JP4479880B2 - 半導電性ゴム部材の製造方法 - Google Patents
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Description
例えばニトリルゴムにカーボンブラック、金属微粒子等の導電付与材を配合してゴムを半導電性にしようとすると、微量の配合で導電性は付与できるものの、導電付与剤を均一に分散させることは困難である。そのため、プリンター用ゴムロールやプリンター用ゴムブレード(以下、電子写真装置の感光体に接して用いられる半導電性のプリンター用ゴムロール、プリンター用ゴムブレード、ゴムベルト等を「半導電性ゴム部材」と記すことがある。)のゴムにはそれ自体が半導電性であるポリエーテルゴムが使用されるようになった。
一方、低硬度ゴムは、一般的には、可塑剤や軟化剤、液状ポリマーのような添加剤を配合することによって得られるが、これらの添加剤はブルームやブリードを起こして感光体を汚染し、印刷を不鮮明にするおそれがある。また、低硬度ゴムを得る別の方法としてゴムの架橋密度を低下させたり、未加硫ゴムを混入したりする等の方法もあるが、これらの方法を用いるとゴムの圧縮永久ひずみが大きくなったり、ブルームを起こしたりして、やはり印刷を不鮮明にするおそれがある。
1. ビニル基を有するポリエーテルゴム(A)、硫黄(B)、ジ、トリ又はテトラスルフィド化合物(C)、及び、酸化亜鉛(D)を含有してなる半導電性ゴム部材用ゴム組成物を一次架橋した後、空気存在下で170〜220℃で二次架橋することを特徴とする半導電性ゴム部材の製造方法。
2. 前記半導電性ゴム部材用ゴム組成物が、さらに、アルカン酸(E1)、その金属塩(E2)又はアミド(E3)を含有するものである上記1記載の半導電性ゴム部材の製造方法。
3. 前記半導電性ゴム部材用ゴム組成物が、さらに、アルカン酸アルケニルエステル(F1)もしくはアルケン酸アルケニルエステル(F2)、リン酸トリエステル(G)、又は、亜リン酸エステル化合物(H)を含有するものである上記1又は2記載の半導電性ゴム部材の製造方法。
ビニル基を有するオキシラン単量体の具体例としては、ビニルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、ブテニルグリシジルエーテル、o−アリルフェニルグリシジルエーテルなどのエチレン性不飽和グリシジルエーテル;ブタジエンモノエポキシド、クロロプレンモノエポキシド、1,2−エポキシ−5,9−シクロドデカジエンなどのジエン又はポリエンのモノエポキシド;3,4−エポキシ−1−ブテン、1,2−エポキシ−5−ヘキセン、1,2−エポキシ−9−デセンなどのアルケニルエポキシド;グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、グリシジルクロトネート、グリシジル−4−ヘプテノエート、グリシジル−4−メチル−3−ペンテノエート、3−シクロヘキセンカルボン酸のグリシジルエステル、4−メチル−3−シクロヘキセンカルボン酸のグリシジルエステルなどの不飽和カルボン酸のグリシジルエステル類;などが挙げられる。これらの中でもエチレン性不飽和グリシジルエーテルが好ましく、アリルグリシジルエーテルが特に好ましい。
そのようなオキシラン単量体(a3)としては、炭素数3〜20のアルキレンオキシド、炭素数4〜10のグリシジルエーテル、ビニル芳香族化合物のオキシド、これらのオキシラン単量体にアミノ基、カルボキシル基、酸無水物基、水酸基及びハロゲン原子(ハロメチレン基含む)などを導入した、官能基を有するオキシラン単量体などが挙げられる。
ビニル芳香族化合物のオキシドとしては、スチレンオキシドなどが挙げられる。
官能基を有するオキシラン単量体の中では、エピクロルヒドリン、エピブロモヒドリン、エピヨードヒドリン、エピフルオロヒドリン、β−メチルエピクロルヒドリンなどのエピハロヒドリンなどが好ましく、中でも、エピクロルヒドリンがより好ましい。
また、上記ビニル基を有するポリエーテルゴム(A)の未架橋成形体の体積固有抵抗値は、通常、1×105〜1×1010Ω・cmであり、好ましくは1×105.5〜1×109.5Ω・cm、特に好ましくは1×106〜1×109Ω・cmである。
硫黄(B)としては特に限定はなく、粉末硫黄、沈降硫黄、コロイド硫黄、不溶性硫黄、高分散性硫黄などが挙げられる。硫黄(B)としてこれらを1種単独で、又は2種以上を併せて使用することができる。
一般的に、硫黄による架橋の場合は、ポリスルフィド結合では圧縮永久ひずみが大きくなることが知られており、架橋鎖中の硫黄原子数がジスルフィド結合、モノスルフィド結合と少なくなるにつれ、圧縮永久ひずみが小さくなるよう改良される。架橋剤として使用する硫黄の配合量が多いとポリスルフィド結合が多くなり圧縮永久ひずみの増大に繋がる。また、架橋に寄与しなかった硫黄が遊離し、ブルーム発生の原因ともなり得る。
アルカン酸(E1)としては炭素数10〜22のもの、アルカン酸金属塩(E2)としては炭素数12〜22のもの、また、アルカンアミド(E3)としては炭素数10〜22のものが好ましい。
炭素数10〜22のアルカン酸(E1)としては、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸などが挙げられる。
炭素数12〜22のアルカン酸金属塩(E2)としては、ラウリン酸ナトリウム、ラウリン酸カリウム、パルミチン酸ナトリウム、パルミチン酸バリウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カルシウムなどが挙げられる。
炭素数10〜22のアルカンアミド(E3)としては、デカンアミド、ドデカンアミド、オクタデカンアミドなどの第一級アミド;ジラウロイルアミン、ジステアロイルアミンなどの第二級アミド;及び;トリラウロイルアミン、トリステアロイルアミンなどの第三級アミドが挙げられる。これらアルカン酸(E1)、その金属塩(E2)又はアミド(E3)の中でも、ステアリン酸、ステアリン酸亜鉛及びステアリン酸アミドが好ましい。
アルカン酸(E1)、その金属塩(E2)又はアミド(E3)の含有量は、ビニル基を有するポリエーテルゴム(A)100重量部あたり、好ましくは0.1〜5重量部、より好ましくは0.2〜4重量部、特に好ましくは0.3〜3重量部である。この含有量が多すぎるとブルームを起こすおそれがある。
かかる架橋促進剤としては、ジフェニルチオウレア、ジ(o−トリル)チオウレア、トリメチルチオウレア、ジラウリルチオウレアなどのチオウレア系促進剤;ジフェニルグアニジン、ジ(o−トリル)グアニジン、o−トリルビグアニドなどのグアニジン系促進剤;メルカプトベンゾチアゾール、(ジニトロフェニル)メルカプトベンゾチアゾール、(N,N−ジエチルチオカルバモイルチオ)ベンゾチアゾールなどのチアゾール系促進剤;N−シクロヘキシルベンゾチアジルスルフェンアミド、N−t−ブチルベンゾチアジルスルフェンアミド、N−オキシジエチレンベンゾチアジルスルフェンアミドなどのスルフェンアミド系促進剤;ジメチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジエチルジチオカルバミン酸亜鉛、エチルフェニルジチオカルバミン酸亜鉛、ジベンジルジチオカルバミン酸亜鉛などのジチオカルバミン酸塩系促進剤などが挙げられる。
本発明においてアルカン酸アルケニルエステル(F1)又はアルケン酸アルケニルエステル(F1)(以下、これらをまとめて「アルケニルエステル化合物(F)」と記すことがある。)は、炭素数8〜30のアルカン酸又はアルケン酸と炭素数4〜30のアルケニルアルコールとのエステルである。
リン酸トリエステル(G)としては、リン酸トリブチルが好ましい。
亜リン酸エステル化合物(H)は下記式〔1〕の構造を有する。
かかる高分子量重合体の例としては、アクリルゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム、ポリブタジエンゴム、ポリイソプレンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、天然ゴムなどのゴム質重合体;オレフィン系エラストマー、スチレン系エラストマー、塩化ビニル系エラストマー、ポリエステル系エラストマー、ポリアミド系エラストマー、ポリウレタン系エラストマー、ポリシロキサン系エラストマーなどのエラストマー;ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリフェニレンエーテル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド樹脂などの樹脂;などが挙げられる。なかでもアクリロニトリル−ブタジエンゴム及びアクリルゴムは、ビニル基を側鎖に有するポリエーテルゴム(A)と溶解性パラメーターの値域が近いことから相溶性に優れる。
ビニル基を側鎖に有するポリエーテルゴム(A)を高分子量重合体で置換できる量は、好ましくは50重量%以下、より好ましくは40重量%以下、特に好ましくは30重量%以下である。高分子量重合体による置換量が多すぎると本発明の効果が希釈されるおそれがある。
また、二次架橋の温度が低すぎると、ブルームが発生するおそれがあり、逆に、高すぎると得られる架橋物の表面に粘着が生じたりする可能性がある。
一次及び二次架橋の加熱方法としては、電熱加熱、蒸気加熱、オーブン加熱、UHF(超高周波)加熱、熱風加熱などのゴムの架橋に通常用いられる方法を適宜選択すればよい。
また、半導電性ゴム部材用ゴム組成物を用いて発泡体を成形することも可能であり、その発泡体を使用したゴム部材の硬度(Duro type−E)は、通常、10〜70、好ましくは15〜65、より好ましくは20〜60である。発泡体の硬度が低すぎると研磨しにくくなり、表面粗さの制御が難しくなる等の問題が生じるおそれがある。逆に、発泡体の硬度が高すぎると感光体の表層である感光層に破壊が生じる可能性がある。
本発明方法により得られる半導電性ゴム部材は、研磨性が極めて良好である。それは、得られる一次架橋ゴムの伸び(JIS K6251による)が、好ましくは50〜600%、より好ましくは100〜500%と過度に大きくないことと密接な関係があると考えられる。
架橋ゴム試料を23℃、湿度55%の条件で8日間放置してから表面を観察し、下記の基準で評価した。
○:表面にブルーム現象が見られない
×:表面にブルーム現象が見られる
(2)電気抵抗(体積固有抵抗)
架橋ゴム試料の体積固有抵抗値を、SRIS(日本ゴム協会標準規格)2304に準じて測定した。測定条件は、温度23℃、湿度55%、直流500Vの電圧とした。
架橋物の硬度を、JIS K6253に準じて、タイプAデュロメータを用いて測定した。
(4)研磨性
架橋物の研磨特性は、JIS K6264のテーバー摩耗試験に準じて架橋物の表面を研磨し、研磨粉の大きさを評価した。研磨粉の大きさについては、以下の様に評価した。
○:研磨粉の大きさが1mm未満の場合
△:研磨粉の大きさが1mm以上3mm未満の場合
×:研磨粉の大きさが3mm以上の場合
架橋ゴム試料の圧縮永久ひずみを、JIS K6262に準じて測定した。試験条件は、圧縮率25%、70℃、24時間とした。
(6)伸び
架橋ゴム試料の伸びを、JIS K6251に準じて測定した。
(実施例1)
プレスでの一次架橋物による表面観察(ブルーム検査)、電気抵抗(体積固有抵抗値)、研磨性、並びに、一次及び二次架橋物におけるゴム硬度、圧縮永久ひずみ、及び伸びを評価、試験した結果を表1に示す。
(実施例2〜4、比較例1〜3)
実施例1と同様の評価、試験を行った結果を表1に記す。
これに対し、実施例3と同配合の組成物を用いて同条件で一次架橋を行って得た試料について、二次架橋の温度を150℃に下げると、ブルームを起こし、硬度は高く、圧縮永久ひずみが大きくなった(比較例1)。実施例4と同配合の組成物を用いて同条件で一次架橋を行って得た試料について、二次架橋の雰囲気を空気から窒素に変更すると、硬度が高くなり、圧縮永久ひずみも大きくなった(比較例2)。また、低分子量のエピクロルヒドリンゴムを配合することにより成形品の硬度を実施例4並みに下げても、伸びが大きくて研磨性が極めて悪いものになった(比較例3)。
Claims (4)
- エチレンオキシド(a1)に基づく単量体単位(A1)、ビニル基を有するオキシラン単量体(a2)に基づく単量体単位(A2)、ならびに(a1)及び(a2)と共重合可能なオキシラン単量体(a3)に基づく単量体単位(A3)を含有するポリエーテルゴム(A)、ポリエーテルゴム(A)100重量部あたり、0.01〜0.3重量部の硫黄(B)、ジ、トリ又はテトラスルフィド化合物(C)、及び、酸化亜鉛(D)を含有してなる半導電性ゴム部材用ゴム組成物を一次架橋した後、空気存在下で170〜220℃で二次架橋することを特徴とする半導電性ゴム部材の製造方法。
- 前記ポリエーテルゴム(A)中の前記(A1)/(A2)/(A3)の含有量が、前記ポリエーテルゴム(A)の全繰り返し単位中、15〜70モル%/1〜20モル%/10〜84モル%である請求項1記載の半導電性ゴム部材の製造方法。
- 前記半導電性ゴム部材用ゴム組成物が、さらに、アルカン酸(E1)、その金属塩(E2)又はアミド(E3)を含有するものである請求項1又は2記載の半導電性ゴム部材の製造方法。
- 前記半導電性ゴム部材用ゴム組成物が、さらに、アルカン酸アルケニルエステル(F1)もしくはアルケン酸アルケニルエステル(F2)、リン酸トリエステル(G)、又は、亜リン酸エステル化合物(H)を含有するものである請求項1乃至3のいずれか1項に記載の半導電性ゴム部材の製造方法。
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