JP4466561B2 - レーザ加工装置 - Google Patents
レーザ加工装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4466561B2 JP4466561B2 JP2005506297A JP2005506297A JP4466561B2 JP 4466561 B2 JP4466561 B2 JP 4466561B2 JP 2005506297 A JP2005506297 A JP 2005506297A JP 2005506297 A JP2005506297 A JP 2005506297A JP 4466561 B2 JP4466561 B2 JP 4466561B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- polarization
- laser beam
- optical path
- beam splitter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims description 47
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 142
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 71
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 15
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 12
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 5
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N selenium;zinc Chemical compound [Se]=[Zn] SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/0604—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by a combination of beams
- B23K26/0613—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by a combination of beams having a common axis
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/0604—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by a combination of beams
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/064—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms
- B23K26/066—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms by using masks
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/067—Dividing the beam into multiple beams, e.g. multifocusing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/08—Devices involving relative movement between laser beam and workpiece
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/08—Devices involving relative movement between laser beam and workpiece
- B23K26/082—Scanning systems, i.e. devices involving movement of the laser beam relative to the laser head
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/08—Devices involving relative movement between laser beam and workpiece
- B23K26/083—Devices involving movement of the workpiece in at least one axial direction
- B23K26/0853—Devices involving movement of the workpiece in at least in two axial directions, e.g. in a plane
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/36—Removing material
- B23K26/38—Removing material by boring or cutting
- B23K26/382—Removing material by boring or cutting by boring
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Description
なお、分光したレーザ光は第1のガルバノスキャナ系を経由してfθレンズの半分の領域に導入する。
また分光した他方のレーザ光は第2のガルバノスキャナ系を経由してfθレンズの残り半分の領域に導入させ、第1、第2のガルバノスキャナ系はfθレンズの中心軸に関して対称に配置することにより、fθレンズを1/2ずつ同時利用し生産性向上を可能にしている。(特許文献1参照)。
また、分光した2つのレーザ光のマスク通過後、被加工物に照射されるまでの光路長が異なり、被加工物上での厳密なビームスポット径も異なったものになってしまうという問題もあった。
さらに、fθレンズを等分割し、分割設定された加工エリアを同時加工するため、加工エリアの加工穴数に大きな違いがある時、またワークの端部分等加工エリアの内どちらかに加工対象穴がない時等は生産性の向上が見込めない。
また、分光したレーザ光のエネルギー/焦点位置の差を容易な調整で均一にすることができ、加工性能をより安定したものにできるレーザ加工装置を提供することを目的としている。
この目的を達成するために、発振器から出射されたレーザ光を、第一の偏光手段で透過させ、ミラーを経由して第二の偏光手段で反射させた第1のレーザ光と、上記第一の偏光手段で反射させ、第一のガルバノスキャナで2軸方向に走査し、上記第二の偏光手段を透過させた第2のレーザ光とに分光し、第二のガルバノスキャナで走査し、被加工物を加工するレーザ加工装置において、第一の偏光手段の手前に、角度調節可能な第三の偏光角度調整用偏光手段を配置したものである。
また、発振器から出射されたレーザ光を、第一の偏光手段で透過させ、ミラーを経由して第二の偏光手段で反射させた第1のレーザ光と、上記第一の偏光手段で反射させ、第一のガルバノスキャナで2軸方向に走査し、上記第二の偏光手段を透過させた第2のレーザ光とに分光し、第二のガルバノスキャナで走査し、被加工物を加工するレーザ加工装置において、レーザ光の焦点位置を測定する測定手段に基づき、2つのレーザ光の焦点位置を計測し、2つのレーザ光の焦点位置の差が所望の基準以下になるように焦点位置調整手段により調整するものである。
第2図は、偏光ビームスプリッタの分光模式図である。
第3図は、この発明の実施の形態2であるレーザ加工機の概略構成を示した図である。
第4図は、偏光角度調整用偏光ビームスプリッタ部分を拡大した図である。
第5図は、偏光角度調整用偏光ビームスプリッタの自動調整プログラムのフロー図である。
第6図は、この発明の実施の形態3であるレーザ加工機の概略構成を示した図である。
第7図は、この発明の実施の形態3であるレーザ加工機における、焦点位置の変化を概略的に示した図である。
第8図は、この発明の実施の形態4であるレーザ加工機の概略構成を示した図である。
第9図は、この発明の実施の形態4であるレーザ加工機における、焦点位置の変化を概略的に示した図である。
第10図は、この発明の実施の形態4であるレーザ加工機における、レーザ光の偏向方向の変化を示した模式図である。
第11図は、焦点位置可変手段による、焦点位置の自動調整プログラムのフロー図である。
第1図は、1つのレーザ光を分光用偏光ビームスプリッタで2つのレーザ光に分光し、2つのレーザ光を独立に走査することにより、2箇所同時に加工を実施することができる穴あけ用レーザ加工装置を示す概略構成図である。
図において、1はレーザ発振器、2はレーザ光、2aはリターダ3入射前のレーザ光2の偏光方向、2bはリターダ3で反射後のレーザ光2の偏光方向、3は直線偏光のレーザ光を円偏光に変えるリターダ、4は加工穴を所望の大きさ、形状にするために入射するレーザ光から必要な部分のレーザ光を切り取るマスク、5はレーザ光2を反射して光路を導く複数のミラー、6はレーザ光2を2つのレーザ光に分光する第一の偏光ビームスプリッタ、7は第一の偏光ビームスプリッタ6で分光された一方のレーザ光、7aはレーザ光7の偏光方向、8は第一の偏光ビームスプリッタで分光されたもう一方のレーザ光、8aはレーザ光8の偏光方向、9はレーザ光7とレーザ光8をガルバノスキャナ12に導くための第二の偏光ビームスプリッタ、10はレーザ光7、8を被加工物13上に集光させるためのfθレンズ、11はレーザ光8を2軸方向に走査し、第二の偏光ビームスプリッタに導くための第一のガルバノスキャナ、12はレーザ光7とレーザ光8を2軸方向に走査し被加工物22に導くための第二のガルバノスキャナ、13は被加工物、14は被加工物13を移動させるためのXYステージである。
なお、第一の変更ビームスプリッタ6で分光されたレーザ光7,8が第二の偏光ビームスプリッタ8に達するまでのそれぞれの光路長は同一光路長となるように設計されている。
次に、本実施の形態の詳細な動作を説明する。
本実施の形態に示される如く、1つのレーザ光を分光用偏光ビームスプリッタで2つのレーザ光に分光し、2つのレーザ光を独立に走査することにより、2箇所同時に加工を実施することができる穴あけ加工用レーザ加工装置では、レーザ発振器1より直線偏光にて発振されたレーザ光2は、光路の途中に配置されるリターダ3により円偏光に変えられ、マスク4、ミラー5を経由して第一の偏光ビームスプリッタ6に導かれる。そして、第一の偏光ビームスプリッタ6にて、円偏光で入射するレーザ光2は、P波成分は偏光ビームスプリッタ6を透過しレーザ光7となり、S波成分は偏光ビームスプリッタ6で反射しレーザ光8に分光される。なお、円偏光は、全ての方向の偏光成分を均質に持つため、レーザ7とレーザ光8は同一のエネルギーをもつように分光される。
第一の偏光ビームスプリッタ6を透過したレーザ光7は、ベンドミラー5を経由して、第二の偏光ビームスプリッタ9に導かれる。
一方、第一のビームスプリッタ6で反射したレーザ光8は、第一のガルバノスキャナ11により2軸方向に走査された後、第二の偏光ビームスプリッタ9に導かれる。
なお、レーザ光7はいつも同じ位置で第二の偏光ビームスプリッタ9に導かれるが、レーザ光8は第一のガルバノスキャナ11の振り角を制御することにより第二の偏光ビームスプリッタ9に入射する位置、角度を調整することができる。
その後、レーザ光7,8は第二のガルバノスキャナ12により2軸方向に走査された後、fθレンズ10に導かれ、それぞれ被加工物13の所定位置に集光される。
このとき第一のガルバノスキャナ11を走査することにより、レーザ光8は被加工物13上においてレーザ光7と同一位置に照射することが可能である。
また、あらかじめ設定された範囲内でレーザ光7に対して任意の位置に、例えば、ガルバノスキャナ11を走査することによりレーザ光8をレーザ光7を中心にビームスプリッタの光学素子の特性を考慮して、4mm角の範囲内を走査すると共に、例えば50mm四方等加工可能な範囲で振れる第二のガルバノスキャナ12を介して、被加工物13上の任意の異なる2点にレーザ光を照射することを可能にしている。
また、本実施の形態では、第一の偏光ビームスプリッタ6を反射したレーザ光8は、第二の偏光ビームスプリッタ9を透過、第一の偏光ビームスプリッタ6を透過したレーザ光7は、第二の偏光ビームスプリッタ9を反射するよう構成されている。
そのため、分光した2つのレーザ光はそれぞれ反射と透過両方の過程を経ているため、反射と透過の違いによるレーザ光の品質のばらつきやエネルギバランスの崩れを相殺することを可能にしている。
ここで、レーザ光7とレーザ光8により被加工物13に加工される加工穴の品質は、レーザ光のエネルギーに大きく依存する。
レーザ光7とレーザ光8で被加工物13に同じ品質の穴を加工する場合レーザ光7とレーザ光8のエネルギーを同じにする必要がある。
そこで、本実施の形態では、レーザ光2をレーザ光7とレーザ光8に分光する第一の偏光ビームスプリッタ6を用いて、P波を透過させ、S波を反射させることにより、2つのレーザビームに分光している。
なお、第一の偏光ビームスプリッタ6には、P波とS波の成分を均等に持つレーザ光を入射させる必要がある。
第2図は、第一の偏光ビームスプリッタ6の正面図を中央に、その左右に側面図、上部に上面図が示されている。
図において、61は偏光ビームスプリッタの光学素子部分で炭酸ガスレーザの場合、ZnSeやGeが使用される。
62はレーザ光を90°に折りかえすためのミラーである。
偏光ビームスプリッタ6に入射したレーザ光は、偏光方向7aの成分(P波成分)は透過し、偏光方向8aの成分(S波成分)は反射する性質を持っている。
ちなみに、P波とS波の偏光方向は直行する。
よって、入射するレーザ光の偏光方向が偏光方向7a(P波成分)と同じであれば全て透過し、偏光方向8a(S波成分)と同じであれば全て反射する。
また、あらゆる偏光方向が均質に存在する円偏光や、P波、S波に45°の角度をなす偏光方向であればレーザ光は等分され、レーザ光7とレーザ光8のエネルギーは等しくなる。
本実施の形態では、2つの偏光ビームスプリッタを第1図に示すように配置したことにより、第一の偏光ビームスプリッタ6〜第二の偏光ビームスプリッタ9間のレーザ光8と7の光路長を同一としているため、分光した2つのレーザ光のビームスポット径を同一にすることができる。
例えば、本発明の実施の形態では光路をX、Y、Z方向に分解してもそれぞれ同一光路長なるため、光路構成要素を大小設計変更しても光路をX、Y、Z方向に伸縮することが可能でレーザ光8と7の光路長は同一まま保つことを可能にしている。
実施の形態2.
上述した実施の形態1では、レーザ発振器1から発振されたレーザ光2は、リターダ3において入射光と反射光が90°をなす角度で入射させる必要があり、またレーザ光2の偏光方向2aは、リターダ3において入射光軸と反射光軸を2辺とする平面とリターダ3の反射面の交線に対し45°の角度で入射させる必要がある。
ここで、仮にリターダ3に対するレーザ光2の入射する偏光方向、及び光軸角度の調整が不十分であると、円偏光率が低下し、第一の偏光ビームスプリッタ6に入射するレーザ光2のP波成分とS波成分のバランスが崩れ、レーザ光7とレーザ光8のエネルギーが均一にならなくなり、レーザ光2のリターダ3に入射する際の偏光方向、及び光軸角度の調整は、偏光方向は目で見えず、炭酸ガスレーザのように可視光でない場合には光軸角度も目視できないため、円偏光率を測定し、不十分であれば角度調整を実施することを繰り返さなければならず、たいへん煩雑な作業となる場合も存在する。
また、レーザ光2を円偏光2bにした後、第一の偏光ビームスプリッタ6に入射するまでに、数枚のミラー5で反射させるが、ミラー5で反射する際、円偏光率が低下することもある。
そこで、本実施の形態では、円偏光を使用することなく、直線偏光で発振されたレーザ光を用いる場合について説明する。
第3図は、この発明の実施形態によるレーザ加工装置を示す概略構成図である。
図において、2cは第三の偏光ビームスプリッタ15に入射前のレーザ光2の偏光方向、2dは第3の偏光ビームスプリッタ15を透過後のレーザ光2の偏光方向、15はレーザ光2の偏光方向を調整するための第三の偏光ビームスプリッタ、16はfθレンズ10から出射されるレーザ光のエネルギーを測定するパワーセンサ、17はレーザ光7を遮る第一のシャッター、18はレーザ光8を遮る第二のシャッターである。
パワーセンサ16は、XYテーブル14に固定されており、レーザ光のエネルギーを測定する際は、パワーセンサ16の受光部にレーザ光が当たる位置にパワーセンサ16が移動可能となっている。
なお、その他の同一符号は実施の形態1で示した第1図と同じであるため説明を割愛する。
第4図は、第3図で示される第三の偏光ビームスプリッタ15の詳細図である。
図において、20はサーボモータ、21は第三の偏光ビームスプリッタ15とサーボモータ20を固定するブラケット、22はサーボモータ20の動力を第三の偏光ビームスプリッタ15に伝えるタイミングベルト、23はサーボモータ20に取り付けられ、タイミングベルト22にサーボモータ20の動力を伝える第一のプーリー、24は第三の偏光ビームスプリッタ15に取り付けられタイミングベルト22により回転される第二のプーリー、25は第三の偏光ビームスプリッタ15で反射するレーザ光2のS波成分を受け止めるダンパである。
レーザ光2は、レーザ発振器1から直線偏光2cで発振され、ミラー5で反射し、第三の偏光ビームスプリッタ15へ導かれる。
レーザ光2のP波成分は、第三の偏光ビームスプリッタ15を透過し、直線偏光2cとは異なった角度の直線偏光2dに偏光方向を変えマスク4に導かれる。
また、レーザ光2のS波成分は、第三の偏光ビームスプリッタ15で反射しダンパ25に吸収される。
マスク4において所望の部分のみ透過したレーザ光2は、ミラー5で反射し、第一の偏光ビームスプリッタ6に導かれる。
第一の偏光ビームスプリッタ6では、レーザ光のP波成分は第一の偏光ビームスプリッタ6を透過し(レーザ光7)、S波成分は第一の偏光ビームスプリッタ6で反射する(レーザ光8)。
レーザ光7は、ミラー5で反射し、第二の偏光ビームスプリッタ9へ導かれた後、第二のガルバノスキャナ12に導かれ、X方向、Y方向に走査され、fθレンズ10で集光され、XYテーブル14に搭載された被加工物13を加工する。
一方、レーザ光8は、第一のガルバノスキャナ11でX方向、Y方向に走査され、第二の偏光ビームスプリッタ9へ導かれる。
その後、第二のガルバノスキャナ12で再度X方向、Y方向へ走査された後、fθレンズ10で集光され、XYテーブル14に搭載された被加工物13を加工する。
レーザ光7とレーザ光8のエネルギーのバランスを変えるためには、第一の偏光ビームスプリッタ6に入射するP波成分とS波成分の割合を変えればよく、第一の偏光ビームスプリッタ6に直線偏光のレーザ光を入射する場合は、入射するレーザ光2の偏光角度2dを変えればよい。因みに、第一の偏光ビームスプリッタ6での損失、製作誤差等を除けば、P波と同じ偏光方向のレーザ光2を入射させれば、全てレーザ光7となって透過し、S波と同じ偏光方向のレーザ光2を入射させれば、全てレーザ光8となって反射する。
レーザ光7とレーザ光8をエネルギーが等しく分光するには、P波とS波に対し45°の偏光角度でレーザ光2を入射させればよい。
レーザ光2のレーザ発振器1から発振される際の偏光角度2cは、レーザ発振器1の光学的構造により決定するため、容易に偏光角度が変えられない。
しかしながら、レーザ光2を第三の偏光ビームスプリッタ15に通すと、P波成分のみ透過しS波成分は反射するため、第三の偏光ビームスプリッタ15の角度を変えることにより、レーザ光2の偏光角度2cを容易に変えることが可能となる。前述のように、第三の偏光ビームスプリッタ15で反射するレーザ光2のS波成分はダンパ25で受け止められるようになっている。
第三の偏光ビームスプリッタ15で偏光方向の角度を調整する際、S波成分は透過せず損失となってしまうため、効率よくレーザ光を利用する際は、第三の偏光ビームスプリッタ15入射前のレーザ光2の偏光角度2c(レーザ発振器1から発振される際の偏光角度)を第三の偏光ビームスプリッタ15透過後のレーザ光2の偏光角度2dに出来る限り近づける設計すればよい。
そのように設計した場合、第3の偏光ビームスプリッタの角度調整量は、各光学系部分の製造誤差等を補う程度の量ですみ、この部分でのエネルギ損失は、数%以下である。
第三の偏光ビームスプリッタ15の角度調整機構については、第4図に示すようになっている。
第三の偏光ビームスプリッタ15はレーザ光2の光軸を中心に回転できるように、ブラケット21に固定されており、第三の偏光ビームスプリッタ15と一緒に回転するよう第二のプーリー24が固定されている。
また、第一のプーリー23が取り付けられたサーボモータ20もブラケット21に固定されており、第三の偏光ビームスプリッタ15に固定された第二のプーリー24とサーボモータ20に固定された第一のプーリー23は、タイミングベルト22で連結されている。
図に記述されていない制御装置からの信号でサーボモータ20が回転すると、タイミングベルト22を通し第三の偏光ビームスプリッタ15に動力が伝達され、第三の偏光ビームスプリッタ15の角度が変化する。
なお、第三の偏光ビームスプリッタ15で反射するレーザ光2のS波成分はダンパ25で受け止められるようになっている。
ここで、第三の偏光ビームスプリッタ15で偏光方向の角度を調整する際、S波成分は透過せず損失となってしまうため、効率よくレーザ光を利用する際は、第三の偏光ビームスプリッタ15前のレーザ光2の偏光角度20を第三の偏光ビームスプリッタ15後のレーザ光2の偏光角度2dと出来る限り同じ角度に入射すると良い。
第三の偏光ビームスプリッタ15の角度調整は、第一の偏光ビームスプリッタ6へ正確な偏光角度でレーザ光2を入射するため、偏光角度2dを微調整する役割となる。
第5図は、この発明の実施形態における所望の割合のエネルギーで2つレーザ光が取り出せるように、偏光角度調整用偏光ビームスプリッタの角度を自動調整する際のフローを示す。
説明は、第3図と第5図を用いて行うが、説明の便宜上、2つのエネルギーを等しくする場合について説明する。
なお、2つのレーザ光のエネルギーが異なる割合の場合でも初期設定を変更すれば同様な方法で実施することが可能である。
レーザ光7とレーザ光8の許容されるエネルギー差を決め、図には記述されていない制御装置に入力し、第三の偏光ビームスプリッタ15の自動角度調整プログラムを実行する。
まず、XYテーブル14に固定されたパワーセンサ16の受光部がfθレンズ10から出射されるレーザ光が受光できる位置にパワーセンサ16が移動する。
その後、第二のシャッター18が閉じ、レーザ発振器1からレーザ光が発振される。
第二のシャッター18を閉じたことにより、レーザ光8はその部分で遮断され、fθレンズ10からはレーザ光7のみが出射され、パワーセンサ16ではレーザ光7のエネルギーが測定される。
エネルギー測定後、一旦レーザ光の発振は停止し、第一のシャッター17が閉じ、第二のシャッター18が開き、再度レーザ光が発振される。今度は、第一のシャッター17を閉じたことにより、レーザ光7はその部分で遮断され、fθレンズ10からはレーザ光8のみが出射され、パワーセンサ16ではレーザ光8のエネルギーが測定される。エネルギー測定後、レーザ光の発振が停止し、第二のシャッター18が開く。
制御装置の中で測定した2つのレーザ光のエネルギー差が計算され、始めに入力した許容値と比較される。
許容値内であればプログラムは終了するが、許容値を外れている場合は、第三の偏光ビームスプリッタ15の角度を調整し、再度2つのレーザ光のエネルギー測定を実施し、許容値内になるまで前記動作を繰り返す。
第三の偏光ビームスプリッタ15の角度調整量は、入射するレーザ光2の偏光方向2cと、第一の偏光ビームスプリッタ6の取付角度に依存し、第三の偏光ビームスプリッタ15透過後のレーザ光2の偏光角度2dを第三の偏光ビームスプリッタ15入射前のレーザ光2の偏光角度2cから数度程度変更するのであれば、第三の偏光ビームスプリッタ15の角度1°当たり約7%エネルギー差を調整できることが理論的に導き出せる。
このように第三の偏光ビームスプリッタ15の調整角度と2つのレーザ光のエネルギー差の関係が、入射するレーザ光2の偏光角度2cと第一の偏光ビームスプリッタ6の取付角度から理論的に導きだせるため、エネルギー差の許容値にもよるが、5%程度の許容値であれば、上記調整ループを2回実施すれば、調整(プログラム)が完了するため、短時間で容易な調整が可能である。
本実施の形態によれば、1つのレーザ光を分光用偏光ビームスプリッタで2つのレーザ光に分光し、2つのレーザ光を独立に走査することにより、2箇所同時に加工を実施することができるレーザ加工機において、分光用偏光ビームスプリッタのP波(透過波)とS波(反射波)に対しレーザ光の偏光角度を変更できるように分光用偏光ビームスプリッタの手前に偏光角度調整用偏光ビームスプリッタを設定し、該偏光角度調整用偏光ビームスプリッタに角度調節できる機構を設け、制御装置からの指令により角度調節可能としたことにより、分光したレーザ光のエネルギーバランスを容易に調整し、エネルギーを均一にすることにより加工性能を安定させたり、また、段取り時間の短縮を実現するとともに、安定した生産を実現することが可能となる。
また、レーザ光のエネルギーを測定できるセンサを設け、2つのレーザ光のエネルギーを測定し、所望の割合のエネルギーで2つのレーザ光が取り出せように、偏光角度調整用偏光ビームスプリッタの角度が自動調整できることにより、より一層の段取り時間の短縮が可能となる他、調整の容易化により作業者の熟練度が不要となり、安定した加工が実現できる。
実施の形態3.
上述した実施の形態2において、分光した2つのレーザ光の品質の違いを最小にするため、光路長を同一にすることでビームスポット径も同一になるよう工夫されているが、分光された2つのレーザ光がそれぞれ異なった位置に照射されるように走査され同じfθレンズに導かれるまで、異なった光路を経由しているため、通過する光学部品の製作精度のばらつきにより集光特性が変化し、2つのレーザ光の焦点位置が異なる場合があり、加工品質(穴径、穴深さ、真円度等)に差異が生じることがある。
また、分光後の光学部品の内、ガルバノミラーはガルバノスキャナの駆動速度を向上するため軽量化がなされていること、偏光ビームスプリッタはレーサ光を反射、または透過させるための光学素子をマウント部分に固定し、一体化していることから、その特性上、ばらつきを抑えた製造をすることは困難であり、レーザ光の焦点位置が異なる要因となっていた。
そこで、本実施の形態では分光した2つのレーザ光の焦点位置が異なった場合でも、より加工品質を向上するために焦点位置調整手段を追加したレーザ加工装置について説明する。
第6図は、この発明の実施形態によるレーザ加工装置を示す概略構成図である。
図において、30はレーザ光7の第一の焦点位置可変手段である第一の可変形ミラー、31はレーザ光7の第二の焦点位置可変手段である第二の可変形ミラー、32はレーザ光による加工穴の穴径、穴位置等を測定するための撮像素子であるCCDカメラである。
なお、その他の同一符号は実施の形態1で示した図1と同じであるため説明を割愛する。
なお、本実施の形態における第3の偏光ビームスプリッタは、エネルギー調整用で、本実施形態の焦点位置調整用に対し、別の機能を果たすものである。すなわち、第6図の本実施形態では、第1図のシステムに追加することにより、上述した実施の形態1に対し、エネルギー調整より確実に行うべく追加している。
第一の偏光ビームスプリッタ6を透過したレーザ光7は、第一の可変形ミラー30、第二の可変形ミラー31を経由して、第二の偏光ビームスプリッタ7に導かれる。
一方、第一のビームスプリッタ6で反射したレーザ光8は、第一のガルバノスキャナ11により2軸方向に走査された後、第二の偏光ビームスプリッタ9に導かれる。
その後、レーザ光7、8は第二のガルバノスキャナ12により2軸方向に走査された後、fθレンズ10により被加工物13上に照射する。
第7図は、この発明の実施形態によるレーザ加工装置における、例えば、可変形ミラー30を凹形状に変形させた場合のレーザ光7の焦点位置の変化を示す概略図である。
図において、4はマスク、10はfθレンズ(焦点距離F)、30は可変形ミラー(焦点距離f)、33はfθレンズ10によりマスク4の像を転写するときの焦点位置、34は可変形ミラー30のレンズ効果により、移動したとみなされる仮想上のマスク位置、35はfθレンズ10によりマスク34の像を転写するときの焦点位置である。
マスク4により形成された像が焦点距離Fのfθレンズ10により焦点位置33上に転写される場合、可変形ミラーが平面のとき、fθレンズ10の焦点距離F、マスク4〜fθレンズ10までの距離A、fθレンズ10〜焦点位置33の距離であるワークディスタンスBの関係は次式で表すことができる。
1/A+1/B=1/F・・・(1)
ここで、光路中に配置した可変形ミラー30の効果により、マスク4は仮想上の位置34にあると考えることができる。
仮想上のマスク位置34と可変形ミラー30の距離b1は、可変形ミラー30を焦点距離fのレンズと等価と考えた場合、(2)式で表すことができ、(2)式を変形することにより、b1は(3)式により求めることができる。
1/a1+1/b1=1/f ・・・(2)
b1=−f・a1/(a1−f)・・(3)
ここで求める(3)式の右辺に−1が掛けられているが、これは可変形ミラー30の焦点距離fが極端に大きいため、式(3)を解くとb1の値が負になるためである。
次に、仮想上のマスク位置34の像が焦点距離Fのfθレンズ10により、被加工物上に転写されると考えるとき、仮想上のマスク位置34〜fθレンズ10までの距離a2とfθレンズ10〜変化後の焦点位置35の距離であるワークディスタンスb2の関係は(4)式により表すことができ、また仮想上のマスク位置34〜fθレンズ10までの距離a2は(5)式により表すことができる。
1/a2+1/b2=1/F・・・(4)
a2=b1+d1・・・・・・・・(5)
よって、(4)式、(5)式から(6)式を導くことができる。
b2=F・(b1+d1)/((b1+d1)−F)・(6)
光路の設計時にa1、d1、Fの3項目は予め決定し得る要素であるため、(3)式において第一の可変形ミラー30と第二の可変形ミラー31の焦点距離fを決定すればb1を求めることができ、(6)式からレーザ光7のワークディスタンスb2を求めることが可能である。
これらの式を逆算することにより、レーザ光7のワークディスタンスb2を自由に変化させることを可能にしている。
マスク4〜第一の可変形ミラー30、31の距離・・・a1
可変形ミラー30、31〜fθレンズ10までの距離・d1
fθレンズ10の焦点距離・・・F
例えば、a1=1500mm、d1=185mm、F=100mmの時、レーザ光8のワークディスタンスB=106.309mm、この時、レーザ光7のワークディスタンスをレーザ光8に対して0.1mm短くしたい場合、焦点距離であるb1=1525.54mmを算出することができ、この焦点距離になるよう可変形ミラー30、31の調整をすれば良い。
また、可変形ミラーは凸形状の場合にも同様の効果を得ることが可能で、この場合レーザ光7の焦点位置を長くなる方向に作用することができる。
この発明の実施形態では、第一の可変形ミラー30または第二の可変形ミラー31の焦点距離fを変化させることにより、レーザ光8においてfθレンズ10によりマスク4の像を転写するときの焦点位置に対して、レーザ光7の焦点位置を独立して変化させることができ、レーザ光8とレーザ光7がそれぞれ通過する光学部品のばらつきにより焦点位置に差が生じた場合、レーザ光8の焦点位置を基準として、レーザ光7の焦点位置のずれ量を計測することにより、可変形ミラー30、31の焦点距離fを決定し、レーザ光8と7の焦点位置の差を最小にすることを可能にしている。
ここで、レーザ光7の焦点位置を変化させるために、第一の可変形ミラー30のみ、または第二の可変形ミラー31のみのどちらか一方の焦点距離を調整する方法と、第一の可変形ミラー30、第二の可変形ミラー31を両方共の焦点距離を調整し、どちらか一方の可変形ミラーで焦点位置を変化させる場合と同等の焦点位置変化量になるように2つの可変形ミラーの焦点距離を調整する方法があり、どちらの場合にもレーザ光7の焦点位置を変化させるためには同等の効果を得ることが可能である。
本発明の実施形態のように、2つの可変形ミラーが互いにねじれの位置、例えば、可変形ミラー30はX方向とZ軸方向の光路を含む面に垂直で、かつX方向とZ軸方向の90°の光路角度に対して45°の法線方向になるよう配置し、可変形ミラー31はZ方向とY軸方向の光路を含む面に垂直で、かつZ方向とY軸方向の90°の光路角度に対して45°の法線方向になるよう配置している場合、2つの可変形ミラーの焦点距離の効果を合わせてレーザ光7の焦点位置を変化させ、かつ2つの可変形ミラーの焦点距離を同等にすることにより、光路中に可変形ミラーを入れたことにより発生する収差を軽減する効果があり、より安定した品質の加工を実施することを可能にしている。
実施の形態4.
本実施の形態では分光した2つのレーザ光の焦点位置が異なった場合の焦点位置調整手段として、光路長を変化させる手段を追加したレーザ加工装置について説明する。
第8図は、この発明の実施形態によるレーザ加工装置を示す概略構成図である。
図において、37は焦点位置可変手段としての一部であり、X軸に平行移動が可能で、Y軸と平行な軸を支点として角度変更が可能な構造を有する第一の可動ミラー、36は焦点位置可変手段としての一部であり、第一の可動ミラー37の移動により入射角が変化しても、第二の偏光ビームスプリッタ9へ導く光路を変化させさないような角度調整が可能な構造を有する第二の可動ミラーである。
なお、その他の同一符号は実施の形態3で示した第6図と同じであるため説明を割愛する。
第9図は、この発明の実施形態によるレーザ加工装置における、例えば、第一の可動ミラー36、第二の可動ミラー37の位置及び角度を変化させ、第一の可動ミラー36と第二の可動ミラー37間の光路長を延長することで、レーザ光7におけるマスク4〜fθレンズ10間の光路長を延長した場合の、レーザ光7の焦点位置の変化を示す概略図である。図において、4はマスク、10は焦点距離F1のfθレンズ、38は光路長延長によりレンズ10を基準として移動したと考えられるマスク位置、39はfθレンズ10によりマスク4の像を転写される焦点位置、40はfθレンズ10によりマスク38の像を転写される焦点位置である。
第9図において、実施形態3と同様に、fθレンズ10の焦点距離F1、マスク4〜fθレンズ10までの距離A1、fθレンズ10〜焦点位置39の距離であるワークディスタンスB1の関係は次式で表すことができる。
1/A1+1/B1=1/F1・・・(7)
また、第一の可動ミラー37と第二の可動ミラー36間の光路長延長により移動後のマスク位置38〜fθレンズ10までの距離A2、fθレンズ10〜焦点位置40の距離であるワークディスタンスB2の関係は次式で表すことができる。
1/A2+1/B2=1/F1・・・(8)
ここで、fθレンズ10の焦点距離F1は一定のため、マスク4〜fθレンズ10間の光路長延長により、A1よりもA2の方が大きくなった場合、B1よりもB2の方が小さくなる。つまり、ワークディスタンスがB1からB2に移動することで、焦点位置39を40に移動させることが可能であることが解かる。
例えば、A1=1685mm、F1=100mmの時、レーザ光8のワークディスタンスB1=106.3091mm、このとき、レーザ光7のワークディスタンスをレーザ光8に対して0.05mm短くしたい場合、B2=106.2591mmとするためには、A1=1697.67mmとなり、第一の可動ミラー37と第二の可動ミラー36間の光路長を12.67mm延長すればよい。
第10図はこの発明の実施形態4において、第一の可動ミラー37と第二の可動ミラー36間の光路長を変化させ、レーザ光7の焦点位置を移動した場合の第一の可動ミラー37、第二の可動ミラー36の配置とレーザ光7の偏光方向7aの変化を示す。
図において、7aは光路長を変化させない場合の第二の偏光ビームスプリッタ9に入射するレーザ光7の偏光方向、7bは、第一の可動ミラー37と第二の可動ミラー36間の光路長を変化させた場合のレーザ光7の偏光方向を示す。
光路長を変化させない場合、レーザ光7の偏光方向7aは、第二の偏光ビームスプリッタ9のS波成分と一致するため、レーザ光7の持つ全てのエネルギーが第二の偏光ビームスプリッタ9を反射し、加工エネルギーとして使用される。
しかしながら、光路長を変化させた場合には、レーザ光7の偏光方向7bは第二の偏光ビームスプリッタ9のS波成分に対して角度を持った状態で入射することにより、レーザ光7の持つエネルギーの内、一部は第二の偏光ビームスプリッタ9のP波成分として透過するため、この部分でレーザ光7のエネルギーのロスが生じる。
例えば、第三の偏光ビームスプリッタ15を透過したレーザ光の偏光方向を第一の偏光ビームスプリッタ6のS波、P波に対して45°の角度でレーザ光を導き、第一の偏光ビームスプリッタ6を反射したレーザ光8、透過したレーザ光7のエネルギーを等しくしても、第二の偏光ビームスプリッタ9において、レーザ光7のエネルギーがロスするため、レーザ光8とレーザ光7のエネルギーを等しくすることができない。
このような場合、第三の偏光ビームスプリッタ15の偏光角度調整を実施し、第二の偏光ビームスプリッタ9でロスするレーザ光7のエネルギーを相殺するように、第一の偏光ビームスプリッタ6に入射するレーザ光の偏光角度を調整すれば良い。
例えば、第一の偏光ビームスプリッタ6を透過するP波成分を増やすことで、レーザ光7のエネルギーを増やすことができるため、第一の偏光ビームスプリッタ6に入射するレーザ光の偏光角度を互いに直交するP波、S波に対して45°の角度から、さらにP波に近い方向に傾けるように、第三の偏光ビームスプリッタ15の偏光角度調整をすれば良い。
この発明の実施形態では、第一の可動ミラー37と第二の可動ミラー36間の光路長を変化させることにより、レーザ光8がfθレンズ10によりマスク4の像を転写するときの焦点位置に対して、レーザ光7の焦点位置を独立して変化させることができ、レーザ光8とレーザ光7がそれぞれ通過する光学部品のばらつきにより、焦点位置に変化が生じた場合にも、レーザ光8の焦点位置を基準として、レーザ光7の焦点位置のずれ量を計測することにより、第一の可動ミラー37と第二の可動ミラー36の距離を決定し、レーザ光8と7の焦点位置の差を最小にすることを可能にしている。
また、この時発生するレーザ光7のエネルギーロスは、第三の偏光ビームスプリッタ15を用い偏光角度調整を実施することで補うことが可能で、レーザ光8とレーザ光7のエネルギーを等しくすることができる。
次に、2つのレーザ光の焦点位置の差を調整するため、2つ可変形ミラーの焦点距離、または2つの可動式ミラーにより光路長を自動調整する際のフローを図11を用いて説明する。
まず、XYステージ14上のあらかじめ設置された調整用の被加工物13(例えばアクリル板)をfθレンズ10の加工エリア内に移動する。第一のシャッター18を開き、第二のシャッター17を閉じ、レーザ光8のみを被加工物に焦点位置確認用の加工、例えば図示されていない駆動装置により、第一の偏光ビームスプリッタ6〜fθレンズ10間の光路部品、及びCCDカメラ32の一式をZ方向に移動し、被加工物13とfθレンズ10との距離をZ軸方向に変化させるとともに、XYステージ14を移動することで異なる位置に異なるワークディスタンスによる加工を実施する。
その後、第一のシャッター17を開け、第二のシャッター18は閉じて、レーザ光7のみにおいて、被加工物に焦点位置確認用の加工を実施する。
加工実施後、XYステージ14を移動することによりCCDカメラ32でレーザ光8、7による加工穴の穴径、真円度を測定する。
制御装置において測定した加工穴径、真円度から、2つのレーザ光の焦点位置が判断され、焦点位置の差が許容値内であればプログラムは終了するが、許容値を外れている場合は2つのレーザ光8、7の焦点位置の差から、可変形ミラーの焦点距離、または可動式ミラーによる光路長の調整量が計算され、再度2つレーザ光の焦点位置確認用の加工を実施し、許容値内になるまで前記動作を繰り返す。
ここで、可動式ミラーにより光路長を調整した場合には、焦点位置の調整が終了した時点で、第三の偏光ビームスプリッタ15により、2つのレーザ光のエネルギーが均一になるよう調整すれば良い。
このような焦点位置の調整は定期的に、例えば段取り時や、装置の立ち上げ時等に実施することで、2つレーザ光の穴品質は常により高い精度を維持することができ、作業者の熟練度も不要となるため安定した加工を実施することができる。
本発明によれば、分光したレーザ光のエネルギや品質の違いを最小にし、それぞれの光路長を同一にすることでビームスポット径も略同一にすることができ、安価に生産性を向上することができる。
Claims (11)
- 発振器から出射されたレーザ光を、第一の偏光手段で透過させ、ミラーを経由して第二の偏光手段で反射させた第1のレーザ光と、上記第一の偏光手段で反射させ、第一のガルバノスキャナで2軸方向に走査し、上記第二の偏光手段を透過させた第2のレーザ光とに分光し、第二のガルバノスキャナで走査し、被加工物を加工するレーザ加工装置において、第一の偏光手段の手前に、角度調節可能な第三の偏光角度調整用偏光手段を配置したことを特徴とするレーザ加工装置。
- レーザ光のエネルギーを測定できるセンサを設け、2つのレーザ光のエネルギーを測定し、所望の割合のエネルギーで2つのレーザ光が取り出せように、第三の偏向角度調整用変更手段の角度を調整することを特徴とする請求の範囲1に記載のレーザ加工装置。
- レーザ光の焦点位置を測定する測定手段に基づき、2つのレーザ光の焦点位置を計測し、2つのレーザ光の焦点位置の差が所望の基準以下になるように焦点位置調整手段により調整することを特徴とする請求の範囲1に記載のレーザ加工装置。
- レーザ光を2つに分光した後の一方の光路中に可変形ミラーを配置し、該可変形ミラーの焦点距離を変化させることで焦点位置を調整する焦点位置調整手段を備えたことを特徴とする請求の範囲3に記載のレーザ加工装置。
- レーザ光を2つに分光した後の一方の光路中に分光した後の一方の光路の光路長を変化させることで焦点位置を調整する焦点位置調整手段を備えたことを特徴とする請求の範囲3に記載のレーザ加工装置。
- レーザ光路中に配置され、上記レーザ光を反射させる反射ミラーの取り付けを可変とすることにより、光路長を変化させることを特徴とする請求の範囲5に記載のレーザ加工装置。
- 発振器から出射されたレーザ光を、第一の偏光手段で透過させ、ミラーを経由して第二の偏光手段で反射させた第1のレーザ光と、上記第一の偏光手段で反射させ、第一のガルバノスキャナで2軸方向に走査し、上記第二の偏光手段を透過させた第2のレーザ光とに分光し、第二のガルバノスキャナで走査し、被加工物を加工するレーザ加工装置において、レーザ光の焦点位置を測定する測定手段に基づき、2つのレーザ光の焦点位置を計測し、2つのレーザ光の焦点位置の差が所望の基準以下になるように焦点位置調整手段により調整することを特徴とするレーザ加工装置。
- レーザ光を2つに分光した後の一方の光路中に可変形ミラーを配置し、該可変形ミラーの焦点距離を変化させることで焦点位置を調整する焦点位置調整手段を備えたことを特徴とする請求の範囲7に記載のレーザ加工装置。
- レーザ光を2つに分光した後の一方の光路中に分光した後の一方の光路の光路長を変化させることで焦点位置を調整する焦点位置調整手段を備えたことを特徴とする請求の範囲7に記載のレーザ加工装置。
- レーザ光路中に配置され、上記レーザ光を反射させる反射ミラーの取り付けを可変とすることにより、光路長を変化させることを特徴とする請求の範囲7に記載のレーザ加工装置。
- 第一及び第二の偏光手段の反射面が互いに向き合うように配置し、分光したそれぞれのレーザ光の光路長がそれぞれ同一になる光路を形成することを特徴とする請求の範囲1または7に記載のレーザ加工装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003139962 | 2003-05-19 | ||
JP2003139962 | 2003-05-19 | ||
PCT/JP2004/007129 WO2004101211A1 (ja) | 2003-05-19 | 2004-05-19 | レーザ加工装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2004101211A1 JPWO2004101211A1 (ja) | 2006-07-13 |
JP4466561B2 true JP4466561B2 (ja) | 2010-05-26 |
Family
ID=33447367
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005506297A Expired - Lifetime JP4466561B2 (ja) | 2003-05-19 | 2004-05-19 | レーザ加工装置 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20050247682A1 (ja) |
JP (1) | JP4466561B2 (ja) |
KR (1) | KR100731799B1 (ja) |
CN (1) | CN100393470C (ja) |
DE (1) | DE112004000048B4 (ja) |
TW (1) | TWI275439B (ja) |
WO (1) | WO2004101211A1 (ja) |
Families Citing this family (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7618415B2 (en) * | 2004-04-09 | 2009-11-17 | Technolas Perfect Vision Gmbh | Beam steering system for corneal laser surgery |
JP4960043B2 (ja) * | 2006-08-31 | 2012-06-27 | 日立ビアメカニクス株式会社 | レーザ加工方法およびレーザ加工装置 |
JP4297952B2 (ja) * | 2007-05-28 | 2009-07-15 | 三菱電機株式会社 | レーザ加工装置 |
US8116341B2 (en) * | 2007-05-31 | 2012-02-14 | Electro Scientific Industries, Inc. | Multiple laser wavelength and pulse width process drilling |
JP4401410B2 (ja) * | 2007-11-21 | 2010-01-20 | 三菱電機株式会社 | レーザ加工装置 |
DE102010011988A1 (de) * | 2010-03-18 | 2011-09-22 | Jenoptik Automatisierungstechnik Gmbh | Vorrichtung zur Bearbeitung eines Werkstückes mittels ablenkbarem Laserstrahl |
JP5349406B2 (ja) * | 2010-06-01 | 2013-11-20 | 三菱電機株式会社 | 偏光方位角調整装置およびレーザ加工装置 |
JP5653444B2 (ja) * | 2010-09-17 | 2015-01-14 | 三菱電機株式会社 | ガスレーザ装置 |
TWI459039B (zh) * | 2011-05-18 | 2014-11-01 | Uni Via Technology Inc | 雷射光束轉換裝置及方法 |
WO2012176429A1 (ja) * | 2011-06-23 | 2012-12-27 | 東洋製罐株式会社 | 構造体、構造体形成方法及び構造体形成装置 |
JP6030299B2 (ja) * | 2011-12-20 | 2016-11-24 | 株式会社ディスコ | レーザー加工装置 |
JP2013188785A (ja) * | 2012-03-15 | 2013-09-26 | Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd | 被加工物の加工方法および分割方法 |
DE102012212278B4 (de) * | 2012-07-13 | 2016-12-15 | Arges Gmbh | Anordnung zum Erzeugen von Bohrungen oder Schweißnähten |
JP5715113B2 (ja) * | 2012-12-14 | 2015-05-07 | 株式会社片岡製作所 | レーザ加工機 |
CN104203482B (zh) * | 2013-01-04 | 2015-07-22 | 三菱电机株式会社 | 加工控制装置、激光加工装置以及加工控制方法 |
DE102013008647B4 (de) * | 2013-05-21 | 2019-02-21 | Lt-Ultra Precision Technology Gmbh | Laserbearbeitungsvorrichtung mit zwei adaptiven Spiegeln |
DE102014201739B4 (de) * | 2014-01-31 | 2021-08-12 | Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh | Laserbearbeitungsvorrichtung sowie Verfahren zum Erzeugen zweier Teilstrahlen |
US10239155B1 (en) * | 2014-04-30 | 2019-03-26 | The Boeing Company | Multiple laser beam processing |
CN104625438A (zh) * | 2014-12-29 | 2015-05-20 | 中自高科(苏州)光电有限公司 | 利用激光偏振选择性烧蚀结合酸蚀制备微通道的方法 |
JP2019098355A (ja) * | 2017-11-30 | 2019-06-24 | 日東電工株式会社 | 長尺フィルムのレーザ加工方法 |
JP7123652B2 (ja) * | 2018-06-20 | 2022-08-23 | 株式会社ディスコ | レーザー加工装置 |
WO2020261472A1 (ja) * | 2019-06-27 | 2020-12-30 | 三菱電機株式会社 | レーザビームの異常検出方法及びレーザ加工装置 |
JP7303053B2 (ja) * | 2019-07-17 | 2023-07-04 | ファナック株式会社 | 調整補助具及びレーザ溶接装置 |
CN115210623A (zh) * | 2020-03-16 | 2022-10-18 | 住友重机械工业株式会社 | 光束分支装置及分支比调整方法 |
CN116018231A (zh) * | 2020-09-11 | 2023-04-25 | 索尼集团公司 | 光源系统、单元和激光装置 |
CN114952039A (zh) * | 2021-02-20 | 2022-08-30 | 雷科股份有限公司 | 激光快速钻孔装置 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0621901B2 (ja) * | 1983-08-18 | 1994-03-23 | 富士写真フイルム株式会社 | レーザビームの合波方法 |
US5181137A (en) * | 1988-08-24 | 1993-01-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Light scanning apparatus |
JP2720744B2 (ja) * | 1992-12-28 | 1998-03-04 | 三菱電機株式会社 | レーザ加工機 |
JP3194250B2 (ja) * | 1998-12-25 | 2001-07-30 | 住友重機械工業株式会社 | 2軸レーザ加工機 |
JP3945951B2 (ja) * | 1999-01-14 | 2007-07-18 | 日立ビアメカニクス株式会社 | レーザ加工方法およびレーザ加工機 |
WO2000053365A1 (fr) * | 1999-03-05 | 2000-09-14 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Appareil d'usinage au laser |
JP3237832B2 (ja) * | 1999-03-12 | 2001-12-10 | 住友重機械工業株式会社 | レーザ加工装置及びレーザ穴あけ加工方法 |
US6396069B1 (en) * | 1999-06-25 | 2002-05-28 | Macpherson David C. | Topographer for real time ablation feedback having synthetic wavelength generators |
US6424670B1 (en) * | 2000-02-17 | 2002-07-23 | Universal Laser Systems, Inc. | Apparatus and method for making laser sources and laser platforms interchangeable and interfaceable |
JP3860948B2 (ja) * | 2000-02-24 | 2006-12-20 | 本田技研工業株式会社 | レーザ加工装置 |
CN1159129C (zh) * | 2000-08-29 | 2004-07-28 | 三菱电机株式会社 | 激光加工装置 |
US6738396B2 (en) * | 2001-07-24 | 2004-05-18 | Gsi Lumonics Ltd. | Laser based material processing methods and scalable architecture for material processing |
WO2003041904A1 (fr) * | 2001-11-15 | 2003-05-22 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Appareil d'usinage a faisceau laser |
JP4093183B2 (ja) * | 2002-03-28 | 2008-06-04 | 三菱電機株式会社 | レーザ加工装置 |
JP3822188B2 (ja) * | 2002-12-26 | 2006-09-13 | 日立ビアメカニクス株式会社 | 多重ビームレーザ穴あけ加工装置 |
JP2006123228A (ja) * | 2004-10-27 | 2006-05-18 | Disco Abrasive Syst Ltd | レーザ加工方法およびレーザ加工装置 |
-
2004
- 2004-05-18 TW TW093113913A patent/TWI275439B/zh not_active IP Right Cessation
- 2004-05-19 CN CNB2004800009918A patent/CN100393470C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-05-19 JP JP2005506297A patent/JP4466561B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2004-05-19 US US10/524,241 patent/US20050247682A1/en not_active Abandoned
- 2004-05-19 DE DE112004000048T patent/DE112004000048B4/de not_active Expired - Fee Related
- 2004-05-19 WO PCT/JP2004/007129 patent/WO2004101211A1/ja active Application Filing
- 2004-05-19 KR KR1020057022022A patent/KR100731799B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100731799B1 (ko) | 2007-06-25 |
WO2004101211A1 (ja) | 2004-11-25 |
DE112004000048T5 (de) | 2005-08-18 |
TW200518867A (en) | 2005-06-16 |
CN1700968A (zh) | 2005-11-23 |
KR20060012010A (ko) | 2006-02-06 |
JPWO2004101211A1 (ja) | 2006-07-13 |
TWI275439B (en) | 2007-03-11 |
DE112004000048B4 (de) | 2007-11-08 |
US20050247682A1 (en) | 2005-11-10 |
CN100393470C (zh) | 2008-06-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4466561B2 (ja) | レーザ加工装置 | |
JP4093183B2 (ja) | レーザ加工装置 | |
JP4148138B2 (ja) | レーザ加工装置 | |
KR100955149B1 (ko) | 레이저 가공 장치 | |
KR100500343B1 (ko) | 레이저 가공 장치 | |
KR100955150B1 (ko) | 레이저 가공 장치 | |
JP2004249364A (ja) | 多重ビームレーザ穴あけ加工装置 | |
JP2005514212A (ja) | レーザ加工装置 | |
EP1041422B1 (en) | Laser apparatus for simultaneously generating a plurality of mutually perpendicular laser planes from a single laser source | |
KR100491558B1 (ko) | 광 조사 장치와 광 조사 방법 | |
JP5885173B2 (ja) | レーザ加工装置 | |
JP5349406B2 (ja) | 偏光方位角調整装置およびレーザ加工装置 | |
JP4539652B2 (ja) | レーザ加工装置 | |
KR101742132B1 (ko) | 레이저 가공장치 | |
JP7262081B2 (ja) | レーザ加工装置および光学調整方法 | |
JP2019005802A (ja) | レーザ加工方法及びレーザ加工装置及びレーザ出射ユニット | |
JP5178557B2 (ja) | 分光ユニット及びそれを用いたレーザ加工装置 | |
WO2021187042A1 (ja) | ビーム分岐装置及び分岐比調整方法 | |
JP2014161889A (ja) | レーザ加工装置 | |
JP2005329443A (ja) | レーザ加工機 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060925 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100202 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100215 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4466561 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130305 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130305 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140305 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |