浄装置を提供することにある。
【0020】
また、本発明の課題の1つは、大規模な工業的使用のために、容易にスケールアップすることができる洗浄装置を提供することにある。
【0021】
本発明のさらなる課題は、過度に頻繁な修理作業で生じる、非使用期間によって中断されることのない、比較的長い寿命を有する洗浄カラムを提供することにある。
また、本発明の課題の1つは、好適な分離性能を提供しながらも、可能な限り連続的で中断を伴うことのない運転を可能とし、従って、大規模な工業的使用に、非常に好適な、被洗浄材料の精製方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0022】
本発明は、被洗浄材料(4)が供給される第1の領域(1)と、
前記被洗浄材料(4)が洗浄される第2の領域(2)と、
前記被洗浄材料(4)が溶融される第3の領域(3)と、
前記第1の領域(1)と前記第2の領域(2)との間に設けられた、濾液抽出ライン(8)を有する固液分離装置と、
前記第2の領域(2)と前記第3の領域(3)との間に設けられた流体抵抗(6)と、
を有し、
前記第2の領域(2)は少なくとも部分的にカラム(2a)の形状であり、前記カラムは少なくとも300mmの直径を有する洗浄装置を提供するものである。
また、本発明は、被洗浄材料(4)が供給される第1の領域(1)と、
前記被洗浄材料(4)が洗浄される第2の領域(2)と、
前記被洗浄材料(4)が溶融される第3の領域(3)と、
前記第2の領域(2)と前記第3の領域(3)との間に設けられた流体抵抗(6)と、
を有し、
前記第2の領域(2)は少なくとも部分的にカラム(2a)の形状であり、前記カラムは少なくとも300mmの直径を有し、
前記流体抵抗(6)は、前記流体抵抗の合計面積に対して、0%より大きく100%より小さい範囲の比自由断面積を有するとともに、前記比自由断面積が可変である洗浄装置を提供するものである。
また、本発明は、被洗浄材料(4)が供給される第1の領域(1)と、
前記被洗浄材料(4)が洗浄される第2の領域(2)と、
前記被洗浄材料(4)が溶融される第3の領域(3)と、
前記第2の領域(2)と前記第3の領域(3)との間に設けられた流体抵抗(6)と、
を有し、
前記第2の領域(2)は少なくとも部分的にカラム(2a)の形状であり、前記カラムは少なくとも300mmの直径を有し、
前記流体抵抗(6)は、前記流体抵抗の合計面積に対して、0%より大きく100%より小さい範囲の比自由断面積を有するとともに、調節可能な穴が設けられている流体抵抗である洗浄装置を提供するものである。
また、本発明は、前記本発明の洗浄装置の、前記第1の領域(1)に、結晶供給路を介して接続された、結晶製造装置(13)を含む精製装置を提供するものである。
また、本発明は、被洗浄材料(4)が供給される第1の領域(1)と、
前記被洗浄材料(4)が洗浄される第2の領域(2)と、
前記被洗浄材料(4)が溶融される第3の領域(3)と、
前記第1の領域(1)と前記第2の領域(2)との間に設けられた、濾液抽出ライン(8)を有する固液分離装置と、
前記第2の領域(2)と前記第3の領域(3)との間に設けられた流体抵抗(6)と、
を有する洗浄装置の、前記第1の領域(1)に、結晶供給路を介して接続された、結晶製造装置(13)を含む精製装置を提供するものである。
また、本発明は、被洗浄材料(4)が供給される第1の領域(1)と、
前記被洗浄材料(4)が洗浄される第2の領域(2)と、
前記被洗浄材料(4)が溶融される第3の領域(3)と、
前記第2の領域(2)と前記第3の領域(3)との間に設けられた流体抵抗(6)とを有し、
前記流体抵抗(6)は、前記流体抵抗の合計面積に対して、0%より大きく100%より小さい範囲の比自由断面積を有するとともに、前記比自由断面積が可変である
洗浄装置の、前記第1の領域(1)に、結晶供給路を介して接続された、結晶製造装置(13)を含む精製装置を提供するものである。
また、本発明は、被洗浄材料(4)が供給される第1の領域(1)と、
前記被洗浄材料(4)が洗浄される第2の領域(2)と、
前記被洗浄材料(4)が溶融される第3の領域(3)と、
前記第2の領域(2)と前記第3の領域(3)との間に設けられた流体抵抗(6)とを有し、
前記流体抵抗(6)は、前記流体抵抗の合計面積に対して、0%より大きく100%より小さい範囲の比自由断面積を有するとともに、調節可能な穴が設けられている流体抵抗である
洗浄装置の、前記第1の領域(1)に、結晶供給路を介して接続された、結晶製造装置(13)を含む精製装置を提供するものである。
また、本発明は、合成装置(14)と、該合成装置(14)の下流に設けられた前記本発明の精製装置と、を含む合成装置を提供するものである。
また、本発明は、被洗浄材料の精製方法であって、前記被洗浄材料を前記本発明の洗浄装置の、前記第1の領域(1)を介して供給し、対象製品を得る精製方法を提供するものである。
また、本発明は、食料、モノマー、燃料、溶媒の製造、排水処理または異性体分離における、前記本発明の洗浄装置の使用を提供するものである。
また、本発明は、食料、モノマー、燃料、溶媒の製造、排水処理または異性体分離における、前記本発明の精製装置の使用を提供するものである。
【0023】
上述の課題は、第一に、独立請求項の主題により、そして、従属請求項から得られる副次的な組み合わせによって達成される。
【0024】
また、上記課題は、
被洗浄材料が供給される第1の領域と、
被洗浄材料が洗浄される第2の領域と、
被洗浄材料が溶融される第3の領域と、
第2の領域と第3の領域との間に設けられた流体抵抗と、
を有する洗浄装置によって達成される。
【0025】
さらに、本発明は、
被洗浄材料が供給される第1の領域と、
被洗浄材料が洗浄される第2の領域と、
被洗浄材料が溶融される第3の領域と、
第2の領域と第3の領域との間に設けられた流体抵抗と、
を有し、
第2の領域は少なくとも部分的にカラムの形状であり、カラムは少なくとも300mm、好ましくは700mm、さらに好ましくは1000mmの直径を有することを特徴とする洗浄装置に関する。通常、直径は8000mmまでに制限される。
【0026】
このような第2の領域の寸法によって、被洗浄材料の複雑な流体力学を有利にすることができる。
【0027】
本発明に係る洗浄装置の一実施形態では、流体抵抗は、第2の領域の中央縦軸の周りに、回転できないように配置されていることが好ましい。また、流体抵抗は、第2の領域と第3の領域との間の静止位置に配置されていることが好ましい。流体抵抗は、第2の領域と第3の領域の間の静止位置に配置され、第2の領域と第3の領域に対して固定されていることが特に好ましい。
【0028】
本発明によれば、被洗浄材料としては、結晶懸濁液が好ましい。結晶懸濁液は結晶と液相により構成される。結晶は、少なくとも50重量%、好ましくは少なくとも75重量%、より好ましくは少なくとも95重量%、さらに好ましくは少なくとも99重量%、最も好ましくは少なくとも99.9重量%の単一の対象製品により構成されることが好ましい。原理的には、本発明に係る洗浄装置は、凝縮及び固液分離に使用される。対象製品は、固液分離時に得られた液体であってもよく、濃縮時に得られた結晶性固体であってもよい。通常、対象製品は、食品、モノマー、燃料、溶媒、排水処理からの水、同位体、ジアステレオ異性体または鏡像異性体であってもよい。
【0029】
食品としては、飲料が好ましい。モノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、スチレン、メチルメタクリレート、ブチルアクリレート、安息香酸、ビスフェノールA、カプロラクタム、脂肪酸、モノクロロ酢酸、メチルジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、ナフタレン、パラフィン、p−、o−またはm−ジクロロベンゼン、p−キシレン、フタリド、又はこれらの誘導体若しくはこれらの塩が好ましい。燃料としては、ヒドラジンまたはディーゼルが好ましい。
【0030】
モノマーとしての対象製品は、好ましくは、2〜20の炭素原子と少なくとも1つの二重結合を含む有機化合物または水である。2〜20の炭素原子と少なくとも1つの二重結合を含む有機化合物としては、スチレン、α−メチルスチレン、アクリル酸、メタクリル酸、メチルメタクリレート、ブチルアクリレートが挙げられ、アクリル酸、メタクリル酸、メチルメタクリレートが好ましく、アクリル酸が特に好ましい。結晶を形成する対象製品が水である場合には、有機合成において溶媒として存在し、有機合成の主生成物及び副生成物から分離される水を使用することが特に好ましい。この点において、少なくとも1つの二重結合を含む有機化合物、好ましくはアクリル酸、メタクリル酸、アクロレインまたはメタクリレートの合成が挙げられ、アクロレインまたはアクリル酸の合成が特に好ましい。
【0031】
被洗浄材料が、結晶懸濁液のように、固相と液相の混合物として存在している場合には、結晶によって形成される固相は、被洗浄材料の合計または結晶懸濁液の合計に対して、10〜80重量%、好ましくは15〜60重量%、さらに好ましくは20〜40重量%の範囲で存在することが好ましい。被洗浄材料は、液相も含む。第2の領域の上部では、液相は、溶融した結晶に由来する洗浄液を、主に含む。第2の領域の下部、好ましくは固液分離装置の領域では、液相は、結晶化装置による結晶の形成に由来する母液を、主に含み、母液は固液分離装置によって除去することができる。
【0032】
また、被洗浄材料、好ましくは結晶懸濁液は、250mPas未満、好ましくは100mPas未満、特に好ましくは50mPas未満の粘度を有することが好ましい。なお、粘度は、DIN 53019 ISO/ISO 3219に従って測定した。
【0033】
被洗浄材料が、結晶懸濁液として存在している場合には、結晶は、1500μm以下、好ましくは50〜1000μm、より好ましくは75〜500μm、さらに好ましくは100〜250μmの範囲の平均直径を有することが好ましい。平均直径は、結晶懸濁液から無作為に選択した500個の結晶を使用して求める。結晶の大きさは、結晶の最大長さと結晶の中央部において最大長さに直角に測定した直径の平均値である。長さと直径を測定するために、CCDカメラを備えた光学顕微鏡及びSoft Imaging SystemのPCプログラム(SIS、V3.1)を備えたPC評価ユニットにより構成される、画像解析システムを使用する。
【0034】
また、本発明に係る洗浄装置では、少なくとも第2の領域で、0.1〜30バール、好ましくは0.5〜10バール、特に好ましくは1.5〜7バールの範囲の圧力に達することができることが好ましい。また、上記圧力は、被洗浄材料とは反対側のフィルター面の圧力よりも高いことが好ましい。
【0035】
例えば、アクリル酸を含む結晶懸濁液の場合には、結晶中のアクリル酸の濃度は、結晶に対して、少なくとも90重量%、好ましくは少なくとも95重量%、特に好ましくは少なくとも98重量%、さらに好ましくは少なくとも99重量%である。
【0036】
流体抵抗の領域における液相中の溶融した対象製品の濃度は、第2の領域中の、流体抵抗から比較的離れた領域よりも、高いことが特に好ましい。
【0037】
アクリル酸またはアクロレインの合成、好ましくはアクロレインの合成からの排水を処理する場合には、結晶懸濁液を形成する水結晶は、結晶に対して、少なくとも90重量%、好ましくは少なくとも99重量%、特に好ましくは少なくとも99.9重量%の水により構成される。
【0038】
本発明に係る洗浄装置では、被洗浄材料が供給される第1の領域は、少なくとも1つの被洗浄材料供給手段、好ましくは洗浄装置の外部に位置している被洗浄材料供給手段に連結されたパイプ状ラインと、接続している開口部であることが好ましい。好ましくは、被洗浄材料のために、複数の供給装置が重複して使用される。これは、被洗浄材料が、反応性化合物を含む場合に特に望ましい。その結果、例えば、反応性化合物の望ましくない自然発生重合によって、1以上の供給装置が故障した場合でも、本発明に係る洗浄装置の運転を継続することができる。故障した供給装置の修理は、供給装置が洗浄装置の外部に位置するために、容易かつ簡便に行われる。
【0039】
本発明に係る洗浄装置のための供給装置としては、当業者が適当と考える、あらゆる供給装置が使用される。被洗浄材料に与える機械的応力が最小となる供給装置が好ましく、特に、被洗浄材料へのせん断度が低い供給装置が有利である。また、供給装置は、可能な限り無脈動な動作の結果、可能な限り結晶床の分断を引き起こさないものでなくてはならない。「無脈動」とは、供給手段の出口において、供給材料の圧力が、約0.5バール未満で変動することを意味する。このような背景から、連続式螺旋供給ポンプ、回転式ピストンポンプ、好ましくは可能な限り大きなギャップ幅、好ましくは少なくとも平均結晶直径の2倍のギャップ幅を有する遠心ポンプ、またはマルチピストン膜ポンプが、非連続式往復ピストンポンプよりも好ましく、特に、螺旋供給ポンプが好ましい。従って、本発明に係る洗浄装置では、無脈動供給手段は、第1の領域の上流または第1の領域の少なくとも一部に設けられ、無脈動供給手段は、好ましくは供給螺旋を有する。
【0040】
本発明に係る洗浄装置における被洗浄材料が洗浄される第2の領域は、通常は、実質的に層状であって、実質的に非均質性を有さない流れとともに、被洗浄材料が、第2の領域内を移動することができるように構成・配置されている。
【0041】
本発明に係る洗浄装置の運転時には、第2の領域全体においてビルドアップ部(build−up front)が存在しないことが好ましい。ビルドアップ部とは、懸濁液から結晶床への遷移を意味し、懸濁液における結晶含有率の比較的急激な上昇によって特徴付けられる。本発明に係る洗浄装置の運転時には、第1の領域、好ましくは供給装置の供給部品の上方に、ビルドアップ部が存在することがさらに好ましい。
【0042】
また、パイプ状に構成された第2の領域の場合には、パイプの長さは、第2の領域に使用されるパイプの断面の10倍以下、好ましくは5倍以下、特に好ましくは1倍以下であることが好ましい。
【0043】
本発明に係る洗浄装置における被洗浄材料を溶融させる第3の領域は、好ましくは、被洗浄材料に存在する反応性化合物の望ましくない反応を引き起こすような、著しい過熱領域が形成されないように構成されることが好ましい。本発明に係る装置の第3の領域は、第2の領域と同様にパイプ状に構成されることが好ましい。第3の領域の一実施形態では、加熱部が第3の領域の壁に位置している。第3の領域の別の実施形態では、加熱部が第3の領域内に位置している。また、これらの実施形態を組み合わせることもできる。本発明に係る洗浄カラムの別の実施形態によれば、溶融のための熱交換器が、加熱部の代わりに、または加熱部に加えて、第3の領域の外部に位置している。この場合、第3の領域の加熱は、溶融した対象製品が戻されることによって達成される。第3の領域の外部に位置する溶融のための熱交換器は、特に感受性の高い物質の場合に好ましく、溶融のための熱交換器の熱移動面の表面温度は、5℃以下、好ましくは3℃以下、特に好ましくは1.5℃以下の範囲で、対象製品の融点よりも高いことが好ましい。
【0044】
流体抵抗は、流体抵抗における圧縮が、結晶により妨げられずに、被洗浄材料の固体構成成分、好ましくは懸濁液の結晶を、圧縮できるように構成・配置されている。その結果、第3の領域に導入するために、被洗浄材料の圧縮された固体を破砕する、可動スクレーパーやレーキを使用する必要がない。本発明によれば、破砕は流体抵抗によって行われる。
【0045】
本発明に係る洗浄装置の一実施形態によれば、流体抵抗は、流体抵抗の合計面積に対して、0%より大きく100%小さい、好ましくは20〜80%、特に好ましくは40〜60%の範囲の比自由断面積(relative free cross−sectional area)を有することが好ましい。
【0046】
また、流体抵抗に設けられた開口部は、0.001〜50mm、好ましくは5〜25mm、より好ましくは10〜20mmの範囲の断面を有することが好ましい。
【0047】
本発明に係る洗浄装置では、少なくとも1つの開口部の断面は、可変であることが好ましい。
【0048】
また、開口部の壁は、被洗浄材料の通過能力(throughflow capability)を向上させるために、液体で湿潤させることができることが好ましい。このため、壁を湿潤させ、結晶の付着を低減または防止するために、開口部の壁に膜が形成される。膜は、好ましくは、流体抵抗に設けられた加熱装置によって溶融される、対象製品により主に構成される。
【0049】
これらの手段によって、例えば、被洗浄材料、特に結晶床における圧力の変動を均衡させ、詰まりの発生を防止することができる。
【0050】
一実施形態によれば、開口部には、調整可能な穴が設けられている。別の実施形態によれば、開口部の断面の可変性は、流体抵抗が、開口部を有する第1のプレートと、開口部を有し、第1のプレートと相対的に回転できるように配置された第2のプレートにより構成されることによって達成される。
【0051】
別の実施形態によれば、流体抵抗の少なくとも1つの開口部は、グリッドの支柱(strut)によって形成される。流体抵抗の抵抗値は、少なくとも2つのグリッドを、相対的に移動可能に配置し、且つ相対的な移動によって、グリッドに形成された開口部が、他方のグリッドの支柱によって、任意の程度で覆われるように配置することによって、変化させることができる。
【0052】
また、本発明に係る洗浄装置では、被洗浄材料の液相、例えば溶融した結晶が、流体抵抗の少なくとも1つの穴から、被洗浄材料を形成する結晶懸濁液に、排出されることが好ましい。これによって、流体抵抗に設けられた開口部の詰まりを防止し、洗浄カラムの分離性能を向上させることができる。穴は、平均結晶直径よりも小さいことが好ましい。
【0053】
また、本発明に係る洗浄装置の一実施形態では、第2の領域に面する開口部のA断面が、第3の領域に面するB断面の10倍であることが好ましい。好ましくは、開口部は円錐形である。これによって、開口部及び流体抵抗の詰まりを防止することができる。また、可能な限り均一な結晶床の形成が、容易となる。この点において、第2の領域に面する流体抵抗の表面は、開口部がそこから形成される凹部を有することが特に好ましい。
【0054】
また、本発明に係る洗浄装置では、第1の領域と第2の領域との間に、濾液抽出ラインを有する固液分離装置、好ましくは濾液抽出ラインを有するフィルターが、設けられていることが好ましい。また、濾液抽出ラインにおける対象製品の濃度は、第1の領域における液相中の対象製品の濃度と同じか、好ましくは該濃度よりも低いことが好ましい。また、第3の領域における対象製品の濃度は、第2の領域よりも高いことが好ましい。
【0055】
好適なフィルターとしては、被洗浄材料中に存在する固体構成成分の平均粒子径より小さな孔径を有する、フィルター材料を使用することができる。フィルター材料の平均孔径は、1〜1000μm、好ましくは50〜800μm、より好ましくは100〜500μmの範囲であることが好ましい。好適なフィルター材料は、ワイヤグリッド、ワイヤメッシュ、不織ワイヤ(nonwoven wire)、ニットワイヤ(knitted wire)である。
【0056】
本発明に係る洗浄装置では、フィルターは、第2の領域に隣接する壁に形成されることが好ましい。また、フィルターが形成される壁は、洗浄装置において、洗浄装置を通過する被洗浄材料の流れ方向によって形成される軸に対して、0°より大きく90°より小さい、好ましくは1〜50°または15〜60°、より好ましくは10〜30°または5〜15°の範囲の角度αで配置されていることが好ましい。
【0057】
また、本発明に係る洗浄装置の少なくとも第2の領域、好ましくはフィルターは、温度が可変であることが好ましい。
【0058】
また、本発明は、上に定義した洗浄装置の第1の領域に、結晶供給手段を介して接続された結晶製造装置を含む、精製装置に関する。結晶製造装置としては、原則として、結晶懸濁液を製造するために当業者が適当と考えるあらゆる装置が挙げられる。この点において、例えば、結晶製造装置は、冷却ディスク結晶化装置であってもよい。
【0059】
また、本発明は、被洗浄材料が供給される第1の領域と、被洗浄材料が洗浄される第2の領域と、被洗浄材料が溶融される第3の領域と、第2の領域と第3の領域との間に設けられた流体抵抗とを有する洗浄装置、または本発明に係る洗浄装置の第1の領域に、結晶供給路を介して接続された結晶製造装置を含む、精製装置に関する。
【0060】
また、本発明に係る精製装置の好ましい実施形態によれば、結晶製造装置と洗浄装置との間に、例えば、結晶懸濁液の熟成または均質化のための滞在容器(dwell−time container)が、設けられていてもよい。
【0061】
本発明に係る精製装置の別の実施形態によれば、フィルターによって分離された母液の、結晶懸濁液への、少なくとも部分的な帰路が設けられる。帰路は、供給装置の前後、好ましくは供給装置の後、特に好ましくは供給装置と固液分離との間に設けられることができる。
【0062】
本発明に係る精製装置のさらなる実施形態によれば、精製装置は、第3の領域で溶融した純粋製品の、第3の領域への、少なくとも部分的な帰路を含むことができる。
【0063】
また、本発明に係る精製装置の別の実施形態は、第3の領域で溶融した純粋製品の、流体抵抗への、少なくとも部分的な帰路を含む。
【0064】
また、本発明に係る精製装置のさらなる実施形態は、第3の領域に存在する結晶の渦を生じさせる、第3の領域で溶融した純粋製品の、第3の領域への、少なくとも部分的な帰路を含む。
【0065】
精製装置内の、主要な流れ及び帰路並びに流体抵抗の開口部の変更は、好ましくは統合型マルチ温度センサーまたはマルチ抵抗温度計によって、少なくとも1つの位置で得られるデータに基づいて、制御される。好ましくは、マルチ温度センサーは、結晶床の中央部に配置され、好ましくは回転対称である。この制御は、可能な限り均一な被洗浄材料の流れと、可能な限り高い分離性能を得るために役立つ。これは、特に、温度測定に基づいて制御される、主要な流れと帰路によって達成され、それによって、洗浄先端部の位置が決定される。また、洗浄カラムにおける圧力条件を、制御することもできる。この点に関する詳細は、ドイツ特許出願公開第100 39 025 A1号、ドイツ特許出願公開第100 36 880 A1号、ドイツ特許出願公開第100 36 881号に記載されており、これらの開示内容は本願の開示の一部をなすものとする。複数の計測プローブによって引き起こされる結晶床の非均質性は、洗浄先端部の位置を制御することによって防止される。
【0066】
また、本発明によれば、少なくとも2つの本発明に係る精製装置が、直列または並列に接続されて配置されることが好ましい。接続配置及びそれに使用される精製装置または洗浄装置の数は、対象製品の精製要求と精製可能性によって決定される。
【0067】
また、本発明は、合成装置、好ましくは反応器と、上に定義した精製装置とを含む合成装置に関する。アクリル酸及びメタクリル酸の合成並びに結晶製造装置及び洗浄装置の好ましい組み合わせに関しては、国際公開第WO02/055469号を参照し、その開示内容は本明細書の開示の一部をなすものとする。本発明に係る一実施形態では、合成装置は、気相酸化合成装置であることが好ましい。重合性材料、特に、モノマーとしてのアクロレイン、(メタ)アクリル酸、特にアクリル酸の製造に関しては、「Stets geforscht、アクロレインと誘導体(Acrolein and derivatives), 第1巻及び第2巻, Chemieforschung im Degussa Forschungszentrum Wolfgang 1988年,108〜126頁」を参照し、その開示内容は本明細書の開示の一部をなすものとする。
【0068】
また、本発明は、被洗浄材料の精製方法であって、被洗浄材料を、上に定義した洗浄装置の第1の領域を介して供給する方法に関する。
【0069】
本発明に係る方法の好ましい実施形態では、被洗浄材料は、少なくとも20重量%、好ましくは少なくとも50重量%、特に好ましくは少なくとも85重量%の対象製品、好ましくはアクリル酸を含む。
【0070】
また、本発明は、食料、ポリマー、燃料、潤滑剤、洗浄剤、染料または薬品の製造における、本発明に係る方法によって得られる対象製品の使用に関する。
【0071】
最後に、本発明は、食料、モノマー、燃料、溶媒などの対象製品の精製、排水処理または異性体分離における、本発明に係る洗浄装置または本発明に係る精製装置の使用に関する。
【0072】
食品としては、飲料が好ましい。モノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、スチレン、メチルメタクリレート、ブチルアクリレート、安息香酸、ビスフェノールA、カプロラクタム、脂肪酸、モノクロロ酢酸、メチルジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、ナフタレン、パラフィン、p−、o−またはm−ジクロロベンゼン、p−キシレン、フタリド、これらの誘導体またはこれらの塩が好ましい。燃料としては、ヒドラジンまたはディーゼルが好ましい。
【0073】
本発明を、本発明を限定するものではない図面を参照してさらに詳細に説明する。
【0074】
図1は、供給手段61、好ましくは供給螺旋を備えた第1の領域1と、第2の領域2と、第3の領域3とからなる洗浄装置を示す。被洗浄材料4を含む第2の領域2と第3の領域3との間には、固定された流体抵抗6が設けられている。流体抵抗は、開口部10を有する隔壁である。流体抵抗は、製品流帰路26をさらに有し、流体帰路26によって、溶融した対象製品が流体抵抗6に導入され、開口部10から排出される。流体抵抗は、様々な計測位置30を有するマルチ温度センサー29を収容するための、穴31をさらに有する。第2の領域2は、洗浄カラム53を形成している。洗浄カラム53は、第2の領域2と同様に、第2の領域2の中央縦軸5が内部を通過する、回転対称のパイプであることが好ましい。洗浄カラム53の壁は、可能な限り滑らかな表面を有する。洗浄カラム53は、直線矢印の方向に、洗浄カラム53の内部を流れる、結晶床32を含む。結晶床32の流れ方向とは逆に、洗浄液33が、蛇行矢印の方向に従って結晶床内を流れる。第1の領域1と第2の領域2との間には、フィルター抽出ライン8を備えたフィルター7が設けられている。フィルター7の壁9は、洗浄カラム53の壁に隣接している。被洗浄材料4に面しているフィルター7の壁は、篩を有する円錐有孔板であり、第2の領域2の中央縦軸に対して、0°<α<90°の角度αで配置されている。したがって、洗浄カラム53は、一端において流体抵抗6で終端し、他端においては、被洗浄材料供給部52のための第1の領域への開口部を除き、フィルター7で終端している。第1の領域1は、パイプ状の被洗浄材料供給部52を有し、三脚28によって、マルチ温度センサー29が固定されている。第3の領域3は溶融装置54を有し、溶融装置54は、製品巡回溶融物帰路の開口を有し、溶融装置54から製品巡回懸濁液帰路が出ている。この段落で説明した洗浄装置は、図1に示すように、第1の領域1が下部に配置されるように運転される。ただし、反対に、洗浄装置は、被洗浄材料が、第1の領域1を介して上方から供給されるように、運転され得る。
【0075】
図2において、必要に応じて挿入された冷却装置を有する、反応器内で生成された原料は、原料ライン55を介して、被洗浄材料が、結晶懸濁液の形態で生成される、結晶製造装置13に供給される。結晶懸濁液は、結晶排出路48を介して滞在容器49に送られ、滞在容器排出路50を介して、被洗浄材料/懸濁液の供給装置51に供給される。結晶懸濁液は、被洗浄材料供給部52を介して、フィルター7を通過し、洗浄カラム53に入り、流体抵抗6を介して、溶融装置54に入り、次に、熱交換器17に向かう製品巡回懸濁液帰路15に入り、製品巡回ポンプ18を通過し、製品巡回溶融物帰路19を介して、溶融装置54に戻るか、製品流帰路26を介して、流体抵抗6に戻る。戻される対象製品の量は、製品出口を制御する、圧力バルブ20によって決定される。圧力バルブ20は、マルチポイント調節手段によって、マルチ熱素子30を介して制御され、それにより、保持され、戻される対象製品の量を変化させることによって、洗浄カラムにおける洗浄先端部の高さを調節する。精製された対象製品は、純粋製品出口21を介して、精製装置から排出される。純粋製品出口21に続いて、さらなる精製装置が設けられていてもよく、純粋製品出口21から排出された純粋製品は、最初に、さらなる図2に示すような精製装置の構成要素に続く、さらなる結晶製造装置に通されるか、又は少なくともその一部が、元の結晶製造装置13に戻されるかのどちらか、あるいは両方である。濾液22の一部は、濾液帰路ポンプ24によって動作する、第1の濾液帰路23を介して、そして、第2の濾液帰路25を通過し、滞在容器排出路50を通って、被洗浄材料に供給される。本発明に係る精製装置の好ましい接続配置に関しては、国際公開第WO02/055469号を参照し、その開示内容は本明細書の開示の一部をなすものとする。また、濾液22の少なくとも一部は、破線によって示される導管に従って、供給装置51の供給側に供給され得る。この手段によって、被洗浄材料または懸濁液の供給流れの調節を、全流量とは関係なく行うことができるようになる。また、製品巡回熱交換器17の上流では、抑制剤供給路16を介して供給される抑制剤が、抑制剤計測装置58によって、対象製品に添加され得る。これは、対象製品が既に極めて純粋であり、そのために、望ましくない自然発生的な反応が生じる傾向がある場合には、常に望ましい。また、参照番号15,17,18,19によって形成される回路を、対象製品を含有する溶融物が移動することによって、対象製品を含有する結晶が溶融され得る。
【0076】
図3は、隔壁の形態の流体抵抗を示す。図3では、隔壁は、2つの開口部10を有し、開口部10の第2の領域に面するA断面11が、第3の領域に面するB断面12よりも大きくなっている。開口部10は、第2の領域から見て、一端においてA断面11を有し、他端においてB断面12を有する、円錐穴57を有する。円錐穴57のB断面12に続いて、B断面12を有する平行穴56が設けられている。結晶床32の結晶59は、開口部10内を直線矢印の方向に沿って移動する。洗浄液33は、蛇行矢印の向きに沿って逆方向に流れる。隔壁6の形態である流体抵抗を加熱するために、流体抵抗は、温度変化媒体入口34と温度変化媒体出口35とを含む。また、製品は、製品流帰路26を介して、開口部10に到達し、そして、隔壁の形態の流体抵抗6の、第2の領域2に面する側に到達する。製品流帰路21を介して流体抵抗6に戻された、対象製品を含有する溶融物は、穴31を介して、洗浄のために、結晶59に供給される。また、マルチ熱素子30は、穴31を通ることができる。
【0077】
図4は、グリッドの形態の流体抵抗6を示し、開口部10は、支柱36によって形成されている。グリッド37は、加熱装置38によって加熱される。支柱36は格子の一部である。この段落の説明では、支柱36は中空形状を有し、加熱/冷却剤が、形成されている中空空間を通過し、加熱が、好ましくは溶融された結晶の過熱を引き起こすことなく加熱が行われる。この段落に示す実施形態によって、流体抵抗6が加熱される。さらなる参照番号に関しては、前述の図面に関する説明を参照するものとする。
【0078】
図5は、可変断面を備えた開口部10を有する流体抵抗6を示す。流体抵抗6は、固定された下部有孔板39と、下部有孔板39と相対的に回転できる有孔板42とを有し、有孔板42は、駆動コイル45を有するリング磁石44によって、マルチ温度センサーガイド46の周りを移動させることができる。さらなる参照番号に関しては、前述の図面に関する説明を参照するものとする。
【0079】
図6は流体抵抗6の上面図を示す。流体抵抗6は複数の穴10を有し、各穴10は、凸状の円錐穴57を有する。また、流体抵抗のこの部分が、穴31を有する。
【0080】
図7は、図6に示す流体抵抗6の一部のI/I’軸に沿った断面である。流体抵抗は開口部10,31を有する。開口部10は、凸状穴60と平行穴56から形成され、これらは流体抵抗6の一部の表面に対して、実質的に直角に構成されている。
【0081】
実施例を参照して、さらに詳細に本発明を説明するが、これらは、本発明を限定するものではない。
【実施例】
【0082】
(実施例1)
(水処理)
結晶製造装置13としてGMF−Gouda B.V.製の冷却ディスク結晶化装置(100リットル)を有する図2に係る装置において、10重量%酢酸/水混合物を結晶化装置に導入した。結晶化熱は、冷却ディスク結晶化装置の冷却面を介して除去した。使用した混合物の平衡温度は3.5℃だった。結晶化によって得た懸濁液(懸濁液密度:約30重量%、−3.5℃の結晶化温度に相当)を、Netzsch GmbH製の偏心螺旋ポンプ(150リットル/時間の最大供給性能)を使用して、滞在容器49を介して、円錐フィルター7(フィルター材料:1.4571、メッシュサイズ:250μm、下部直径:27.7mm、上部直径:80.5mm)及び図3に係る流体抵抗(高さ:60mm、9つの14mmの貫通穴)を有する図1に係る洗浄装置(内径:82mm、長さ:550mm)に連続的に供給した。
【0083】
逆流洗浄を発生させるために、総体積流量の約20重量%を、純粋製品出口21を介して取り除き、上方へ移動する溶融した結晶床の結晶の一部を、結晶床に戻した。それによって、洗浄カラムの先端における酢酸の濃度を、2.8重量%に減少させることができた。
【0084】
(実施例2)
100リットルの冷却ディスク結晶化装置(GMF−Gouda B.V.製)を有する図2に係る装置に、表1に示す組成を有するアクリル酸混合物を導入した。
【0085】
【表1】
【0086】
MEHQ:メチルエチルヒドロキノン
HQ:ヒドロキノン
PZ:フェノチアジン
D−アクリル酸:アクリル酸二量体
MA:マレイン酸無水物
【0087】
結晶化熱は、冷却ディスク結晶化装置の冷却面を介して取り除いた。使用した混合物の平衡温度は5℃だった。結晶化によって得た懸濁液(懸濁液密度:約20重量%、2℃の結晶化温度に相当)を、Netzsch GmbH製の偏心螺旋ポンプ(300リットル/時間の最大供給性能)を使用して、滞在容器を介して、円錐フィルター7(フィルター材料:1.4571、メッシュサイズ:250μm、下部直径:27.7mm、上部直径:80.5mm)及び図4に係る流体抵抗(ワイヤ支柱厚み:0.5mm、メッシュサイズ:1.5mm)を有する図1に係る洗浄装置(内径:82mm、長さ:520mm)に供給した。
【0088】
逆流洗浄を発生させるために、純粋製品出口21を完全に閉じ、上方へ移動する溶融した結晶床の結晶の全部を、結晶床に戻した。24時間後に、洗浄カラムの先端で、表2に示す組成を有する純粋なアクリル酸を得た。
【0089】
【表2】
【0090】
MEHQ:メチルエチルヒドロキノン
HQ:ヒドロキノン
PZ:フェノチアジン
D−アクリル酸:アクリル酸二量体
MA:マレイン酸無水物
n.d.:計測限界未満
【0091】
表2は、本発明に係る洗浄装置を使用することにより、アクリル酸を、高い純度に精製することができることを示している。精製によって得られた濾液は表3に示す組成を有していた。
【0092】
【表3】
【0093】
MEHQ:メチルエチルヒドロキノン
HQ:ヒドロキノン
PZ:フェノチアジン
D−アクリル酸:アクリル酸二量体
MA:マレイン酸無水物
【0094】
濃度は、ガスクロマトグラフィーによって測定した。水の濃度は、ASTM D 1364に従って測定し、抑制剤の濃度はASTM D 3125に従って測定した。
【0095】
実施例2は、本発明に係る方法に使用される本発明に係る装置による明らかな精製を示している。表1と表2を比較すると、対象製品であるアクリル酸を除き、全ての不純物の濃度が減少した。
【図面の簡単な説明】
【0096】
【図1】本発明に係る洗浄装置の断面図である。
【図2】本発明に係る精製装置の構造を示す。
【図3】隔壁の形態の本発明に係る流動抵抗の断面図である。
【図4】本発明に係る流動抵抗としてのグリッドの断面図及び部分上面図である。
【図5】本発明に係る流動抵抗としての、調節可能な断面を有する隔壁の断面図及び部分上面図である。
【図6】流体抵抗6の上面図を示す。
【図7】図6のI/I’軸に沿った隔壁断面の図である。
【符号の説明】
【0097】
1 第1の領域
2 第2の領域またはカラム2a
3 第3の領域
4 被洗浄材料
5 第2の領域の中央縦軸
6 流体抵抗
7 フィルター
8 フィルター抽出ライン
9 壁
10 開口部
11 A断面
12 B断面
13 結晶製造装置
14 合成装置
15 懸濁液帰路
16 抑制剤供給路
17 熱交換器
18 ポンプ
19 溶融物帰路
20 圧力制御バルブ・製品出口
21 純粋製品出口
22 濾液
23 第1の濾液帰路
24 濾液帰路ポンプ
25 第2の濾液帰路
26 製品流帰路
27 篩を有する円錐有孔板
28 三脚
29 マルチ温度センサー
30 マルチ熱素子またはマルチ抵抗温度計
31 穴
32 結晶床
33 洗浄液
34 温度変化媒体入口
35 温度変化媒体出口
36 支柱
37 様々なメッシュサイズのグリッド
38 加熱装置
39 下側有孔板
40 開口部,下側有孔板
41 開口部面取
42 上側有孔板
43 開口部,上側有孔板
44 リング磁石
45 駆動コイル
46 マルチ温度センサーガイド
47 自由断面
48 結晶排出路
49 滞在容器
50 滞在容器排出路
51 被洗浄材料/懸濁液の供給装置
52 被洗浄材料供給部
53 洗浄カラム
54 溶融装置
55 原料ライン
56 平行穴
57 円錐穴
58 抑制剤計測装置
59 結晶
60 凸状穴
61 供給手段または供給螺旋
Claims (20)
- 被洗浄材料(4)が供給される第1の領域(1)と、
前記被洗浄材料(4)が洗浄される第2の領域(2)と、
前記被洗浄材料(4)が溶融される第3の領域(3)と、
前記第1の領域(1)と前記第2の領域(2)との間に設けられた、濾液抽出ライン(8)を有する固液分離装置と、
前記第2の領域(2)と前記第3の領域(3)との間に設けられた流体抵抗(6)と、
を有し、
前記第2の領域(2)は少なくとも部分的にカラム(2a)の形状であり、前記カラムは少なくとも300mmの直径を有することを特徴とする洗浄装置。 - 被洗浄材料(4)が供給される第1の領域(1)と、
前記被洗浄材料(4)が洗浄される第2の領域(2)と、
前記被洗浄材料(4)が溶融される第3の領域(3)と、
前記第2の領域(2)と前記第3の領域(3)との間に設けられた流体抵抗(6)と、
を有し、
前記第2の領域(2)は少なくとも部分的にカラム(2a)の形状であり、前記カラムは少なくとも300mmの直径を有し、
前記流体抵抗(6)は、前記流体抵抗の合計面積に対して、0%より大きく100%より小さい範囲の比自由断面積を有するとともに、前記比自由断面積が可変であることを特徴とする洗浄装置。 - 被洗浄材料(4)が供給される第1の領域(1)と、
前記被洗浄材料(4)が洗浄される第2の領域(2)と、
前記被洗浄材料(4)が溶融される第3の領域(3)と、
前記第2の領域(2)と前記第3の領域(3)との間に設けられた流体抵抗(6)と、
を有し、
前記第2の領域(2)は少なくとも部分的にカラム(2a)の形状であり、前記カラムは少なくとも300mmの直径を有し、
前記流体抵抗(6)は、前記流体抵抗の合計面積に対して、0%より大きく100%より小さい範囲の比自由断面積を有するとともに、調節可能な穴が設けられている流体抵抗であることを特徴とする洗浄装置。 - 前記流体抵抗は、前記第2の領域(2)の中央縦軸(5)の周りに、回転できないように配置されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の洗浄装置。
- 前記固液分離装置は、前記第2の領域(2)に隣接する壁(9)に設けられたフィルター(7)であることを特徴とする請求項1に記載の洗浄装置。
- 前記壁(9)は、中央縦軸(5)に対して0°より大きく90°より小さい範囲の角度αで配置されていることを特徴とする請求項5に記載の洗浄装置。
- 前記流体抵抗(6)は、少なくとも1つの開口部(10)を有することを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の洗浄装置。
- 無脈動供給手段(61)が、前記第1の領域(1)の上流または前記第1の領域の少なくとも一部に設けられていることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の洗浄装置。
- 前記無脈動供給手段(61)が、供給螺旋(61)を有することを特徴とする請求項8に記載の洗浄装置。
- 請求項1〜9のいずれかに記載の洗浄装置の、前記第1の領域(1)に、結晶供給路を介して接続された、結晶製造装置(13)を含むことを特徴とする精製装置。
- 被洗浄材料(4)が供給される第1の領域(1)と、
前記被洗浄材料(4)が洗浄される第2の領域(2)と、
前記被洗浄材料(4)が溶融される第3の領域(3)と、
前記第1の領域(1)と前記第2の領域(2)との間に設けられた、濾液抽出ライン(8)を有する固液分離装置と、
前記第2の領域(2)と前記第3の領域(3)との間に設けられた流体抵抗(6)と、
を有する洗浄装置の、前記第1の領域(1)に、結晶供給路を介して接続された、結晶製造装置(13)を含むことを特徴とする精製装置。 - 被洗浄材料(4)が供給される第1の領域(1)と、
前記被洗浄材料(4)が洗浄される第2の領域(2)と、
前記被洗浄材料(4)が溶融される第3の領域(3)と、
前記第2の領域(2)と前記第3の領域(3)との間に設けられた流体抵抗(6)とを有し、
前記流体抵抗(6)は、前記流体抵抗の合計面積に対して、0%より大きく100%より小さい範囲の比自由断面積を有するとともに、前記比自由断面積が可変である洗浄装置の、前記第1の領域(1)に、結晶供給路を介して接続された、結晶製造装置(13)を含むことを特徴とする精製装置。 - 被洗浄材料(4)が供給される第1の領域(1)と、
前記被洗浄材料(4)が洗浄される第2の領域(2)と、
前記被洗浄材料(4)が溶融される第3の領域(3)と、
前記第2の領域(2)と前記第3の領域(3)との間に設けられた流体抵抗(6)とを有し、
前記流体抵抗(6)は、前記流体抵抗の合計面積に対して、0%より大きく100%より小さい範囲の比自由断面積を有するとともに、調節可能な穴が設けられている流体抵抗である洗浄装置の、前記第1の領域(1)に、結晶供給路を介して接続された、結晶製造装置(13)を含むことを特徴とする精製装置。 - 滞在容器(49)が、前記結晶製造装置(13)と前記洗浄装置との間に設けられていることを特徴とする請求項10〜13のいずれかに記載の精製装置。
- 合成装置(14)と、該合成装置(14)の下流に設けられた請求項10〜14のいずれかに記載の精製装置と、を含むことを特徴とする合成装置。
- 前記合成設備(14)は、気相酸化合成装置であることを特徴とする、請求項15に記載の合成装置。
- 被洗浄材料の精製方法であって、前記被洗浄材料を、請求項1〜9のいずれかに記載の洗浄装置の、前記第1の領域(1)を介して供給し、対象製品を得ることを特徴とする精製方法。
- 前記被洗浄材料が、少なくとも20重量%の前記対象製品を含むことを特徴とする請求項17に記載の精製方法。
- 食料、モノマー、燃料、溶媒の製造、排水処理または異性体分離における、請求項1〜9のいずれかに記載の洗浄装置の使用。
- 食料、モノマー、燃料、溶媒の製造、排水処理または異性体分離における、請求項10〜14のいずれかに記載の精製装置の使用。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10242746A DE10242746B4 (de) | 2002-09-13 | 2002-09-13 | Waschvorrichtung, ein Verfahren zur Aufreinigung eines Waschguts sowie die Verwendung der Waschvorrichtung |
PCT/EP2003/010251 WO2004026429A1 (de) | 2002-09-13 | 2003-09-15 | Waschvorrichtung, ein verfahren zur aufreinigung eines waschguts sowie die verwendung der waschvorrichtung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005537930A JP2005537930A (ja) | 2005-12-15 |
JP4520302B2 true JP4520302B2 (ja) | 2010-08-04 |
Family
ID=31724765
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004537091A Expired - Lifetime JP4520302B2 (ja) | 2002-09-13 | 2003-09-15 | 洗浄装置、被洗浄材料の精製方法及び洗浄装置の使用 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8252120B2 (ja) |
EP (1) | EP1536871B1 (ja) |
JP (1) | JP4520302B2 (ja) |
CN (1) | CN100381191C (ja) |
AU (1) | AU2003273881A1 (ja) |
BR (1) | BR0314256B1 (ja) |
DE (1) | DE10242746B4 (ja) |
TW (1) | TW200422095A (ja) |
WO (1) | WO2004026429A1 (ja) |
ZA (1) | ZA200501766B (ja) |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8211319B2 (en) * | 2003-09-16 | 2012-07-03 | Bp Corporation North America Inc. | Solid-liquid separation process |
DE102004005863A1 (de) * | 2004-02-05 | 2005-09-08 | Stockhausen Gmbh | Reaktor mit einem einen Einsatz aufweisenden Wärmetauscherbereich |
DE102004034316B4 (de) | 2004-07-15 | 2015-07-16 | Evonik Degussa Gmbh | Ein Verfahren zur Herstellung von (Meth)Acrylsäure |
JP4845172B2 (ja) | 2005-03-30 | 2011-12-28 | 月島機械株式会社 | 有機化合物の断熱冷却式晶析方法及び装置 |
DE102005039156B4 (de) | 2005-08-17 | 2014-12-24 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von (Meth)Acrylsäure mit Schwersiedeaufarbeitung durch Kristallisation |
DE102005040655A1 (de) * | 2005-08-26 | 2007-03-01 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von angereichertem Isopulegol |
DE102006039203B4 (de) | 2006-08-22 | 2014-06-18 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von durch Kristallisation gereinigter Acrylsäure aus Hydroxypropionsäure sowie Vorrichtung dazu |
WO2008113387A1 (en) * | 2007-03-20 | 2008-09-25 | Larox Oy | Process for separating a mixture containing salt |
DE102008020688B3 (de) * | 2008-04-24 | 2009-11-05 | Evonik Stockhausen Gmbh | Verfahren zur Herstellung und Aufreinigung wässriger Phasen |
US8530716B2 (en) * | 2008-08-14 | 2013-09-10 | Bp Corporation North America Inc. | Melt-crystallization separation and purification process |
JP5336794B2 (ja) * | 2008-09-04 | 2013-11-06 | 三菱レイヨン株式会社 | 原料粗結晶の精製方法 |
EP2248569A1 (en) * | 2009-05-06 | 2010-11-10 | Nederlandse Organisatie voor toegepast -natuurwetenschappelijk onderzoek TNO | Wash column |
CN101979389B (zh) * | 2010-10-28 | 2013-05-22 | 西北大学 | 一种丙交酯的分离装置 |
DE102011076931A1 (de) | 2011-06-03 | 2012-12-06 | Basf Se | Wässrige Lösung, enthaltend Acrylsäure und deren konjugierte Base |
MY161504A (en) * | 2011-09-16 | 2017-04-14 | Evonik Roehm Gmbh | Process for preparation of methacrylic acid and methacrylic acid esters |
KR20140060529A (ko) * | 2011-09-16 | 2014-05-20 | 에보니크 룀 게엠베하 | 메타크릴산 및 메타크릴산 에스테르의 제조 방법 |
CA2816430C (en) | 2012-05-18 | 2020-09-01 | Mogilevsky, Margalit | Apparatus and process for concentrating a separable component of a slurry |
CN104059018B (zh) * | 2013-10-28 | 2016-10-26 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种己内酰胺的纯化方法和装置 |
DE102013225703A1 (de) | 2013-12-12 | 2015-06-18 | Evonik Industries Ag | Epoxyterminiertes Polybutadien als Sauerstoff-Fänger |
EP3235805B1 (de) | 2016-04-19 | 2018-07-04 | Evonik Degussa GmbH | Kopplung der destillativen aufreinigung mit einem partialkondensator zur vorreinigung von isophorondiamin |
ES2711544T3 (es) | 2016-07-27 | 2019-05-06 | Evonik Degussa Gmbh | Separación de componentes de bajo punto de ebullición así como reducción del contenido en amoniaco en la isoforondiamina mediante condensación parcial |
EP3292898A1 (en) * | 2016-09-12 | 2018-03-14 | Sulzer Chemtech AG | Wash column apparatus with a static grid element for the use in a suspension crystallization process |
CN108480297B (zh) * | 2018-03-12 | 2020-12-11 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 文物除盐井 |
CN109107221A (zh) * | 2018-08-21 | 2019-01-01 | 金发科技股份有限公司 | 一种固液萃取纯化装置及纯化方法 |
Family Cites Families (37)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
USRE24038E (en) * | 1955-07-19 | arnold | ||
US2540083A (en) * | 1945-12-29 | 1951-02-06 | Phillips Petroleum Co | Continuous extractive crystallization process |
US2770533A (en) * | 1952-12-01 | 1956-11-13 | Phillips Petroleum Co | Crystal purification apparatus control |
GB1246277A (en) * | 1967-12-29 | 1971-09-15 | Benzole Producers Ltd | Improvements in the crystallisation of substances |
DE1794084C3 (de) * | 1968-09-04 | 1973-10-25 | Union Rheinische Braunkohlen Kraftstoff Ag, 5047 Wesseling | Vorrichtung zum kontinuierlichen Gewinnen von Kristallen aus einer Schmelze oder Losung |
AU416845B2 (en) * | 1968-09-18 | 1971-08-27 | Union Carbide Australia Limited | Solid-liquid continuous countercurrent purifier |
US3637081A (en) * | 1970-04-09 | 1972-01-25 | Puredesal Inc | Liquid treatment system |
CA960019A (en) | 1970-06-26 | 1974-12-31 | Henricus A.C. Thijssen | Apparatus for the separation and treatment of solid particles from a liquid suspension |
US3777892A (en) * | 1971-01-27 | 1973-12-11 | H Thijssen | Apparatus for the separation and treatment of solid particles from a liquid suspension |
US3872009A (en) * | 1971-06-25 | 1975-03-18 | Henricus Alexis Corne Thijssen | Apparatus for the separation and treatment of solid particles from a liquid suspension |
NL173601C (nl) | 1972-09-26 | 1984-02-16 | Grasso Koninkl Maschf | Inrichting voor het scheiden en zuiveren van vaste stoffen uit een suspensie en voor het uitlogen van vaste deeltjes. |
JPS5225393B2 (ja) * | 1971-07-23 | 1977-07-07 | ||
US4332599A (en) * | 1977-01-12 | 1982-06-01 | Douwe Egberts Koninklijke, Tabaksfabriek-Koffiebranderijen - Theehandel B.V. | Continuous packed bed wash column |
GB1589477A (en) * | 1977-01-12 | 1981-05-13 | Douwe Egberts Tabaksfab | Freeze concentration apparatus |
ZA792809B (en) | 1978-06-23 | 1980-06-25 | Douwe Egberts Tabaksfab | Continuous packed bed wash column |
JPS56100736A (en) * | 1980-01-16 | 1981-08-12 | Tsukishima Kikai Co Ltd | Purifying method of monochloroacetic acid |
JPS56139103A (en) * | 1980-03-31 | 1981-10-30 | Yoshio Aoyama | Crystallization of purified crystal |
US4309878A (en) * | 1980-08-22 | 1982-01-12 | Koppers Company, Inc. | Process and apparatus for separating and purifying a crystalline material |
DE3049196A1 (de) * | 1980-12-24 | 1982-07-29 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur herstellung von granulaten aus organischen in form einer schmelze vorliegenden stoffen |
NL8202517A (nl) * | 1982-06-22 | 1984-01-16 | Tno | Inrichting voor het verdichten van een suspensie. |
NL8402536A (nl) | 1984-08-17 | 1986-03-17 | Tno | Werkwijze voor het afscheiden van suspensievloeistof van in een suspensie aanwezige vaste stofdeeltjes en wassen van het verkregen samengepakte bed van vaste stofdeeltjes met een wasvloeistof in tegenstroom. |
NL8403559A (nl) * | 1984-11-23 | 1986-06-16 | Stamicarbon | Werkwijze en inrichting voor het zuiveren van benzoezuur. |
EP0191194A1 (en) * | 1985-02-15 | 1986-08-20 | Gist-Brocades N.V. | Apparatus and process for separating solid particles from a liquid suspension and/or for the purification or leaching of solid particles |
NL8600461A (nl) * | 1986-02-24 | 1987-09-16 | Percy Cohen Henriquez | Statische waskolom. |
US4830645A (en) * | 1988-03-09 | 1989-05-16 | Nestec S.A. | Freeze concentration system and method |
NL8803060A (nl) * | 1988-12-14 | 1990-07-02 | Grasso Koninkl Maschf | Inrichting voor het continu afscheiden van kristallen uit een moederloog en voor het wassen van de kristallen. |
JPH03186303A (ja) * | 1989-12-16 | 1991-08-14 | Shigeru Saito | 冷却結晶精製装置 |
JPH0487601A (ja) * | 1990-07-27 | 1992-03-19 | Kobe Steel Ltd | 物質の連続式分離精製方法ならびにその装置 |
US5406641A (en) * | 1993-06-15 | 1995-04-11 | Rohm And Haas Company | Flexible light pipe, cured composite and processes for preparation thereof |
NL1007687C2 (nl) * | 1997-12-03 | 1999-06-09 | Niro Process Technology Bv | Inrichting voor het scheiden en zuiveren van vaste stoffen. |
DE19829477A1 (de) * | 1998-07-01 | 2000-01-05 | Basf Ag | Verfahren zur Reinigung von Acrylsäure oder Methacrylsäure durch Kristallisation und Destillation |
JP4960562B2 (ja) * | 2000-04-11 | 2012-06-27 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 粗製アクリル酸溶融物の精製法 |
DE10039025A1 (de) * | 2000-08-10 | 2002-02-21 | Basf Ag | Verfahren zur Reinigung einer Rohacrylsäureschmelze |
DE10036881A1 (de) | 2000-07-28 | 2002-02-07 | Basf Ag | Verfahren zur Regelung einer Waschkolonne in einem Schmelzkristallisationsprozess und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
DE10036880A1 (de) | 2000-07-28 | 2002-02-07 | Basf Ag | Regelung einer Waschkolonne in einem Schmelzkristallisationsprozess |
EP1349826B1 (de) | 2001-01-12 | 2012-06-27 | Evonik Stockhausen GmbH | Kontinuierliches verfahren zur herstellung und aufreinigung von (meth) acrylsäure |
EP1295628A1 (en) * | 2001-09-19 | 2003-03-26 | Niro Process Technology B.V. | Hydraulic annular washing column, and process for separating solids from a suspension |
-
2002
- 2002-09-13 DE DE10242746A patent/DE10242746B4/de not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-09-15 CN CNB038217643A patent/CN100381191C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2003-09-15 JP JP2004537091A patent/JP4520302B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2003-09-15 AU AU2003273881A patent/AU2003273881A1/en not_active Abandoned
- 2003-09-15 US US10/527,519 patent/US8252120B2/en active Active
- 2003-09-15 WO PCT/EP2003/010251 patent/WO2004026429A1/de active Application Filing
- 2003-09-15 TW TW092125316A patent/TW200422095A/zh unknown
- 2003-09-15 EP EP03757844.0A patent/EP1536871B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-09-15 BR BRPI0314256-6A patent/BR0314256B1/pt active IP Right Grant
-
2005
- 2005-03-01 ZA ZA200501766A patent/ZA200501766B/en unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200422095A (en) | 2004-11-01 |
DE10242746A1 (de) | 2004-03-18 |
EP1536871A1 (de) | 2005-06-08 |
US20060013748A1 (en) | 2006-01-19 |
BR0314256B1 (pt) | 2012-12-25 |
ZA200501766B (en) | 2006-05-31 |
WO2004026429A1 (de) | 2004-04-01 |
AU2003273881A1 (en) | 2004-04-08 |
BR0314256A (pt) | 2005-07-26 |
AU2003273881A8 (en) | 2004-04-08 |
CN1681570A (zh) | 2005-10-12 |
US8252120B2 (en) | 2012-08-28 |
DE10242746B4 (de) | 2010-07-01 |
CN100381191C (zh) | 2008-04-16 |
JP2005537930A (ja) | 2005-12-15 |
EP1536871B1 (de) | 2016-04-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4520302B2 (ja) | 洗浄装置、被洗浄材料の精製方法及び洗浄装置の使用 | |
RU2417813C2 (ru) | Способ регулирования положения фронта нарастания кристаллического слоя в гидравлической промывной колонне | |
CA1220728A (en) | Apparatus for concentrating a suspension | |
US7557246B2 (en) | Method for the purification of (meth)acrylic acid | |
TWI519517B (zh) | 自母液中之丙烯酸晶體懸浮液s純化移除丙烯酸晶體的分離程序之起動方法 | |
JP2003530376A (ja) | 粗製アクリル酸溶融物の精製法 | |
JP2004535360A (ja) | (メタ)アクリル酸の精製方法及びその製造装置 | |
JP4124660B2 (ja) | 少なくとも1種のモノマーの精製された溶融物の製造方法 | |
Shen et al. | Recent advances in melt crystallization, towards process intensification and technique development | |
EP2394978A1 (en) | Process for production of (meth)acrylic acid | |
CN101786951B (zh) | 一种粗丙烯酸提纯的方法和设备 | |
WO2022054841A1 (ja) | 化合物の製造方法 | |
WO2022054840A1 (ja) | 精製装置 | |
WO2022255372A1 (ja) | 精製装置 | |
WO2022255369A1 (ja) | 熱交換器 | |
WO2022255364A1 (ja) | 易重合性化合物の製造方法 | |
JPS62167741A (ja) | 向流洗浄を行うための方法およびこの方法を実施するための多処理段から成るプラント |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060628 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090730 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20091028 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091113 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20091105 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091125 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100113 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100401 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100512 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100520 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130528 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4520302 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |