JP2005537930A - 洗浄装置、被洗浄材料の精製方法及び洗浄装置の使用 - Google Patents
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Abstract
Description
被洗浄材料が供給される第1の領域と、
被洗浄材料が洗浄される第2の領域と、
被洗浄材料が溶融される第3の領域と、
第2の領域と第3の領域との間に設けられた流体抵抗と、
を有する洗浄装置によって達成される。
被洗浄材料が供給される第1の領域と、
被洗浄材料が洗浄される第2の領域と、
被洗浄材料が溶融される第3の領域と、
第2の領域と第3の領域との間に設けられた流体抵抗と、
を有し、
第2の領域は少なくとも部分的にカラムの形状であり、カラムは少なくとも300mm、好ましくは700mm、さらに好ましくは1000mmの直径を有することを特徴とする洗浄装置に関する。通常、直径は8000mmまでに制限される。
(水処理)
結晶製造装置13としてGMF−Gouda B.V.製の冷却ディスク結晶化装置(100リットル)を有する図2に係る装置において、10重量%酢酸/水混合物を結晶化装置に導入した。結晶化熱は、冷却ディスク結晶化装置の冷却面を介して除去した。使用した混合物の平衡温度は3.5℃だった。結晶化によって得た懸濁液(懸濁液密度:約30重量%、−3.5℃の結晶化温度に相当)を、Netzsch GmbH製の偏心螺旋ポンプ(150リットル/時間の最大供給性能)を使用して、滞在容器49を介して、円錐フィルター7(フィルター材料:1.4571、メッシュサイズ:250μm、下部直径:27.7mm、上部直径:80.5mm)及び図3に係る流体抵抗(高さ:60mm、9つの14mmの貫通穴)を有する図1に係る洗浄装置(内径:82mm、長さ:550mm)に連続的に供給した。
100リットルの冷却ディスク結晶化装置(GMF−Gouda B.V.製)を有する図2に係る装置に、表1に示す組成を有するアクリル酸混合物を導入した。
HQ:ヒドロキノン
PZ:フェノチアジン
D−アクリル酸:アクリル酸二量体
MA:マレイン酸無水物
HQ:ヒドロキノン
PZ:フェノチアジン
D−アクリル酸:アクリル酸二量体
MA:マレイン酸無水物
n.d.:計測限界未満
HQ:ヒドロキノン
PZ:フェノチアジン
D−アクリル酸:アクリル酸二量体
MA:マレイン酸無水物
2 第2の領域またはカラム2a
3 第3の領域
4 被洗浄材料
5 第2の領域の中央縦軸
6 流体抵抗
7 フィルター
8 フィルター抽出ライン
9 壁
10 開口部
11 A断面
12 B断面
13 結晶製造装置
14 合成装置
15 懸濁液帰路
16 抑制剤供給路
17 熱交換器
18 ポンプ
19 溶融物帰路
20 圧力制御バルブ・製品出口
21 純粋製品出口
22 濾液
23 第1の濾液帰路
24 濾液帰路ポンプ
25 第2の濾液帰路
26 製品流帰路
27 篩を有する円錐有孔板
28 三脚
29 マルチ温度センサー
30 マルチ熱素子またはマルチ抵抗温度計
31 穴
32 結晶床
33 洗浄液
34 温度変化媒体入口
35 温度変化媒体出口
36 支柱
37 様々なメッシュサイズのグリッド
38 加熱装置
39 下側有孔板
40 開口部,下側有孔板
41 開口部面取
42 上側有孔板
43 開口部,上側有孔板
44 リング磁石
45 駆動コイル
46 マルチ温度センサーガイド
47 自由断面
48 結晶排出路
49 滞在容器
50 滞在容器排出路
51 被洗浄材料/懸濁液の供給装置
52 被洗浄材料供給部
53 洗浄カラム
54 溶融装置
55 原料ライン
56 平行穴
57 円錐穴
58 抑制剤計測装置
59 結晶
60 凸状穴
61 供給手段または供給螺旋
Claims (20)
- 被洗浄材料(4)が供給される第1の領域(1)と、
前記被洗浄材料(4)が洗浄される第2の領域(2)と、
前記被洗浄材料(4)が溶融される第3の領域(3)と、
前記第2の領域(2)と前記第3の領域(3)との間に設けられた流体抵抗(6)と、
を有し、
前記第2の領域(2)は少なくとも部分的にカラム(2a)の形状であり、前記カラムは少なくとも300mmの直径を有することを特徴とする洗浄装置。 - 前記流体抵抗は、前記第2の領域(2)の中央縦軸(5)の周りに、回転できないように配置されていることを特徴とする、請求項1に記載の洗浄装置。
- 前記第1の領域(1)と前記第2の領域(2)との間に、濾液抽出ライン(8)を有する固液分離装置、好ましくは濾液抽出ライン(8)を有するフィルター(7)が設けられていることを特徴とする、請求項1または2に記載の洗浄装置。
- 前記固液分離装置は、前記第2の領域(2)に隣接する壁(9)に設けられたフィルター(7)であることを特徴とする、請求項3に記載の洗浄装置。
- 前記壁(9)は、中央縦軸(5)に対して0°より大きく90°より小さい範囲の角度αで配置されていることを特徴とする、請求項4に記載の洗浄装置。
- 前記流体抵抗(6)は、少なくとも1つの開口部(10)を有することを特徴とする、前記請求項のいずれかに記載の洗浄装置。
- 前記流体抵抗(6)は、前記流体抵抗の合計面積に対して、0%より大きく100%より小さい範囲の比自由断面積を有することを特徴とする、前記請求項のいずれかに記載の洗浄装置。
- 前記自由断面積は、可変であることを特徴とする、請求項7に記載の洗浄装置。
- 前記流体抵抗(6)は、調節することができることを特徴とする請求項7または8に記載の洗浄装置。
- 無脈動供給手段(61)が、前記第1の領域(1)の上流または前記第1の領域の少なくとも一部に設けられていることを特徴とする前記請求項のいずれかに記載の洗浄装置。
- 前記無脈動供給手段(61)が、供給螺旋(61)を有することを特徴とする、請求項10に記載の洗浄装置。
- 被洗浄材料(4)が供給される第1の領域(1)と、
前記被洗浄材料(4)が洗浄される第2の領域(2)と、
前記被洗浄材料(4)が溶融される第3の領域(3)と、
前記第2の領域(2)と前記第3の領域(3)との間に設けられた流体抵抗(6)と、
を有する洗浄装置または前記請求項のいずれかに記載の洗浄装置の、前記第1の領域(1)に、結晶供給路を介して接続された、結晶製造装置(13)を含むことを特徴とする精製装置。 - 被洗浄材料(4)が供給される第1の領域(1)と、
前記被洗浄材料(4)が洗浄される第2の領域(2)と、
前記被洗浄材料(4)が溶融される第3の領域(3)と、
前記第2の領域(2)と前記第3の領域(3)との間に設けられた流体抵抗(6)と、
を有する洗浄装置の、前記第1の領域(1)に、結晶供給路を介して接続された、結晶製造装置(13)を含むことを特徴とする精製装置。 - 滞在容器(49)が、前記結晶製造装置(13)と前記洗浄装置との間に設けられていることを特徴とする請求項12または13に記載の精製装置。
- 合成装置(14)と、該合成装置(14)の下流に設けられた請求項12〜14のいずれかに記載の精製装置と、を含むことを特徴とする合成装置。
- 前記合成装置(14)は、気相酸化合成装置であることを特徴とする、請求項15に記載の合成装置。
- 被洗浄材料の精製方法であって、前記被洗浄材料を請求項1〜11のいずれかに記載の洗浄装置の、前記第1の領域(1)を介して供給し、対象製品を得ることを特徴とする方法。
- 前記被洗浄材料が、少なくとも20重量%の前記対象製品を含むことを特徴とする請求項17に記載の方法。
- 食料、ポリマー、燃料、潤滑剤、洗浄剤、染料または薬品の製造における、請求項17または18に記載の方法によって得られる対象製品の使用。
- 食料、モノマー、燃料、溶媒などの対象製品の製造、排水処理または異性体分離における、請求項1〜11のいずれかに記載の洗浄装置または請求項12または13に記載の精製装置の使用。
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