JP4397195B2 - メモリ回路 - Google Patents
メモリ回路 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4397195B2 JP4397195B2 JP2003301017A JP2003301017A JP4397195B2 JP 4397195 B2 JP4397195 B2 JP 4397195B2 JP 2003301017 A JP2003301017 A JP 2003301017A JP 2003301017 A JP2003301017 A JP 2003301017A JP 4397195 B2 JP4397195 B2 JP 4397195B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- level
- circuit
- voltage
- memory cell
- negative voltage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Static Random-Access Memory (AREA)
- Logic Circuits (AREA)
Description
武石他監修、「MOS集積回路の基礎」、近代科学社、61−66頁、1992年5月
まず、図1に参考例1のメモリ回路の構成を示す。1はメモリセルへのデータの書き込みを制御する書込制御回路、2,2’はレベル変換型反転バッファ、3は一定の負電圧VNN(<GND)を出力する負電圧源回路、4はメモリセルである。書込回路はこれら書込制御回路1と反転バッファ2,2’と負電圧源回路3で構成されており、供給電圧が負電圧VNNの負電圧源回路3を使用すること、およびデータ書き込み時のビット線のレベル制御にLOWレベル電圧をGNDレベルから上記VNNレベルに変換するレベル変換型反転バッファ2,2’を適用することが図11に示したメモリ回路と異なる。
図3に本発明の実施例のメモリ回路の構成を示す。メモリセル4ヘのデータの書き込みを制御する書込制御回路1と、反転バッファ2,2’と、負電圧源回路3’で書込回路を構成している。参考例1とは、一定の負電圧VNNを出力する負電圧源回路3の代わりに、入力端子PINがHIGHレベルの時にのみ負電圧VNNを出力しそれ以外ではGNDレベルを出力するスイッチトキャパシタ型の負電圧源回路3’を使用することが異なる。
VNN=−VDD・(C1−C2)/(C1+C2) (1)
出力端子VNNに負電圧を得るには(C1>C2)の関係が必要であり、負荷容量C2が大きい場合にキャパシタC1の占有面積が大きくなる。しかし、負荷容量C2の初期電圧値をGNDレベルに設定する場合は
VNN=−VDD・C1/(C1+C2) (2)
であり、常に負電圧VNNが得られる。すなわち、負荷容量C2の初期電圧値をGNDレベルに設定する場合は、その初期電圧値をVDDに設定する場合に比べて、キャパシタC1の容量値を小さくできる利点がある。
図6に参考例2のメモリ回路の構成を示す。この参考例2はHIGHレベルをGNDレベル、LOWレベルを−VDDレベルとする場合のものである。1Aはメモリセルへのデータの書き込みを制御する書込制御回路、2A,2A’はレベル変換型反転バッファ、3Aは一定の正電圧VPP(>GND)を出力する正電圧源回路、4Aはメモリセルである。ここで、メモリセル4Aは、フリップフロップ(逆並列接続された一対のインバータ)を構成する一対の負荷用NchMOSFETQ1’,Q2’と一対の駆動用PchMOSFETQ3’,Q4’に、セル選択用PchMOSFETQ5’,Q6’を組み合わせて構成される。フリップフロップの回路節点T1,T2は何れか一方がHIGHレベル(GND)、他方がLOWレベル(−VDD)となり、その状態の違いによってメモリセル4Aは1ビットのデータを記憶する。メモリセル4Aの選択信号を伝送するワード線/WLは、選択時にはLOWレベル、非選択時にはHIGHレベルに制御される。
図8に参考例3のメモリ回路の構成を示す。メモリセル4Aヘのデータの書き込みを制御する書込制御回路1Aと、反転バッファ2A,2A’と、負電圧源回路3A’で書込回路を構成している。参考例2とは、一定の正電圧VPPを出力する正電圧源回路3Aの代わりに、入力端子PINがLOWレベル(-VDD)の時にのみ正電圧VPPを出力し、それ以外ではGNDレベルを出力するスイッチトキャパシタ型の負電圧源回路3A’を使用することが異なる。
2,2’,2A,2A’:レベル変換型反転バッファ
3,3’:負電圧源回路
3A,3A’:正電圧源回路
4,4A:メモリセル
5,5’,5”:インバータ
Claims (1)
- メモリセルと、該メモリセルに接続され非書込時にHIGHレベルに保持される一対のビット線と、前記メモリセルに接続され非選択時にLOWレベルに保持されるワード線と、前記一対のビット線に接続された書込回路とを具備し、
前記書込回路は、所定のタイミングで負電圧を発生するスイッチトキャパシタ型の負電圧源回路と、該負電圧源回路の発生電圧を入力し、LOWレベルを出力すべきとき前記負電圧源回路で発生した負電圧レベルを前記ビット線に出力するレベル変換型バッファとを具備し、
前記ビット線をHIGHレベルからLOWレベルに変化させるとき、正電圧もしくはその近傍のレベルからGNDレベルを経由して負電圧レベルまでオーバドライブすることを特徴とするメモリ回路。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003301017A JP4397195B2 (ja) | 2003-08-26 | 2003-08-26 | メモリ回路 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003301017A JP4397195B2 (ja) | 2003-08-26 | 2003-08-26 | メモリ回路 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005071491A JP2005071491A (ja) | 2005-03-17 |
JP4397195B2 true JP4397195B2 (ja) | 2010-01-13 |
Family
ID=34405764
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003301017A Expired - Fee Related JP4397195B2 (ja) | 2003-08-26 | 2003-08-26 | メモリ回路 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4397195B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006323950A (ja) * | 2005-05-20 | 2006-11-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体記憶装置 |
FR2895556A1 (fr) * | 2005-12-26 | 2007-06-29 | St Microelectronics Sa | Dispositif de stockage d'informations a memoires sram et procede de mise en oeuvre |
JP4579965B2 (ja) | 2007-12-19 | 2010-11-10 | パナソニック株式会社 | 半導体記憶装置 |
JP5256512B2 (ja) * | 2008-06-06 | 2013-08-07 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体記憶装置 |
US8120975B2 (en) * | 2009-01-29 | 2012-02-21 | Freescale Semiconductor, Inc. | Memory having negative voltage write assist circuit and method therefor |
JP4802257B2 (ja) * | 2009-03-16 | 2011-10-26 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
JP5264611B2 (ja) * | 2009-04-28 | 2013-08-14 | パナソニック株式会社 | 半導体記憶装置 |
JP2012069214A (ja) * | 2010-09-24 | 2012-04-05 | Toshiba Corp | ビット線負電位回路および半導体記憶装置 |
JP5867092B2 (ja) * | 2012-01-10 | 2016-02-24 | 株式会社ソシオネクスト | 半導体記憶装置及びその書き込み方法 |
-
2003
- 2003-08-26 JP JP2003301017A patent/JP4397195B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005071491A (ja) | 2005-03-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100270000B1 (ko) | 승압펄스 발생회로 | |
US6809554B2 (en) | Semiconductor integrated circuit having a voltage conversion circuit | |
US3953839A (en) | Bit circuitry for enhance-deplete ram | |
US8295101B2 (en) | Semiconductor device | |
KR100190839B1 (ko) | 반도체메모리장치 | |
KR20010109095A (ko) | 신호 전위 변환 회로 | |
JP4397195B2 (ja) | メモリ回路 | |
US6765817B2 (en) | Semiconductor memory | |
KR920006981A (ko) | 반도체 메모리 | |
US11430507B2 (en) | Memory device with enhanced access capability and associated method | |
KR100357425B1 (ko) | 반도체기억장치 | |
JPH06333386A (ja) | 半導体記憶装置 | |
US20170243634A1 (en) | Semiconductor memory device including sram cells | |
TWI699764B (zh) | 記憶體寫入裝置及方法 | |
JP4342467B2 (ja) | 半導体メモリ | |
KR19990007065A (ko) | 데이터 비트의 파괴없이 입/출력 마스킹 기능을 갖는 반도체 메모리 장치 | |
JPH0516119B2 (ja) | ||
JP2006085812A (ja) | 強誘電体記憶装置のデータ読み出し/再書き込み回路、強誘電体記憶装置、電子機器 | |
US4435791A (en) | CMOS Address buffer for a semiconductor memory | |
JP2984045B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
JP2012147278A (ja) | 半導体装置 | |
JP6908838B2 (ja) | 記憶回路及び半導体装置 | |
JP6069544B1 (ja) | ラッチ回路及び半導体記憶装置 | |
KR100369357B1 (ko) | 저 소비 전력 센스 앰프를 구비한 반도체 롬 | |
KR100883138B1 (ko) | 입력블록을 구비하는 반도체메모리소자 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050803 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080828 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080930 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081119 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20091020 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091020 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121030 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121030 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131030 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |