JP4382841B2 - コンデンサ及びその製造方法 - Google Patents
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Description
(3)酸化物基材52からなる略円筒状の構造体58を形成してから第1電極20及び第2電極24を空隙60や孔54に充填することとしたので、電極材料の選択性が増すとともに、製造プロセスの簡略化を図ることができる。
(4)前記第1電極20及び第2電極24の形成後に前記構造体58を除去し、その空隙62に高誘電率材料を充填することとしたので、誘電体18の材料の選択性が増し、用途に応じて誘電体材料を変更することが可能となる。
(2)略柱状の複数の孔238を有する酸化物基材236を形成し、後から前記孔238に電極材料を充填するため製造プロセスが簡単になる。また、電極材料の選択性が増す。
(3)前記酸化物基材236の除去後に、高誘電率材料を充填することとしたので、誘電体層204の材料の選択性が増し、用途に応じて誘電率材料を変更することが可能となる。
(4)同一面(誘電体層表面204A)の直近に、電流方向が逆向きになるように表面電極206,210を形成しているため、磁界相殺の効果が大きく、ESLが大幅に低減できる。
(1)前記実施例で示した形状,寸法は一例であり、必要に応じて適宜変更してよい。例えば、前記実施例3の表面電極206,210の歯部206A,210Aの数や、内部電極208,212の数も一例であり、必要に応じて適宜増減してよい。前記表面電極206,210を、同一主面上に2組以上設けるようにしてもよい。
(3)実施例1及び3で示した電極引出構造も一例であり、同様の効果を奏するように適宜設計変更可能である。
(4)前記実施例で示した製造工程も一例であり、同様の効果を奏するように適宜変更してよい。例えば、表面電極と裏面電極のいずれを先に形成するかも一例であり、必要に応じて適宜変更してよい。
12:コンデンサ素子
14,16:導電体層
18:誘電体
18A,18B:端面
20:第1電極
20A,20B,24A,24B:端面
24:第2電極
26:段差
28:絶縁キャップ
30:絶縁フィルム
32,34:接続ランド
36,38:引出部
50:金属基材
50A:表面
51:ピット
52:酸化物基材
52A:表面
52B:裏面
54:孔(ホール)
56:シード層
58:構造体
58A:閉口端面
58B:開口端面
60,62:空隙
100:コンデンサ素子
102,104:導電体層
106:誘電体層
106A:表面
106B:裏面
108:第1電極
108A,108B,110A,110B:端部
110:第2電極
112:絶縁キャップ
120:金属基材
120A:表面
122:ピット
124:酸化物基材
124A:表面
124B:裏面
126,128:孔(ホール)
130:シード層
132:空隙
134:段差
200:コンデンサ
202:コンデンサ素子
204:誘電体層
204A:表面
204B:裏面
206,210:表面電極
206A,210A:歯部
206B,210B:基部
208,212:内部電極
214:絶縁体層
216A,216B:導体パターン
218A,218B:リード線
230:金属基材
230A:表面
232,234:凹状パターン
232A,234A:歯部
232B,234B:基部
236:酸化物基材
236A:表面
236B:裏面
238:孔(ホール)
238A,238B:端部
240:シード層
242:空隙
Claims (23)
- 所定の間隔で対向する一対の導電体層,
該導電体層と略直交し、かつ、両端が前記一対の導電体層の内側主面に接続するとともに、高誘電率材料により形成された略チューブ状の複数の誘電体,
一端が一方の導電体層に接続し、他端が他方の導電体層と絶縁するように、前記複数の誘電体間の空隙に充填される第1の電極,
一端が前記他方の導電体層に接続し、他端が前記一方の導電体層と絶縁するように、前記複数の誘電体の中空部に充填される第2の電極,
を備えたことを特徴とするコンデンサ。 - 前記誘電体は、前記導電体層と略平行な断面において、ハニカム構造を形成する六角形の頂点とその中央に配置されていることを特徴とする請求項1記載のコンデンサ。
- 所定の間隔で対向する一対の導電体層,
該一対の導電体層間に設けられており、高誘電率材料により形成された誘電体層,
前記一対の導電体層と略直交する方向に、前記誘電体層を貫通するように形成された複数の略柱状の孔,
前記複数の孔のうちの一部の孔に充填されており、一端が一方の導電体層に接続され、他端が他方の導電体層と絶縁した第1の電極,
前記複数の孔のうち、前記第1の電極が充填されていない孔に充填されており、一端が前記他方の導電体層に接続され、他端が前記一方の導電体層と絶縁した第2の電極,
を備えたことを特徴とするコンデンサ。 - 前記第1又は第2の電極のいずれか一方の電極が、前記導電体層と略平行な断面において、ハニカム構造を形成する六角形の頂点に配置され、他方の電極が、前記六角形の中心に配置されることを特徴とする請求項3記載のコンデンサ。
- 前記第1及び第2の電極の少なくともいずれかの先端と前記導電体層間に設けた間隙によって、前記電極と導電体層間を絶縁することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のコンデンサ。
- 前記第1及び第2の電極の少なくともいずれかの先端と前記導電体層間に設けた絶縁体によって、前記電極と導電体層間を絶縁することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のコンデンサ。
- 前記絶縁体が、金属酸化物,樹脂,SiO2のいずれかであることを特徴とする請求項6記載のコンデンサ。
- 高誘電率材料によって形成されており、所定の厚みを有する誘電体層,
該誘電体層の同一主面に形成されており、複数のライン状の歯部の一端が基部に接続した略櫛型の一対の表面電極,
該一対の表面電極のそれぞれの歯部に一端が接続されており、他端が前記誘電体層の厚み方向へ延長した略柱状の複数の内部電極,
を備えるとともに、
前記一対の表面電極を、互いの歯部が前記誘電体層を介して交互に平行に配列するように、前記誘電体層表面に配置したことを特徴とするコンデンサ。 - 前記内部電極の他端が、前記表面電極が形成された面と対向する誘電体主面に露出するとともに、該誘電層主面に絶縁層を設けたことを特徴とする請求項8記載のコンデンサ。
- 前記高誘電率材料が、弁金属の酸化物,複合酸化物,樹脂のいずれかであることを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載のコンデンサ。
- 金属の基材を陽極酸化し、第1の電極及び第2の電極を充填するための空隙を有する構造体を形成する工程,
前記構造体の一方の主面に、導電性のシード層を形成する工程,
前記空隙に導電体を埋め込み、前記シード層上に第1及び第2の電極を形成する工程,
前記構造体を除去し、それによって生じた空隙に、高誘電率材料を充填して誘電体層を形成する工程,
前記シード層を除去するとともに、前記誘電体層の主面に、前記第1及び第2の電極の一方と接続し、他方と絶縁した一対の表面電極ないし導電体層を形成する工程,
を含むことを特徴とするコンデンサの製造方法。 - 金属の基材を陽極酸化し、該酸化物基材の対向する一対の主面と略直交する方向に、一方の主面で開口し、他方の主面で閉口する複数の孔を形成する工程1,
前記酸化物基材の一方の主面全体に、導電性のシード層を形成する工程2,
前記酸化物基材を加工して、前記孔を中空部とする略チューブ状の複数の構造体を形成する工程3,
前記複数の構造体間の空隙に途中まで導電体を埋め込み、前記シード層上に第1の電極の一部を形成する工程4,
前記シード層と対向する酸化物基材の主面側において、前記構造体の先端を所定の厚みで切除し、該構造体の閉口端を開口する工程5,
前記複数の構造体間の空隙と前記構造体の中空部に、同時に導電体を埋め込み、前記シード層上に、前記工程5で開口した構造体の開口端に達する第1の電極と、前記開口端に達しない第2の電極を形成する工程6,
前記構造体を除去する工程7,
該工程7によって形成された略チューブ状の空隙部に、前記第2の電極の端面を覆い、かつ、前記第1の電極の端面を露出するように、高誘電率材料を充填して誘電体を形成する工程8,
前記シード層と対向する誘電体の主面に、前記第1の電極の端面と接続し、前記第2の電極の端面と絶縁した導電体層を形成するとともに、前記シード層を除去する工程9,
前記シード層を除去した主面において、前記第1の電極の端面を所定の厚みで切除し、該端面と前記誘電体の端面の間に段差を形成する工程10,
前記導電体層と対向する側に、前記第2の電極の端面と接続し、前記第1の電極の端面と絶縁した他の導電体層を形成する工程11,
を含むことを特徴とするコンデンサの製造方法。 - 前記工程10で形成した段差に、前記第1の電極の切除後の端面を覆い、かつ、前記第2の電極の端面を露出するように、絶縁体を埋め込む工程,
を含むことを特徴とする請求項12記載のコンデンサの製造方法。 - 前記工程1は、前記基材の主面と略平行な断面において、ハニカム構造を形成する六角形の頂点とその中央に位置するように、前記孔を形成することを特徴とする請求項12又は13記載のコンデンサの製造方法。
- 金属の基材を陽極酸化し、該酸化物基材の対向する一対の主面と略直交する方向に、一方の主面で開口する長さが異なる2種類の孔を複数形成するとともに、長い方の孔の先端を、前記酸化物基材の他方の主面側で開口する工程1,
前記酸化物基材の一方の主面全体に、導電性のシード層を形成する工程2,
前記工程1で開口した孔の内側に導電体を途中まで埋め込み、前記シード層上に第1の電極の一部を形成する工程3,
前記シード層と対向する主面側において、前記酸化物基材の端面を所定の厚みで切除し、短い方の孔の閉口端を開口する工程4,
前記複数の孔の全ての内側に導電体を埋め込み、前記シード層上に、前記工程4で切除した酸化物基材の端面に端面が達する第1の電極と、前記切除した端面に達しない第2の電極を形成する工程5,
前記酸化物基材を除去する工程6,
該工程6によって前記第1及び第2の電極間に生じた空隙部に、前記第1の電極の端面が露出し、かつ、前記第2の電極の端面を覆うように、高誘電率材料を充填して誘電体層を形成する工程7,
前記シード層と対向する誘電体層の主面に、前記第1の電極の端面と接続する導電体層を形成するとともに、前記シード層を除去する工程8,
前記シード層を除去した誘電体層の主面において、前記第1の電極の端面を所定の厚みで切除し、該第1の電極の端面と前記誘電体層の端面の間に段差を形成する工程9,
前記導電体層と対向する側に、前記第2の電極の端面と接続し、前記第1の電極の端面と絶縁した他の導電体層を形成する工程10,
を含むことを特徴とするコンデンサの製造方法。 - 前記工程9で形成した段差に、前記第1の電極の端面を覆う絶縁体を埋め込む工程,
を含むことを特徴とする請求項15記載のコンデンサの製造方法。 - 前記工程1は、前記第1及び第2の電極のいずれか一方が埋め込まれる孔が、前記基材の主面と略平行な断面において、ハニカム構造を形成する六角形の頂点に配置され、他方の電極が埋め込まれる孔が、前記六角形の中心に配置されることを特徴とする請求項15又は16記載のコンデンサの製造方法。
- 前記段差に設ける絶縁体を、金属酸化物,樹脂,SiO2のいずれかとしたことを特徴とする請求項13又は16記載のコンデンサの製造方法。
- 所定の厚みを有する金属基材の主面に、複数のライン状の歯部の一端側が基部に接続した略櫛型の一対の凹状パターンを、互いの歯部が前記基材を介して交互に平行に配列するように形成する工程1,
前記金属基材を陽極酸化し、前記凹状パターンの歯部から前記基材の厚み方向に延長した複数の孔を有する酸化物基材を形成する工程2,
前記酸化物基材に形成された孔の端部を、前記凹状パターンと反対側の主面において開口するとともに、該開口を覆うシード層を前記酸化物基材主面に形成する工程3,
前記孔の内側に導電体を埋め込んで、前記シード層上に、前記凹状パターンに接続する略柱状の内部電極を形成する工程4,
前記一対の凹状パターン内に導電体を設けて略櫛型の一対の表面電極を形成し、各凹状パターンの歯部に沿って配列した複数の内部電極を導通させる工程5,
前記酸化物基材を除去する工程6,
該工程6で形成された空隙部に、高誘電率材料を充填して誘電体層を形成する工程7,
前記シード層を除去する工程8,
を含むことを特徴とするコンデンサの製造方法。 - 前記工程8においてシード層を除去した後に露出する誘電体層の主面を、絶縁体で被覆する工程,
を含むことを特徴とする請求項19記載のコンデンサの製造方法。 - 前記高誘電率材料が、弁金属の酸化物,複合酸化物,樹脂のいずれかであることを特徴とする請求項11〜20のいずれかに記載のコンデンサの製造方法。
- 前記高誘電率材料が弁金属の酸化物であるとき、除去した構造体ないし酸化物基材よりも、誘電率が高い酸化物を利用することを特徴とする請求項21記載のコンデンサの製造方法。
- 請求項11〜22のいずれかに記載の製造方法によって形成されたことを特徴とするコンデンサ。
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