KR100491558B1 - 광 조사 장치와 광 조사 방법 - Google Patents

광 조사 장치와 광 조사 방법 Download PDF

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마쯔시다덴기산교 가부시키가이샤
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Abstract

CO2 레이저 빔(11)을 강도 변환 소자(14), 위상 정합 소자(15)를 이용하여 균일한 강도 분포로 변환하고, 균일한 강도 분포로 피가공물(19)을 가공하는 레이저 가공 장치에 있어서, 광 전송 광학계(13)에 대해, 레이저 빔의 포인팅 벡터의 시점과 강도 변환 소자의 출사면이 서로 공역의 관계가 되도록, 광 전송 광학계(13)를 배치한다.
이 구성에 의해, 레이저 빔의 포인팅 벡터가 변화하여도, 항상 강도 변환 소자의 중심에 레이저 빔이 입사되어, 안정된 가공을 행할 수 있다.

Description

광 조사 장치와 광 조사 방법{LIGHT PROJECTING DEVICE AND LIGHT PROJECTING METHOD}
본 발명은 간섭성 빔을 이용하여 광 조사, 광 가공을 행하는 광 조사 장치와 광 조사 방법에 관한 것이다.
광 가공 장치에 관한 종래 기술에 대해, 일본국 특공평 8-2511호를 이용하여 설명한다. 도 9는 종래예에서의 레이저 가공 장치의 구성도이다.
레이저 발진기(901)로부터 나온 레이저 빔(902A)은 비구면 렌즈(903, 904)에 의해 레이저 빔의 평행성을 유지하면서, 또한 그 단면 형상이 가우스 분포로부터 균일 분포로 변환된다. 균일화된 레이저 빔(902B)은 凸형 원통 렌즈(905)에 의해 수평방향이 일단 집광되어 퍼진다. 그리고, 렌즈(905)보다도 초점 거리가 긴 凸형 원통 렌즈(906)에 의해 레이저 빔(902B)보다도 수평방향이 확대된 평행한 레이저 빔(902C)으로 된다. 레이저 빔(902C)은 반사 밀러(907)에 의해 집광 광학 장치(908)로 입사된다. 그리고, 집광 광학 장치(908) 내의 각각의 평철(平凸) 렌즈(911)에 의해 집광되어, 다점 스폿으로서 피가공물(909)에 조사된다. 더욱이, 피가공물(909)은 X-Y 테이블(910)에 의해 이동되어, 소정의 가공이 실시된다. 비구면 렌즈(903, 904)를 이용하여 레이저 빔(902A)의 강도 분포를 균일 분포로 하고, 평철 렌즈로 집광하여, 다점 스폿으로서 피가공물(909) 위에 조사한다. 이것에 의해, 가공점(912)에서의 레이저 에너지 밀도가 균일하게 되어, 중앙부에서도 주변부에서도 균일하게 가공할 수 있다.
그러나, 이러한 레이저 가공장치는 이하에 기술하는 바와 같은 과제가 있다.
레이저 가공에서는 가공 대상물의 크기나 재질의 종류에 따라, 최적의 가공 조건이 되도록 레이저의 발진 조건을 변화시킨다. 또한, 동일한 가공 대상물에 대해서도 펄스 발진시킨 레이저 빔을 수(數) 펄스 동일 위치에 조사하여 가공을 행하는 경우가 있으며, 이러한 경우는 각 쇼트(shot)마다 레이저 발진 조건을 변화시키면서 가공을 행하는 경우가 있다. 레이저 발진기(901)로부터 출력되는 레이저 빔(902A)은 공진기 내부의 광학계의 열 렌즈 효과 등으로 포인팅 벡터가 발진 조건의 변화에 따라 변화되는 경우가 많다. 특히, 슬래브 레이저 등의 불안정 공진기나, 공진기 내부나 외부에 파장 변환 소자 등 다수의 광학 소자를 배치하는 레이저 발진기에서, 발진 조건의 변화에 따라 포인팅 벡터가 실제로 변화되는 경우가 많다. 이와 같이, 발진 조건의 변화에 따른 포인팅 벡터의 변화가 발생하면, 렌즈(903)에 입사하는 레이저 빔의 위치가 변화한다. 그 결과, 렌즈(904)로부터 입사되는 레이저 빔의 강도 분포의 균일성이 흐트러져, 결과적으로 다점 스폿 가공의 장소에 따라, 가공 상태가 균일하지 않게 된다.
도 1은 본 발명의 실시예 1에서의 레이저 가공 장치의 개략 구성도.
도 2a 및 2b는 본 발명의 실시예 1에서의 레이저 빔의 강도 분포를 보여주는 개념도.
도 3은 본 발명의 실시예 1에 있어서의 빔광 전송 광학계의 구성과 기능을 보여주는 도면.
도 4는 종래의 구성에서의 레이저 빔의 거동을 보여주는 도면.
도 5는 종래의 구성에서의 위상 정합 소자 위치에서의 레이저 빔의 강도 분포를 보여주는 개념도.
도 6은 본 발명의 실시예 2에서의 레이저 가공 장치의 개략 구성도.
도 7은 본 발명의 실시예 2에서의 빔광 전송 광학계의 구성과 기능을 보여주는 도면.
도 8은 종래의 구성에서의 레이저 빔의 거동을 보여주는 도면.
도 9는 종래의 레이저 가공 장치의 개략 구성도.
본 발명은 간섭성 광을 출력하는 광원; 상기 광원과 피조사물의 광로에 배치한 제 1 광학부; 및 제 1 광학부와 피조사물의 광로에 배치한 제 2 광학부를 포함하고, 제 1 광학부에 있어서 제 2 광학부의 입사 위치와 광원의 광의 포인팅 벡터의 시점(始點)이 서로 공역이 되도록 제 1 광학부를 배치한 광 조사 장치이다.
또한, 본 발명은 간섭성 광을 출력하는 광원; 상기 광원과 피조사물의 광로에 배치한 제 1 광학부; 제 1 광학부와 피조사물의 광로에 배치한 제 2 광학부; 및 제 2 광학부와 피조사물의 광로에 배치한 제 3 광학부를 포함하고, 제 1 광학부는 간섭성 광을 제 1 광학부와 상기 제 2 광학부 사이에 집광하여, 제 2 광학부에 있어서 상기 집광 위치와 제 3 광학부의 입사 위치는 서로 공역이 되도록 제 2 광학부를 배치한 광 조사 장치이다.
또한, 본 발명은 광원이 출력한 간섭성 광을, 광원과 피조사물의 광로에 배치한 제 1 광학부와, 제 1 광학부와 피조사물의 광로에 배치한 제 2 광학부로 조정하여 피조사물에 조사할 때, 제 1 광학부에 있어서 제 2 광학부의 입사 위치와 광원의 광의 포인팅 벡터의 시점이 서로 공역이 되도록 제 1 광학부를 배치한 광 조사 방법이다.
또한, 본 발명은 광원이 출력한 간섭성 광을, 광원과 피조사물의 광로에 배치한 제 1 광학부와, 상기 제 1 광학부와 피조사물의 광로에 배치한 제 2 광학부와, 상기 제 2 광학부와 피조사물의 광로에 배치한 제 3 광학부로 조정하여 피조사물에 조사할 때, 제 1 광학계로 간섭성 광을 제 1 광학부와 제 2 광학부 사이에 집광하고, 상기 제 2 광학부에 있어서 상기 집광 위치와 상기 제 3 광학부의 입사 위치는 서로 공역이 되도록 상기 제 2 광학부를 배치한 광 조사 방법이다.
(실시예 1)
도 1은 본 발명의 실시예 1에 있어서의 레이저 가공 장치의 개략 구성도이다.
CO2 레이저 발진기(이하, 발진기라 칭함)(11)로부터 출사(出射)된 TEM00 모드의 CO2 레이저 빔(이하, 레이저 빔이라 칭함)(12A)은 광 전송 광학계(13)에 의해 빔 지름을 강도 변화 소자(14)에 있어서 최적의 지름으로 조정되면서, 강도 변환 소자(14)로 입사된다. 강도 변환 소자(14)를 투과한 레이저 빔(12A)의 강도 분포는 가우스 분포로부터 위상 정합 소자(15)의 위치에서 균일한 분포가 된다. 또한, 위상 정합 소자(15)를 투과한 레이저 빔(12A)의 파면은 변형이 없는 평면 또는 구면이 된다.
도 2a는 가우스 분포를 하고 있는 레이저 빔(12A)의 강도 변환 소자 입사면에서의 강도 분포, 도 2b는 균일한 분포를 하고 있는 레이저 빔(12A)의 위상 정합 소자 출사면에서의 강도 분포를 나타낸다.
위상 정합 소자(15)를 투과한 레이저 빔(12A)은 변배(變倍) 투영 광학계(16)를 투과하여, 마스크(17)로 입사된다. 변배 투영 광학계(16)는 위상 정합 소자(15)의 위치의 상(像)을 마스크(17)의 위치에 투영한다. 즉, 변배 투영 광학계(16)에 대해, 위상 정합 소자(15)의 위치와 마스크(17)의 위치는 공역의 관계에 있다. 위상 정합 소자(15)의 위치에서 균일한 강도 분포와 균일한 위상 분포를 갖는 레이저 빔(12A)은 전파와 동시에 강도 분포의 균일성을 잃게 되지만, 변배 투영 광학계(16)에서 투영된 마스크(17)의 위치에서 다시 균일한 강도 분포가 된다. 또한, 마스크(17)에 있어서, 위상 분포도 균일하게 된다. 또한, 변배 투영 광학계(16)의 투영 배율은 가변하여, 마스크(17) 위치에서의 레이저 빔의 강도 분포 영역의 크기를 마스크(17)의 크기에 대해 최적의 크기로 조정한다.
다음으로, 마스크(17)의 개구부에서의 레이저 빔(12A)은 투영 렌즈(18)에 의해 가공 대상물(19) 위에 투영된다. 마스크(17)의 위치와 가공 대상물(19)의 위치는 투영 렌즈(18)로부터 봐서 공역의 관계에 있기 때문에, 피가공물(19) 위에서의 레이저 빔(12A)의 강도 분포도 균일하게 된다. 또한, 마스크(17)의 크기는 가변하여, 마스크(17)의 크기와 투영 렌즈(18)의 곱(積)으로 부여되는 가공 대상물(19)에서의 레이저 빔(12A)의 강도 분포의 크기를 필요에 따라 변화시킨다. 또한, 광 전송 광학계(13), 강도 변환 소자(14), 위상 정합 소자(15), 변배 투영 광학계(16), 마스크(17), 투영 렌즈(18)는 레이저 빔(12A)의 광축 위에 위치 편차, 경사 없이 배치된다.
여기서, 광 전송 광학계(13)의 기능에 대해 보다 상세하게 설명한다. 발진기(11)로부터 발진되는 레이저 빔(12A)은 발진기(11) 내부의 광학계의 열 렌즈 효과 등에 의해, 발진 조건의 변화 등에 따라, 포인팅 벡터가 변화하는 경우가 많다. 본 실시예와 같은 렌즈 가공의 경우, 가공 대상물의 종류에 따라 최적의 조건으로 레이저의 발진 조건을 변화시킨다. 또한, 동일한 가공 대상물에 대해서도 복수의 쇼트 수에 따라 가공을 행하고, 쇼트 수에 따라 펄스 폭이나 반복 주파수 등을 변화시켜 가공을 행하는 경우가 있다.
도 3에 레이저 빔의 포인팅 벡터가 변화하는 경우의 상태를 나타낸다.
포인팅 벡터가 변화하여, 레이저 빔(12B)과 같은 프로필로 된 것으로 한다. 여기서, 광 전송 광학계(13)에 대해, 레이저 빔(12A)의 포인팅 벡터의 시점(31)과 강도 변환 소자(14)의 출사면은 서로 공역의 관계에 있다. 즉, 광 전송 광학계(13)는 레이저 빔(12A)의 포인팅 벡터의 시점 위치의 상을 강도 변환 소자(14)의 출사면의 위치에 투영하도록 배치된다. 이와 같이 광 전송 광학계(13)를 배치하면, 레이저 빔(12B)과 같이 레이저 빔의 포인팅 벡터가 변화하여도, 항상 강도 변환 소자(14)의 중심에 레이저 빔이 입사된다.
도 4에 포인팅 벡터의 시점(131)과 강도 변환 소자(114)의 출사면이 공역의 관계가 되지 않도록, 광 전송 광학계(113)를 배치한 경우의 종래예를 나타낸다. 이 경우, 강도 변환 소자(114)의 중심에 레이저 빔(112B)은 입사되지 않는다. 레이저 빔의 입사 위치가 강도 변환 소자(114)의 중심으로부터 벗어난 경우, 이러한 구성을 도 1의 레이저 가공 장치에 적용하면, 위상 정합 소자(15) 출사면에서의 강도 분포는 도 5에 나타낸 바와 같이 균일성이 떨어진다.
그래서, 본 실시예에서는 광 전송 광학계(13)를, 레이저 빔(12A)의 포인팅 벡터의 시점 위치(31)의 상을 강도 변환 소자(14) 위에 투영하도록 배치한다. 이것에 의해, 레이저 빔(12B)과 같이 레이저 빔의 포인팅 벡터가 변화하여도, 항상 강도 변환 소자(14)의 중심에 레이저 빔을 입사시켜, 항상 레이저 빔의 강도 분포를 균일하게 변환한다.
(실시예 2)
도 6은 본 발명의 실시예 2에 있어서의 레이저 가공 장치의 개략 구성도이다.
CO2 레이저 발진기(이하, 발진기라 칭함)(601)로부터 출사된 TEM00 모드의 CO2 레이저 빔(이하, 레이저 빔이라 칭함)(602A)은 집광 광학계(603)와 광 전송 광학계(604)에 의해 빔 지름을 조정하면서, 강도 변환 소자(605)로 입사한다. 강도 변환 소자(605)를 투과한 레이저 빔(602A)의 강도 분포는 가우스 분포로부터 위상 정합 소자(606)의 위치에서 균일한 분포가 된다. 또한, 위상 정합 소자(606)를 투과한 레이저 빔(602A)의 파면은 평면 또는 구면으로 된다.
가우스 분포를 하고 있는 레이저 빔(602A)의 강도 변환 소자(605)의 입사면에서의 강도 분포, 균일한 분포를 하고 있는 레이저 빔(602A)의 위상 정합 소자(606)의 출사면에서의 강도 분포는 각각 실시예 1의 도 2a, 도 2b와 동일하다.
위상 정합 소자(606)를 투과한 레이저 빔(602A)은 변배 투영 광학계(607)를 투과하여, 마스크(608)로 입사된다. 변배 투영 광학계(607)는 위상 정합 소자(606)의 위치의 상을 마스크(608)의 위치에 투영한다. 즉, 변배 투영 광학계(607)에 대해, 위상 정합 소자(606)의 위치와 마스크(608)의 위치는 공역의 관계에 있다. 위상 정합 소자(606)의 위치에서 균일한 강도 분포와 균일한 위상 분포를 갖는 레이저 빔(602A)은 전파와 동시에 강도 분포의 균일성을 잃게 되지만, 변배 투영 광학계(607)에서 투영된 마스크(608)의 위치에서 다시 균일한 강도 분포가 된다. 또한, 마스크(608)에 있어서, 위상 분포도 균일하게 된다. 또한, 변배 투영 광학계(606)의 투영 배율은 가변하여, 마스크(608) 위치에서의 레이저 빔의 강도 분포 영역의 크기를 마스크의 크기에 대해 최적의 크기로 조정한다.
다음으로, 마스크(608)의 개구부에서의 레이저 빔은 투영 렌즈(609)에 의해 가공 대상물(610) 위에 투영된다. 마스크(608)의 위치와 가공 대상물(610)의 위치는 투영 렌즈(609)로부터 봐서 공역의 관계에 있기 때문에, 피가공물(610) 위에서의 레이저 빔(602A)의 강도 분포도 균일하게 된다. 또한, 마스크(608)의 크기는 가변하여, 마스크(608)의 크기와 투영 렌즈(609)의 곱으로 부여되는 가공 대상물(610)에서의 레이저 빔(602A)의 강도 분포의 크기를 필요에 따라 변화시킨다. 또한, 집광 광학계(603), 광 전송 광학계(604), 강도 변환 소자(605), 위상 정합 소자(606), 변배 투영 광학계(607), 마스크(608), 투영 렌즈(609)는 레이저 빔(602A)의 광축 위에 위치 편차, 경사 없이 배치된다.
여기서, 집광 광학계(603), 광 전송 광학계(604)의 기능에 대해 보다 상세하게 설명한다.
레이저 발진기(601)로부터 발진되는 레이저 빔(602A)은 발진 조건의 변화 등에 따라, 발진기 내부의 광학계의 열 렌즈 효과 등에 의해 포인팅 벡터가 변화하는 경우가 많다. 본 실시예의 렌즈 가공 장치에서는 가공 대상물의 종류에 따라 가공에 최적인 조건으로 레이저의 발진 조건을 변화시킨다. 또한, 동일한 가공 대상물에 대해서도 복수의 쇼트 수에 따라 가공을 행하고, 쇼트 수에 따라 펄스 폭이나 반복 주파수 등을 변화시켜 가공을 행하는 경우가 있다.
도 7에 레이저 빔(602A)의 포인팅 벡터가 변화하는 경우의 상태를 나타낸다.
포인팅 벡터가 변화하여, 레이저 빔(602B)과 같은 상태로 된 것으로 한다. 집광 광학계(603)는 레이저 빔(602A) 또는 레이저 빔(602B)을 집광 광학계(603)와 광 전송 광학계(604) 사이에 집광시킨다. 그리고, 광 전송 광학계(604)는 이 집광점(611)에서의 레이저 빔을 강도 변환 소자(605)의 출사면 위에 투영한다. 즉, 광 전송 광학계(604)에 대해, 집광점(611)과 강도 변환 소자(605)의 출사면은 공역의 관계에 있다. 또한, 집광 광학계(603)로 이루어지는 광학계의 투영 배율은 강도 변환 소자(605)로 입사되는 레이저 빔을 소정의 빔 지름으로 하도록 결정된다.
도 7에 나타낸 바와 같이, 레이저 빔의 포인팅 벡터의 시점이 레이저 발진기측을 향하여 무한 원점에 있는 경우에는 포인팅 벡터가 평행하게 시프트된다. 이러한 경우에 있어서, 본 실시예에 나타내는 집광 광학계(603)와 광 전송 광학계(604)를 이용함으로써, 레이저 빔의 포인팅 벡터가 평행하게 시프트되어도, 강도 변환 소자(605)의 중심에 레이저 빔을 입사시킬 수 있다.
도 8에 광 전송 광학계(704)에 대해, 집광점(711)과 강도 변환 소자(705)의 출사면이 공역의 관계가 되지 않도록, 광 전송 광학계(704)를 배치한 경우의 종래예를 나타낸다. 이 경우, 강도 변환 소자(705)의 중심에 레이저 빔(702B)은 입사되지 않는다. 강도 변환 소자(705)로 입사되는 레이저 빔의 입사 위치가 강도 변환 소자의 중심으로부터 어긋난 경우, 이러한 구성을 도 6의 레이저 가공 장치에 적용하면, 위치 정합 소자(606) 출사면에서의 강도 분포는 실시예 1의 도 5와 마찬가지로 균일성이 떨어진다. 그래서, 본 실시예에서는 집광 광학계(603)와 광 전송 광학계(604)를 이용하여 레이저 빔(602A)을 집광 광학계(603)와 광 전송 광학계(604) 사이에 집광시키고, 광 전송 광학계(604)로 이 집광점(611)에서의 레이저 빔을 광도 변환 소자(605)의 출사면 위에 투영한다. 이것에 의해, 레이저 빔(602B)과 같이 레이저 빔의 포인팅 벡터가 변화하여도, 항상 강도 변환 소자(605)의 중심에 레이저 빔을 입사시켜, 레이저 빔의 강도 분포를 균일하게 변환한다.
또한, 지금까지 기술한 실시예에서, 레이저 빔은 CO2 레이저 빔으로 하였지만, YAG 레이저나 He-Ne 레이저 등 가공에 적합한 광을 이용하여도 무방하다.
본 발명에 의하면, 레이저 빔을 균일한 강도 분포로 변환하여, 가공 조사를 행하는 장치에 있어서, 하기 중 어느 하나의 구성으로 함으로써, 레이저 빔의 포인팅 벡터가 변화하여도, 항상 품질이 안정된 가공을 행할 수 있다.
A) 광 전송 광학계에 있어서 강도 변환 소자의 입사 위치와 광원의 광선의 포인팅 벡터의 시점이 서로 공역이 되도록 광 전송 광학계를 배치한다.
(B) 집광 광학계로 간섭성 광을 집광 광학계와 광 전송 광학계 사이에 집광하고, 광 전송 광학계에 있어서 그 집광 위치와 강도 변환 소자의 입사 위치가 서로 공역이 되도록 광 전송 광학계를 배치한다.

Claims (28)

  1. 간섭성 광을 출력하는 광원;
    상기 광원과 피조사물의 광로에 배치한 제 1 광학부; 및
    상기 제 1 광학부와 피조사물의 광로에 배치한 제 2 광학부를 포함하고,
    상기 제 1 광학부에 있어서 상기 제 2 광학부의 입사 위치와 상기 광원의 광선의 포인팅 벡터의 시점은 서로 공역이 되도록 상기 제 1 광학부를 배치한 광 조사 장치.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 제 2 광학부는 빔 정형 광학부인 광 조사 장치.
  3. 제 2항에 있어서, 상기 빔 정형 광학부는 빔의 강도 분포를 균일하게 하는 광학 소자인 광 조사 장치.
  4. 제 1항에 있어서, 상기 제 1 광학부는 2장 이상의 렌즈로 구성되는 광 조사 장치.
  5. 제 1항에 있어서, 상기 광원은 레이저 발진기인 광 조사 장치.
  6. 제 1항에 있어서, 상기 제 2 광학부와 피조사물의 광로에 적어도 제 3 광학부를 더 포함하는 광 조사 장치.
  7. 제 1항에 있어서, 상기 광원이 출력하는 간섭성 광에 의해 피조사물을 가공하는 광 조사 장치.
  8. 간섭성 광을 출력하는 광원;
    상기 광원과 피조사물의 광로에 배치한 제 1 광학부;
    상기 제 1 광학부와 피조사물의 광로에 배치한 제 2 광학부; 및
    상기 제 2 광학부와 피조사물의 광로에 배치한 제 3 광학부를 포함하고,
    상기 제 1 광학부는 상기 간섭성 광을 상기 제 1 광학부와 상기 제 2 광학부 사이에 집광하여, 상기 집광 위치가 상기 제 2 광학부에 있어서 상기 제 3 광학부의 입사 위치와는 서로 공역이 되도록 상기 제 2 광학부를 배치한 광 조사 장치.
  9. 제 8항에 있어서, 상기 제 3 광학부는 빔 정형 광학부인 광 조사 장치.
  10. 제 9항에 있어서, 상기 빔 정형 광학부는 빔의 강도 분포를 균일하게 하는 광학 소자인 광 조사 장치.
  11. 제 8항에 있어서, 상기 제 2 광학부는 2장 이상의 렌즈로 구성되는 광 조사 장치.
  12. 제 8항에 있어서, 상기 광원은 레이저 발진기인 광 조사 장치.
  13. 제 8항에 있어서, 상기 제 3 광학부와 피조사물의 광로에 적어도 제 4 광학부를 더 포함하는 광 조사 장치.
  14. 제 8항에 있어서, 상기 광원이 출력하는 간섭성 광에 의해 피조사물을 가공하는 광 조사 장치.
  15. 광원으로부터 간섭성 광을 출력하는 단계;
    상기 광원과 피조사물의 광로에 배치한 제 1 광학부와, 상기 제 1 광학부와 피조사물의 광로에 배치한 제 2 광학부에 의해 상기 간섭성 광을 조정하는 단계; 및
    상기 피조사물에 광 조사하는 단계를 포함하고,
    상기 제 1 광학부에 있어서 상기 제 2 광학부의 입사 위치와 상기 광원으로부터 출력되는 광의 포인팅 벡터의 시점은 서로 공역이 되도록 상기 제 1 광학부를 배치한 광 조사 방법.
  16. 제 15항에 있어서, 상기 제 2 광학부는 빔 정형 광학부인 광 조사 방법.
  17. 제 16항에 있어서, 상기 빔 정형 광학부는 빔의 강도 분포를 균일하게 하는 광학 소자인 광 조사 방법.
  18. 제 15항에 있어서, 상기 제 1 광학부는 2장 이상의 렌즈로 구성되는 광 조사 방법.
  19. 제 15항에 있어서, 상기 광원은 레이저 발진기인 광 조사 방법.
  20. 제 15항에 있어서, 상기 제 2 광학부와 피조사물의 광로에 설치한 제 3 광학부를 적어도 이용하여 간섭성 광을 조정하는 단계를 더 포함하는 광 조사 방법.
  21. 제 15항에 있어서, 상기 피조사물에 광 조사하는 단계에서 상기 피조사물을 광 가공하는 광 조사 방법.
  22. 광원으로부터 간섭성 광을 출력하는 단계;
    상기 광원과 피조사물의 광로에 배치한 제 1 광학부와, 상기 제 1 광학부와 피조사물의 광로에 배치한 제 2 광학부와, 상기 제 2 광학부와 피조사물의 광로에 배치한 제 3 광학부에 의해 상기 간섭성 광을 조정하는 단계; 및
    상기 피조사물에 광 조사하는 단계를 포함하며,
    상기 간섭성 광을 조정하는 단계는 상기 제 1 광학부가 상기 간섭성 광을 상기 제 1 광학부와 상기 제 2 광학부 사이에 집광하는 단계를 포함하고,
    상기 집광 위치가 상기 제 2 광학부에 있어서 상기 제 3 광학부의 입사 위치와는 서로 공역이 되도록 상기 제 2 광학부를 배치한 광 조사 방법.
  23. 제 22항에 있어서, 상기 제 3 광학부는 빔 정형 광학부인 광 조사 방법.
  24. 제 23항에 있어서, 상기 빔 정형 광학부는 빔의 강도 분포를 균일하게 하는 광학 소자인 광 조사 방법.
  25. 제 22항에 있어서, 상기 제 2 광학부는 2장 이상의 렌즈로 구성되는 광 조사 방법.
  26. 제 22항에 있어서, 상기 광원은 레이저 발진기인 광 조사 방법.
  27. 제 22항에 있어서, 상기 제 3 광학부와 피조사물의 광로에 설치한 제 4 광학부를 적어도 이용하여 간섭성 광을 조정하는 단계를 더 포함하는 광 조사 방법.
  28. 제 22항에 있어서, 상기 피조사물에 광 조사하는 단계에서 상기 피조사물을 광 가공하는 광 조사 방법.
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