JP4416384B2 - 半導体集積回路 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、大規模な半導体集積回路に組み込まれる基本集合素子の構成に係る発明であって、特に、セルベース方式の基本集合素子に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
セミカスタムLSIは、PLD(Programmable Logic Device)、FPGA(Field Programmable Gate Array)、ゲートアレイ、セルベース方式(スタンダードセルとも呼ばれる。)に大別される。
【0003】
ここで、ゲートアレイは、あらかじめ半導体基板上にゲートを構成する基本セルを格子状に規則的に配置し、ユーザの回路に合わせて配線を施し所望のLSIを実現することができる。図16に、ゲートアレイの平面図を示す。このゲートアレイは、その構成上ゲート配線100の間隔が均一である(ゲートパターン(ゲート形状)が均一である)。n型の不純物拡散領域とゲート配線100と当該隣接するn型の不純物拡散領域とでトランジスタを形成することができる。これらゲート配線100を介して隣接する複数のn型の不純物拡散領域をn型の活性領域101という。同様に複数のp型の不純物拡散領域をp型の活性領域102という。ゲート配線100、n型の活性領域101及びp型の活性領域102により形成される複数のトランジスタ間を接続するために、ゲート配線100、n型の活性領域101及びp型の活性領域102には、コンタクトホール103が形成されている。
【0004】
一方、セルベース方式は、あらかじめCPU、メモリやA−D変換器又はマイクロセルなどの複雑な回路を標準的な基本集合素子として用意しておき、それらをユーザが要求する機能に応じて選択、組み合わせすることで所望のLSIを実現することができる。図17に、セルベース方式の平面図を示す。このセルベース方式は、活性領域上のゲート配線104のゲートパターン(ゲート形状)が不均一でもよい。これにより、セルベース方式は、ゲートアレイに比べて1チップ内の面積を有効に利用することができる。ここで、n型の不純物拡散領域とゲート配線104と当該隣接するn型の不純物拡散領域とでトランジスタを形成することができる。これらゲート配線104を介して隣接する複数のn型の不純物拡散領域をn型の活性領域105という。同様に複数のp型の不純物拡散領域をp型の活性領域106という。ゲート配線104、n型の活性領域105及びp型の活性領域106により形成される複数のトランジスタ間を接続するために、ゲート配線104、n型の活性領域105及びp型の活性領域106には、コンタクトホール107が形成されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
上記で説明したセルベース方式では、n型の活性領域105又はp型の活性領域106上のゲート配線104のゲートパターン(ゲート形状)が不均一に構成される場合がある。この場合、ゲート配線104の不均一なゲートパターン(ゲート形状)の混在のため、マスク作成時において複雑なCAD的な処理を行うことで、ゲートパターン(ゲート形状)の仕上がりを均一の値に保っていた。しかし、このCAD的な処理は、その処理に膨大な時間とコストが必要となる問題があった。
【0006】
また、上記の困難性を回避して、ゲートパターン(ゲート形状)の仕上がりを均一の値に保つ方法としては、活性領域上のゲートパターン(ゲート形状)を均一に設計する方法がある。しかし、従来のセルベース方式では、図17のように活性領域上のコンタクトホールの必要・不必要に応じてゲートパターン(ゲート形状)の均一性が取れていなかった。ゲートパターン(ゲート形状)を均一にするには、図18に示すように、p型の活性領域106を大きくする方法が考えられるが、この方法では、p型の活性領域106の面積が増加し、基本集合素子の専有面積を増加させる問題がある。
【0007】
そこで、本発明は、上記の問題点を解消するためになされたもので、複雑なCAD処理なくウェハプロセス後にゲートパターン(ゲート形状)の仕上がりが均一の値を保つことができ、専有面積を増加させない基本集合素子を備える半導体集積回路を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項1に係る解決手段は、セルベース方式による半導体集積回路であって、半導体基板上に、第1方向に並んで形成された第1活性領域及び第2活性領域と、
前記第1活性領域上及び前記第2活性領域上に前記第1方向に直交する第2方向に並んで設けられ、前記第1活性領域上及び前記第2活性領域上においてはそれぞれ前記第2方向に設計上均一な第1間隔で形成されている複数のゲート配線とを備え、
前記第1活性領域は前記第1方向に突出する第1の突出部を有し、
前記第1の突出部の少なくとも一部は、前記複数のゲート配線の内、隣接する2つのゲート配線間の下層に形成され、
前記第1の突出部には第1のコンタクトホールが形成され、
前記第1の突出部の第2方向の幅は、前記第1間隔よりも広く、
前記第1活性領域上に前記第2方向に並んだ前記複数のゲート配線の内、前記第2方向の一端に形成されるゲート配線と、前記第1活性領域の前記第1方向に延びる2辺の内、前記一端にあるゲート配線に近い方の辺との最短間隔である第2間隔は、前記第1間隔よりも広い。
【0009】
本発明の請求項2に係る解決手段は、請求項1記載の半導体集積回路であって、
前記第2活性領域は前記第1方向に突出する第2の突出部を有し、
前記第2の突出部の少なくとも一部は、前記複数のゲート配線の内、隣接する2つのゲート配線間の下層領域に形成され、
前記第2の突出部には第2のコンタクトホールが形成され、
前記第2の突出部の第2方向の幅は、前記第1間隔よりも広く、
前記第2活性領域上に前記第2方向に並んだ前記複数のゲート配線の内、前記第2方向の一端に形成されるゲート配線と、前記第2活性領域の前記第1方向に延びる2辺の内、前記一端にあるゲート配線に近い方の辺との最短間隔である第2間隔は、前記第1間隔よりも広い。
【0010】
本発明の請求項3に係る解決手段は、請求項1記載の半導体集積回路であって、
前記第1の突出部は、前記第1と第2の活性領域とが向き合う側とは反対の側に設けられる。
【0011】
本発明の請求項4に係る解決手段は、請求項1記載の半導体集積回路であって、
前記第1の突出部は、前記第1と第2の活性領域とが向き合う側に設けられる。
【0012】
本発明の請求項5に係る解決手段は、請求項2記載の半導体集積回路であって、
前記第1の突出部は、前記第1と第2の活性領域とが向き合う側及び前記第2の突出部は、前記第1と第2の活性領域とが向き合う側とは反対の側にそれぞれ設けられる。
【0013】
本発明の請求項6に係る解決手段は、請求項2記載の半導体集積回路であって、
前記第1と第2の突出部はそれぞれ、前記第1と第2の活性領域とが向き合う側とは反対の側に設けられる。
【0014】
本発明の請求項7に係る解決手段は、請求項2記載の半導体集積回路であって、
前記第1と第2の突出部はそれぞれ、前記第1と第2の活性領域とが向き合う側に設けられる。
【0015】
本発明の請求項8に係る解決手段は、請求項1乃至請求項7のいずれかに記載の半導体集積回路であって、
複数の前記ゲート配線は、前記突出部を迂回して配線される。
【0017】
【発明の実施の形態】
以下、本発明をその実施の形態を示す図面に基づいて具体的に説明する。
【0018】
(実施の形態1)
図1に、本実施の形態に係る半導体集積回路の基本集合素子の平面図を示す。特に、この図1では、pチャネルトランジスタとnチャネルトランジスタとで構成された基本集合素子の一部を図示している。このpチャネルトランジスタは、p型の不純物拡散領域とゲート配線と当該隣接するp型の不純物拡散領域とでトランジスタを形成することができる。これらゲート配線を介して隣接する複数のp型の不純物拡散領域をp型の活性領域1(第1又は第2活性領域)という。同様にnチャネルトランジスタは、n型の不純物拡散領域とゲート配線と当該隣接するn型の不純物拡散領域とでトランジスタを形成することができ、複数のn型の不純物拡散領域をn型の活性領域2(第2又は第1活性領域)という。そして、このp型の活性領域1とn型の活性領域2上に、3本のゲート配線3,4,5が形成されている。
【0019】
次に、p型の活性領域1には、n型の活性領域2と向かい合う側の反対の側(図ではp型の活性領域1の上側)にコンタクトホール6,7を設けるための突出部が形成されている。この突出部に形成されたコンタクトホール6は、ゲート配線3とゲート配線4との間に形成されている。また、突出部に形成されたコンタクトホール7は、ゲート配線4とゲート配線5との間に形成されている。このコンタクトホール6,7は、p型の活性領域1に形成される複数のトランジスタ間を接続するために形成されている。
【0020】
このように形成された基本集合素子では、突出部以外のp型の活性領域1上で、ゲート配線3,4,5の間にコンタクトホール6,7が存在しなくなる。そのため、ゲート配線3,4,5は、コンタクトホール6,7の位置の制限を受けることなく、突出部以外のp型の活性領域1上に配置することができる。従って、ゲート配線3,4,5のゲートパターン(ゲート形状)は、突出部以外のp型の活性領域1上で均一の配置することが可能となる。なお、ゲート配線3,4,5は、突出部を迂回するように形成される。
【0021】
セルベース方式の基本集合素子であっても図1のような構成にすることにより、複雑なCAD処理なくウェハプロセス後、p型の活性領域1上でゲート配線3,4,5のゲートパターン(ゲート形状)仕上がりを均一の値に保つことが可能となる。また、p型の活性領域1の面積を増加させる必要がないため、本実施の形態の基本集合素子の専有面積は、増加しない。
【0022】
また、p型の活性領域1上のゲート配線3,4の間のゲート間幅L3よりも、図1に示すコンタクトホール6を設けるための突出部の幅L1(ゲート間幅と平行な方向)の方が大きくなる。同様に、コンタクトホール7を設けるための突出部の幅L2は、p型の活性領域1上のゲート配線4,5の間のゲート間幅L4よりも大きくなる。これにより、ゲート間幅L3,L4に制限されることなく突出部の幅L1,L2を設定することができ、コンタクトホールの形状に自由度が増す。以下の変形例や他の実施の形態における突出部にも、上記関係は適用される(以下の図中には、特に突出部の幅やゲート間幅は図示しない。)。
【0023】
図2及び図3に、本実施の形態の変形例に係る半導体集積回路の基本集合素子の平面図を示す。図2の基本集合素子では、p型の活性領域1のn型の活性領域2と向かい合う側(図ではp型の活性領域1の下側)にコンタクトホール8,9を設けるための突出部が形成されている。この突出部に形成されたコンタクトホール8は、ゲート配線3とゲート配線4との間に形成されている。また、突出部に形成されたコンタクトホール9は、ゲート配線4とゲート配線5との間に形成されている。図2に示した基本集合素子でも、図1に示した基本集合素子と同様の効果が得られる。
【0024】
次に、図3の基本集合素子では、p型の活性領域1のn型の活性領域2と向かい合う側の反対の側にコンタクトホール10を,向かい合う側にコンタクトホール11を設けるための突出部が形成されている。なお、コンタクトホール10,11を設けるための突出部の配置は、図3に示したものには限られず、p型の活性領域1のn型の活性領域2と向かい合う側とその反対の側のそれぞれに形成されていればよい。この突出部に形成されたコンタクトホール10は、ゲート配線3とゲート配線4との間に形成されている。また、突出部に形成されたコンタクトホール11は、ゲート配線4とゲート配線5との間に形成されている。
【0025】
図3に示した基本集合素子でも、図1に示した基本集合素子と同様の効果が得られる。さらに、この図3に示した基本集合素子では、コンタクトホールの配置に自由度が増すので、このコンタクトホールに接続される配線の配置の自由度が増す。
【0026】
(実施の形態2)
本実施の形態は、実施の形態1で示したp型の活性領域のコンタクトホールの構造を、n型の活性領域に適用したものである。図4に、本実施の形態に係る半導体集積回路の基本集合素子の平面図を示す。半導体基板上(図示せず。)に、p型の活性領域21とn型の活性領域22とが形成されている。ここで、p型の不純物拡散領域とゲート配線と当該隣接するp型の不純物拡散領域とでトランジスタを形成することができる。これらゲート配線を介して隣接する複数のp型の不純物拡散領域をp型の活性領域21(第1又は第2活性領域)という。同様に複数のn型の不純物拡散領域をn型の活性領域22(第2又は第1活性領域)という。そして、このp型の活性領域21とn型の活性領域22上に、4本のゲート配線23,24,25,26が形成されている。
【0027】
次に、n型の活性領域22には、p型の活性領域21と向かい合う側の反対の側(図ではn型の活性領域22の下側)にコンタクトホール27,28,29を設けるための突出部が形成されている。この突出部に形成されたコンタクトホール27は、ゲート配線23とゲート配線24との間に形成されている。また、突出部に形成されたコンタクトホール28は、ゲート配線24とゲート配線25との間に形成されている。さらに、突出部に形成されたコンタクトホール29は、ゲート配線25とゲート配線26との間に形成されている。このコンタクトホール27,28,29は、n型の活性領域22に形成される複数のトランジスタ間を接続するために形成されている。
【0028】
このように形成された基本集合素子では、突出部以外のn型の活性領域22上で、ゲート配線23,24,25,26の間にコンタクトホール27,28,29が存在しなくなる。そのため、ゲート配線23,24,25,26は、コンタクトホール27,28,29の位置の制限を受けることなく、突出部以外のn型の活性領域22上に配置することができる。従って、ゲート配線23,24,25,26のゲートパターン(ゲート形状)は、突出部以外のn型の活性領域22上で均一の配置することが可能となる。なお、ゲート配線23,24,25,26は、突出部を迂回するように形成される。
【0029】
セルベース方式の基本集合素子であっても図4のような構成にすることにより、複雑なCAD処理なくウェハプロセス後、n型の活性領域22上でゲート配線23,24,25,26のゲートパターン(ゲート形状)仕上がりを均一の値に保つことが可能となる。また、n型の活性領域22の面積を増加させる必要がないため、本実施の形態の基本集合素子の専有面積は増加しない。
【0030】
図5及び図6に、本実施の形態の変形例に係る半導体集積回路の基本集合素子の平面図を示す。図5の基本集合素子では、n型の活性領域22のp型の活性領域21と向かい合う側(図ではn型の活性領域22の上側)にコンタクトホール30,31,32を設けるための突出部が形成されている。図5に示した基本集合素子でも、図4に示した基本集合素子と同様の効果が得られる。
【0031】
次に、図6の基本集合素子では、n型の活性領域22のp型の活性領域21と向かい合う側の反対の側にコンタクトホール33を,向かい合う側にコンタクトホール34,35を設けるための突出部が形成されている。なお、コンタクトホール33,34,35を設けるための突出部の配置は、図6に示したものには限られず、n型の活性領域22のp型の活性領域21と向かい合う側とその反対の側のそれぞれに形成されていればよい。
【0032】
図6に示した基本集合素子でも、図4に示した基本集合素子と同様の効果が得られる。さらに、この図6に示した基本集合素子では、コンタクトホールの配置に自由度が増すので、このコンタクトホールに接続される配線の配置の自由度が増す。
【0033】
(実施の形態3)
本実施の形態は、実施の形態1で示した基本集合素子と実施の形態2で示した基本集合素子との組み合わせである。まず図7に、本実施の形態に係る半導体集積回路の基本集合素子の平面図を示す。半導体基板上(図示せず。)に、p型の活性領域41とn型の活性領域42とが形成されている。ここで、p型の不純物拡散領域とゲート配線と当該隣接するp型の不純物拡散領域とでトランジスタを形成することができる。これらゲート配線を介して隣接する複数のp型の不純物拡散領域をp型の活性領域41(第1又は第2活性領域)という。同様に複数のn型の不純物拡散領域をn型の活性領域42(第2又は第1活性領域)という。そして、このp型の活性領域41とn型の活性領域42上に、4本のゲート配線43,44,45,46が形成されている。
【0034】
次に、p型の活性領域41には、n型の活性領域42と向かい合う側の反対の側(図ではp型の活性領域41の上側)にコンタクトホール47,48,49を設けるための突出部が形成されている。この突出部に形成されたコンタクトホール47は、ゲート配線43とゲート配線44との間に形成されている。また、突出部に形成されたコンタクトホール48は、ゲート配線44とゲート配線45との間に形成されている。さらに、突出部に形成されたコンタクトホール49は、ゲート配線45とゲート配線46との間に形成されている。このコンタクトホール47,48,49は、p型の活性領域41に形成される複数のトランジスタ間を接続するために形成されている。
【0035】
次に、n型の活性領域42には、p型の活性領域41と向かい合う側の反対の側(図ではn型の活性領域42の下側)にコンタクトホール50,51,52を設けるための突出部が形成されている。この突出部に形成されたコンタクトホール50は、ゲート配線43とゲート配線44との間に形成されている。また、突出部に形成されたコンタクトホール51は、ゲート配線44とゲート配線45との間に形成されている。さらに、突出部に形成されたコンタクトホール52は、ゲート配線45とゲート配線46との間に形成されている。このコンタクトホール50,51,52は、n型の活性領域42に形成される複数のトランジスタ間を接続するために形成されている。
【0036】
このように形成された基本集合素子では、突出部以外のp型の活性領域41上及びn型の活性領域42上で、ゲート配線43,44,45,46の間にコンタクトホール47,48,49,50,51,52が存在しなくなる。そのため、ゲート配線43,44,45,46は、コンタクトホール47,48,49,50,51,52の位置の制限を受けることなく、突出部以外のp型の活性領域41上及びn型の活性領域42上に配置することができる。従って、ゲート配線43,44,45,46のゲートパターン(ゲート形状)は、突出部以外のp型の活性領域41及びn型の活性領域42上で均一の配置することが可能となる。なお、ゲート配線43,44,45,46は、突出部を迂回するように形成される。
【0037】
セルベース方式の基本集合素子であっても図7のような構成にすることにより、複雑なCAD処理なくウェハプロセス後、p型の活性領域41上及びn型の活性領域42上でゲート配線43,44,45,46のゲートパターン(ゲート形状)仕上がりを均一の値に保つことが可能となる。また、p型の活性領域41及びn型の活性領域42の面積を増加させる必要がないため、本実施の形態の基本集合素子の専有面積は、増加しない。
【0038】
図8乃至図15に、本実施の形態の変形例に係る半導体集積回路の基本集合素子の平面図を示す。本実施の形態は図7に限られず、図8から図15までの変形例が考えられる。まず、図8及び図9に示す基本集合素子は、図7に示す基本集合素子とn型の活性領域42の下側にコンタクトホール50,51,52を設けるための突出部が形成されている点で共通する。しかし、図8に示す基本集合素子は、p型の活性領域41の下側にコンタクトホール47,48,49を設けるための突出部が形成されている点で異なる。図9に示す基本集合素子は、p型の活性領域41の上側にコンタクトホール47,49、下側にコンタクトホール48を設けるための突出部が形成されている点で異なる。
【0039】
次に、図10乃至図12に示す基本集合素子は、それぞれn型の活性領域42の上側にコンタクトホール50,51,52を設けるための突出部が形成されている点で共通する。しかし、図10に示す基本集合素子は、p型の活性領域41の上側にコンタクトホール47,48,49を設けるための突出部が形成されている点で異なる。図11に示す基本集合素子は、p型の活性領域41の下側にコンタクトホール47,48,49を設けるための突出部が形成されている点で異なる。図12に示す基本集合素子は、p型の活性領域41の上側にコンタクトホール47,49、下側にコンタクトホール48を設けるための突出部が形成されている点で異なる。
【0040】
さらに、図13乃至図15に示す基本集合素子は、それぞれn型の活性領域42の上側にコンタクトホール50,52、下側にコンタクトホール51を設けるための突出部が形成されている点で共通する。しかし、図13に示す基本集合素子は、p型の活性領域41の上側にコンタクトホール47,48,49を設けるための突出部が形成されている点で異なる。図14に示す基本集合素子は、p型の活性領域41の下側にコンタクトホール47,48,49を設けるための突出部が形成されている点で異なる。図15に示す基本集合素子は、p型の活性領域41の上側にコンタクトホール47,49、下側にコンタクトホール48を設けるための突出部が形成されている点で異なる。
【0041】
なお、図9、図12及び図15に示す基本集合素子では、コンタクトホール47,48,49を設けるための突出部の配置が、図9、図12及び図15に示したものには限られず、p型の活性領域41の上側と下側のそれぞれに形成されていればよい。また、図13乃至図15に示す基本集合素子では、コンタクトホール50,51,52を設けるための突出部の配置が、図13乃至図15に示したものには限られず、n型の活性領域42の上側と下側のそれぞれに形成されていればよい。
【0042】
図8乃至図15に示した基本集合素子でも、図7に示した基本集合素子と同様の効果が得られる。さらに、この図9、図12乃至図15に示した基本集合素子では、コンタクトホールの配置に自由度が増すので、このコンタクトホールに接続される配線の配置の自由度が増す。
【0043】
【発明の効果】
本発明の請求項1に記載の半導体集積回路は、第1活性領域に第1の突出部が形成されているので、複雑なCAD処理なくウェハプロセス後、第1活性領域上でゲート配線のゲートパターン(ゲート形状)の仕上がりを均一の値に保つことが可能となる効果がある。また、基本集合素子の専有面積は、増加させない効果もある。
【0044】
本発明の請求項2に記載の半導体集積回路は、第2活性領域に第2の突出部が形成されているので、複雑なCAD処理なくウェハプロセス後、第2活性領域上でゲート配線のゲートパターン(ゲート形状)の仕上がりを均一の値に保つことが可能となる効果がある。また、基本集合素子の専有面積は、増加させない効果もある。
【0045】
本発明の請求項3に記載の半導体集積回路は、第1の突出部が、第1と第2の活性領域とが向き合う側とは反対の側に設けられているので、複雑なCAD処理なくウェハプロセス後、第1活性領域上でゲート配線のゲートパターン(ゲート形状)の仕上がりを均一の値に保つことが可能となる効果がある。また、基本集合素子の専有面積は、増加させない効果もある。
【0046】
本発明の請求項4に記載の半導体集積回路は、第1の突出部が、第1と第2の活性領域とが向き合う側に設けられているので、複雑なCAD処理なくウェハプロセス後、第1活性領域上でゲート配線のゲートパターン(ゲート形状)の仕上がりを均一の値に保つことが可能となる効果がある。また、基本集合素子の専有面積は、増加させない効果もある。
【0047】
本発明の請求項5に記載の半導体集積回路は、第1の突出部が、第1と第2の活性領域とが向き合う側及び第2の突出部が、第1と第2の活性領域とが向き合う側とは反対の側にそれぞれ設けられているので、複雑なCAD処理なくウェハプロセス後、第1活性領域上及び第2活性領域上でゲート配線のゲートパターン(ゲート形状)の仕上がりを均一の値に保つことが可能となる効果がある。また、基本集合素子の専有面積は、増加させない効果もある。
【0048】
本発明の請求項6に記載の半導体集積回路は、第1と第2の突出部がそれぞれ、第1と第2の活性領域とが向き合う側とは反対の側に設けられているので、複雑なCAD処理なくウェハプロセス後、第1活性領域上及び第2活性領域上でゲート配線のゲートパターン(ゲート形状)の仕上がりを均一の値に保つことが可能となる効果がある。また、基本集合素子の専有面積は、増加させない効果もある。
【0049】
本発明の請求項7に記載の半導体集積回路は、第1と第2の突出部がそれぞれ、第1と第2の活性領域とが向き合う側に設けられているので、複雑なCAD処理なくウェハプロセス後、第1活性領域上及び第2活性領域上でゲート配線のゲートパターン(ゲート形状)の仕上がりを均一の値に保つことが可能となる効果がある。また、基本集合素子の専有面積は、増加させない効果もある。
【0051】
本発明の請求項8に記載の半導体集積回路は、ゲート配線が突出部を迂回して配線されているので、所定の方向に延設される複数のゲート配線を備える場合でも、複雑なCAD処理なくウェハプロセス後、第1活性領域上及び第2活性領域上でゲート配線のゲートパターン(ゲート形状)の仕上がりを均一の値に保つことが可能となる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施の形態1に係る半導体集積回路の基本集合素子の平面図である。
【図2】 本発明の実施の形態1の変形例に係る半導体集積回路の基本集合素子の平面図である。
【図3】 本発明の実施の形態1の変形例に係る半導体集積回路の基本集合素子の平面図である。
【図4】 本発明の実施の形態2に係る半導体集積回路の基本集合素子の平面図である。
【図5】 本発明の実施の形態2の変形例に係る半導体集積回路の基本集合素子の平面図である。
【図6】 本発明の実施の形態2の変形例に係る半導体集積回路の基本集合素子の平面図である。
【図7】 本発明の実施の形態3に係る半導体集積回路の基本集合素子の平面図である。
【図8】 本発明の実施の形態3の変形例に係る半導体集積回路の基本集合素子の平面図である。
【図9】 本発明の実施の形態3の変形例に係る半導体集積回路の基本集合素子の平面図である。
【図10】 本発明の実施の形態3の変形例に係る半導体集積回路の基本集合素子の平面図である。
【図11】 本発明の実施の形態3の変形例に係る半導体集積回路の基本集合素子の平面図である。
【図12】 本発明の実施の形態3の変形例に係る半導体集積回路の基本集合素子の平面図である。
【図13】 本発明の実施の形態3の変形例に係る半導体集積回路の基本集合素子の平面図である。
【図14】 本発明の実施の形態3の変形例に係る半導体集積回路の基本集合素子の平面図である。
【図15】 本発明の実施の形態3の変形例に係る半導体集積回路の基本集合素子の平面図である。
【図16】 従来技術に係るゲートアレイの半導体集積回路の基本集合素子の平面図である。
【図17】 従来技術に係るセルベース方式の半導体集積回路の基本集合素子の平面図である。
【図18】 従来技術に係るセルベース方式の半導体集積回路の基本集合素子の平面図である。
【符号の説明】
1,21,41 p型の活性領域、2,22,42 n型の活性領域、3,4,5,23,24,25,26,43,44,45,46 ゲート配線、6,7,8,9,10,11,27,28,29,30,31,32,33,34,35,47,48,49,50,51,52 コンタクトホール
100 ゲート配線、101 p型の活性領域、102 n型の活性領域、103 コンタクトホール、104 ゲート配線、105 p型の活性領域、106n型の活性領域、107 コンタクトホール。
Claims (8)
- セルベース方式による半導体集積回路であって、
半導体基板上に、第1方向に並んで形成された第1活性領域及び第2活性領域と、
前記第1活性領域上及び前記第2活性領域上に前記第1方向に直交する第2方向に並んで設けられ、前記第1活性領域上及び前記第2活性領域上においてはそれぞれ前記第2方向に設計上均一な第1間隔で形成されている複数のゲート配線とを備え、
前記第1活性領域は前記第1方向に突出する第1の突出部を有し、
前記第1の突出部の少なくとも一部は、前記複数のゲート配線の内、隣接する2つのゲート配線間の下層に形成され、
前記第1の突出部には第1のコンタクトホールが形成され、
前記第1の突出部の第2方向の幅は、前記第1間隔よりも広く、
前記第1活性領域上に前記第2方向に並んだ前記複数のゲート配線の内、前記第2方向の一端に形成されるゲート配線と、前記第1活性領域の前記第1方向に延びる2辺の内、前記一端にあるゲート配線に近い方の辺との最短間隔である第2間隔は、前記第1間隔よりも広い、半導体集積回路。 - 請求項1記載の半導体集積回路であって、
前記第2活性領域は前記第1方向に突出する第2の突出部を有し、
前記第2の突出部の少なくとも一部は、前記複数のゲート配線の内、隣接する2つのゲート配線間の下層領域に形成され、
前記第2の突出部には第2のコンタクトホールが形成され、
前記第2の突出部の第2方向の幅は、前記第1間隔よりも広く、
前記第2活性領域上に前記第2方向に並んだ前記複数のゲート配線の内、前記第2方向の一端に形成されるゲート配線と、前記第2活性領域の前記第1方向に延びる2辺の内、前記一端にあるゲート配線に近い方の辺との最短間隔である第2間隔は、前記第1間隔よりも広い、半導体集積回路。 - 請求項1記載の半導体集積回路であって、
前記第1の突出部は、前記第1と第2の活性領域とが向き合う側とは反対の側に設けられることを特徴とする、半導体集積回路。 - 請求項1記載の半導体集積回路であって、
前記第1の突出部は、前記第1と第2の活性領域とが向き合う側に設けられることを特徴とする、半導体集積回路。 - 請求項2記載の半導体集積回路であって、
前記第1の突出部は、前記第1と第2の活性領域とが向き合う側及び前記第2の突出部は、前記第1と第2の活性領域とが向き合う側とは反対の側にそれぞれ設けられることを特徴とする、半導体集積回路。 - 請求項2記載の半導体集積回路であって、
前記第1と第2の突出部はそれぞれ、前記第1と第2の活性領域とが向き合う側とは反対の側に設けられることを特徴とする、半導体集積回路。 - 請求項2記載の半導体集積回路であって、
前記第1と第2の突出部はそれぞれ、前記第1と第2の活性領域とが向き合う側に設けられることを特徴とする、半導体集積回路。 - 請求項1乃至請求項7のいずれかに記載の半導体集積回路であって、
複数の前記ゲート配線は、前記突出部を迂回して配線されることを特徴とする、半導体集積回路。
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