JP4426276B2 - Conveying device, coating system, and inspection system - Google Patents

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Description

本発明は、ガラス基板などの被搬送物を搬送する搬送装置、これを備える塗布システム及び検査システムに関する。   The present invention relates to a transport apparatus that transports an object to be transported such as a glass substrate, and a coating system and an inspection system including the transport apparatus.

ガラス基板上にフォトレジストなどの塗布液を塗布するための塗布システムとして、例えば特許文献1に開示されているものがある。この塗布システムは、塗布液を塗布するための塗布装置と、塗布装置に対してガラス基板を移動させるための搬送装置と、を備えている。搬送装置は、ガラス基板を全面で吸着して保持するベースを有し、ガラス基板を吸着した状態でベースごと移動させることで、塗布装置に対してガラス基板を移動させる。   As a coating system for coating a coating solution such as a photoresist on a glass substrate, for example, there is one disclosed in Patent Document 1. This coating system includes a coating device for coating a coating solution and a transport device for moving the glass substrate with respect to the coating device. The transport device has a base that sucks and holds the glass substrate over the entire surface, and moves the glass substrate relative to the coating device by moving the base together with the glass substrate being sucked.

なお、ガラス基板はベース上に固定したままで、ガラス基板に対して塗布装置を移動させるようにした塗布システムも開発されている(例えば、特許文献2参照)。
特開平8−243476号公報 特開2002−200450号公報
In addition, a coating system has been developed in which the coating apparatus is moved with respect to the glass substrate while the glass substrate is fixed on the base (see, for example, Patent Document 2).
JP-A-8-243476 JP 2002-200450 A

しかしながら、近年、液晶用のガラス基板のサイズが大型化しているため、上記した特許文献1に開示の搬送装置では、ベースの重量が重くなり過ぎ、搬送に必要な推力が増大して、ガラス基板の搬送が困難になるという問題があった。また、ガラス基板に対して塗布装置を移動させるタイプの特許文献2に開示の塗布システムでは、またガラス基板の大型化によりガントリが大きくなって重量の増大を招くため、十分な移動精度が取れなくなるという問題があった。   However, in recent years, since the size of the glass substrate for liquid crystal has been increased, in the transfer device disclosed in Patent Document 1 described above, the weight of the base becomes too heavy, and the thrust required for transfer increases, so that the glass substrate is increased. There has been a problem that it becomes difficult to transport. In addition, in the coating system disclosed in Patent Document 2 in which the coating apparatus is moved with respect to the glass substrate, the gantry becomes large due to the increase in the size of the glass substrate, resulting in an increase in weight. There was a problem.

そこで、ガラス基板の一部を保持してガラス基板自体を搬送することを考えたが、この場合、均一な塗布を図るためには、ガラス基板のたわみを抑制する必要がある。   Therefore, it has been considered to hold a part of the glass substrate and transport the glass substrate itself. In this case, in order to achieve uniform coating, it is necessary to suppress the deflection of the glass substrate.

本発明は、上記した事情に鑑みて為されたものであり、搬送に必要な推力の低減を図り、且つ被搬送物のたわみを抑制することが可能な搬送装置、これを備える塗布システム及び検査システムを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, a transport device capable of reducing the thrust required for transport and suppressing the deflection of the transported object, a coating system including the transport device, and an inspection. The purpose is to provide a system.

本発明に係る搬送装置は、(1)基板である被搬送物の搬送方向に延びる主面を有するベースと、(2)搬送方向に延びるガイド部材と、(3)ガイド部材にガイドされて搬送方向に移動可能な移動部材と、(4)移動部材に固定され主面から間隙を於いて被搬送物を吸着して保持する保持部材と、(5)ベース上の搬送方向における一部領域において、搬送方向に搬送される被搬送物に対し前記被搬送物のたわみを矯正するよう気体の吐出及び吸引を行うための気体吐出吸引機構と、を備え、気体吐出吸引機構に含まれ気体を通す吐出用の孔及び吸引用の孔は、ベース上から見て互いに独立して配置されると共に前記搬送方向及び該搬送方向に直交する方向に互いに隣り合うよう構成されていることを特徴とする。
The transport apparatus according to the present invention includes (1) a base having a main surface that extends in the transport direction of an object to be transported as a substrate , (2) a guide member that extends in the transport direction, and (3) transport guided by the guide member. a moving member movable in a direction, (4) and the holding member for holding by adsorbing conveyed object at a gap from the main surface is fixed to the moving member, in the area portion in the transport direction of the (5) base A gas discharge / suction mechanism for discharging and sucking gas so as to correct the deflection of the object to be transferred in the transfer direction. The discharge hole and the suction hole are arranged independently from each other when viewed from above the base, and are configured to be adjacent to each other in the transport direction and the direction orthogonal to the transport direction .

この装置によれば、保持部材により被搬送物を保持し、ガイド部材により移動部材を搬送方向にガイドして移動させることで、被搬送物が搬送方向に搬送される。このとき、ベース上の搬送方向における一部領域において、気体吐出吸引機構により被搬送物に対して気体の吐出及び吸引を行うことができる。このように、この搬送装置では、被搬送物を移動させるときにベースごと移動させる必要がないため、搬送に必要な推力の低減を図ることができる。また、搬送経路上の一部領域において被搬送物に対し気体の吐出及び吸引を行うことができるため、当該一部領域において被搬送物のたわみを抑制することができる。   According to this apparatus, the object to be transported is transported in the transport direction by holding the object to be transported by the holding member and guiding and moving the moving member in the transport direction by the guide member. At this time, in a partial region in the transport direction on the base, gas discharge and suction can be performed on the object to be transported by the gas discharge suction mechanism. Thus, in this transport apparatus, it is not necessary to move the entire base when moving the object to be transported, so that it is possible to reduce the thrust required for transport. In addition, since gas can be discharged and sucked from the transported object in a partial area on the transport path, deflection of the transported object can be suppressed in the partial area.

本発明に係る搬送装置では、ガイド部材は一軸で構成されていることを特徴としてもよい。このようにすれば、被搬送物は一方の側縁の側から保持される。   In the transport apparatus according to the present invention, the guide member may be configured as a single shaft. If it does in this way, a to-be-conveyed object is hold | maintained from the side of one side edge.

本発明に係る搬送装置では、保持部材は、ベースの主面の法線方向についてバネ性を有することを特徴としてもよい。このようにすれば、ベースの主面の法線方向について被搬送物の高さ位置を微調整することができ、被搬送物が気体吐出吸引機構に当たる等の不具合が生じるおそれを低減することができる。   In the transport device according to the present invention, the holding member may have a spring property in the normal direction of the main surface of the base. In this way, the height position of the object to be conveyed can be finely adjusted in the normal direction of the main surface of the base, and the possibility that the object to be conveyed hits the gas discharge suction mechanism can be reduced. it can.

本発明に係る搬送装置では、保持部材は、ベースの主面の法線方向及び搬送方向の双方に直交する方向についてバネ性を有することを特徴としてもよい。このようにすれば、ガイド部材を二軸で構成するような場合において、ガイド部材の歪みにより両ガイド部材の間隔が変動しても、保持部材に保持されている被搬送物が破損したり、保持部材からの保持が外れたり、ズレたりするおそれを低減することができる。   In the transport apparatus according to the present invention, the holding member may have a spring property in a direction orthogonal to both the normal direction of the main surface of the base and the transport direction. In this way, in the case where the guide member is constituted by two shafts, even if the distance between the two guide members varies due to the distortion of the guide member, the conveyed object held by the holding member may be damaged, It is possible to reduce the possibility that the holding member comes off or shifts.

本発明に係る搬送装置は、ベースの主面と平行な面内における、被搬送物の回転を是正する回転是正手段を備えることを特徴としてもよい。このようにすれば、所定作業時に被搬送物の回転を嫌う系において、作業を好適に行うことが可能となる。   The transport apparatus according to the present invention may include a rotation correcting means for correcting the rotation of the object to be transported in a plane parallel to the main surface of the base. In this way, the work can be suitably performed in a system that dislikes the rotation of the conveyed object during a predetermined work.

本発明に係る搬送装置は、ベース上の一部領域以外の領域において、ベース側から被搬送物に向けて気体を吐出する第1の気体吐出機構を備えることを特徴としてもよい。このようにすれば、保持部材にかかる重量負荷が軽減され、被搬送物の搬送が容易になる。   The transfer device according to the present invention may include a first gas discharge mechanism that discharges gas from the base side toward the transfer object in a region other than a partial region on the base. In this way, the weight load applied to the holding member is reduced, and the conveyance of the object to be conveyed becomes easy.

本発明に係る搬送装置では、被搬送物はガラス基板であることを特徴としてもよい。   In the transport apparatus according to the present invention, the object to be transported may be a glass substrate.

本発明に係る塗布システムは、上記した搬送装置と、被搬送物に対して塗布液を塗布するための塗布装置と、を備え、吐出吸引機構は、一部領域において、対向する一対の主面を有する被搬送物の一方の主面側に気体を吐出及び吸引し、塗布装置は、一部領域において、被搬送物の他方の主面側に塗布液を塗布する、ことを特徴とする。   A coating system according to the present invention includes the above-described transport device and a coating device for applying a coating liquid to a transported object, and the discharge suction mechanism has a pair of main surfaces facing each other in a partial region. A gas is discharged and sucked to one main surface side of the object to be conveyed, and the coating apparatus applies the coating liquid to the other main surface side of the object to be conveyed in a partial region.

この塗布システムでは、ベース上の一部領域において被搬送物に対し気体の吐出及び吸引を行うことで、当該一部領域において被搬送物のたわみを抑制し、平面度を上げた状態で塗布液を塗布することができるため、塗布液を均一に塗布することが可能となる。   In this coating system, gas is discharged and sucked from a transported object in a partial area on the base, thereby suppressing the deflection of the transported object in the partial area and increasing the flatness. Therefore, it is possible to uniformly apply the coating liquid.

本発明に係る塗布システムは、一部領域において、塗布装置よりも前段で、他方の主面側に被搬送物に対して気体を吐出する第2の気体吐出機構を備えることを特徴としてもよい。このようにすれば、一部領域における被搬送物の平面度をより高めることができ、塗布液をより均一に塗布することが可能となる。   The coating system according to the present invention may include a second gas discharge mechanism that discharges gas to the object to be transported on the other main surface side in a part of the region before the coating device. . If it does in this way, the flatness of the to-be-conveyed object in a partial area | region can be improved more, and it becomes possible to apply | coat a coating liquid more uniformly.

本発明に係る塗布方法は、対向する一対の主面を有する基板である被搬送物をベース上にて保持部材で吸着し保持して搬送しながら塗布液を塗布する塗布方法であって、被搬送物に対して一方の主面側に、被搬送物のたわみを矯正するよう気体を気体吐出吸引機構で吐出及び吸引しながら、他方の主面側に塗布液を塗布する工程を含み、塗布液を塗布する工程においては、気体吐出吸引機構に含まれベース上から見て互いに独立して配置されると共に搬送方向及び該搬送方向に直交する方向に互いに隣り合うよう構成された吸引用の孔及び吐出用の孔を通して、気体を吐出及び吸引することを特徴とする。 The coating method according to the present invention is a coating method for applying a coating liquid while adsorbing and holding an object to be conveyed, which is a substrate having a pair of opposed main surfaces , on a base with a holding member , A step of applying a coating liquid on the other main surface side while discharging and sucking a gas with a gas discharge suction mechanism to correct the deflection of the transferred object on one main surface side with respect to the transferred object ; In the step of applying the coating liquid, the suction liquid is included in the gas discharge suction mechanism and is arranged independently of each other when viewed from above, and is configured to be adjacent to each other in the transport direction and the direction perpendicular to the transport direction . Gas is discharged and sucked through the hole and the discharge hole.

この塗布方法では、被搬送物のたわみを抑制し、平面度を上げた状態で状態で塗布液を塗布することができるため、塗布液を均一に塗布することが可能となる。   In this coating method, since the coating liquid can be applied in a state where the deflection of the conveyed object is suppressed and the flatness is increased, the coating liquid can be uniformly applied.

本発明に係る検査システムは、上記した搬送装置と、被搬送物の検査を行うための検査装置と、を備え、気体吐出吸引機構は、一部領域において、対向する一対の主面を有する被搬送物の一方の主面側に気体を吐出及び吸引し、検査装置は、一部領域において、被搬送物の他方の主面側から被搬送物を検査することを特徴とする。   An inspection system according to the present invention includes the above-described transfer device and an inspection device for inspecting an object to be transported, and the gas discharge suction mechanism has a pair of main surfaces facing each other in a partial area. Gas is discharged and sucked to one main surface side of the conveyed object, and the inspection apparatus inspects the conveyed object from the other main surface side of the conveyed object in a partial region.

この検査システムでは、ベース上の一部領域において被搬送物に対し気体の吐出及び吸引を行うことで、当該一部領域において被搬送物のたわみを抑制し、平面度を上げた状態で検査することができるため、検査精度の向上を図ることが可能となる。   In this inspection system, by injecting and sucking gas to and from the object to be conveyed in a partial area on the base, the inspection of the partial object in a state where the deflection of the object to be conveyed is suppressed and the flatness is increased. Therefore, it is possible to improve the inspection accuracy.

本発明に係る搬送装置において、保持部材は、搬送方向に沿って延びる基体部と、基体部からベースの主面の法線方向及び搬送方向の双方に直交する方向に延設された複数の支持梁部と、複数の支持梁部の先端にそれぞれ設けられており、被搬送物を吸着して保持するための吸着部と、を含む保持機構を有し、複数の支持梁部の各々は、少なくともベースの主面の法線方向についてバネ性を有すると共に、自身の軸周りにねじれ性を有することを特徴としてもよい。このようにすれば、ベース上の一部領域において気体の吐出及び吸引を行うことにより、被搬送物の高さが搬送方向に異なったものになる場合であっても、被搬送物を毀損することなく、確実に保持することができる。   In the transport apparatus according to the present invention, the holding member includes a base portion extending along the transport direction and a plurality of supports extending from the base portion in a direction perpendicular to both the normal direction of the main surface of the base and the transport direction. Each having a holding mechanism including a beam portion and a suction portion for sucking and holding the object to be conveyed, each of the plurality of support beam portions, It may have a spring property at least in the normal direction of the main surface of the base, and may have a twist property around its own axis. In this way, by carrying out gas discharge and suction in a partial area on the base, even if the height of the transported object differs in the transport direction, the transported object is damaged. And can be held securely.

本発明に係る搬送装置は、移動部材及び保持部材をそれぞれ二個備え、移動部材の各々は、独立に速度制御可能に設けられており、保持部材の各々による被搬送物の保持位置が、ベースの主面の法線方向及び搬送方向の双方に直交する方向についてずれていることを特徴としてもよい。このようにすれば、二個の移動部材の移動速度を制御することで、ベースの主面と平行な面内における被搬送物の回転が是正され、所定作業時に被搬送物の回転を嫌う系において、作業を好適に行うことが可能となる。   The transport apparatus according to the present invention includes two moving members and two holding members, each of which is provided so that the speed can be controlled independently, and the holding position of the object to be transported by each of the holding members is the base. It is good also as the characteristic which has shifted | deviated about the direction orthogonal to both the normal line direction of this principal surface, and a conveyance direction. In this way, by controlling the moving speed of the two moving members, the rotation of the conveyed object in the plane parallel to the main surface of the base is corrected, and the system which dislikes the rotation of the conveyed object during a predetermined work Thus, the operation can be suitably performed.

本発明によれば、搬送に必要な推力の低減を図り、且つ被搬送物のたわみを抑制することが可能な搬送装置、これを備える塗布システム及び検査システムを提供することが可能となる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it becomes possible to provide the conveyance apparatus which can reduce the thrust required for conveyance, and can suppress the bending of a to-be-conveyed object, an application | coating system provided with this, and an inspection system.

以下、添付図面を参照して本発明の実施形態について説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
(第1実施形態)
図1は、本実施形態に係る塗布システムの構成を示す斜視図である。また図2は、本実施形態に係る塗布システムの構成を示す平面図である。なお、図2においては、塗布装置14及びガントリ40は一点鎖線で示している。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In the description of the drawings, the same elements are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.
(First embodiment)
FIG. 1 is a perspective view showing a configuration of a coating system according to the present embodiment. FIG. 2 is a plan view showing the configuration of the coating system according to the present embodiment. In FIG. 2, the coating device 14 and the gantry 40 are indicated by alternate long and short dash lines.

図1及び図2に示すように、塗布システム10は、搬送装置12と、塗布装置14と、を備えている。搬送装置12は、ベース16と、1対のガイドレール(ガイド部材)18と、4つのスライダ(移動部材)20と、駆動機構22と、4つの保持部材24と、空気吐出吸引機構(気体吐出吸引機構)26と、を備えている。   As illustrated in FIGS. 1 and 2, the coating system 10 includes a transport device 12 and a coating device 14. The transport device 12 includes a base 16, a pair of guide rails (guide members) 18, four sliders (moving members) 20, a drive mechanism 22, four holding members 24, and an air discharge suction mechanism (gas discharge). Suction mechanism) 26.

ベース16は、外形が直方体状をなし、床面などの水平面上に載置される。このベース16の上面(主面)16aは、所定方向に延びている。このベース16の上面16aの延びる方向が、ガラス基板(被搬送物)28の搬送方向となる。ベース16の幅は、ガラス基板28の幅よりも大きめに設けられている。なお、以下の説明においては、図1に示すように、ベース16の上面16aの延びる方向を搬送方向X、ベース16の上面16aの法線方向を鉛直方向Z、搬送方向X及び鉛直方向Zの双方に直交する方向を幅方向Yという。   The base 16 has a rectangular parallelepiped shape, and is placed on a horizontal surface such as a floor surface. An upper surface (main surface) 16a of the base 16 extends in a predetermined direction. The direction in which the upper surface 16 a of the base 16 extends is the transport direction of the glass substrate (conveyed object) 28. The width of the base 16 is set larger than the width of the glass substrate 28. In the following description, as shown in FIG. 1, the direction in which the upper surface 16a of the base 16 extends is the transport direction X, the normal direction of the upper surface 16a of the base 16 is the vertical direction Z, the transport direction X, and the vertical direction Z. The direction orthogonal to both is referred to as the width direction Y.

1対のガイドレール18は、搬送方向Xに延びるように、ベース16の上面16aに設置されている。これら1対のガイドレール18は、ガラス基板28の幅よりも若干大きめの間隔を開けて、互いに平行に配置されている。   The pair of guide rails 18 are installed on the upper surface 16a of the base 16 so as to extend in the transport direction X. The pair of guide rails 18 are arranged in parallel to each other with an interval slightly larger than the width of the glass substrate 28.

スライダ20は、1対のガイドレール18それぞれに2個ずつ設けられている。各スライダ20は、ガイドレール18にガイドされて、搬送方向Xに移動可能に設けられている。   Two sliders 20 are provided for each of the pair of guide rails 18. Each slider 20 is guided by the guide rail 18 so as to be movable in the transport direction X.

駆動機構22は、図3に示すように、固定子30と可動子32とを含むリニアモータ機構から構成されている。固定子30は、一対のガイドレール18それぞれの外側において、ガイドレール18に沿うようにベース16上に設けられている。可動子32は、図1から図3に示すように、固定子30と作用して駆動される駆動体33と、駆動体33の両端から搬送方向Xに延設され駆動体33とスライダ20とを連結する連結部材37と、を含んでいる。連結部材37は、スライダ20の外側面にそれぞれに固定されている。これにより、各ガイドレール18に設けられた2つのスライダ20は、一定距離を保ったまま同期して移動する。   As shown in FIG. 3, the drive mechanism 22 includes a linear motor mechanism that includes a stator 30 and a mover 32. The stator 30 is provided on the base 16 along the guide rails 18 on the outer sides of the pair of guide rails 18. As shown in FIGS. 1 to 3, the mover 32 includes a drive body 33 that is driven by acting with the stator 30, and extends from both ends of the drive body 33 in the transport direction X. And a connecting member 37 for connecting the two. The connecting member 37 is fixed to the outer surface of the slider 20. As a result, the two sliders 20 provided on each guide rail 18 move synchronously while maintaining a certain distance.

保持部材24は、4つのスライダ20の内側面にそれぞれ固定されている。保持部材24は、図3に示すように、吸着部34とバネ板部36とを含んでいる。この保持部材24は、吸着部34でのエア引きにより、ガラス基板28の側縁部を吸着して確実に保持する。これら保持部材24により、ガラス基板28はベース16の上面16aから離間した状態で保持される。バネ板部36は、鉛直方向Zに沿って延びる基部36aと、幅方向Yに沿って延びる屈曲部36bとを含んでいる。吸着部34は、屈曲部36b上に固定されている。   The holding members 24 are respectively fixed to the inner surfaces of the four sliders 20. As shown in FIG. 3, the holding member 24 includes a suction portion 34 and a spring plate portion 36. The holding member 24 sucks and holds the side edge portion of the glass substrate 28 with air suction by the suction portion 34. By these holding members 24, the glass substrate 28 is held in a state of being separated from the upper surface 16 a of the base 16. The spring plate portion 36 includes a base portion 36 a that extends along the vertical direction Z and a bent portion 36 b that extends along the width direction Y. The adsorption part 34 is fixed on the bent part 36b.

ここで、バネ板部36の屈曲部36bは、図3に示すように、鉛直方向Zにバネ性を有すると好ましい。このようにすれば、保持部材24は鉛直方向Zにバネ性を有することとなり、鉛直方向Zについてガラス基板28の高さ位置を微調整することができる。これにより、ガラス基板28が気体吐出吸引機構26に当たる等の不具合が生じるおそれを低減することができる。   Here, it is preferable that the bent part 36b of the spring plate part 36 has a spring property in the vertical direction Z as shown in FIG. In this way, the holding member 24 has a spring property in the vertical direction Z, and the height position of the glass substrate 28 can be finely adjusted in the vertical direction Z. As a result, it is possible to reduce the possibility that a problem such as the glass substrate 28 hitting the gas discharge suction mechanism 26 will occur.

また、一方のガイドレール18上に設けられた2つのスライダ20に固定された保持部材24について、バネ板部36の基部36aは、図3に示すように、幅方向Yにバネ性を有すると好ましい。このようにすれば、保持部材24は幅方向Yにバネ性を有することとなる。その結果、ガイドレール18が歪んでいるとき、他方のガイドレール18側を基準として、ガラス基板28の幅方向Yのズレやベース16の上面16aと平行な面内におけるガラス基板28の回転を是正することが可能となる(回転是正手段)。   Further, regarding the holding member 24 fixed to the two sliders 20 provided on the one guide rail 18, the base portion 36a of the spring plate portion 36 has a spring property in the width direction Y as shown in FIG. preferable. In this way, the holding member 24 has a spring property in the width direction Y. As a result, when the guide rail 18 is distorted, the displacement in the width direction Y of the glass substrate 28 and the rotation of the glass substrate 28 in a plane parallel to the upper surface 16a of the base 16 are corrected with respect to the other guide rail 18 side. (Rotation correction means).

空気吐出吸引機構26は、ベース16上であって後述する塗布装置14の下方の塗布領域(一部領域)に設けられている。この空気吐出吸引機構26は、図3に示すように、ガラス基板28の下面(一方の主面)28a側に空気(気体)を吐出及び吸引する。空気吐出吸引機構26は、空気を通す複数の孔26aを有しており、これら複数の孔26aは、搬送方向X及び幅方向Yに規則的に配列されている。空気吐出吸引機構26の幅方向Yの長さは、ガラス基板28の幅と略同一に設けられている。空気吐出吸引機構26の搬送方向Xの長さは、塗布装置14の前後に十分な長さを採ると好ましい。一例として、搬送方向Xの長さが2300mm、幅方向Yの長さが2000mm、厚みが0.6mmのガラス基板28を250mm/secで搬送するとき、空気吐出吸引機構26の搬送方向Xの長さは、少なくとも400mm〜500mm程度採ると好ましい。   The air discharge / suction mechanism 26 is provided on the base 16 in a coating region (partial region) below the coating device 14 described later. As shown in FIG. 3, the air discharge / suction mechanism 26 discharges and sucks air (gas) to the lower surface (one main surface) 28a side of the glass substrate 28. The air discharge / suction mechanism 26 has a plurality of holes 26a through which air passes, and the plurality of holes 26a are regularly arranged in the transport direction X and the width direction Y. The length of the air discharge suction mechanism 26 in the width direction Y is provided substantially the same as the width of the glass substrate 28. The length of the air discharge suction mechanism 26 in the transport direction X is preferably a sufficient length before and after the coating device 14. As an example, when a glass substrate 28 having a length in the transport direction X of 2300 mm, a length in the width direction Y of 2000 mm, and a thickness of 0.6 mm is transported at 250 mm / sec, the length of the air discharge suction mechanism 26 in the transport direction X The thickness is preferably at least about 400 mm to 500 mm.

塗布装置14は、ガラス基板28の上面(他方の主面)28b側にフォトレジスト液などの塗布液を塗布する。塗布装置14のノズルの先端部38は、幅方向Yに延びている。この塗布装置14は、ベース16上に設置されたガントリ40によって、ベース16上に所定高さで支持されている。   The coating device 14 applies a coating solution such as a photoresist solution to the upper surface (the other main surface) 28 b side of the glass substrate 28. The nozzle tip 38 of the coating device 14 extends in the width direction Y. The coating device 14 is supported on the base 16 at a predetermined height by a gantry 40 installed on the base 16.

次に、上記した塗布システム10を用いた塗布液の塗布方法について説明する。   Next, a coating solution coating method using the coating system 10 described above will be described.

まず、ベース16上における塗布装置14よりも前段で、4つの保持部材24により、ガラス基板28を幅方向Yの側縁部にて吸着して保持する。このとき、ガラス基板28はベース16の上面16aから離間した状態で保持されている。より詳細には、ガラス基板28は、塗布領域において空気吐出吸引機構26の上面から10μm程度離間し、塗布装置14のノズルの先端部38から100μm〜200μm程度離間するように保持されている。   First, the glass substrate 28 is adsorbed and held at the side edge in the width direction Y by the four holding members 24 before the coating device 14 on the base 16. At this time, the glass substrate 28 is held in a state of being separated from the upper surface 16 a of the base 16. More specifically, the glass substrate 28 is held so as to be separated from the upper surface of the air discharge suction mechanism 26 by about 10 μm in the application region and from the tip end portion 38 of the nozzle of the application device 14 by about 100 μm to 200 μm.

次に、駆動機構22によりスライダ20を移動させることで、ガラス基板28を搬送方向Xに所定速度で搬送する。そして、ガラス基板28が塗布領域に来たとき、空気吐出吸引機構26によりガラス基板28の下面28aに空気の吐出及び吸引を行う。これにより、ガラス基板28は空気吐出吸引機構26上で浮いた状態で、塗布領域においてたわみが矯正されて、ガラス基板28の平面度が向上される。なお、本実施形態では、ガラス基板28のたわみの矯正は、最大位置で10μm〜100μm程度のものを考えている。このとき、空気吐出吸引機構26に設けられた複数の孔26aについて、図4に示すように、吸引用の孔(白丸で示す)と吐出用の孔(黒丸で示す)とが隣り合うようにして、ガラス基板28に対して空気の吸引と吐出とを均一に行うようにすると好ましい。このようにすれば、ガラス基板28の平面度がより一層向上される。   Next, the glass substrate 28 is transported in the transport direction X at a predetermined speed by moving the slider 20 by the drive mechanism 22. When the glass substrate 28 comes to the application region, the air discharge / suction mechanism 26 discharges and sucks air to the lower surface 28a of the glass substrate 28. As a result, the deflection of the glass substrate 28 is corrected in the application region while the glass substrate 28 is floating on the air discharge suction mechanism 26, and the flatness of the glass substrate 28 is improved. In the present embodiment, the correction of the deflection of the glass substrate 28 is considered to be about 10 μm to 100 μm at the maximum position. At this time, with respect to the plurality of holes 26a provided in the air discharge suction mechanism 26, as shown in FIG. 4, the suction holes (shown by white circles) and the discharge holes (shown by black circles) are adjacent to each other. Thus, it is preferable to uniformly suck and discharge air to the glass substrate 28. In this way, the flatness of the glass substrate 28 is further improved.

そして、上記の通り、塗布領域においてガラス基板28の下面28aに空気の吐出及び吸引を行うと同時に、塗布装置14によりガラス基板28の上面28bに塗布液を塗布する。ここで、ガラス基板28の平面度は高められているため、ガラス基板28の上面28bに塗布液を均一に塗布することができる。このとき、図5に示すように、空気吐出吸引機構26の上方であって塗布装置14の前段に隣接するように空気吐出機構(第2の気体吐出機構)42を設け、塗布領域における塗布の前段でガラス基板28の上面28bに空気を吐出すると好ましい。このようにすれば、ガラス基板28の平面度がより一層高められ、より一層均一な塗布を行うことが可能となる。   Then, as described above, air is discharged and sucked to the lower surface 28a of the glass substrate 28 in the coating region, and at the same time, the coating liquid is applied to the upper surface 28b of the glass substrate 28 by the coating device 14. Here, since the flatness of the glass substrate 28 is increased, the coating liquid can be uniformly applied to the upper surface 28 b of the glass substrate 28. At this time, as shown in FIG. 5, an air discharge mechanism (second gas discharge mechanism) 42 is provided above the air discharge suction mechanism 26 and adjacent to the front stage of the coating apparatus 14, so as to apply the coating in the coating region. It is preferable to discharge air onto the upper surface 28b of the glass substrate 28 in the previous stage. In this way, the flatness of the glass substrate 28 can be further increased, and a more uniform coating can be performed.

次に、塗布領域を通過してベース16の後段に搬送された塗布済みのガラス基板28に対し、保持部材24による吸着を解除する。そして、ガラス基板28を系外に搬出すると共に、次のガラス基板28に対する塗布のために、保持部材24をベース16の前段に戻す。   Next, the suction by the holding member 24 is released with respect to the coated glass substrate 28 that has passed through the coating region and is conveyed to the subsequent stage of the base 16. Then, the glass substrate 28 is carried out of the system, and the holding member 24 is returned to the front stage of the base 16 for application to the next glass substrate 28.

以上詳述したように、本実施形態では、ガラス基板28を移動させるときにベースごと移動させる必要がないため、搬送に必要な推力の低減を図ることができる。またベースごと移動させるときと比べて、振動やガラス基板28に伝わる熱を低減することができる。また、空気吐出吸引機構26によりガラス基板28に対し空気の吐出及び吸引を行うことができるため、塗布領域においてガラス基板28のたわみを抑制することができる。その結果、塗布領域においてガラス基板28の平面度を上げた状態で塗布液を塗布することが可能となり、塗布液の均一な塗布が可能となる。   As described in detail above, in the present embodiment, when the glass substrate 28 is moved, it is not necessary to move the glass substrate 28 together with the base, so that it is possible to reduce the thrust required for conveyance. In addition, vibration and heat transmitted to the glass substrate 28 can be reduced as compared with the case where the entire base is moved. In addition, since the air discharge / suction mechanism 26 can discharge and suck air to the glass substrate 28, the deflection of the glass substrate 28 in the application region can be suppressed. As a result, it becomes possible to apply the coating liquid in a state where the flatness of the glass substrate 28 is increased in the coating area, and the coating liquid can be uniformly applied.

また本実施形態では、保持部材24はガラス基板28を吸着して保持可能であるため、ガラス基板28を確実に保持することができる。またガラス基板28を下面28aから保持するものであるため、ガラス基板28を挟持する場合のようにガラスの割れや傷を生じるおそれが低く、またガラス基板28の上面28aの全体に塗布液の塗布を行うことができる。   In the present embodiment, the holding member 24 can adsorb and hold the glass substrate 28, so that the glass substrate 28 can be reliably held. Further, since the glass substrate 28 is held from the lower surface 28a, there is a low possibility that the glass is broken or scratched as in the case of sandwiching the glass substrate 28, and the coating liquid is applied to the entire upper surface 28a of the glass substrate 28. It can be performed.

また本実施形態では、保持部材24は鉛直方向Zにバネ性を有するため、鉛直方向Zについてガラス基板28の高さ位置を微調整することができる。これにより、ガラス基板28が気体吐出吸引機構26に当たる等の不具合が生じるおそれを低減することができる。   In the present embodiment, since the holding member 24 has a spring property in the vertical direction Z, the height position of the glass substrate 28 can be finely adjusted in the vertical direction Z. As a result, it is possible to reduce the possibility that a problem such as the glass substrate 28 hitting the gas discharge suction mechanism 26 will occur.

また本実施形態では、一方のガイドレール18上に設けられた2つのスライダ20に固定された保持部材24は幅方向Yにバネ性を有するため、ガイドレール18が歪んでいるとき、他方のガイドレール18側を基準として、ガラス基板28の幅方向Yのズレやベース16の上面16aと平行な面内におけるガラス基板28の回転を是正することが可能となる。   In the present embodiment, the holding member 24 fixed to the two sliders 20 provided on one guide rail 18 has a spring property in the width direction Y. Therefore, when the guide rail 18 is distorted, the other guide With reference to the rail 18 side, it is possible to correct the displacement of the glass substrate 28 in the width direction Y and the rotation of the glass substrate 28 in a plane parallel to the upper surface 16a of the base 16.

また本実施形態では、塗布装置14よりも前段で、ガラス基板28の上面28b側に空気を吐出する空気吐出機構42を備えることで、塗布領域におけるガラス基板28の平面度をより高めることができ、塗布液をより均一に塗布することが可能となる。
(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態について説明する。なお、上記した第1実施形態と同一の要素には同一の符号を附し、重複する説明を省略する。
In the present embodiment, the flatness of the glass substrate 28 in the coating region can be further improved by providing the air discharge mechanism 42 that discharges air to the upper surface 28b side of the glass substrate 28 before the coating apparatus 14. The coating liquid can be applied more uniformly.
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment of the present invention will be described. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the same element as above-mentioned 1st Embodiment, and the overlapping description is abbreviate | omitted.

図6は、第2実施形態に係る塗布システム60の構成を示す平面図である。なお、図6においては、塗布装置14及びガントリ40は一点鎖線で示している。本実施形態に係る塗布システム60の構成は、搬送装置62の構成が異なる以外は、第1実施形態に係る塗布システム10と同様である。   FIG. 6 is a plan view showing a configuration of a coating system 60 according to the second embodiment. In FIG. 6, the coating device 14 and the gantry 40 are indicated by alternate long and short dash lines. The configuration of the coating system 60 according to the present embodiment is the same as that of the coating system 10 according to the first embodiment except that the configuration of the transfer device 62 is different.

本実施形態において搬送装置62は、ガイドレール18が搬送方向Xに沿って1本のみ設けられ、一軸で構成されている。これにより、ガイドレール18を2本並設して二軸で構成する場合と比べて、駆動機構22としてのリニアモータ機構が片側だけで済み、コストの低減が図られる。   In the present embodiment, the transport device 62 has only one guide rail 18 along the transport direction X, and is configured as a single shaft. Thereby, compared with the case where two guide rails 18 are arranged side by side and configured by two axes, the linear motor mechanism as the drive mechanism 22 is only required on one side, and the cost can be reduced.

この場合、ガラス基板28は保持部材24により一方の側縁部にて保持されるが、片持ち支持であるため保持部材24にかかる重量負荷が増大し、たわみによりベース16に接触して傷が付いたり、ガラス基板28が割れたりするおそれがある。そこで、ベース16上の塗布領域以外の領域において、ベース16側からガラス基板28の下面28aに向けて空気(気体)を吐出する気体吐出機構(第1の気体吐出機構)66が設けられている。気体吐出機構66は、複数の静圧軸受66aを含み、これら複数の静圧軸受66aが搬送方向X及び幅方向Yに規則的に配列されている。これら静圧軸受66aは、石、セラミック、あるいは金属の多孔質体からなる。   In this case, the glass substrate 28 is held at one side edge by the holding member 24. However, since the glass substrate 28 is cantilevered, the weight load applied to the holding member 24 is increased, and the base 16 is brought into contact with the scratch due to the deflection. There is a risk that the glass substrate 28 may be attached. Therefore, a gas discharge mechanism (first gas discharge mechanism) 66 that discharges air (gas) from the base 16 side toward the lower surface 28a of the glass substrate 28 is provided in a region other than the coating region on the base 16. . The gas discharge mechanism 66 includes a plurality of static pressure bearings 66a, and the plurality of static pressure bearings 66a are regularly arranged in the transport direction X and the width direction Y. These hydrostatic bearings 66a are made of a porous body made of stone, ceramic, or metal.

なお、本実施形態において保持部材24は、鉛直方向Zにバネ性を有すると好ましい。このようにすれば、鉛直方向Zについてガラス基板28の高さ位置を微調整することができる。これにより、ガラス基板28が気体吐出吸引機構26に当たる等の不具合が生じるおそれを低減することができる。   In the present embodiment, the holding member 24 preferably has a spring property in the vertical direction Z. In this way, the height position of the glass substrate 28 in the vertical direction Z can be finely adjusted. As a result, it is possible to reduce the possibility that a problem such as the glass substrate 28 hitting the gas discharge suction mechanism 26 will occur.

また本実施形態において搬送装置62は、ベース16の上面16aと平行な面内におけるガラス基板28の回転を強制的に是正する回転是正手段を備えていると好ましい。すなわち、ガイドレール18は必ずしも真直であるとは限らず、幅方向Yに歪んでいることもある。ガイドレール18が歪んでいると、図7において実線で示すように、ベース16の上面16aと平行な面内でガラス基板28が回転してしまう。ガラス基板28の回転は、塗布液を均一に塗布する上で好ましくない。   Further, in the present embodiment, it is preferable that the transport device 62 includes a rotation correcting means for forcibly correcting the rotation of the glass substrate 28 in a plane parallel to the upper surface 16a of the base 16. That is, the guide rail 18 is not necessarily straight and may be distorted in the width direction Y. If the guide rail 18 is distorted, the glass substrate 28 rotates in a plane parallel to the upper surface 16a of the base 16 as shown by a solid line in FIG. The rotation of the glass substrate 28 is not preferable for uniformly applying the coating solution.

そこで保持部材24は、図8に示すように、鉛直方向Zに沿う軸を中心として回転可能なヒンジ機構68を有し、更に一方の保持部材24には幅方向Yに数十μm程度の微小変位が可能なピエゾ素子70が取り付けられている。これにより、図8において一点鎖線で示すように、そのままではガラス基板28が回転してしまうのを、ピエゾ素子70により実線で示す位置に是正することができる。なお、ピエゾ素子70の代わりにボイスコイルや超音波モータ、リニアモータ、エアアクチュエータなどを使用してもよい。   Therefore, as shown in FIG. 8, the holding member 24 has a hinge mechanism 68 that can rotate around an axis along the vertical direction Z, and the other holding member 24 has a minute size of about several tens of μm in the width direction Y. A piezo element 70 capable of displacement is attached. As a result, as indicated by the alternate long and short dash line in FIG. 8, the rotation of the glass substrate 28 as it is can be corrected by the piezoelectric element 70 to the position indicated by the solid line. Instead of the piezo element 70, a voice coil, an ultrasonic motor, a linear motor, an air actuator, or the like may be used.

次に、上記した塗布システム60を用いた塗布液の塗布方法について説明する。   Next, a coating liquid coating method using the coating system 60 described above will be described.

まず、塗布装置14による塗布を行うことなく、ガラス基板28を搬送方向Xに搬送して、ガイドレール18の歪みにより、ベース16の上面16aと平行な面内におけるガラス基板28の回転の有無を検出する。そして、ガラス基板28の回転が認められるときは、回転を是正する方向にピエゾ素子70を駆動するように、予め制御プログラムを設定しておく。これにより、以降の塗布作業におけるガラス基板28の回転が防止される。   First, the glass substrate 28 is transported in the transport direction X without performing coating by the coating device 14, and whether or not the glass substrate 28 is rotated in a plane parallel to the upper surface 16 a of the base 16 due to distortion of the guide rail 18. To detect. When rotation of the glass substrate 28 is recognized, a control program is set in advance so as to drive the piezo element 70 in a direction to correct the rotation. Thereby, rotation of the glass substrate 28 in subsequent coating operations is prevented.

次に、空気吐出機構66の複数の静圧軸受66aからガラス基板28の下面28aに向けて、空気の吐出を開始する。静圧軸受66aは、空気の吐出部とその吐出した空気を吸引する吸引部とを有していてもよい。このときの空気の吸引は、吐出した空気が細かいゴミ等を含んでいる場合があるため、このゴミ等がガラス基板に付着して塗布に悪影響を及ぼすことを防ぐためのものである。次に、ベース16上における塗布装置14よりも前段で、2つの保持部材24により、ガラス基板28を幅方向Yの側縁部にて吸着して片持ち保持する。このとき、ガラス基板28はベース16の上面16aから離間した状態で保持されている。より詳細には、ガラス基板28は、塗布領域において空気吐出吸引機構26の上面から10μm程度離間し、塗布装置14のノズルの先端部38から100μm〜200μm程度離間するように保持されている。   Next, air discharge is started from the plurality of static pressure bearings 66 a of the air discharge mechanism 66 toward the lower surface 28 a of the glass substrate 28. The static pressure bearing 66a may have an air discharge portion and a suction portion that sucks the discharged air. The suction of air at this time is to prevent the discharged air from adhering to the glass substrate and adversely affecting the application because the discharged air may contain fine dust. Next, before the coating device 14 on the base 16, the glass substrate 28 is adsorbed and cantilevered at the side edge in the width direction Y by the two holding members 24. At this time, the glass substrate 28 is held in a state of being separated from the upper surface 16 a of the base 16. More specifically, the glass substrate 28 is held so as to be separated from the upper surface of the air discharge suction mechanism 26 by about 10 μm in the application region and from the tip end portion 38 of the nozzle of the application device 14 by about 100 μm to 200 μm.

次に、駆動機構22によりスライダ20を移動させることで、ガラス基板28を搬送方向Xに所定速度で搬送する。そして、ガラス基板28が塗布領域に来たとき、空気吐出吸引機構26によりガラス基板28の下面28aに空気の吐出及び吸引を行う。これにより、ガラス基板28は空気吐出吸引機構26上で浮いた状態で、塗布領域においてたわみが矯正されて、ガラス基板28の平面度が向上される。   Next, the glass substrate 28 is transported in the transport direction X at a predetermined speed by moving the slider 20 by the drive mechanism 22. When the glass substrate 28 comes to the application region, the air discharge / suction mechanism 26 discharges and sucks air to the lower surface 28a of the glass substrate 28. As a result, the deflection of the glass substrate 28 is corrected in the application region while the glass substrate 28 is floating on the air discharge suction mechanism 26, and the flatness of the glass substrate 28 is improved.

そして、上記の通り、塗布領域においてガラス基板28の下面28aに空気の吐出及び吸引を行うと同時に、塗布装置14によりガラス基板28の上面28bに塗布液を塗布する。ここで、ガラス基板28の平面度は高められているため、ガラス基板28の上面28bに塗布液を均一に塗布することができる。このとき、図5で示したように、空気吐出吸引機構26の上方であって塗布装置14の前段に隣接するように空気吐出機構(第2の気体吐出機構)42を設け、塗布領域における塗布の前段でガラス基板28の上面28bに空気を吐出すると好ましい。このようにすれば、ガラス基板28の平面度がより一層高められ、より一層均一な塗布を行うことが可能となる。   Then, as described above, air is discharged and sucked to the lower surface 28a of the glass substrate 28 in the coating region, and at the same time, the coating liquid is applied to the upper surface 28b of the glass substrate 28 by the coating device 14. Here, since the flatness of the glass substrate 28 is increased, the coating liquid can be uniformly applied to the upper surface 28 b of the glass substrate 28. At this time, as shown in FIG. 5, an air discharge mechanism (second gas discharge mechanism) 42 is provided above the air discharge suction mechanism 26 and adjacent to the front stage of the coating apparatus 14, so that coating is performed in the coating region. It is preferable to discharge air onto the upper surface 28b of the glass substrate 28 in the previous stage. In this way, the flatness of the glass substrate 28 can be further increased, and a more uniform coating can be performed.

次に、塗布領域を通過してベース16の後段に搬送された塗布済みのガラス基板28に対し、保持部材24による吸着を解除する。そして、ガラス基板28を系外に搬出すると共に、次のガラス基板28に対する塗布のために、保持部材24をベース16の前段に戻す。   Next, the suction by the holding member 24 is released with respect to the coated glass substrate 28 that has passed through the coating region and is conveyed to the subsequent stage of the base 16. Then, the glass substrate 28 is carried out of the system, and the holding member 24 is returned to the front stage of the base 16 for application to the next glass substrate 28.

以上、本実施形態では、第1実施形態と同様の作用効果を得ることができる。特に本実施形態では、ガイドレール18が一軸で構成されているため、二軸で構成する場合と比べて、駆動機構22としてのリニアモータ機構が片側だけで済み、コストの低減を図ることができる。このとき、ベース16上の塗布領域以外の領域において、ベース16側からガラス基板28の下面28aに向けて空気を吐出する空気吐出機構66を備えているため、吐出される空気によりガラス基板28を持ち上げることで保持部材24にかかる重量負荷を軽減することができ、ガラス基板28の搬送を容易にすることができる。   As mentioned above, in this embodiment, the same operation effect as a 1st embodiment can be acquired. In particular, in this embodiment, since the guide rail 18 is configured with one axis, the linear motor mechanism as the drive mechanism 22 is only required on one side as compared with the case of configuring with two axes, and the cost can be reduced. . At this time, since the air discharge mechanism 66 for discharging air from the base 16 side toward the lower surface 28a of the glass substrate 28 is provided in a region other than the coating region on the base 16, the glass substrate 28 is moved by the discharged air. By lifting, the weight load applied to the holding member 24 can be reduced, and the conveyance of the glass substrate 28 can be facilitated.

また、ベース16の上面16aと平行な面内におけるガラス基板28の回転を強制的に是正することができるため、ガラス基板28の回転が防止され、塗布液のより一層均一な塗布が可能となる。
(第3実施形態)
次に、本発明の第3実施形態について説明する。なお、上記した第1及び第2実施形態と同一の要素には同一の符号を附し、重複する説明を省略する。
Further, since the rotation of the glass substrate 28 in a plane parallel to the upper surface 16a of the base 16 can be forcibly corrected, the rotation of the glass substrate 28 is prevented, and the coating liquid can be applied more uniformly. .
(Third embodiment)
Next, a third embodiment of the present invention will be described. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the same element as above-mentioned 1st and 2nd embodiment, and the overlapping description is abbreviate | omitted.

図9は、第3実施形態に係る検査システム80の構成を示す斜視図である。また図10は、この検査システム80の構成を示す平面図である。なお、図10においては、ガントリ40は一点鎖線で示している。   FIG. 9 is a perspective view showing a configuration of an inspection system 80 according to the third embodiment. FIG. 10 is a plan view showing the configuration of the inspection system 80. In FIG. 10, the gantry 40 is indicated by a one-dot chain line.

本実施形態に係る検査システム80は、図9及び図10に示すように、搬送装置12と、検査装置82と、を備えている。搬送装置12は、第1実施形態に係る塗布システム10の搬送装置と同様であるため、説明を省略する。   As shown in FIGS. 9 and 10, the inspection system 80 according to the present embodiment includes a transport device 12 and an inspection device 82. Since the conveying apparatus 12 is the same as the conveying apparatus of the coating system 10 according to the first embodiment, the description thereof is omitted.

検査装置82は、上面28b側からガラス基板28を検査する。検査装置82としては、CCDカメラなどの撮像装置や、レーザ光を照射してその反射光を受光するレーザ計測装置が挙げられる。撮像装置によれば、例えばガラス基板28上に形成された回路パターン等の光学像が得られ、これにより不良品等の検査が可能となる。またレーザ計測装置によれば、レーザ光の反射率を調べることで、不良品等の検査が可能となる。なお検査装置82としては、これらCCDカメラやレーザ計測装置に限定されず、ガラス基板28の状態を非接触で検査可能な公知の装置が全て含まれる。   The inspection device 82 inspects the glass substrate 28 from the upper surface 28b side. Examples of the inspection device 82 include an imaging device such as a CCD camera, and a laser measurement device that irradiates a laser beam and receives the reflected light. According to the imaging apparatus, for example, an optical image such as a circuit pattern formed on the glass substrate 28 can be obtained, thereby enabling inspection of defective products and the like. Further, according to the laser measuring device, it is possible to inspect defective products or the like by examining the reflectance of the laser beam. The inspection device 82 is not limited to these CCD cameras and laser measurement devices, and includes all known devices that can inspect the state of the glass substrate 28 in a non-contact manner.

この検査装置82は、ベース16上に設置されたガントリ40に、スライド部材84を介して取り付けられている。スライド部材84は、ガントリ40に沿って幅方向Yに移動可能である。従って、スライド部材84に取り付けられた検査装置82は幅方向Yに移動可能となり、ガラス基板28に対する幅方向Yのスキャンが可能となる。また、検査装置82自身も、スライド部材84に対して鉛直方向Zに移動可能であり、これにより検査装置82をベース16上の所定高さ位置で支持することができる。従って、撮像装置においては焦点の合った光学像が得られ、レーザ計測器においてはデータの精度が向上されることになり、検査精度の向上が図られる。   The inspection device 82 is attached to the gantry 40 installed on the base 16 via a slide member 84. The slide member 84 is movable in the width direction Y along the gantry 40. Therefore, the inspection device 82 attached to the slide member 84 can move in the width direction Y, and the glass substrate 28 can be scanned in the width direction Y. Further, the inspection device 82 itself is also movable in the vertical direction Z with respect to the slide member 84, and thus the inspection device 82 can be supported at a predetermined height position on the base 16. Therefore, a focused optical image is obtained in the imaging apparatus, and the data accuracy is improved in the laser measuring instrument, thereby improving the inspection accuracy.

次に、上記した検査システム80を用いたガラス基板28の検査方法について説明する。   Next, a method for inspecting the glass substrate 28 using the above-described inspection system 80 will be described.

まず、ベース16上における検査装置82よりも前段で、4つの保持部材24により、ガラス基板28を幅方向Yの側縁部にて吸着して保持する。このとき、ガラス基板28はベース16の上面16aから離間した状態で保持されている。より詳細には、ガラス基板28は、検査領域(一部領域)において空気吐出吸引機構26の上面から10μm程度離間している。   First, in front of the inspection device 82 on the base 16, the glass substrate 28 is sucked and held at the side edge in the width direction Y by the four holding members 24. At this time, the glass substrate 28 is held in a state of being separated from the upper surface 16 a of the base 16. More specifically, the glass substrate 28 is separated from the upper surface of the air discharge suction mechanism 26 by about 10 μm in the inspection region (partial region).

次に、駆動機構22によりスライダ20を移動させることで、ガラス基板28を搬送方向Xに所定速度で搬送する。そして、ガラス基板28が検査領域に来たとき、空気吐出吸引機構26によりガラス基板28の下面28aに空気の吐出及び吸引を行う。これにより、ガラス基板28は空気吐出吸引機構26上で浮いた状態で、検査領域においてたわみが矯正されて、ガラス基板28の平面度が向上される。なお、本実施形態では、ガラス基板28のたわみの矯正は、最大位置で10μm〜100μm程度のものを考えている。このとき、空気吐出吸引機構26に設けられた複数の孔26aについて、図4に示すように、吸引用の孔(白丸で示す)と吐出用の孔(黒丸で示す)とが隣り合うようにして、ガラス基板28に対して空気の吸引と吐出とを均一に行うようにすると好ましい。このようにすれば、ガラス基板28の平面度がより一層向上される。   Next, the glass substrate 28 is transported in the transport direction X at a predetermined speed by moving the slider 20 by the drive mechanism 22. When the glass substrate 28 comes to the inspection area, the air discharge suction mechanism 26 discharges and sucks air to the lower surface 28a of the glass substrate 28. Thereby, the deflection of the glass substrate 28 is corrected in the inspection region while the glass substrate 28 is floating on the air discharge suction mechanism 26, and the flatness of the glass substrate 28 is improved. In the present embodiment, the correction of the deflection of the glass substrate 28 is considered to be about 10 μm to 100 μm at the maximum position. At this time, with respect to the plurality of holes 26a provided in the air discharge suction mechanism 26, as shown in FIG. 4, the suction holes (shown by white circles) and the discharge holes (shown by black circles) are adjacent to each other. Thus, it is preferable to uniformly suck and discharge air to the glass substrate 28. In this way, the flatness of the glass substrate 28 is further improved.

次に、上記の通り、検査領域においてガラス基板28の下面28aに空気の吐出及び吸引を行うと同時に、搬送方向Xへのガラス基板28の搬送を停止する。そして、スライド部材84を幅方向Yにスライドさせて、ガラス基板28上をスキャンする。このとき、必要に応じて検査装置82の鉛直方向の位置を微調整すると好ましい。スキャンが終了すると、搬送方向Xにガラス基板28を所定距離だけ移動させ、再び搬送を停止した後、2回目のスキャンを行う。このようにして複数回のスキャンを行うことで、検査装置82によりガラス基板28を上面28bから検査する。ここで、ガラス基板28の平面度は高められているため、ガラス基板28の検査精度の向上が図られる。このとき、図11に示すように、空気吐出吸引機構26の上方であって検査装置82の前段に空気吐出機構42を設け、検査領域における検査の前段でガラス基板28の上面28bに空気を吐出すると好ましい。このようにすれば、ガラス基板28の平面度がより一層高められ、より一層精度の高い検査を行うことが可能となる。なお、空気吐出機構42は、空気吐出吸引機構26の上方であって検査装置82の後段に設けてもよく、また前後段の双方に設けてもよい。更に、図12に示すように、撮像装置ではレンズの周りに、レーザ計測装置ではレーザ光の入出射部の周りに、環状の空気吐出機構42を設けて、検査装置82と一体化を図ってもよい。   Next, as described above, air is discharged and sucked to the lower surface 28a of the glass substrate 28 in the inspection region, and at the same time, the conveyance of the glass substrate 28 in the conveyance direction X is stopped. Then, the slide member 84 is slid in the width direction Y, and the glass substrate 28 is scanned. At this time, it is preferable to finely adjust the vertical position of the inspection device 82 as necessary. When the scan is completed, the glass substrate 28 is moved by a predetermined distance in the transport direction X, the transport is stopped again, and the second scan is performed. Thus, the glass substrate 28 is inspected from the upper surface 28b by the inspection device 82 by performing a plurality of scans. Here, since the flatness of the glass substrate 28 is increased, the inspection accuracy of the glass substrate 28 can be improved. At this time, as shown in FIG. 11, an air discharge mechanism 42 is provided above the air discharge suction mechanism 26 and before the inspection device 82, and air is discharged onto the upper surface 28b of the glass substrate 28 before the inspection in the inspection region. It is preferable. In this way, the flatness of the glass substrate 28 is further enhanced, and it becomes possible to perform inspection with higher accuracy. The air discharge mechanism 42 may be provided above the air discharge suction mechanism 26 and at the rear stage of the inspection device 82, or may be provided at both the front and rear stages. Furthermore, as shown in FIG. 12, an annular air discharge mechanism 42 is provided around the lens in the imaging device and around the laser light incident / exit portion in the laser measuring device so as to be integrated with the inspection device 82. Also good.

次に、検査領域を通過してベース16の後段に搬送された検査済みのガラス基板28に対し、保持部材24による吸着を解除する。そして、ガラス基板28を系外に搬出すると共に、次のガラス基板28に対する検査のために、保持部材24をベース16の前段に戻す。   Next, the suction by the holding member 24 is released with respect to the inspected glass substrate 28 that has passed through the inspection region and is conveyed to the subsequent stage of the base 16. Then, the glass substrate 28 is carried out of the system, and the holding member 24 is returned to the front stage of the base 16 for the inspection of the next glass substrate 28.

以上詳述したように、本実施形態では、ガラス基板28を移動させるときにベースごと移動させる必要がないため、搬送に必要な推力の低減を図ることができる。またベースごと移動させるときと比べて、振動やガラス基板28に伝わる熱を低減することができる。また、空気吐出吸引機構26によりガラス基板28に対し空気の吐出及び吸引を行うことができるため、検査領域においてガラス基板28のたわみを抑制することができる。その結果、検査領域においてガラス基板28の平面度を上げた状態で検査することが可能となり、検査精度の向上を図ることが可能となる。   As described in detail above, in the present embodiment, when the glass substrate 28 is moved, it is not necessary to move the glass substrate 28 together with the base, so that it is possible to reduce the thrust required for conveyance. In addition, vibration and heat transmitted to the glass substrate 28 can be reduced as compared with the case where the entire base is moved. In addition, since the air discharge / suction mechanism 26 can discharge and suck air to the glass substrate 28, the deflection of the glass substrate 28 in the inspection region can be suppressed. As a result, it is possible to inspect with the flatness of the glass substrate 28 increased in the inspection region, and the inspection accuracy can be improved.

その他、本実施形態では、第1実施形態に係る塗布システム10と同一の構成によって、同様の作用効果を奏し得る。   In addition, in this embodiment, there can exist the same effect by the structure same as the coating system 10 which concerns on 1st Embodiment.

なお、本発明は上記した実施形態に限定されることなく、種々の変形が可能である。例えば、第1実施形態の搬送装置12は、第2実施形態における搬送装置62と同様に、塗布領域以外の領域に空気吐出機構66を備えていてもよい。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made. For example, the transfer device 12 of the first embodiment may include an air discharge mechanism 66 in a region other than the application region, like the transfer device 62 in the second embodiment.

また第1実施形態の搬送装置12でも、第2実施形態における搬送装置62と同様に、ベース16の上面16aと平行な面内におけるガラス基板28の回転を強制的に是正するようにしてもよい。   Further, in the transfer device 12 of the first embodiment, as in the transfer device 62 of the second embodiment, the rotation of the glass substrate 28 in a plane parallel to the upper surface 16a of the base 16 may be forcibly corrected. .

また、駆動機構22の固定子30は床面F上に設置するなどして、ベース16から切り離して設けると好ましい。このようにすれば、駆動機構22を駆動させることにより生じる反力を系外に逃がすことが可能となる。   Further, the stator 30 of the drive mechanism 22 is preferably provided separately from the base 16 by being installed on the floor surface F or the like. In this way, the reaction force generated by driving the drive mechanism 22 can be released out of the system.

また、搬送方向Xに沿う方向のベース16の角部によりガイド部材を構成し、スライダ20はこの角部によりガイドされるように構成してもよい。このようにすれば、ガイドレール18を省略することで部品点数の減少を図ることが可能となる。   Further, the guide member may be configured by the corner portion of the base 16 in the direction along the transport direction X, and the slider 20 may be configured to be guided by the corner portion. In this way, it is possible to reduce the number of parts by omitting the guide rail 18.

また図13に示すように、第2実施形態に係る塗布システム60の搬送装置62において、ベース16を基台部70とエア機構部72とから構成し、エア機構部72を研削加工等して、空気吐出吸引機構26と空気吐出機構66とを一体に構成すると好ましい。このようにすれば、空気吐出吸引機構26の高さと空気吐出機構66の高さとを合わせる作業が省略でき、製造の効率化が図られる。   As shown in FIG. 13, in the transfer device 62 of the coating system 60 according to the second embodiment, the base 16 is composed of a base part 70 and an air mechanism part 72, and the air mechanism part 72 is ground or the like. The air discharge suction mechanism 26 and the air discharge mechanism 66 are preferably configured integrally. In this way, the operation of matching the height of the air discharge suction mechanism 26 and the height of the air discharge mechanism 66 can be omitted, and the manufacturing efficiency can be improved.

また上記した実施形態では、スライダ20は一つのガイドレール18に2個設けられているが、スライダ20をガラス基板28の搬送方向Xの長さと同程度の長さを有する1個の部材で構成してもよい。このようにすれば、吸着部34の長さを長くすることができ、吸着力を向上することができる。また、スライダ20の数を減らして部品点数の減少を図ることができる。   Further, in the above-described embodiment, two sliders 20 are provided on one guide rail 18, but the slider 20 is configured by a single member having a length comparable to the length of the glass substrate 28 in the transport direction X. May be. In this way, the length of the suction portion 34 can be increased, and the suction force can be improved. Further, the number of parts can be reduced by reducing the number of sliders 20.

また、第1実施形態に係る塗布システム10及び第3実施形態に係る検査システム80が備える2軸の搬送装置12において、ガラス基板28の保持を次のように行ってもよい。保持部材24は、図14及び図15に示すような保持機構90を有している。この保持機構90は、搬送方向Xに沿って延びる基体部92と、基体部92から幅方向Yに延設された複数の支持梁部94と、複数の支持梁部94の先端にそれぞれ設けられており、ガラス基板28を吸着して保持するための吸着部96と、を含んでいる。基体部92の長さは、ガラス基板28の搬送方向Xの長さと同程度である。複数の支持梁部94の各々は、少なくとも鉛直方向Zについてバネ性を有すると共に、自身の軸α周りにねじれ性を有している。なお、複数の支持梁部94の各々は、搬送方向X、幅方向Y、及び鉛直方向Zのバネ性を有し、且つそれらの軸周りのねじれ性を有していて、6自由度を有していると最適である。支持梁部94の先端には、吸着部96を確実に搭載するために幅広の搭載部98が設けられている。   Moreover, in the biaxial conveyance apparatus 12 with which the coating system 10 according to the first embodiment and the inspection system 80 according to the third embodiment are provided, the glass substrate 28 may be held as follows. The holding member 24 has a holding mechanism 90 as shown in FIGS. The holding mechanism 90 is provided at the base portion 92 extending along the transport direction X, the plurality of support beam portions 94 extending from the base portion 92 in the width direction Y, and the tips of the plurality of support beam portions 94, respectively. And a suction portion 96 for sucking and holding the glass substrate 28. The length of the base portion 92 is approximately the same as the length of the glass substrate 28 in the transport direction X. Each of the plurality of support beam portions 94 has a spring property at least in the vertical direction Z and a twist property about its own axis α. Each of the plurality of support beam portions 94 has a spring property in the transport direction X, a width direction Y, and a vertical direction Z, and has a torsion property around their axes, and has six degrees of freedom. It is best to do. A wide mounting portion 98 is provided at the tip of the support beam portion 94 in order to securely mount the suction portion 96.

この保持機構90が、ガイドレール18にスライド可能に設けられた2個のスライダ20の内側面に連結されている。より詳細には、基準となる一方のガイドレール18の側では、保持機構90は基板部92が2個のスライダ20に直接連結されており、他方のガイドレール18の側では、弾性部材99を介して保持機構90の基板部92が2個のスライダ20に連結されている。これにより、他方のガイドレールの側ではY方向にバネ性を有することになる。その結果、他方のガイドレール18が歪んでいるとき、一方のガイドレール18側を基準として、ガラス基板28の幅方向Yのズレやベース16の上面16aと平行な面内におけるガラス基板28の回転を是正することが可能となる。この弾性部材99としては、幅方向Yにバネ性を有するバネ板片等の弾性体が挙げられる。   The holding mechanism 90 is coupled to the inner side surfaces of the two sliders 20 that are slidably provided on the guide rail 18. More specifically, on the side of one guide rail 18 serving as a reference, the holding mechanism 90 has the base plate portion 92 directly coupled to the two sliders 20, and on the other guide rail 18 side, the elastic member 99 is attached. The substrate portion 92 of the holding mechanism 90 is connected to the two sliders 20 via the two sliders 20. As a result, the other guide rail side has springiness in the Y direction. As a result, when the other guide rail 18 is distorted, the displacement of the glass substrate 28 in the width direction Y and the rotation of the glass substrate 28 in a plane parallel to the upper surface 16a of the base 16 with the one guide rail 18 side as a reference. Can be corrected. Examples of the elastic member 99 include an elastic body such as a spring plate having a spring property in the width direction Y.

このような支持梁部94は、例えばSUS等の材料から形成することができる。典型的な寸法としては、長さT1が100mm程度であり、幅T2が10mm程度であり、厚みT3が1.5mm程度である。これにより、支持梁部94は軸αの周りに±2度程度のねじれ性を有することができる。   Such a support beam portion 94 can be formed of a material such as SUS, for example. Typical dimensions are a length T1 of about 100 mm, a width T2 of about 10 mm, and a thickness T3 of about 1.5 mm. As a result, the support beam portion 94 can have a twistability of about ± 2 degrees around the axis α.

ここで、図16に示すように、ベース16上の塗布領域或いは検査領域において、空気吐出吸引機構26によりガラス基板28に対して空気の吐出及び吸引を行うことにより、ガラス基板28の高さが搬送方向Xに異なったものになる。この高さの相違dは、50μm〜200μm程度になることがある。このとき、ガラス基板28の変形に追随して上手く保持できなければ、割れやひびが生じる等してガラス基板28を毀損するおそれがある。これに対し、上記した保持機構90によりガラス基板28を保持するようにすれば、複数の支持梁部94は少なくとも鉛直方向Zについてバネ性を有すると共に、自身の軸α周りにねじれ性を有しているため、ガラス基板28の変形に追随して確実に保持することができ、ガラス基板28が毀損するおそれを低減することができる。   Here, as shown in FIG. 16, in the application region or the inspection region on the base 16, the air discharge suction mechanism 26 discharges and sucks air with respect to the glass substrate 28, thereby increasing the height of the glass substrate 28. Different in the transport direction X. The height difference d may be about 50 μm to 200 μm. At this time, if the glass substrate 28 cannot be held well following the deformation, the glass substrate 28 may be damaged due to cracks or cracks. On the other hand, if the glass substrate 28 is held by the holding mechanism 90 described above, the plurality of support beam portions 94 have a spring property at least in the vertical direction Z and a twist property around its own axis α. Therefore, the glass substrate 28 can be reliably held following the deformation of the glass substrate 28, and the possibility that the glass substrate 28 is damaged can be reduced.

また、第2実施形態に係る塗布システム60が備える1軸の搬送装置62において、ガラス基板28の保持を次のように行ってもよい。保持部材24は、図17及び図18に示すように、バネ板部102と吸着部104とを有している。これら保持部材24は、バネ板部102を介して2個のスライダ20それぞれに連結されている。バネ板部102は、少なくとも鉛直方向Zにバネ性を有している。バネ板部102の先端に搭載された吸着部104は、エア引きによりガラス基板28を吸着して保持するための部材であり、図18に示すように、鉛直方向Zに沿う軸βの周りに回転可能に設けられている。   Moreover, in the uniaxial conveyance apparatus 62 with which the coating system 60 which concerns on 2nd Embodiment is provided, you may hold | maintain the glass substrate 28 as follows. As shown in FIGS. 17 and 18, the holding member 24 includes a spring plate portion 102 and a suction portion 104. These holding members 24 are connected to the two sliders 20 via spring plate portions 102. The spring plate portion 102 has a spring property at least in the vertical direction Z. The suction part 104 mounted at the tip of the spring plate part 102 is a member for sucking and holding the glass substrate 28 by air pulling, and as shown in FIG. 18, around the axis β along the vertical direction Z. It is provided so as to be rotatable.

上記した保持部材24を用いたガラス基板28の保持では、各々の保持部材24で吸着部104の幅方向Yの位置をずらしている。これにより、各々の保持部材24でガラス基板28を吸着して保持する保持位置が、幅方向Yについて異なっている。このズレ量Δyは、後述するようにガラス基板28の1度程度の回転を是正可能な量に設定されていると好ましい。例えば、搬送方向Xの長さが2000mmのガラス基板28を搬送するときには、ズレ量Δyは1mm以下であると好ましい。   In holding the glass substrate 28 using the holding member 24 described above, the position of the suction portion 104 in the width direction Y is shifted by each holding member 24. As a result, the holding positions at which the glass substrates 28 are sucked and held by the holding members 24 are different in the width direction Y. This deviation amount Δy is preferably set to an amount that can correct the rotation of the glass substrate 28 by about 1 degree as will be described later. For example, when the glass substrate 28 having a length in the transport direction X of 2000 mm is transported, the deviation amount Δy is preferably 1 mm or less.

また上記した保持部材24を用いたガラス基板28の保持では、スライダ20の各々は独立に速度制御可能に設けられている。すなわち、上記した第2実施形態では、各々のスライダ20は一つの駆動体33により一定距離を保ったまま同期して移動可能に設けられていたが、ここでは各々のスライダ20はそれぞれ駆動体33により独立して速度制御可能に設けられている。   Further, in the holding of the glass substrate 28 using the holding member 24 described above, each of the sliders 20 is provided so that the speed can be controlled independently. That is, in the above-described second embodiment, each slider 20 is provided so as to be able to move synchronously while maintaining a certain distance by one drive body 33, but here each slider 20 is each a drive body 33. So that the speed can be controlled independently.

これにより、図19に示すように、2個のスライダ20が同一速度で移動されているとき、ガラス基板28の保持位置がA点及びB点であったのが、前方のスライダ20の速度v2を後方のスライダ20の速度v1よりもΔvだけ大きくすることで、ガラス基板28の保持位置がA点及びC点となる。また、前方のスライダ20の速度v2を後方のスライダ20の速度v1よりもΔvだけ小さくすることで、ガラス基板28の保持位置がA点及びD点となる。このように、前方のスライダ20の速度v2と後方のスライダ20の速度v1とを制御することで、前方の保持部材24によるガラス基板28の保持位置Bの軌跡が、A点を中心とした半径lの円弧(図19において破線で示す)を描くことになる。その結果、図20に示すように、ガイドレール18が歪んでいるとき、前方のスライダ20の速度v2と後方のスライダ20の速度v1とを制御することで、ベース16の上面16aと平行な面内におけるガラス基板28の回転を是正することが可能となる。   Accordingly, as shown in FIG. 19, when the two sliders 20 are moved at the same speed, the holding position of the glass substrate 28 is the point A and the point B. Is made larger than the velocity v1 of the rear slider 20 by Δv, the holding positions of the glass substrate 28 become the points A and C. Moreover, the holding position of the glass substrate 28 becomes the points A and D by making the speed v2 of the front slider 20 smaller than the speed v1 of the rear slider 20 by Δv. In this way, by controlling the speed v2 of the front slider 20 and the speed v1 of the rear slider 20, the locus of the holding position B of the glass substrate 28 by the front holding member 24 is a radius around the point A. An arc of l (indicated by a broken line in FIG. 19) is drawn. As a result, as shown in FIG. 20, when the guide rail 18 is distorted, the surface v2 parallel to the upper surface 16a of the base 16 is controlled by controlling the speed v2 of the front slider 20 and the speed v1 of the rear slider 20. It is possible to correct the rotation of the glass substrate 28 inside.

また上記した第3実施形態では、スライド部材84により検査装置82を幅方向Yにスライドさせて、ガラス基板28をスキャンする構成としたが、検査装置82を幅方向Yにアレイ状に並べた検査装置アレイを利用して検査システムを構成してもよい。このようにすれば、ガラス基板28を幅方向Yにスキャンする必要がなくなり、検査効率の向上が図られる。   In the above-described third embodiment, the inspection device 82 is slid in the width direction Y by the slide member 84 and the glass substrate 28 is scanned. However, the inspection device 82 is arranged in an array in the width direction Y. An inspection system may be configured using an apparatus array. In this way, it is not necessary to scan the glass substrate 28 in the width direction Y, and the inspection efficiency can be improved.

また上記した第1及び第2実施形態では、ガラス基板28上へのフォトレジストの塗布について説明したが、カラーフィルターを積層形成するときのインクの塗布などにも適用することができる。   In the first and second embodiments described above, the application of the photoresist onto the glass substrate 28 has been described. However, the present invention can also be applied to the application of ink when a color filter is laminated.

また上記した実施形態では、被搬送物としてガラス基板28の搬送について説明したが、被搬送物はフィルムや半導体基板などのたわみを生じ易い他の部材であってもよい。   Further, in the above-described embodiment, the conveyance of the glass substrate 28 is described as an object to be conveyed. However, the object to be conveyed may be another member that easily causes deflection such as a film or a semiconductor substrate.

本発明に係る搬送装置は、例えばプラズマディスプレイパネル(PDP)を製造するPDP製造装置や、半導体基板の欠陥等の検査を行う半導体検査装置など、所定作業時に被搬送物のたわみを嫌うような他のシステムにも適用可能である。   The transfer apparatus according to the present invention is such as a PDP manufacturing apparatus for manufacturing a plasma display panel (PDP), a semiconductor inspection apparatus for inspecting a defect of a semiconductor substrate, etc. It is also applicable to other systems.

第1実施形態に係る塗布システムの構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the coating system which concerns on 1st Embodiment. 第1実施形態に係る塗布システムの構成を示す平面図である(塗布装置及びガントリは一点鎖線で示している)。It is a top view which shows the structure of the coating system which concerns on 1st Embodiment (a coating device and a gantry are shown with the dashed-dotted line). 搬送装置の構成を示す部分拡大部である。It is the partial expansion part which shows the structure of a conveying apparatus. 空気吐出吸引機構が有する複数の孔について、吸引用の孔(白丸で示す)と吐出用の孔(黒丸で示す)とが隣り合っている状態を説明する図である。It is a figure explaining the state where the hole for suction (it shows with a white circle) and the hole for discharge (it shows with a black circle) are adjoining about a plurality of holes which an air discharge suction mechanism has. 塗布装置の前段に設けられた空気吐出機構によりガラス基板の上面に空気を吐出する様子を示す図である。It is a figure which shows a mode that air is discharged to the upper surface of a glass substrate by the air discharge mechanism provided in the front | former stage of the coating device. 第2実施形態に係る塗布システムの構成を示す平面図である(塗布装置及びガントリは一点鎖線で示している)。It is a top view which shows the structure of the coating system which concerns on 2nd Embodiment (a coating device and a gantry are shown with the dashed-dotted line). ガイドレールの歪みによりガラス基板がベースの上面と平行な面内で回転する様子を説明するための図である。It is a figure for demonstrating a mode that a glass substrate rotates in the surface parallel to the upper surface of a base by distortion of a guide rail. ガイドレールの歪みによるガラス基板の回転を是正する様子を説明するための図である。It is a figure for demonstrating a mode that the rotation of the glass substrate by the distortion of a guide rail is corrected. 第3実施形態に係る検査システムの構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the test | inspection system which concerns on 3rd Embodiment. 第3実施形態に係る検査システムの構成を示す平面図である。It is a top view which shows the structure of the test | inspection system which concerns on 3rd Embodiment. 検査装置の前段に設けられた空気吐出機構によりガラス基板の上面に空気を吐出する様子を示す図である。It is a figure which shows a mode that air is discharged to the upper surface of a glass substrate by the air discharge mechanism provided in the front | former stage of the test | inspection apparatus. 検査装置に一体化された空気吐出機構を示す図である。It is a figure which shows the air discharge mechanism integrated with the test | inspection apparatus. 搬送装置の変形例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the modification of a conveying apparatus. 搬送装置の他の変形例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the other modification of a conveying apparatus. 図14の搬送装置が備える保持機構を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the holding mechanism with which the conveying apparatus of FIG. 14 is provided. 空気吐出吸引機構によりガラス基板が変形する様子を説明する図である。It is a figure explaining a mode that a glass substrate deform | transforms with an air discharge suction mechanism. 搬送装置の他の変形例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the other modification of a conveying apparatus. 図17の搬送装置が備える保持部材の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the holding member with which the conveying apparatus of FIG. 17 is provided. ガラス基板の保持位置とスライダの速度との関係を説明する図である。It is a figure explaining the relationship between the holding position of a glass substrate, and the speed of a slider. 図17の搬送装置においてガイドレールの歪みによるガラス基板の回転を是正する様子を説明するための図である。It is a figure for demonstrating a mode that the rotation of the glass substrate by the distortion of a guide rail is corrected in the conveying apparatus of FIG.

符号の説明Explanation of symbols

10…塗布システム、12,62…搬送装置、14…塗布装置、16…ベース、18…ガイドレール、20…スライダ、24…保持部材、26…空気吐出吸引機構、28…ガラス基板、34…吸着部、36…バネ板部、42…空気吐出機構、66…空気吐出機構、80…検査システム、82…検査装置、90…保持機構、92…基体部、94…支持梁部、96…吸着部、X…搬送方向。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Coating system, 12, 62 ... Conveyance device, 14 ... Coating device, 16 ... Base, 18 ... Guide rail, 20 ... Slider, 24 ... Holding member, 26 ... Air discharge suction mechanism, 28 ... Glass substrate, 34 ... Adsorption 36, spring plate, 42 ... air discharge mechanism, 66 ... air discharge mechanism, 80 ... inspection system, 82 ... inspection device, 90 ... holding mechanism, 92 ... base portion, 94 ... support beam portion, 96 ... adsorption portion , X: transport direction.

Claims (13)

基板である被搬送物の搬送方向に延びる主面を有するベースと、
前記搬送方向に延びるガイド部材と、
前記ガイド部材にガイドされて前記搬送方向に移動可能な移動部材と、
前記移動部材に固定され前記主面から間隙を於いて前記被搬送物を吸着して保持する保持部材と、
前記ベース上の前記搬送方向における一部領域において、該搬送方向に搬送される前記被搬送物に対し前記被搬送物のたわみを矯正するよう気体の吐出及び吸引を行うための気体吐出吸引機構と、
を備え、
前記気体吐出吸引機構に含まれ前記気体を通す吐出用の孔及び吸引用の孔は、前記ベース上から見て互いに独立して配置されると共に前記搬送方向及び該搬送方向に直交する方向に互いに隣り合うよう構成されていることを特徴とする搬送装置。
A base having a main surface extending in the conveyance direction of the object to be conveyed, which is a substrate ;
A guide member extending in the transport direction;
A movable member guided by the guide member and movable in the transport direction;
A holding member for holding by adsorbing the conveyed object at a gap from the major surface being secured to said moving member,
A gas discharge suction mechanism for discharging and sucking gas so as to correct the deflection of the object to be transported in the transport direction in a partial region on the base in the transport direction; ,
With
The discharge hole and the suction hole, which are included in the gas discharge suction mechanism and allow the gas to pass therethrough, are arranged independently of each other when viewed from above the base and are mutually in the transport direction and a direction perpendicular to the transport direction. A conveying apparatus configured to be adjacent to each other .
前記ガイド部材は一軸で構成されていることを特徴とする請求項1に記載の搬送装置。 The conveying apparatus according to claim 1, wherein the guide member is configured as a single shaft. 前記保持部材は、前記ベースの前記主面の法線方向についてバネ性を有することを特徴とする請求項1に記載の搬送装置。 The transport apparatus according to claim 1, wherein the holding member has a spring property in a normal direction of the main surface of the base. 前記保持部材は、前記ベースの前記主面の法線方向及び前記搬送方向の双方に直交する方向についてバネ性を有することを特徴とする請求項1に記載の搬送装置。 The transport apparatus according to claim 1, wherein the holding member has a spring property in a direction orthogonal to both the normal direction of the main surface of the base and the transport direction. 前記ベースの前記主面と平行な面内における、前記被搬送物の回転を是正する回転是正手段を備えることを特徴とする請求項1に記載の搬送装置。 Conveying apparatus according to claim 1, characterized in that it comprises at the base of the plane parallel to the principal plane, a rotation correcting means for correcting the rotation of the transported object. 前記ベース上の前記一部領域以外の領域において、前記ベース側から前記被搬送物に向けて気体を吐出する第1の気体吐出機構を備えることを特徴とする請求項1に記載の搬送装置。 The transport apparatus according to claim 1, further comprising a first gas discharge mechanism that discharges gas from the base side toward the object to be transported in an area other than the partial area on the base. 前記被搬送物はガラス基板であることを特徴とする請求項1に記載の搬送装置。 The transport apparatus according to claim 1, wherein the object to be transported is a glass substrate. 請求項1に記載の搬送装置と、
前記被搬送物に対して塗布液を塗布するための塗布装置と、を備え、
前記気体吐出吸引機構は、前記一部領域において、対向する一対の主面を有する前記被搬送物の一方の主面側に前記気体を吐出及び吸引し、
前記塗布装置は、前記一部領域において、前記被搬送物の他方の主面側に前記塗布液を塗布する、
ことを特徴とする塗布システム。
A transport apparatus according to claim 1 ;
A coating apparatus for applying a coating liquid to the object to be transported,
The gas discharge and suction mechanism discharges and sucks the gas to one main surface side of the object to be transported having a pair of opposed main surfaces in the partial region,
The coating apparatus applies the coating liquid to the other main surface side of the transported object in the partial area.
An application system characterized by that.
前記一部領域において、前記塗布装置よりも前段で、前記他方の主面側に前記被搬送物に対して気体を吐出する第2の気体吐出機構を備えることを特徴とする請求項に記載の塗布システム。 In the partial region, the front in than the coating apparatus, according to claim 8, characterized in that it comprises a second gas discharging mechanism for discharging the gas to the carried object to the other main surface side Application system. 対向する一対の主面を有する基板である被搬送物をベース上にて保持部材で吸着し保持して搬送しながら塗布液を塗布する塗布方法であって、
前記被搬送物に対して一方の主面側に、前記被搬送物のたわみを矯正するよう気体を気体吐出吸引機構で吐出及び吸引しながら、他方の主面側に前記塗布液を塗布する工程を含み、
前記塗布液を塗布する工程においては、前記気体吐出吸引機構に含まれ前記ベース上から見て互いに独立して配置されると共に前記搬送方向及び該搬送方向に直交する方向に互いに隣り合うよう構成された吸引用の孔及び吐出用の孔を通して、前記気体を吐出及び吸引することを特徴とする塗布方法。
An application method for applying a coating liquid while adsorbing and holding an object to be conveyed, which is a substrate having a pair of opposing main surfaces, with a holding member on the base,
A step of applying the coating liquid on the other main surface side while discharging and sucking gas with a gas discharge suction mechanism so as to correct the deflection of the transferred object on one main surface side with respect to the transferred object. Including
The step of applying the coating liquid is configured to be included in the gas discharge suction mechanism and arranged independently of each other as viewed from above the base and adjacent to each other in the transport direction and the direction perpendicular to the transport direction. The gas is discharged and sucked through the suction hole and the discharge hole.
請求項1に記載の搬送装置と、
前記被搬送物の検査を行うための検査装置と、を備え、
前記気体吐出吸引機構は、前記一部領域において、対向する一対の主面を有する前記被搬送物の一方の主面側に前記気体を吐出及び吸引し、
前記検査装置は、前記一部領域において、前記被搬送物の他方の主面側から該被搬送物を検査する、
ことを特徴とする検査システム。
A transport apparatus according to claim 1 ;
An inspection device for inspecting the conveyed object,
The gas discharge and suction mechanism discharges and sucks the gas to one main surface side of the object to be transported having a pair of opposed main surfaces in the partial region,
The inspection apparatus inspects the object to be conveyed from the other main surface side of the object to be conveyed in the partial area;
Inspection system characterized by that.
前記保持部材は、
前記搬送方向に沿って延びる基体部と、
前記基体部から前記ベースの前記主面の法線方向及び前記搬送方向の双方に直交する方向に延設された複数の支持梁部と、
前記複数の支持梁部の先端にそれぞれ設けられており、前記被搬送物を吸着して保持するための吸着部と、を含む保持機構を有し、
前記複数の支持梁部の各々は、少なくとも前記ベースの前記主面の法線方向についてバネ性を有すると共に、自身の軸周りのねじれ性を有することを特徴とする請求項1に記載の搬送装置。
The holding member is
A base portion extending along the transport direction;
A plurality of support beam portions extending from the base portion in a direction perpendicular to both the normal direction of the main surface of the base and the transport direction;
A holding mechanism that is provided at each of the ends of the plurality of support beam portions and includes an adsorption portion for adsorbing and holding the object to be conveyed;
2. The transport device according to claim 1, wherein each of the plurality of support beam portions has a spring property at least in a normal direction of the main surface of the base and a twist property around its own axis. .
前記移動部材及び前記保持部材をそれぞれ二個備え、
前記移動部材の各々は、独立に速度制御可能に設けられており、
前記保持部材の各々による前記被搬送物の保持位置が、前記ベースの前記主面の法線方向及び前記搬送方向の双方に直交する方向についてずれていることを特徴とする請求項に記載の搬送装置。
Two each of the moving member and the holding member,
Each of the moving members is provided so that the speed can be controlled independently.
Holding position of each said object to be conveyed by the holding member, according to claim 2, characterized in that offset direction orthogonal to both the normal direction and the transport direction of the base of the main surface Conveying device.
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