JP4381638B2 - Iii族窒化物結晶の結晶製造方法 - Google Patents

Iii族窒化物結晶の結晶製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4381638B2
JP4381638B2 JP2001358808A JP2001358808A JP4381638B2 JP 4381638 B2 JP4381638 B2 JP 4381638B2 JP 2001358808 A JP2001358808 A JP 2001358808A JP 2001358808 A JP2001358808 A JP 2001358808A JP 4381638 B2 JP4381638 B2 JP 4381638B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group iii
container
iii nitride
crystal
metal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2001358808A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2003160399A (ja
Inventor
浩和 岩田
正二 皿山
久典 山根
昌彦 島田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Priority to JP2001358808A priority Critical patent/JP4381638B2/ja
Priority to US10/134,895 priority patent/US7001457B2/en
Publication of JP2003160399A publication Critical patent/JP2003160399A/ja
Priority to US11/302,128 priority patent/US7531038B2/en
Priority to US12/353,608 priority patent/US8623138B2/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4381638B2 publication Critical patent/JP4381638B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体発光素子,電子デバイスの結晶成長用基板などに利用されるIII族窒化物結晶の結晶製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、青色のLEDは、赤色や緑色のLEDに比べて輝度が小さく、実用化に難点があったが、近年、一般式InAlGaNで表されるIII族窒化物化合物半導体において、低温AlNバッファー層あるいは低温GaNバッファー層を用いることによる結晶成長技術の向上と、Mgをドープした低抵抗のp型半導体層が得られたことにより、高輝度青色LEDが実用化され、さらには、青色波長領域で発振する半導体レーザが実現された。
【0003】
一般に、高品質の半導体層を基板上にエピタキシャル成長させる場合には、基板と半導体層の格子定数や熱膨張係数が同程度である必要がある。しかし、III族窒化物半導体はこれらを同時に満足する基板が現在世の中には存在しない。
【0004】
従って、III族窒化物では、一般に、サファイアやGaAsのようなIII族窒化物半導体とは格子定数や熱膨張係数の大きく異なる異種基板上に、ELO等の結晶成長技術を用いて厚膜GaNを成長し、それを基板として半導体レーザー結晶を作製している。
【0005】
しかるに、異種基板を用いて結晶成長されたGaN基板は、転位密度が107cm-2程度と非常に多くの結晶欠陥が含まれており、実用的な高出力のレーザ素子や電子デバイスを作製するには未だ十分な品質であるとはいえない。
【0006】
一方、高品質なGaN基板を作製するためのGaNバルク単結晶を作製する試みが様々な研究機関においてなされているが、いまだに数ミリ程度のものしか得られていないのが実状であり、実用化には程遠い状態である。
【0007】
文献「Chemistry of Materials Vol.9 (1997) p.413-416」(従来技術1)には、Naをフラックスとして用いたGaN結晶成長方法が示されている。この方法は、フラックスとしてのアジ化ナトリウム(NaN3)と金属Gaとを原料として、ステンレス製の反応容器(容器内寸法;内径=7.5mm、長さ=100mm)に窒素雰囲気で封入し、この反応容器を600〜800℃の温度で24〜100時間保持することにより、GaN結晶を成長させるものである。この方法では、600〜800℃程度の比較的低温での結晶成長が可能であり、容器内圧力も高々100kg/cm2程度と低くできる点が特徴である。この方法で1mm程度の大きさのGaN結晶が作製できている。
【0008】
また、特開2001−58900(従来技術2)には、III族窒化物結晶の大きさを大きくするために、III族窒化物結晶の結晶成長時に、III族金属を追加補充する方法が示されている。図4には、この従来技術2の方法が示されている。図4を参照すると、従来技術2の方法では、反応容器101内に、フラックスの収容された成長容器102と、III族金属供給管103とを設け、III族金属供給管103に外部から圧力を加え、成長容器102にIII族金属104を追加補給するようになっている。なお、図4において、106は加圧装置、107は反応容器の内部空間、108はガス供給管、109は圧力制御装置、110は下部ヒーター、111は側部ヒーターである。
【0009】
また、特開2001−102316(従来技術3)には、フラックス(Na)とIII族金属(Ga)との混合融液が収容された融液供給管に外部から圧力を加え、フラックスの収容された成長容器に混合融液を追加補給する方法と、成長容器内にフラックス(Na)とIII族金属(Ga)との金属間化合物を入れ、それを部分的に融解してIII族金属を追加補給する方法とが示されている。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来技術1では、反応容器が完全に閉じた系であり、外部から原料を補充することができない。そのため、結晶成長中に原料が枯渇し、結晶成長が停止するので、得られる結晶の大きさは1mm程度と小さい。この程度の大きさではデバイスを実用化するには小さすぎる。
【0011】
これに対し、従来技術2,従来技術3では、原料の追加補給を結晶成長の途中で行なうので、大型結晶を作製することが可能である。
【0012】
しかしながら、従来技術2では、フラックス(Na)の蒸気が低温部に凝集するため、温度の低いIII族金属供給管103に付着し、供給管103の穴105が詰まってしまうという問題がある。これを防止するために金属供給管103の温度を上げると、例えばIII族金属がGaの場合では、金属供給管103の材料であるステンレス等とGaが反応するため、やはり金属供給管103を詰まらせてしまう。
【0013】
また、従来技術3の方法、すなわち、フラックスとIII族金属との混合融液を追加する方法では、供給管内にフラックスが存在するので、供給管内でIII族金属と窒素が反応し、III族窒化物が生成され、そのため、供給管が詰まってしまうという問題がある。
【0014】
また、金属間化合物をフラックス内に入れて部分的に溶解させる場合には、窒素との反応が急激に進行するため、得られるIII族窒化物の結晶性は悪い。
【0015】
本発明は、これら従来のIII族窒化物バルク結晶の作製方法の問題点を解決し、高品質で実用的な大きさのIII族窒化物結晶を作製することの可能なIII族窒化物結晶の結晶製造法を提供することを目的としている。
【0016】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、請求項1記載の発明は、アルカリ金属を含む融液中で、III族金属原料と窒素原料を反応させてIII族窒化物結晶を成長させるIII族窒化物結晶の結晶製造方法において、反応容器内にIII族窒化物の収容された第1の容器とアルカリ金属の収容された第2の容器とを設置し、前記第1の容器の材質がIII族金属とIII族窒化物を分解させる温度で反応しないセラミックを使用し、この第1の容器を前記第2の容器よりも高温にしてIII族窒化物を分解し、分解によって生成されたIII族金属を、あるいは、分解によって生成されたIII族金属と窒素の両方を原料として前記第2の容器に供給し、前記第2の容器内でIII族窒化物結晶の結晶成長を行なうことを特徴としている。そして、請求項2記載の発明は、請求項1記載のIII族窒化物結晶の結晶製造方法において、前記セラミックはBN(ボロンナイトライド)であることを特徴としている。また、請求項3記載の発明は、請求項1記載のIII族窒化物結晶の結晶製造方法において、前記第1の容器及び第2の容器の材質がBN(ボロンナイトライド)であることを特徴としている。
【0017】
また、請求項記載の発明は、請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載のIII族窒化物結晶の結晶製造方法において、第1の容器の温度をIII族窒化物の分解温度を挟んで高温と低温に変動させて、III族窒化物結晶の成長を行なうことを特徴としている。
【0018】
また、請求項記載の発明は、請求項1ないし請求項4のいずれか1項に記載のIII族窒化物結晶の結晶製造方法において、III族窒化物は、第1の容器の内壁に付着していることを特徴としている。
【0019】
また、請求項記載の発明は、請求項記載のIII族窒化物結晶の結晶製造方法において、前記III族窒化物は、第1の容器を使用して、アルカリ金属融液中でIII族金属原料と窒素原料を反応させて作製されていることを特徴としている。
【0020】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
【0021】
第1の実施形態
本発明の第1の実施形態は、アルカリ金属を含む融液中で、III族金属原料と窒素原料を反応させてIII族窒化物結晶を成長させる場合、III族窒化物をIII族金属と窒素とに分解した後、III族窒化物結晶を再成長させることを特徴としている。
【0022】
より具体的に、本発明の第1の実施形態の結晶製造方法は、III族窒化物を、III族金属と窒素とに分解する第1の工程と、分解によって生成されたIII族金属あるいは窒素あるいはその両方(III族金属および窒素)を原料として、アルカリ金属融液中でIII族窒化物結晶を再成長させる第2の工程とからなっている。
【0023】
上記第1の工程でIII族窒化物を分解する方法としては、例えば、III族窒化物をその分解温度以上に加熱して分解する方法や、III族窒化物と熱平衡にある窒素の圧力を下げることで分解する方法等があるが、その他の方法でも良く、その方法は特に限定されるものではない。また、第1の工程と第2の工程とは、同一の容器内で行なうこともできるし、また、異なる容器内で行なうこともできる。
【0024】
また、アルカリ金属としては、通常、ナトリウムやカリウム等が使用される。また、本発明でいうIII族窒化物とは、ガリウム,アルミニウム,インジウムから選ばれるIII族金属と窒素との化合物を意味する(二元系に限らず、三元系,四元系であっても良い)。また、分解されるIII族窒化物は、単結晶である必要はなく、多結晶でも良い。また、その大きさも特に限定されるものではなく、微結晶でも粉末でも良い。
【0025】
第1の実施形態では、アルカリ金属を含む融液中で、III族金属原料と窒素原料を反応させてIII族窒化物結晶を成長させる場合、III族窒化物をIII族金属と窒素に分解した後、III族窒化物結晶を再成長させるので、結晶成長装置としては、従来技術のように溶融金属を反応容器の外部から供給するような大掛かりな機構を必要としない。従って、従来技術の問題となった融液供給管等の詰まり等の原料供給を中断する問題が解決できるので、大型のIII族窒化物結晶を成長することができる。また、結晶成長装置を簡便なものにすることができる。
【0026】
第2の実施形態
本発明の第2の実施形態は、上述した第1の実施形態において、III族窒化物を分解して生成されたIII族金属をIII族金属原料としてIII族窒化物結晶を成長するようになっている。
【0027】
ここで、窒素は、窒素原料から供給されるものを使用することができる。窒素原料としては、窒素ガスや、窒素と別の元素との化合物であって、窒素を構成元素とする物質であればよい。従って、気体であっても液体であっても固体であっても良く、特にその種類は限定されるものではない。また、窒素原料は、ガスとして反応容器の外部から供給することもできるし、アルカリ金属融液にあらかじめ溶融しておくことも可能であり、その供給形態は特に限定されるものではない。
【0028】
このように、第2の実施形態では、第1の実施形態において、III族窒化物を分解して生成されたIII族金属をIII族金属原料としてIII族窒化物を成長するので、III族金属を供給する必要が無く、融液供給管等の詰まりの問題が解決できる。その結果、結晶成長を継続して行なうことができて、大型のIII族窒化物結晶を成長することができる。また、従来技術3のようにアルカリ金属とIII族金属の金属間化合物を融解するものではないので、急激な反応は起らない。その結果、高品質のIII族窒化物を成長することができる。
【0029】
第3の実施形態本発明の第3の実施形態は、上述した第1の実施形態において、III族窒化物を分解して生成されたIII族金属と窒素をそれぞれIII族金属原料と窒素原料としてIII族窒化物結晶を成長するようになっている。
【0030】
ここで、分解で生成された窒素は、反応容器内に空間があると気体として融液中から気相中に抜けるので、あらかじめ反応容器内に窒素ガスを充填しておき、窒素分圧をかけておくことが望ましい。
【0031】
このように、第3の実施形態では、第1の実施形態において、III族窒化物を分解して生成されたIII族金属と窒素とをそれぞれIII族金属原料と窒素原料としてIII族窒化物結晶を成長するので、III族金属原料も窒素原料も反応容器外部から供給する必要が無い。その結果、閉じた系で結晶成長を行なうことができて、III族金属供給管や窒素原料供給管へのアルカリ金属蒸気の凝集の問題が解決できる。その結果、結晶成長を継続して行なうことができて、大型のIII族窒化物結晶を成長することができる。
【0032】
第4の実施形態
本発明の第4の実施形態は、上述した第1,第2,第3の実施形態のいずれかにおいて、反応容器内に、III族窒化物の収容された第1の容器と、アルカリ金属の収容された第2の容器とを設置し、第1の容器内でIII族窒化物を分解し、分解によって生成されたIII族金属、あるいは、分解によって生成された窒素、あるいは、分解によって生成されたIII族金属と窒素の両方を、第2の容器に供給し、第2の容器内の溶融したアルカリ金属中で所定の温度でIII族金属と窒素を反応させ、III族窒化物の結晶成長を行なうようになっている。
【0033】
この第4の実施形態では、第1の容器内に収容されたIII族窒化物は、第1の容器内で、III族金属と窒素に分解する。分解によって生成されたIII族金属は、第2の容器に供給され、アルカリ金属融液中に溶融する。そして、アルカリ金属融液中に溶融している窒素とIII族金属が反応してIII族窒化物が結晶成長する。ここで、窒素は、あらかじめ窒素原料をアルカリ金属融液中に溶融しておいても良いし、窒素あるいは窒素化合物のガスとして反応容器の外部から供給し、アルカリ金属融液中に溶け込ませても良い。また、III族窒化物の分解で生成された窒素を使用することもできる。この場合は、所定の窒素分圧がかかるように反応容器内にあらかじめ窒素ガスを充填しておくことが望まれる。
【0034】
なお、分解によって生成されたIII族金属を第1の容器から第2の容器へ供給する方法は特に限定されるものではない。例えば、第1の容器と第2の容器との間を管でつなぎ、その中をIII族金属を通すこともできる。また、第1の容器の底に穴を開けておき、そこからIII族金属を第2の容器内に落とし込んでもよい。
【0035】
このように、第4の実施形態では、反応容器内に、III族窒化物の収容された第1の容器と、アルカリ金属の収容された第2の容器とを設置し、第1の容器内でIII族窒化物を分解し、分解によって生成されたIII族金属、あるいは、分解によって生成された窒素、あるいは、分解によって生成されたIII族金属と窒素の両方を、第2の容器に供給し、第2の容器内の溶融したアルカリ金属中で所定の温度でIII族金属と窒素を反応させ、III族窒化物の結晶成長を行なうので、原料III族窒化物の分解とIII族窒化物の結晶成長とを、それぞれ第1の容器と第2の容器とで独立して行なうことができ、これにより、それぞれに適した条件(例えば温度)を使用することができる。このように、結晶成長を最適条件で行なうことができるので、高品質の結晶を成長することができる。また、第1の容器と第2の容器とは同一反応容器内に設置されているので、第1の容器内でIII族窒化物の熱分解によって生成したIII族金属をその自重で第2の容器に滴下させることもできる。
【0036】
また、従来技術2のように反応容器外部から圧力をかける必要がないので、第1の容器には耐圧性は必要とされない。従って、第1の容器としては、III族金属(Ga)と高温で反応しないセラミックス等の材料を使用でき、成長中に高温にすることができるので、従来技術2で問題になったフラックス蒸気の低温凝集による供給管の詰まりの問題を解決できる。その結果、III族金属を枯渇させることなく供給することができ、結晶成長を継続することができて、大型の結晶を作製することができる。
【0037】
第5の実施形態
本発明の第5の実施形態は、上述した第4の実施形態において、第1の容器の温度をIII族窒化物の分解温度を挟んで高温と低温に変動させて、III族窒化物結晶の成長を行なうようになっている。
【0038】
すなわち、第1の容器の温度をIII族窒化物の分解温度以上に上げると、III族窒化物の分解が起り、III族金属が生成され、第2の容器へIII族金属が供給されて、III族窒化物結晶の結晶成長が起る。
【0039】
一方、第1の容器の温度をIII族窒化物の分解温度より低くすると、III族窒化物の分解が止まり、第2の容器へIII族金属は供給されないので、III族窒化物結晶の結晶成長が停止する。
【0040】
このように、第5の実施形態では、第1の容器の温度でIII族窒化物の分解量を調整して、第2の容器へのIII族金属の供給量を制御し、常に最適な条件で結晶成長を継続させることができる。
【0041】
すなわち、第5の実施形態では、第4の実施形態において、第1の容器の温度をIII族窒化物の分解温度を挟んで高温と低温に変動させて、III族窒化物結晶の成長を行なうので、原料III族窒化物の分解を第1の容器の温度によって制御できて、分解によって生成されるIII族金属の量を制御することができる。すなわち、第2の容器に供給されるIII族金属の量を制御できるので、アルカリ金属融液中のIII族金属濃度を制御でき、結晶成長条件を最適にして成長することができる。従って、高品質のIII族窒化物結晶を作製できる。
【0042】
第6の実施形態
本発明の第6の実施形態は、第4あるいは第5の実施形態において、III族窒化物(原料のIII族窒化物)は、第1の容器の内壁に付着していることを特徴としている。
【0043】
このように、第6の実施形態では、第4あるいは第5の実施形態において、原料のIII族窒化物は、第1の容器の内壁に付着しているので、分解によって生成されたIII族金属のみを第2の容器に供給することができる。従って、原料のIII族窒化物が第1の容器から第2の容器に入って、余分な結晶核が発生することを防止することができる。従って、多結晶化を防止することができて、大きな単結晶を成長することができる。
【0044】
第7の実施形態
本発明の第7の実施形態は、第6の実施形態において、第1の容器を使用して、アルカリ金属融液中でIII族金属原料と窒素原料を反応させてIII族窒化物を作製することを特徴としている。
【0045】
ここで、原料となるIII族窒化物は、第1の容器に収容された溶融アルカリ金属中で、III族金属原料と窒素原料とを反応させるときに生成条件を適宜選択すると、微結晶として分解容器の内壁に付着して生成される。第6,第7の実施形態では、原料のIII族窒化物の合成を第1の容器を使用して行ない第1の容器の内壁にIII族窒化物の微結晶を付着させる。
【0046】
なお、アルカリ金属は、原料III族窒化物を合成した後に、蒸発させ除去することが可能であるので、第1の容器内をIII族窒化物のみにすることができる。結晶成長の段階では、この第1の容器内のIII族窒化物を原料として使用し、この第1の容器内のIII族窒化物を分解し、III族金属を供給する。
【0047】
このように、第7の実施形態では、原料となるIII族窒化物を作製した容器をそのまま反応容器内に設置して結晶成長を行なうことができる。すなわち、原料となるIII族窒化物を別の容器等で作製した場合には、III族窒化物を第1の容器に移し替える作業が必要となり、その際に、原料に不純物が混入する可能性が高くなるが、第7の実施形態においては、III族窒化物を移し替える必要がないので、不純物の混入を防止することができる。従って、高純度の大型III族窒化物結晶を作製することができる。
【0048】
第8の実施形態
本発明の第8の実施形態は、反応容器内に、III族窒化物の収容された第1の容器と、アルカリ金属の収容された第2の容器とが設置されており、第1の容器内でIII族窒化物を分解し、分解によって生成されたIII族金属を、あるいは、分解によって生成された窒素を、あるいは、分解によって生成されたIII族金属と窒素の両方を、第2の容器に供給するように構成されており、第2の容器内でIII族窒化物の結晶成長を行なうために、第1の容器と第2の容器とをそれぞれ独立して温度制御可能な温度制御手段がさらに設けられている。なお、温度制御の方式に関しては、特に限定されるものではなく、適宜選択可能である。
【0049】
このように、第8の実施形態では、反応容器内に、III族窒化物の収容された第1の容器と、アルカリ金属の収容された第2の容器とが設置されており、第1の容器内でIII族窒化物を分解し、分解によって生成されたIII族金属を、あるいは、分解によって生成された窒素を、あるいは、分解によって生成されたIII族金属と窒素の両方を、第2の容器に供給するように構成されており、第2の容器内でIII族窒化物の結晶成長を行なうために、第1の容器と第2の容器とをそれぞれ独立して温度制御可能な温度制御手段がさらに設けられているので、結晶成長温度を成長の最適条件にした状態で、第1の容器の温度のみを変えて、III族窒化物の分解量を制御し、III族金属の供給量を制御することができる。従って、アルカリ金属融液中のIII族金属濃度を制御でき、結晶成長条件を最適にして成長することができて、高品質のIII族窒化物結晶を作製できる。
【0050】
第9の実施形態
本発明の第9の実施形態は、第8の実施形態において、第1の容器は、取り外し可能に構成されていることを特徴としている。
【0051】
このように、第9の実施形態では、第1の容器は、取り外し可能に構成されているので、結晶成長とは独立して、複数の第1の容器で原料となるIII族窒化物の合成を行なうことができる。その結果、原料の合成と結晶成長とを並行して行なうことができて、時間が短縮でき、コストを低減することができる。
【0052】
第10の実施形態
本発明の第10の実施形態は、第8の実施形態において、第1の容器は、第2の容器の上部に設置されていることを特徴としている。
【0053】
このように、第10の実施形態では、第8の実施形態において、第1の容器は、第2の容器の上部に設置されているので、第1の容器でIII族窒化物の分解によって生成されたIII族金属を、その自重で第2の容器内に供給することができる。従って、第1の容器から第2の容器内へIII族金属を供給するのに、複雑な機構を必要とせずに、効率良くIII族金属を第2の容器内に供給することができ、これにより、コストを低減できる。
【0054】
【実施例】
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
【0055】
実施例1
実施例1は、本発明の第1,第3の実施形態に対応したものとなっている。
【0056】
図1(a)は実施例1に係る結晶製造装置の構成例を示す図(断面図)である。なお、図1(b)には、温度分布の模式図も示されている。
【0057】
図1(a)を参照すると、実施例1の結晶成長装置は、ステンレス製の閉じた形状の反応容器10内に、III族金属18とアルカリ金属融液17とが収容される結晶成長容器12が設けられている。なお、符号13は、結晶成長容器12の蓋である。
【0058】
ここで、結晶成長容器12は、メッシュ14で仕切られており、メッシュ14の上部には、III族金属18が収容される。また、メッシュ14の下部には、アルカリ金属融液とIII族金属の混合融液が収容される。そして、メッシュ14の下部の領域で、III族窒化物の結晶成長が行われる。
【0059】
なお、実施例1において、結晶成長容器12と蓋13とメッシュ14の材質は、BN(ボロンナイトライド)である。
【0060】
また、反応容器10の外側には、ヒーター15,16が設置されている。ここで、ヒーター15とヒーター16とは、それぞれ独立して温度制御することが可能に構成されている。
【0061】
次に、図1の結晶製造装置を使用したGaNの結晶製造方法を説明する。まず、結晶成長容器12(の下部)にアルカリ金属としてNa17を収容する。次に、メッシュ14を入れ、結晶成長容器12の上部と下部とを仕切る。次に、メッシュ14よりも荒い粒径のGaNの粒状結晶18を結晶成長容器12の上部に収容する。
【0062】
次いで、結晶成長容器12に蓋13をかぶせ、結晶成長容器12を反応容器10内に収める。その後、反応容器10に蓋11を取り付け、反応容器10の内部を外部雰囲気と遮断する。なお、反応容器10に蓋11を取り付ける作業は、加圧された高純度の乾燥窒素ガス雰囲気で行う。
【0063】
次いで、ヒーター15,16の温度を図1(b)に示すような所定の温度まで昇温し、反応容器10を加熱する。この時、ヒーター15の温度を900℃とし、ヒーター16の温度を700℃とする。昇温中、結晶成長容器12の上部ではGaN18が分解し、III族金属(Ga)と窒素が生成される。そして、生成されたIII族金属と窒素は、メッシュ14を通して結晶成長容器12の下部のNa融液17に供給され、Na融液17中で反応し、GaNの結晶が成長する。
【0064】
この状態で200時間保持した後、反応容器10を開けると、結晶成長容器12内には、10mm程度の大きさのGaNの単結晶19,20が結晶成長していた。
【0065】
実施例2
実施例2は本発明の第1,第2,第4,第8,第9,第10の実施形態に対応したものとなっている。
【0066】
図2は実施例2に係る結晶製造装置の構成例を示す図(断面図)である。図2を参照すると、実施例2の結晶製造装置は、ステンレス製の閉じた形状の反応容器30内に、結晶成長を行なうための第2の容器39と、原料となるIII族窒化物(例えば、GaN)42を分解するための第1の容器38とが設けられている。
【0067】
また、反応容器30の内部空間に窒素原料となる窒素(N2)ガスを充満させ、かつ反応容器30内の窒素(N2)圧力を制御することを可能にするガス供給管31が反応容器30を貫通して装着されている。ガス供給管31には、バルブ32と、圧力制御装置33とが設けられており、圧力制御装置33で窒素圧力を調整することができる。また、反応容器30内の全圧力をモニターするための圧力計34が設置されている。
【0068】
また、III族窒化物(例えば、GaN)42が収容される第1の容器38は、第2の容器39の上部に設けられている。そして、第1の容器38は、III族窒化物42を収容する領域の底に穴が開けられており、分解したIII族金属(例えば、Ga)融液43が連結した管を通して下部の第2の容器39に滴下されるようになっている。また、第1の容器38と第2の容器39とは、それぞれ分離可能であるとともに、反応容器30から取り外すことができる。
【0069】
なお、第1の容器38と第2の容器39の材質はBN(ボロンナイトライド)である。
【0070】
また、第1の容器38と第2の容器39との外側には、アルカリ金属や原料蒸気の飛散による反応容器30内部の汚染防止のため、カバー37がかぶせられている。カバー37には、ステンレス製のカバーを使用できる。
【0071】
なお、第1の容器38と第2の容器39との間、カバー37と反応容器30との間には、それぞれ、隙間41、隙間40がわずかにあいており、窒素ガスは、カバー37と反応容器30との間の隙間40と第1の容器38と第2の容器39との間の隙間41を通して第2の容器39内に入り、アルカリ金属とIII族金属の融液44に窒素ガスの圧力がかかるようになっている。
【0072】
また、カバー37の外側には、ヒーター35,36が設置されている。ヒーター35とヒーター36は、それぞれ独立して温度制御することが可能となっている。これにより、ヒーター35,36によって第1の容器38と第2の容器39の温度を、独立して任意の温度に制御することが可能となっている。なお、ヒーター35,36は取り外すことが可能である。
【0073】
次に、図2の結晶製造装置を使用したGaNの製造方法を説明する。まず、第1の容器38に、GaNの粒状結晶あるいは粉末を入れる。また、第2の容器39に、アルカリ金属としてNaを入れる。
【0074】
そして、第2の容器39の上に第1の容器38を載せ、反応容器30内に設置する。次に、ステンレス製のカバー37をかぶせ、ヒーター35,36を所定の位置に設置する。なお、上記一連の作業は高純度のArガス雰囲気で行う。
【0075】
次いで、反応容器30を密閉し、バルブ32を閉じ、反応容器30内部を外部雰囲気と遮断する。
【0076】
次いで、ヒーター35,36の温度を所定の温度まで昇温する。この時、第1の容器38の温度を1000℃とし、第2の容器39内の結晶成長領域を700℃とした。
【0077】
次いで、バルブ32を開け、窒素ガス供給管31から窒素ガスを入れ、圧力制御装置33で圧力を調整して反応容器30内の全圧を3MPaにする。この状態で200時間保持した後、降温した。
【0078】
反応容器30内のガスの圧力を下げた後、反応容器30を開けると、第2の容器39内には、10mm程度の大きさのGaNの単結晶45,46が結晶成長していた。
【0079】
実施例3
実施例3は本発明の第1,第2,第4,第5,第6,第7,第8,第9,第10の実施形態に対応したものとなっている。
【0080】
図3は実施例3に係る結晶製造装置の構成例を示す図(断面図)である。図3の結晶製造装置も、基本的には、図2の結晶製造装置と同様のものとなっている。すなわち、図3を参照すると、この結晶製造装置も、図2の結晶製造装置と同様に、ステンレス製の閉じた形状の反応容器60内に、結晶成長を行なうための第2の容器69と、原料となるIII族窒化物を分解するための第1の容器68とが設けられている。
【0081】
また、反応容器60の内部空間に窒素原料となる窒素(N2)ガスを充満させ、かつ反応容器60内の窒素(N2)圧力を制御することを可能にするガス供給管61が反応容器60を貫通して装着されている。ガス供給管61には、バルブ62と、圧力制御装置63とが設けれており、圧力制御装置63で窒素圧力を調整することができる。また、反応容器60内の全圧力をモニターするための圧力計64が設置されている。
【0082】
また、この実施例3では、III族窒化物(例えば、GaN)が収容される第1の容器68は、第2の容器69の上部に設けられており、第2の容器69の蓋としても機能するようになっている。また、実施例3の第1の容器68は、円柱状にくり貫かれており、内面にIII族窒化物72が付着している。そして、分解されたIII族金属融液73が第1の容器68の内壁を伝って、下部の第2の容器69に滴下されるようになっている。また、第1の容器68と第2の容器69とは、それぞれ分離可能であるとともに、反応容器60から取り外すことができる。
【0083】
なお、第1の容器68と第2の容器69の材質はBN(ボロンナイトライド)である。
【0084】
また、第1の容器68と第2の容器69には、アルカリ金属や原料の蒸気の飛散による反応容器60内部の汚染防止のため、カバー67がかぶせられている。カバー67には、ステンレス製のカバーを使用できる。
【0085】
なお、第1の容器68と第2の容器69との間、カバー67と反応容器60との間には、それぞれ、隙間70、隙間71がわずかにあいており、窒素ガスは、カバー67と反応容器60との間の隙間71と第1の容器68と第2の容器69との間の隙間70を通して第2の容器69内に入り、アルカリ金属とIII族金属の融液74に窒素の圧力がかかるようになっている。
【0086】
また、カバー67の外側には、ヒーター65,66が設置されている。ヒーター65とヒーター66は、それぞれ独立して温度制御することが可能となっている。これにより、ヒーター65,66によって第1の容器68と第2の容器69の温度を、独立して任意の温度に制御することが可能となっている。なお、ヒーター65,66は取り外すことが可能である。
【0087】
次に、図3の結晶製造装置を使用したGaNの製造方法を説明する。まず、第1の容器68を利用してGaNの合成を行なう。この合成を行なうには、最初、第1の容器68を図3と上下を逆さまにして、第1の容器68の中に、アルカリ金属であるNaと金属Gaとを収容する。そして、この第1の容器68を図3と同様の反応容器に入れ、窒素の圧力を8MPaとして、600℃で100時間保持する。これにより、第1の容器68の内部には、GaNの微結晶が合成される。GaNの微結晶は、第1の容器(分解容器)68の内壁に張り付いており、第1の容器(分解容器)68を図3に示したように逆さまにしても、落ちてこない。
【0088】
なお、アルカリ金属として使用したNaは、全て蒸発し、第1の容器68内部には残っていなかった。
【0089】
次に、第2の容器69でのGaN単結晶の結晶成長を行なう。これには、まず、第2の容器69に、アルカリ金属としてNaを入れる。そして、第2の容器69の上に、図3に示すように第1の容器68を載せ、反応容器60内に設置する。そして、ステンレス製のカバー67をかぶせ、ヒーター65、66を所定の位置に設置する。上記一連の作業は、高純度のArガス雰囲気で行なった。
【0090】
次いで、反応容器60を密閉し、バルブ62を閉じ、反応容器60内部を外部雰囲気と遮断する。次いで、ヒーター65,66の温度を所定の温度まで昇温する。この時、第1の容器68の温度を1000℃とし、第2の容器69内の結晶成長領域を700℃とした。
【0091】
次いで、バルブ62を開け、窒素ガス供給管61から窒素ガスを入れ、圧力制御装置63で圧力を調整して反応容器60内の全圧を3MPaにする。
【0092】
次いで、ヒーター65の温度を制御して、第1の容器68の温度をIII族窒化物の分解温度を挟んで上下に変動させて成長を行なう。この状態で200時間保持した後、降温した。
【0093】
反応容器60内のガスの圧力を下げた後、反応容器60を開けると、第2の容器69内には、10mm程度の大きさのGaNの単結晶75,76が結晶成長していた。
【0094】
【発明の効果】
以上に説明したように、発明によれば、アルカリ金属を含む融液中で、III族金属原料と窒素原料を反応させてIII族窒化物結晶を成長させるIII族窒化物結晶の結晶製造方法において、III族窒化物をIII族金属と窒素に分解した後、III族窒化物結晶を再成長させるので、高品質で実用的な大きさのIII族窒化物結晶を作製することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 実施例1の結晶製造装置と温度分布を示す図である。
【図2】 実施例2の結晶製造装置を示す図である。
【図3】 実施例3の結晶製造装置を示す図である。
【図4】 従来技術2の結晶製造装置を示す図である。
【符号の説明】
10,30,60 反応容器
11 反応容器の蓋
12 結晶成長容器
13 結晶成長容器の蓋
14 メッシュ
15,16,35,36,65,66 ヒーター
17 Na融液
18 GaN
19,45,46 単結晶
31,61 ガス供給管
32,62 バルブ
33,63 圧力制御装置
34,64 圧力計
37,67 カバー
38,68 第1の容器
39,69 第2の容器
40,41,70,71 隙間
42,72 III族窒化物
43,73 III族金属融液
44,74 アルカリ金属とIII族金属の融液

Claims (6)

  1. アルカリ金属を含む融液中で、III族金属原料と窒素原料を反応させてIII族窒化物結晶を成長させるIII族窒化物結晶の結晶製造方法において、
    反応容器内にIII族窒化物の収容された第1の容器とアルカリ金属の収容された第2の容器とを設置し、前記第1の容器の材質がIII族金属とIII族窒化物を分解させる温度で反応しないセラミックからなり、この第1の容器を前記第2の容器よりも高温にしてIII族窒化物を分解し、分解によって生成されたIII族金属を、あるいは、分解によって生成されたIII族金属と窒素の両方を原料として前記第2の容器に供給し、前記第2の容器内でIII族窒化物結晶の結晶成長を行なうことを特徴とするIII族窒化物結晶の結晶製造方法。
  2. 請求項1記載のIII族窒化物結晶の結晶製造方法において、前記セラミックはBN(ボロンナイトライド)であることを特徴とするIII族窒化物結晶の結晶製造方法。
  3. 請求項1記載のIII族窒化物結晶の結晶製造方法において、前記第1の容器及び第2の容器の材質がBN(ボロンナイトライド)であることを特徴とするIII族窒化物結晶の結晶製造方法。
  4. 請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載のIII族窒化物結晶の結晶製造方法において、第1の容器の温度をIII族窒化物の分解温度を挟んで高温と低温に変動させて、III族窒化物結晶の成長を行なうことを特徴とするIII族窒化物結晶の結晶製造方法。
  5. 請求項1ないし請求項4のいずれか1項に記載のIII族窒化物結晶の結晶製造方法において、III族窒化物は、第1の容器の内壁に付着していることを特徴とするIII族窒化物結晶の結晶製造方法。
  6. 請求項記載のIII族窒化物結晶の結晶製造方法において、前記III族窒化物は、第1の容器を使用して、アルカリ金属融液中でIII族金属原料と窒素原料を反応させて作製されていることを特徴とするIII族窒化物結晶の結晶製造方法。
JP2001358808A 2001-05-01 2001-11-26 Iii族窒化物結晶の結晶製造方法 Expired - Fee Related JP4381638B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001358808A JP4381638B2 (ja) 2001-11-26 2001-11-26 Iii族窒化物結晶の結晶製造方法
US10/134,895 US7001457B2 (en) 2001-05-01 2002-04-30 Crystal growth method, crystal growth apparatus, group-III nitride crystal and group-III nitride semiconductor device
US11/302,128 US7531038B2 (en) 2001-05-01 2005-12-14 Crystal growth method
US12/353,608 US8623138B2 (en) 2001-05-01 2009-01-14 Crystal growth apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001358808A JP4381638B2 (ja) 2001-11-26 2001-11-26 Iii族窒化物結晶の結晶製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003160399A JP2003160399A (ja) 2003-06-03
JP4381638B2 true JP4381638B2 (ja) 2009-12-09

Family

ID=19169925

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001358808A Expired - Fee Related JP4381638B2 (ja) 2001-05-01 2001-11-26 Iii族窒化物結晶の結晶製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4381638B2 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5299213B2 (ja) * 2003-10-31 2013-09-25 住友電気工業株式会社 Iii族窒化物結晶の製造方法
JP4603498B2 (ja) 2005-03-14 2010-12-22 株式会社リコー Iii族窒化物結晶の製造方法及び製造装置
CA2608102C (en) 2005-05-12 2011-03-15 Seiji Sarayama Method of producing group iii nitride crystal, apparatus for producing group iii nitride crystal, and group iii nitride crystal
JP4856934B2 (ja) 2005-11-21 2012-01-18 株式会社リコー GaN結晶
US20070215034A1 (en) 2006-03-14 2007-09-20 Hirokazu Iwata Crystal preparing device, crystal preparing method, and crystal
JP5418402B2 (ja) * 2010-05-20 2014-02-19 株式会社Ihi 窒化ガリウム結晶製造装置のガリウム供給管閉塞防止方法及び装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2003160399A (ja) 2003-06-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7981213B2 (en) Group III nitride crystal, crystal growth process and crystal growth apparatus of group III nitride
CN100339512C (zh) 获得大单晶含镓氮化物的方法的改进
JP4821007B2 (ja) Iii族元素窒化物結晶の製造方法およびiii族元素窒化物結晶
EP1490537B1 (en) High pressure high temperature growth of crystalline group iii metal nitrides
JP4278330B2 (ja) Iii族窒化物結晶製造方法およびiii族窒化物結晶製造装置
JP4381638B2 (ja) Iii族窒化物結晶の結晶製造方法
JP4014411B2 (ja) Iii族窒化物の結晶製造方法
JPH11171699A (ja) GaNP単結晶成長方法
JP2008247706A (ja) コランダム単結晶の育成方法、コランダム単結晶およびコランダム単結晶ウェーハ
JP2009062231A (ja) 結晶成長方法、結晶成長装置、積層型結晶成長装置およびこれらによって製造された結晶薄膜を有する半導体デバイス。
JP4159303B2 (ja) Iii族窒化物の結晶製造方法およびiii族窒化物の結晶製造装置
JP4077643B2 (ja) Iii族窒化物結晶成長装置およびiii族窒化物結晶成長方法
JP2002068897A (ja) Iii族窒化物結晶の結晶成長方法および結晶成長装置およびiii族窒化物結晶および半導体素子
JP2009126771A (ja) 結晶成長方法、および結晶成長装置
JP4554448B2 (ja) Iii族窒化物結晶製造方法及びiii族窒化物結晶製造装置
JP4248276B2 (ja) Iii族窒化物の結晶製造方法
JP2003300799A (ja) Iii族窒化物結晶成長方法およびiii族窒化物結晶成長装置
JP4426251B2 (ja) Iii族窒化物の結晶製造方法
JP4426238B2 (ja) Iii族窒化物の結晶製造方法
JP2009007207A (ja) 結晶成長方法、および結晶成長装置
JP4358033B2 (ja) 結晶育成装置
JP2006182596A (ja) Iii族元素窒化物結晶の製造方法、それにより得られるiii族元素窒化物結晶、ならびにそれを含む半導体装置
JP4271408B2 (ja) Iii族窒化物結晶製造方法
JP2011195338A (ja) Iii族窒化物結晶の製造方法
JP4615327B2 (ja) Iii族窒化物の結晶製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040927

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20060201

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20060210

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20061225

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080108

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080306

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20081118

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090115

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20090730

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20090908

RD05 Notification of revocation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425

Effective date: 20090908

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090916

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121002

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4381638

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131002

Year of fee payment: 4

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees