JP4414191B2 - 半導体装置用リードフレーム - Google Patents

半導体装置用リードフレーム Download PDF

Info

Publication number
JP4414191B2
JP4414191B2 JP2003366230A JP2003366230A JP4414191B2 JP 4414191 B2 JP4414191 B2 JP 4414191B2 JP 2003366230 A JP2003366230 A JP 2003366230A JP 2003366230 A JP2003366230 A JP 2003366230A JP 4414191 B2 JP4414191 B2 JP 4414191B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lead frame
semiconductor device
pad
pads
lead
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2003366230A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2005129853A (ja
Inventor
仁 江藤
英雄 蔵田
典子 清島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui High Tech Inc
Original Assignee
Mitsui High Tech Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui High Tech Inc filed Critical Mitsui High Tech Inc
Priority to JP2003366230A priority Critical patent/JP4414191B2/ja
Publication of JP2005129853A publication Critical patent/JP2005129853A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4414191B2 publication Critical patent/JP4414191B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Description

本発明は半導体装置用リードフレームに係り、更に詳細には半導体素子搭載部のパッドがインナーリードの先端の位置よりも下方にディプレスされているTSOPタイプの半導体装置用リードフレームに関する。
ここで、TSOP(Thin Small Outline Package)タイプの半導体装置用リードフレームとは、高さ、端子間隔が共に1.27mm以下で、2辺から端子がでている表面実装型ICパッケージに使用するリードフレームを指す。
半導体装置の高集積化に伴い、半導体素子は、大型化し、厚みも増大する傾向にあるが、半導体装置自体はよりいっそうの小形化、薄型化が要求されている。このため、TSOPタイプと呼ばれる半導体装置に使用されるリードフレームが一般的に使用されるようになっている。
TSOPタイプのリードフレームでは、実装状態でパッド上に搭載される半導体素子の上面と各インナーリードの先端とが同一平面上に位置するようにするため、パッドを支えるサポートバーの一部を押し曲げて各インナーリードの先端に対してパッドを所定の距離だけ下方へ変位させるためのディプレスが行われている。
これによって、高集積化のため厚みの増した半導体素子を搭載した場合でも、パッケージの厚みの増加を最小限に抑えることができる。また、半導体素子の接続端子とリードフレームとをできる限り同一平面内でワイヤ接続することができるようになるため、半導体素子周縁にワイヤが接触する、いわゆるエッジショートなどの接続不良を防止することが可能になる。
ここで、半導体素子をリードフレームの半導体素子搭載部に搭載する際には、パッドの全面に接着剤を塗布しているが、半導体素子の形状が大型化すると接着面積も大きくなり、パッドに均一な厚みの接着剤層を形成するために、半導体素子の裏面全体が一様に接着剤で濡れるように、接着剤を広げなければならない。
そのため、接着剤の塗布作業では、接着剤をパッドのほぼ全面に広げるために、半導体素子1個当たり、例えば、15〜25秒という長い時間を要するという問題が生じていた。また、接着剤の使用量もそれだけ多くなるという問題があった。
そこで、図5に示すように、枠体80内のパッド81を第1の搭載部82と第2の搭載部83に分割して、枠体80内の左右両側にそれぞれ形成されているインナーリード部84に接近させ、サポートバー85を介して枠体80の前後のサイドバー86に固定する構成のリードフレーム87が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
このような構成とすることにより、従来のように半導体素子88の裏面とほぼ同じ面積を有するパッドの全面にわたって接着剤を塗布する場合に比べて、パッド81の接着剤塗布面積が極めて小さくなって、接着剤の塗布作業の時間短縮を行うと共に、接着剤の使用量を節減できる。なお、符号89は、第1の搭載部82と第2の搭載部83にそれぞれ設けられている貫通孔である。
特開2001−144247号公報
ここで、第1の搭載部82と第2の搭載部83のサイズは搭載する半導体素子88のサイズに応じて決定され、半導体素子88のサイズが大きくなると第1の搭載部82と第2の搭載部83のサイズも大きくしていた。
しかし、半導体素子88のサイズが大きくなるのに応じてリードフレーム87の枠体80のサイズを大きくすることには限界があるので、サイズの大きな半導体素子88では枠体80のサイズと半導体素子88のサイズとの間に生じる余裕が小さくなる。このため、枠体80の各サイドバー86に第1の搭載部82及び第2の搭載部83を固定するサポートバー85の長さが短くなる。
その結果、サポートバー85内にディプレスにより十分な長さの折り曲げ部を確保することができず、各インナーリード部84の先端に対して第1の搭載部82及び第2の搭載部83を所定の距離だけ下方へ変位させることが困難になるという問題が生じる。
本発明はかかる事情に鑑みてなされたもので、サポートバーの長さを確保しディプレスにより十分な長さの折り曲げ部を形成して大きなサイズの半導体素子の搭載を可能にするTSOPタイプの半導体装置用リードフレームを提供することを目的とする。
前記目的に沿う請求項1記載の半導体装置用リードフレームは、枠体の一部であって前後一対のサイドレール間に配置され、それぞれ複数のインナーリードを有して左右に対向配置された一対のリード群と、該一対のリード群の間にあって、前後の前記サイドレールにそれぞれサポートバーによって連結される複数のパッドを備える半導体素子搭載部とを備えた半導体装置用リードフレームにおいて、
前記各サポートバーは、前記リード群と前記パッドの隙間の前後部にそれぞれ形成され、更に、前記複数のパッドを一体化する連結部が設けられており、
しかも、前記各サポートバーには折り曲げ部が設けられ、前記複数のパッドの表面が前記各インナーリードの表面に対して下位置にある
請求項記載の半導体装置用リードフレームは、請求項記載の半導体装置用リードフレームにおいて、前記サポートバーは、L字状に形成され、前記サイドレールに接続される長片に前記折り曲げ部が形成されている。
請求項記載の半導体装置用リードフレームは、請求項1及び2記載の半導体装置用リードフレームにおいて、前記連結部は、前記パッドの肉厚より薄くなって、しかも、該連結部の表面は前記パッドの表面より下位置にある。
請求項記載の半導体装置用リードフレームは、請求項1〜記載の半導体装置用リードフレームにおいて、前記半導体素子搭載部は、左右の前記リード群にそれぞれ接近して配置される2つの前記パッドを有し、前記連結部は前記パッドの中央部を連結している。
請求項記載の半導体装置用リードフレームは、請求項1〜記載の半導体装置用リードフレームにおいて、前記半導体素子搭載部は、左右の前記リード群にそれぞれ接近して配置される2つの前記パッドを有し、前記連結部は前記パッドの前後両側をそれぞれ連結している。
請求項記載の半導体装置用リードフレームは、請求項1〜記載の半導体装置用リードフレームにおいて、前記半導体素子搭載部は、左右の前記リード群にそれぞれ接近して配置される2つの前記パッドを有し、前記連結部はX字状に形成され、その端部がそれぞれ前記パッドの前後両側に連結している。
請求項記載の半導体装置用リードフレームは、請求項1〜記載の半導体装置用リードフレームにおいて、前記半導体素子搭載部は、左右の前記リード群及び前記前後のサイドレールにそれぞれ近接して配置される4つの前記パッドを有し、前記連結部はX字状に形成され、その端部がそれぞれ前記パッドに連結している。
請求項1〜記載の半導体装置用リードフレームは、各サポートバーは、リード群とパッドの隙間の前後部にそれぞれ形成されているので、サポートバーの長さを大きくしてディプレスによって十分な折り曲げ部を形成することができ、大きなサイズの半導体素子の搭載が可能になる。
更に、複数のパッドを一体化する連結部が設けられているので、各パッドが変形しにくくなって、半導体素子を搭載する際のパッドの安定性を向上することが可能になる。
そして、各サポートバーに折り曲げ部が設けられ、複数のパッドの表面が各インナーリードの表面に対して下位置にあるので、半導体素子の接続端子とインナーリードの先端とをできる限り同一平面内でワイヤ接続することができるようになり、半導体素子の接続端子とインナーリードとのワイヤ接続を容易に行うことが可能になる。
請求項記載の半導体装置用リードフレームは、サポートバーがL字状に形成され、サイドレールに接続される長片に折り曲げ部が形成されているので、十分な長さの折り曲げ部を形成することが可能になる。
請求項記載の半導体装置用リードフレームは、連結部はパッドの肉厚より薄くなって、しかも、連結部の表面はパッドの表面より下位置にあるので、封止樹脂により半導体素子をモールドした際に連結部上面と半導体素子下面との間に封止樹脂が入り込み、封止樹脂と半導体素子及びリードフレームとのロック効果を維持することが可能になると共に、モールドとの安定性を確保することが可能になる。
請求項記載の半導体装置用リードフレームは、各パッドを連結する連結部がパッドの中央部に設けられているので、各パッドを一体化して変形しにくくしながら半導体素子の裏面側で露出する面積を十分に確保することができ、半導体素子と封止樹脂との間の接着性を向上させることが可能になる。
請求項記載の半導体装置用リードフレームは、各パッドを連結する連結部が各パッドの前後両側にそれぞれ設けられているので、半導体素子の裏面側で露出する面積を確保しながら各パッドを一体化してより変形しにくくすることができ、半導体素子を搭載する際の安定性をより向上することが可能になる。
請求項記載の半導体装置用リードフレームは、各パッド連結する連結部がX字状に形成され、その端部がそれぞれパッドの前後両側に連結しているので、各パッドを強固に一体化して更に変形しにくくすることができ、半導体素子を搭載する際のパッドの安定性を更に向上することが可能になる。
請求項記載の半導体装置用リードフレームは、半導体素子搭載部は、左右のリード群及び前後のサイドレールにそれぞれ近接して配置される4つのパッドを有しているので、半導体素子の裏面側で露出する面積を更に広くすることができ、半導体素子と封止樹脂との間の接着性をより向上させることが可能になる。
また、連結部はX字状に形成され、その端部がそれぞれパッドに連結しているので、分散配置された各パッドを一体化することができ、半導体素子を搭載する際のパッドの安定性を維持することが可能になる。
続いて、添付した図面を参照しつつ、本発明を具体化した実施の形態につき説明し、本発明の理解に供する。
ここで、図1(A)は本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置用リードフレームの平面図、(B)は(A)のP−P矢視断面図、図2は本発明の第2の実施の形態に係る半導体装置用リードフレームの平面図、図3は本発明の第3の実施の形態に係る半導体装置用リードフレームの平面図、図4は本発明の第4の実施の形態に係る半導体装置用リードフレームの平面図である。
図1に示すように、本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置用リードフレーム10は、枠体11の一部であって前後一対のサイドレール12、13間に配置され、それぞれ複数のインナーリード14を有して左右に対向配置された一対のリード群15、16を備えている。更に、半導体装置用リードフレーム10は、一対のリード群15、16の間にあって、前後のサイドレール12、13にそれぞれサポートバー17によって連結される2つのパッド18、19を備える半導体素子搭載部20を備えている。以下、これらについて詳細に説明する。
ここで、左右とは、図1(A)に示す半導体装置用リードフレーム10を見た際の左右を指す。また、前後とは、図1(A)に示す半導体装置用リードフレーム10を見た際の上下を指す。
枠体11は、例えば、厚みが0.1〜0.2mmの銅合金から形成されており、左右両側にリード群15、16が配置され、このリード群15、16に対して実質的に垂直(例えば、89°〜91°、好ましくは89.5°〜90.5°の範囲)にサイドレール12、13が配置されて構成されている。そして、枠体11の内側には、リード群15、16にそれぞれ接近して、枠体11の中央部に空間部21が形成されるように、例えば、厚みが0.1〜0.2mmの銅合金から形成された各パッド18、19が配置されている。
このように、枠体11の内側に空間部21を形成することにより、空間部21の一方側から半導体素子をモールドする封止樹脂を流入させることができ、これに伴って空間部21内にあった空気や封止樹脂から排出される溶剤ガスを空間部21の他方側から排出させることができる。その結果、封止樹脂のモールドの際に高温に加熱されても空気の熱膨張による亀裂などが発生することが防止できる。
また、半導体素子を固定する接着剤を塗布する面積は、従来例のように半導体素子の裏面の全面積に塗布する場合に比べて、例えば、1/3〜1/4程度にすることができ、塗布時間及び接着剤の量も1/3〜1/4程度にすることができる。更に、半導体素子の裏面側で露出する面積を十分に確保することができ、半導体素子と封止樹脂との間の接着性を向上させることができる。
各サポートバー17は、例えば、厚みが0.1〜0.2mmの銅合金を用いて、リード群15とリード群15に接近して配置されるパッド18との間に形成される隙間22の前後部、及びリード群16とリード群16に接近して配置されるパッド19との間に形成される隙間23の前後部にそれぞれ形成されている。ここで、サポートバー17はL字状に形成され、その短片24はパッド18、19に接続され、その長片25はサイドレール12、13に接続されている。更に、長片25には折り曲げ部26が形成されている。
このように、L字状のサポートバー17を用いて各パッド18、19をサイドレール12、13で支持するようにすると、各パッドのサイドレールに対向する辺とサイドレールとの間に各サポートバーを設ける従来の構成と比較して、サポートバー17の長さを長くすることができ、特に、L字状のサポートバー17の長片25に折り曲げ部26を設けるようにすると、十分な長さの折り曲げ部26を確保することができる。
その結果、各インナーリード14の表面に対して各パッド18、19の表面を必要とする距離だけ下方へ変位させることができる。そして、各パッド18、19のリード群15、16に対向する辺に短片24を接続するようにしても、短片24を各インナーリード14の先端に対して下方へ変位させて、半導体素子の接続端子とインナーリード14とのワイヤ接続を支障なく行うことができる。
各パッド18、19の相互に対向する辺の中央部には、例えば、銅合金から形成された連結部27が1つ設けられている。これによって、各パッド18、19を連結部27を介して一体化することができ、各パッド18、19の剛性を高めて変形し難くすることができる。その結果、半導体素子を各パッド18、19に搭載した際にパッド18、19の安定性を高めることができる。
ここで、連結部27は、各パッド18、19の肉厚より薄くなって(例えば、30〜50%減じられて)、しかも、連結部27の表面は各パッド18、19の表面より下位置にある。このようにすることにより、半導体素子を各パッド18、19に搭載した際に、半導体素子の裏面側と連結部27の上表面との間に隙間を形成することができる。その結果、封止樹脂をこの隙間に入り込ませて、封止樹脂と半導体素子及び各パッド18、19とのロック効果を高めることができる。
次に、本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置用リードフレーム10の製造方法について詳細に説明する。
半導体装置用リードフレーム10は、例えば、エッチング加工により製造することができる。ここで、エッチング加工は、例えば、前処理工程、コーティング工程、焼付け工程、現像工程、エッチング工程、及び剥膜工程を有している。
前処理工程は、例えば、厚みが0.1〜0.2mm、幅が30〜80mmの銅合金の金属短冊の両面を、アルカリ(例えば、水酸化ナトリウム)を用いて洗浄し、表面に付着している油脂を除去するアルカリ脱脂処理と、酸(例えば、塩酸)及びアルカリ(例えば、水酸化ナトリウム)を用いて、金属短冊の表面に生成している酸化皮膜を除去する酸化膜除去処理を有している。これによって、金属短冊の両面は非常に活性化される。このため、コーティング工程における不良率を低下させることができる。なお、アルカリ脱脂処理の代りに、電解質溶液中で金属短冊を電極として電気分解を行う電解脱脂処理を行ってもよい。
コーティング工程は、金属短冊の両面にレジスト材(例えば、ケイ皮酸系や環化ゴム系等の有機レジスト、重クロム酸系やジアゾ系等の水溶性)を塗布する工程である。これによって、金属短冊の上下表面にレジスト皮膜を形成することができる。なお、塗布方法としては、浸漬法、回転法、スプレー法、ローラー法等が使用できる。
焼付け工程は、枠体11の一部であって前後一対のサイドレール12、13間に配置され、それぞれ複数のインナーリード14を有して左右に対向配置された一対のリード群15、16と、一対のリード群15、16の間にあって、前後のサイドレール12、13にそれぞれサポートバー17によって連結される2つのパッド18、19を備える半導体素子搭載部20と、各パッド18、19の中央部を連結する連結部27を備えたワーキングパターンを、紫外線を用いて金属短冊の上下表面に形成された各レジスト皮膜に焼き付ける工程である。これによって、紫外線が露光した部分(焼き付けられた部分)のレジスト皮膜を硬化させることができる。
なお、連結部27のパターンを焼き付ける際には、一面側には紫外線が当らないようにマスクを設けて露光を行う。
現像工程は、各レジスト皮膜を水により洗浄して、ワーキングパターンの焼付けによる未露光部分を金属短冊から除去する工程である。ここで、洗浄後、残ったレジスト皮膜の部分を、例えば加熱して更に硬化させる処理も併せて行う。なお、連結部27の一面側のレジスト皮膜は硬化していないので、現像工程でレジスト皮膜は除去されて、金属帯の表面が露出している。
エッチング工程は、エッチング剤(例えば、塩化第2鉄)を金属短冊の両面と接触させて、金属表面が露出している部分(未露光部分)を腐食させて除去する工程である。これによって、金属短冊からワーキングパターンに相当する形状を形成することができる。
ここで、連結部27は、一面側から腐食を受けるので、各パッド18、19に対してその厚みが、例えば、30〜50%減じられて形成される。なお、連結部27の厚みは、例えば、エッチング剤の濃度や接触の状態等を調整することにより調整できる。
剥膜工程は、エッチング工程終了後の金属短冊を、例えば、アルカリ溶液中に浸漬して硬化したレジスト皮膜を除去する工程である。これによって、金属短冊から半導体装置用リードフレーム10を取り出すことができる。
図2に示すように、本発明の第2の実施の形態に係る半導体装置用リードフレーム28は、第1の実施の形態に係る半導体装置用リードフレーム10と比較して、半導体素子搭載部29は2つのパッド30、31を有し、各パッド30、31は2つの連結部32、33で連結されていることが特徴となっている。このため、これらの特徴部分についてのみ説明し、第1の実施の形態に係る半導体装置用リードフレーム10と同一の構成部材には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
各パッド30、31は、例えば、厚みが0.1〜0.2mmの銅合金から形成され、左右のリード群15、16にそれぞれ接近して配置されている。そして、各パッド30、31の前後両側にはそれぞれ連結部32、33が設けられている。ここで、前後とは、図2に示す半導体装置用リードフレーム28を見た際の上下を指す。また、左右とは、図2に示す半導体装置用リードフレーム28を見た際の左右を指す。
このため、各パッド30、31を更に強固に一体化することができ、各パッド30、31の剛性を更に高めて変形し難くすることができる。その結果、半導体素子を各パッド30、31に搭載した際に更に各パッド30、31安定性を高めることができる。
ここで、各連結部32、33は各パッド30、31に対してその厚みが、例えば、30〜50%減じられて形成されている。このようにすることにより、半導体素子を各パッド30、31に搭載した際に、半導体素子の裏面側と各連結部32、33の上表面との間に隙間を形成することができる。その結果、封止樹脂をこの隙間に入り込ませて、封止樹脂と半導体素子及び各パッド30、31とのロック効果を更に高めることができる。
また、半導体装置用リードフレーム28は、半導体装置用リードフレーム10と同様にエッチング加工により製造することができるので、半導体装置用リードフレーム28の製造方法についての説明は省略する。
図3に示すように、本発明の第3の実施の形態に係る半導体装置用リードフレーム34は、第1の実施の形態に係る半導体装置用リードフレーム10と比較して、半導体素子搭載部35が2つのパッド36、37を有し、連結部38がX字状に形成されいることが特徴となっている。このため、これらの特徴部分についてのみ説明し、第1の実施の形態に係る半導体装置用リードフレーム10と同一の構成部材には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
各パッド36、37は、例えば、厚みが0.1〜0.2mmの銅合金から形成され、左右のリード群15、16にそれぞれ接近して配置されている。そして、連結部38はX字状に形成されてその端部がそれぞれ各パッド36、37の前後両側に連結している。また、連結部38は、その中央部と空間部21の中央部とが一致するように配置されている。
ここで、前後とは、図3に示す半導体装置用リードフレーム34を見た際の上下を指す。また、左右とは、図3に示す半導体装置用リードフレーム34を見た際の左右を指す。
このため、各パッド36、37を更に強固に一体化することができ、各パッド36、37の剛性を更に高めて変形し難くすることができる。その結果、半導体素子を各パッド36、37に搭載した際に各パッド36、37の安定性を更に高めることができる。
ここで、連結部38は各パッド36、37に対してその厚みが、例えば、30〜50%減じられて形成されている。このようにすることにより、半導体素子を各パッド36、37に搭載した際に、半導体素子の裏面側と連結部38の上表面との間に隙間を形成することができる。その結果、封止樹脂をこの隙間に入り込ませて、封止樹脂と半導体素子及び各パッド36、37とのロック効果を更に高めることができる。
また、半導体装置用リードフレーム34は、半導体装置用リードフレーム10と同様にエッチング加工により製造することができるので、半導体装置用リードフレーム34の製造方法についての説明は省略する。
図4に示すように、本発明の第4の実施の形態に係る半導体装置用リードフレーム39は、第1の実施の形態に係る半導体装置用リードフレーム10と比較して、半導体素子搭載部40は4つのパッド41〜44を有し、連結部45がX字状に形成されてその端部がそれぞれ各パッド41〜44に連結していることが特徴となっている。このため、これらの特徴部分についてのみ説明し、第1の実施の形態に係る半導体装置用リードフレーム10と同一の構成部材には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
各パッド41〜44は、例えば、厚みが0.1〜0.2mmの銅合金から形成され、左右のリード群15、16及び前後のサイドレール12、13にそれぞれ近接して配置されている。そして、連結部45がX字状に形成されてその端部がそれぞれ各パッド41〜44に連結している。また、連結部45は、その中央部と空間部21の中央部とが一致するように配置されている。ここで、前後とは、図4に示す半導体装置用リードフレーム39を見た際の上下を指す。また、左右とは、図4に示す半導体装置用リードフレーム39を見た際の左右を指す。
このため、分散配置された各パッド41〜44を強固に一体化することができ、各パッド41〜44の剛性を更に高めて変形し難くすることができる。その結果、半導体素子を各パッド41〜44に搭載した際に各パッド41〜44の安定性を高めることができる。
このような構成とすることにより、半導体素子を固定する接着剤を塗布する面積は、従来例のように半導体素子の裏面の全面積に塗布する場合に比べて、例えば、1/10〜1/20程度にすることができ、塗布時間及び接着剤の量も1/10〜1/20程度にすることができる。更に、半導体素子の裏面側で露出する面積を非常に広く確保することができ、半導体素子と封止樹脂との間の接着性をより向上させることができる。
また、連結部45は各パッド41〜44に対してその厚みが、例えば、30〜50%減じられて形成されている。このようにすることにより、半導体素子を各パッド41〜44に搭載した際に、半導体素子の裏面側と連結部45の上表面との間に隙間を形成することができる。その結果、封止樹脂をこの隙間に入り込ませて、封止樹脂と半導体素子及び各パッド41〜44とのロック効果を更に高めることができる。
以上、本発明の実施の形態を説明したが、本発明は、この実施の形態に限定されるものではなく、発明の要旨を変更しない範囲での変更は可能であり、前記したそれぞれの実施の形態や変形例の一部又は全部を組み合わせて本発明の半導体装置用リードフレームを構成する場合も本発明の権利範囲に含まれる。
例えば、各パッドの面積は、全て同一の面積としてもよいし、配置される位置によりそれぞれ面積を変えるようにしてもよい。
2つのパッドを左右のリード群にそれぞれ接近して配置した場合、連結部を各パッドの中央部に1つ、又は各パッドの前後両側にそれぞれ1つずつ設けたが、パッドの大きさに応じて隙間を開けて3つ以上設けるようにしてもよい。また、複数の連結部を設けた場合、隣り合う連結部同士を別の連結部で連結するようにしてもよい。これによって、各パッドの剛性を更に高めることができる。
左右のリード群及び前後のサイドレールにそれぞれ近接させて4つのパッドを配置する場合、隣り合う各パッド間にすべて連結部を設けてもよい。これによって、分散配置される各パッドの剛性をより高めることができる。
(A)は本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置用リードフレームの平面図、(B)は(A)のP−P矢視断面図である。 本発明の第2の実施の形態に係る半導体装置用リードフレームの平面図である。 本発明の第3の実施の形態に係る半導体装置用リードフレームの平面図である。 本発明の第4の実施の形態に係る半導体装置用リードフレームの平面図である。 従来例に係る半導体装置用リードフレームの平面図である。
10:半導体装置用リードフレーム、11:枠体、12、13:サイドレール、14:インナーリード、15、16:リード群、17:サポートバー、18、19:パッド、20:半導体素子搭載部、21:空間部、22、23:隙間、24:短片、25:長片、26:折り曲げ部、27:連結部、28:半導体装置用リードフレーム、29:半導体素子搭載部、30、31:パッド、32、33:連結部、34:半導体装置用リードフレーム、35:半導体素子搭載部、36、37:パッド、38:連結部、39:半導体装置用リードフレーム、40:半導体素子搭載部、41〜44:パッド、45:連結部

Claims (7)

  1. 枠体の一部であって前後一対のサイドレール間に配置され、それぞれ複数のインナーリードを有して左右に対向配置された一対のリード群と、該一対のリード群の間にあって、前後の前記サイドレールにそれぞれサポートバーによって連結される複数のパッドを備える半導体素子搭載部とを備えた半導体装置用リードフレームにおいて、
    前記各サポートバーは、前記リード群と前記パッドの隙間の前後部にそれぞれ形成され、更に、前記複数のパッドを一体化する連結部が設けられており、
    しかも、前記各サポートバーには折り曲げ部が設けられ、前記複数のパッドの表面が前記各インナーリードの表面に対して下位置にあることを特徴とする半導体装置用リードフレーム。
  2. 請求項記載の半導体装置用リードフレームにおいて、前記サポートバーは、L字状に形成され、前記サイドレールに接続される長片に前記折り曲げ部が形成されていることを特徴とする半導体装置用リードフレーム。
  3. 請求項1及び2のいずれか1項に記載の半導体装置用リードフレームにおいて、前記連結部は、前記パッドの肉厚より薄くなって、しかも、該連結部の表面は前記パッドの表面より下位置にあることを特徴とする半導体装置用リードフレーム。
  4. 請求項1〜のいずれか1項に記載の半導体装置用リードフレームにおいて、前記半導体素子搭載部は、左右の前記リード群にそれぞれ接近して配置される2つの前記パッドを有し、前記連結部は前記パッドの中央部を連結していることを特徴とする半導体装置用リードフレーム。
  5. 請求項1〜のいずれか1項に記載の半導体装置用リードフレームにおいて、前記半導体素子搭載部は、左右の前記リード群にそれぞれ接近して配置される2つの前記パッドを有し、前記連結部は前記パッドの前後両側をそれぞれ連結していることを特徴とする半導体装置用リードフレーム。
  6. 請求項1〜のいずれか1項に記載の半導体装置用リードフレームにおいて、前記半導体素子搭載部は、左右の前記リード群にそれぞれ接近して配置される2つの前記パッドを有し、前記連結部はX字状に形成され、その端部がそれぞれ前記パッドの前後両側に連結していることを特徴とする半導体装置用リードフレーム。
  7. 請求項1〜のいずれか1項に記載の半導体装置用リードフレームにおいて、前記半導体素子搭載部は、左右の前記リード群及び前記前後のサイドレールにそれぞれ近接して配置される4つの前記パッドを有し、前記連結部はX字状に形成され、その端部がそれぞれ前記パッドに連結していることを特徴とする半導体装置用リードフレーム。
JP2003366230A 2003-10-27 2003-10-27 半導体装置用リードフレーム Expired - Fee Related JP4414191B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003366230A JP4414191B2 (ja) 2003-10-27 2003-10-27 半導体装置用リードフレーム

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003366230A JP4414191B2 (ja) 2003-10-27 2003-10-27 半導体装置用リードフレーム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005129853A JP2005129853A (ja) 2005-05-19
JP4414191B2 true JP4414191B2 (ja) 2010-02-10

Family

ID=34644641

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003366230A Expired - Fee Related JP4414191B2 (ja) 2003-10-27 2003-10-27 半導体装置用リードフレーム

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4414191B2 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5634033B2 (ja) 2008-08-29 2014-12-03 セミコンダクター・コンポーネンツ・インダストリーズ・リミテッド・ライアビリティ・カンパニー 樹脂封止型半導体装置とその製造方法
JP6143726B2 (ja) * 2008-08-29 2017-06-07 セミコンダクター・コンポーネンツ・インダストリーズ・リミテッド・ライアビリティ・カンパニー 樹脂封止型半導体装置とその製造方法、リードフレーム
CN102376587A (zh) * 2010-08-24 2012-03-14 旭德科技股份有限公司 封装载板的制作方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2005129853A (ja) 2005-05-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101773260B1 (ko) 리드 프레임의 제조 방법
CN1272234C (zh) 在一基体上形成微电子弹簧结构的方法
TWI733981B (zh) 導線架
TWI745539B (zh) 導線架
JP4414191B2 (ja) 半導体装置用リードフレーム
JP5834647B2 (ja) リードフレームおよびその製造方法
JP5531172B2 (ja) リードフレーム及びその製造方法
JP2011108818A (ja) リードフレームの製造方法および半導体装置の製造方法
JP2015162656A (ja) Led用リードフレーム
JP5954871B2 (ja) 半導体装置の製造方法並びにそれに用いられる半導体素子搭載用基板とその製造方法
JP3013135B2 (ja) 半導体装置用リードフレームの製造方法
JP6156745B2 (ja) 半導体装置用リードフレーム及びその製造方法
JP5618285B2 (ja) リードレス表面実装型の半導体装置の製造に用いる半導体素子搭載用基板
KR102564558B1 (ko) 프리 몰드 기판 및 프리 몰드 기판의 제조 방법
JPH08316392A (ja) リードフレームの製造方法とリードフレーム
CN212211520U (zh) 一种电路板多截式金手指的制造结构
JP6901201B2 (ja) 半導体素子搭載用基板及びその製造方法
JP3358313B2 (ja) リードフレームの製造方法
JP2006253399A (ja) リードフレームの製造方法
KR102570205B1 (ko) 다열형 반도체 장치용 배선 부재 및 그 제조 방법
JPH09199654A (ja) リードフレームの加工方法およびリードフレーム
JPH0213433B2 (ja)
JPH09129800A (ja) リードフレームのエッチング加工装置
JP2637175B2 (ja) 半導体用多ピンリードフレームの製造方法
JP4305199B2 (ja) 半導体装置用基板の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060926

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080828

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090519

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090714

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20091110

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20091119

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121127

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121127

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131127

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees