JP4308252B2 - 帯電防止被覆された成形体およびその製造法 - Google Patents
帯電防止被覆された成形体およびその製造法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4308252B2 JP4308252B2 JP2006504499A JP2006504499A JP4308252B2 JP 4308252 B2 JP4308252 B2 JP 4308252B2 JP 2006504499 A JP2006504499 A JP 2006504499A JP 2006504499 A JP2006504499 A JP 2006504499A JP 4308252 B2 JP4308252 B2 JP 4308252B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lacquer
- molded body
- nanoparticles
- ito
- plastic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 38
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 31
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 claims description 122
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 62
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 61
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 claims description 43
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 30
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 27
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 26
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 25
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 25
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 23
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 22
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 22
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 20
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 claims description 17
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 claims description 15
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 claims description 10
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 claims description 10
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 claims description 4
- 238000010137 moulding (plastic) Methods 0.000 claims description 4
- 230000008719 thickening Effects 0.000 claims description 4
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 claims description 3
- SKRWFPLZQAAQSU-UHFFFAOYSA-N stibanylidynetin;hydrate Chemical compound O.[Sn].[Sb] SKRWFPLZQAAQSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 claims description 2
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 claims description 2
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 claims 1
- 229920005644 polyethylene terephthalate glycol copolymer Polymers 0.000 claims 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 22
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 22
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 20
- 239000000047 product Substances 0.000 description 19
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 18
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 description 17
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 16
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 15
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 14
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 14
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 14
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 12
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 10
- 229920001281 polyalkylene Polymers 0.000 description 10
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 8
- VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C=C)OC(=O)C=C VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 7
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000005325 percolation Methods 0.000 description 7
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 7
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 6
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 6
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 6
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000003678 scratch resistant effect Effects 0.000 description 6
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000009471 action Effects 0.000 description 5
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 5
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 5
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 5
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 5
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical group CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 4
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 4
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 4
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920004482 WACKER® Polymers 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 3
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000007857 degradation product Substances 0.000 description 3
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 3
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 230000001698 pyrogenic effect Effects 0.000 description 3
- 238000003847 radiation curing Methods 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RZVINYQDSSQUKO-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC1=CC=CC=C1 RZVINYQDSSQUKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006750 UV protection Effects 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 description 2
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 2
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LNNWKAUHKIHCKO-UHFFFAOYSA-N dioxotin;oxo(oxoindiganyloxy)indigane Chemical compound O=[Sn]=O.O=[In]O[In]=O LNNWKAUHKIHCKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 2
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N lauryl acrylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 2
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 239000011814 protection agent Substances 0.000 description 2
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 2
- 238000000518 rheometry Methods 0.000 description 2
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 238000004627 transmission electron microscopy Methods 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 2
- PCLLJCFJFOBGDE-UHFFFAOYSA-N (5-bromo-2-chlorophenyl)methanamine Chemical compound NCC1=CC(Br)=CC=C1Cl PCLLJCFJFOBGDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNNLYDWXTKOQQX-UHFFFAOYSA-N 1,1-di(prop-2-enoyloxy)propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(CC)(OC(=O)C=C)OC(=O)C=C NNNLYDWXTKOQQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTHDGOQKIWLLCO-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(O)OC(=O)C=C UTHDGOQKIWLLCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHENQXAPVKABON-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-1-ol Chemical compound CCC(O)OC LHENQXAPVKABON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-hydroxy-7-methoxychromen-4-one Chemical compound C=1C(OC)=CC(O)=C(C(C=2)=O)C=1OC=2C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOUVYZMOEGOAAR-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(benzotriazol-2-yl)-2-hydroxy-5-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenyl]-2-methylbut-2-enamide Chemical compound NC(=O)C(C)=CCC1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O KOUVYZMOEGOAAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004438 BET method Methods 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical class [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- 238000005411 Van der Waals force Methods 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRMBQHTWUBGQDN-UHFFFAOYSA-N [2-[2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)butoxymethyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)butyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(CC)COCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C XRMBQHTWUBGQDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 150000001253 acrylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 235000013877 carbamide Nutrition 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009849 deactivation Effects 0.000 description 1
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- PODOEQVNFJSWIK-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethoxyphenyl)methanone Chemical compound COC1=CC(OC)=CC(OC)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 PODOEQVNFJSWIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- IAJNXBNRYMEYAZ-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-cyano-3,3-diphenylprop-2-enoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=C(C#N)C(=O)OCC)C1=CC=CC=C1 IAJNXBNRYMEYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003925 fat Substances 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910003439 heavy metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C(C)=C LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N hexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C=C LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006158 high molecular weight polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 150000002471 indium Chemical class 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000008204 material by function Substances 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 1
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- UJRDRFZCRQNLJM-UHFFFAOYSA-N methyl 3-[3-(benzotriazol-2-yl)-5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl]propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CCC(=O)OC)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O UJRDRFZCRQNLJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SGCKSDJIMSBTFY-UHFFFAOYSA-N n-sulfonylformamide Chemical group O=CN=S(=O)=O SGCKSDJIMSBTFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011858 nanopowder Substances 0.000 description 1
- 239000006199 nebulizer Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 229920006113 non-polar polymer Polymers 0.000 description 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNXCGLKMOXLBOD-UHFFFAOYSA-N oxolan-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CCCO1 YNXCGLKMOXLBOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical compound OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSDNTQSJGHSJBG-UHFFFAOYSA-N piperidine-4-carbonitrile Chemical compound N#CC1CCNCC1 FSDNTQSJGHSJBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 229920013730 reactive polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001507 sample dispersion Methods 0.000 description 1
- 239000006120 scratch resistant coating Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004819 silanols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920005573 silicon-containing polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- MUTNCGKQJGXKEM-UHFFFAOYSA-N tamibarotene Chemical compound C=1C=C2C(C)(C)CCC(C)(C)C2=CC=1NC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 MUTNCGKQJGXKEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 description 1
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002348 vinylic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/12—Chemical modification
- C08J7/16—Chemical modification with polymerisable compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/24—Electrically-conducting paints
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
- H01B1/20—Conductive material dispersed in non-conductive organic material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31511—Of epoxy ether
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Description
欧州特許第0514557号明細書B1には、金属酸化物、例えば酸化錫を基礎とする粉末状導電性粒子からなる透明の導電性被覆を、熱硬化性シリカポリマーラッカー系からなるマトリックス中に形成させるための被覆溶液が記載されている。被覆された支持体、例えばセラミック表面は、例えば500〜7000Å(オングストローム、10−10m)の範囲内の厚さのラッカー層を有することができる。導電性粒子が主に個々の粒子として十分にかまたは完全に凝集物を含まないで存在しているような製品を使用することは、有利であることが強調される。シリカポリマーラッカー系は、多数のプラスチック支持体を被覆するためには著しく不適当である。それというのも、このシリカポリマーラッカー系は、極めて高い温度で硬化されなければならず、一般に極めて脆く、劣悪に付着するからである。
既に比較的減少された量の金属酸化物粉末で良好な導電性が達成されるような導電性被覆を有するプラスチックからなる成形体を製造する方法を提供するという課題が課された。導電性の金属酸化物粉末、例えばインジウム−錫酸化物(ITO)は、粉末の形で、全ての種類の成形体上に導電性の被覆を得るために使用されてよいラッカー系中で使用されることができる。1つの商業的な欠点は、導電性金属酸化物粉末の高い価格にあり、したがってこの種の被覆は、極めて高い価格の製品の場合にのみ提供されうる。例えば、インジウム−錫酸化物(ITO)粉末の高い価格は、なかんずく極めて数多くの費用のかかる作業工程を含むゾル−ゲル原理により費用のかかる製造法から生じる。更に、ドイツ連邦共和国特許第10129374号明細書の記載により必要とされる、既に被覆されたプラスチック成形体を貯蔵する工程は、回避される。それというのも、プラスチック成形体は、この状態で機械的に極めて敏感であるからである。更に、まさに高価なITOを安価な製品によって代替する方法を見出すべきであり、この場合には、被覆の機能性、例えば導電性または耐引掻性は、本質的に損なわれることはない。更に、ラッカー系がもはや可能不可能であるような程度に粘度を上昇させることなく、導電性の金属酸化物粉末およびナノ粒子のできるだけ高い含量を混入することができるラッカー系を開発するという課題が課された。
この課題は、
導電性被覆を有する、プラスチックからなる成形体を製造する方法であって、この成形体を1つの側で、
a)結合剤または結合剤混合物、
b)場合によっては溶剤または溶剤混合物および
c)場合によってはラッカー系で常用の他の添加剤および
d)場合によっては濃稠化剤または濃稠化混合物、
e)1〜80nmの平均一次粒径および0.01%〜99%の凝集度を有する、(成分a)に対して)5〜500質量部の導電性の金属酸化物粉末、この場合凝集度は、百分率で記載され、その上、一次粒子は、少なくとも2個の一次粒子からなり、さらに凝集度の測定は、透過電子顕微鏡によって完成ラッカーについて行なわれ、また、"粒子、一次粒子または個々の粒子"、"凝集物"および"凝集体"の概念は、DIN 53206(1972年8月)に定義されており、
f)2〜100nmの平均一次粒径を有する、(成分a)に対して)5〜500質量部の不活性のAl2O3ナノ粒子およびSiO2ナノ粒子からなるラッカー系で自体公知の方法で被覆し、このラッカー層を硬化するかまたは硬化させることにより、導電性被覆を有する、プラスチックからなる成形体を製造する方法によって解決される。
結合剤または結合剤混合物a)
結合剤は、物理的に乾燥性の有機結合剤もしくは有機結合剤混合物または混合された有機/無機結合剤もしくは有機/無機結合剤混合物であってもよいし、熱的もしくは化学的に硬化可能かまたはエネルギーに富んだ放射線により硬化可能な有機結合剤もしくは有機結合剤混合物または混合された有機/無機結合剤もしくは有機/無機結合剤混合物であってもよい。
ラッカー系中に場合によっては含有されている溶剤は、アルコール、エーテルアルコールまたはエステルアルコールであることができる。また、これらの溶剤は、互いに混合されてもよいし、場合によっては他の溶剤、例えば脂肪族または芳香族の炭化水素またはエステルと混合されてもよい。
ラッカー系中に場合によっては含有されている常用の添加剤c)は、例えば流展助剤、湿潤剤、分散添加剤、酸化防止剤、反応希釈剤、消泡剤、立体障害アミン−光安定剤(HALS)、またはUV吸収剤であることができる。界面活性剤は、特に有利に製品Byk 045、Byk 335、Efka 83、Tego 440、Silan GF 16(Wacker社)である。好ましいUV吸収剤は、次の通りである:Norbloc 7966、Bis-DHB-A(Riedel de Haan社)、CGL 104(Ciba社)、3−(2−ベンゾトリアゾリル)−2−ヒドロキシ−5−第三オクチル−ベンジルメタクリルアミド、BASF社のUVA 635-L、Uvinul N35、Tinuvine 1130、Tinuvine 329およびTinuvine 384。立体障害アミン光安定剤としては、有利にTinuvine 770、Tinuvine 440、Tinuvine 144、Tinuvine 123、Tinuvine 765、Tinuvine 292、Tinuvine 268が使用される。
濃稠化剤または濃稠化剤混合物としては、適当なポリマー、例えばRoehm GmbH & Co.KG社によって製造されかつ販売された製品PLEX(登録商標)8770 Fが使用されてよい。この製品PLEX(登録商標)8770 Fは、メタクリル酸メチルエステル約75質量%およびブチルアクリレート約25質量%の組成を有する高分子量PMMAである。粘度数Jは、約11である。(20℃でクロロホルム中で測定された)。この製品は、パール重合によって製造され、開始剤として、2,2−アゾビス−(イソブチロニトリル)が使用される。パール重合の方法は、当業者に公知である。
物理的に乾燥する適当なラッカーは、例えばポリマー、例えばポリメチルメタクリレート−(コ)ポリマー30質量%および溶剤、例えばメトキシプロパノールおよび酢酸ブチル70質量%を含有する。薄層での塗布後、このラッカーは、溶剤の蒸発後に自己硬化する。
aa)式(I)
H2C=C(R)−C(O)−O−[CH2−CH2−O]n−C(O)−C(R)=CH2 (I)
〔式中、nは、5〜30であり、Rは、HまたはCH3である〕で示されるポリアルキレンオキシド−ジ(メタ)アクリレートからなる混合物、成分aa)〜ee)の総和に対して、70〜95質量%、
この場合
aa1)式(I)のポリアルキレンオキシド−ジ(メタ)アクリレートの混合物50〜90質量%は、300〜700の平均分子量(Mw)を有するポリアルキレンオキシド−ジオールによって形成されており、
aa2)式(I)のポリアルキレンオキシド−ジ(メタ)アクリレートの混合物50〜10質量%は、900〜1300の平均分子量(Mw)を有するポリアルキレンオキシド−ジオールによって形成されており、
bb)式(II)
H2C=C(R)−C(O)−O−[CH2]m−OH (II)
〔式中、mは、2〜6であり、Rは、HまたはCH3である〕で示されるヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、成分aa)〜ee)の総和に対して、1〜15質量%、
cc)架橋剤としてのアルカンポリオール−ポリ(メタ)アクリレート、成分aa)〜ee)の総和に対して、0〜5質量%、
dd)UVポリマー開始剤、成分aa)〜ee)の総和に対して、0.1〜10質量%、
ee)場合によってはUV硬化可能な被覆のための他の常用の添加剤、例えばUV吸収剤および/または流展およびレオロジーのための添加剤、
ff)蒸発によって簡単に除去可能な溶剤、成分aa)〜ee)の総和に対して、0〜300質量%および/または一価の反応性希釈剤、成分aa)〜ee)の総和に対して、0〜30質量%からなることができる。
aa)式(I)
H2C=C(R)−C(O)−O−[CH2−CH2−O]n−C(O)−C(R)=CH2 (I)
〔式中、nは、5〜30であり、Rは、HまたはCH3である〕で示されるポリアルキレンオキシド−ジ(メタ)アクリレートからなる混合物、成分aa)〜ff)の総和に対して、70〜95質量%、
この場合
aa1)式(I)のポリアルキレンオキシド−ジ(メタ)アクリレートの混合物50〜90質量%は、300〜700の平均分子量(Mw)を有するポリアルキレンオキシド−ジオールによって形成されており、
aa2)式(I)のポリアルキレンオキシド−ジ(メタ)アクリレートの混合物50〜10質量%は、900〜1300の平均分子量(Mw)を有するポリアルキレンオキシド−ジオールによって形成されており、
bb)式(II)
H2C=C(R)−C(O)−O−[CH2]m−OH (II)
〔式中、mは、2〜6であり、Rは、HまたはCH3である〕で示されるヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、成分aa)〜ff)の総和に対して、1〜15質量%、
cc)架橋剤としてのアルカンポリオール−ポリ(メタ)アクリレート、成分aa)〜ff)の総和に対して、0〜5質量%、
dd)UVポリマー開始剤、成分aa)〜ff)の総和に対して、0.1〜10質量%、
ee)場合によってはUV硬化可能な被覆のための他の常用の添加剤、例えばUV吸収剤および/または流展およびレオロジーのための添加剤、
ff)蒸発によって簡単に除去可能な溶剤、成分aa)〜ff)の総和に対して、0〜300質量%および/または一価の反応性希釈剤、成分aa)〜ee)の総和に対して、0〜30質量%、
gg)濃稠化剤または濃稠化剤混合物、成分aa)〜ff)の総和に対して、0.5〜50質量%を有する。
適当な導電性金属酸化物粉末e)は、1〜80nmの範囲内の一次粒径を有する。金属酸化物粉末e)は、一次粒子の凝集物および凝集体ならびに凝集物として存在することができ、この場合には、2000nmまでまたは1000nmまでの凝集体の粒径を有する。凝集物は、500nmまで、有利に200nmまでの寸法を有する。
アエロジル(Aerosil)法によるインジウム−錫酸化物粉末の製造は、Degussa AG社(所在地Hanau-Wilfgang, Deutschland)の欧州特許第1270511号明細書の対象である。
それぞれ乾燥被膜に対して(不活性)ナノ粒子0.1〜50質量%およびITO30〜70質量%の含量(これは、溶剤なしのラッカーの組成である)(成分a)、c)、d)、e))を有するラッカーは、良好に硬化可能なラッカーを生じることが見い出された。好ましいのは、ITO約20〜40質量%および不活性ナノ粒子20〜40質量%の組成物である。このラッカーは、機械的に安定性であり、プラスチック支持体上で良好に付着する。
インジウムスル酸化物3g、
SiO2ナノ粒子3g(13nm、Highlink OG 502-31)(不活性ナノ粒子)、
アクリレート混合物3g(組成、下記参照)、
イソプロパノール7g、
シランGF 16 0.08g(Wacker)および
アクリレートに対して2%の光開始剤
からなるラッカーである。
適した被覆可能な成形体は、プラスチック、有利に熱可塑性プラスチックまたは熱的に変形可能なプラスチックからなる。
ラッカー基剤:
適当なラッカーは、例えばドイツ連邦共和国特許第10129374号明細書中に記載されている。1つの特に好ましい実施態様においては、放射線硬化可能なラッカーが使用されている。放射線硬化可能なラッカーは、物理的に無水で化学的に硬化性または熱的に硬化性の系と比較して、数秒で液体の状態から固体の状態に移行し、相応する架橋の際に耐化学薬品性で耐引掻性の被膜を形成し、比較的小さな部屋で取り扱うことができるという利点を有している。ラッカーの粘度を十分に高く調節する場合には、被膜の塗布とラッカーの硬化との間の極めて短い時間によって、ラッカー中での特に重い金属酸化物粒子の望ましくない沈殿を阻止することができる。
ITO添加剤なしのラッカーは、40〜50%、場合によっては70%までのITOをラッカー中に導入することができるようにするため、および依然として十分な加工可能性、分散可能性および塗布可能性が定められているようにするために、ITOおよびナノ粒子e)の分散に対して低粘稠でなければならない(パラメーター)。これは、例えば適当な低粘稠の反応性希釈剤を選択するかまたは溶剤、例えばアルコールを添加することによって行なうことができる。同時に、適当な濃稠化剤の添加によって、ラッカー中でのITO粒子の沈殿は、効果的に阻止されなければならない。これは、例えば適当なポリマーを添加することによって行なうことができる。適当なポリマーの例は、例えばPLEX 8770 Fまたは官能基を有するポリメタクリレートであり;更に、適当なポリマーまたはオリゴマーは、既に”a)、b)およびc)からなるラッカー系”の章に記載されている。適当なポリマーは、或る程度の極性を示し、それによって、このポリマーは、ラッカーの別の成分およびITOの極性表面と相互作用を有しうる。完全に非極性のポリマーもしくはオリゴマーまたは僅かな数の極性を有するポリマーおよびオリゴマーは、濃稠化には不適当である。それというのも、前記ポリマーおよびオリゴマーは、別のラッカー成分と相互作用を有することはなく、ラッカーと非相容性であるからである。十分に極性のオリゴマーまたはポリマーは、アルコール、エーテル、ポリエーテル、エステル、ポリエステル、エポキシド、シラノール、シリルエーテル、置換された脂肪族基または芳香族基を有する珪素化合物、ケトン、尿素、ウレタン、ハロゲン、ホスフェート、亜燐酸塩、硫酸塩、スルホネート、スルファイト、硫化物、アミン、ポリアミン、アミド、イミド、カルボン酸、硫黄複素化合物、窒素複素化合物および酸素複素化合物、フェニルおよび置換された芳香族基、環中にヘテロ原子を有する化合物を含めて多核の芳香族化合物から選択された極性基を含有する。極めて極性のオリゴマーまたはポリマーは、同様に不適当である。それというのも、前記オリゴマーまたはポリマーの作用は、完成ラッカーの性質にとって不利であるからである。不適当な強い極性基には、ポリ酸または多重酸の塩が含まれる。不適当な基は、しばしば高められた水溶性または水膨潤可能性を示す。適当な極性基の濃度は、ラッカーの膨潤可能性が或る程度の基準を超えないように選択されなければならない。従って、適当な極性基は、ラッカーが水溶性でなく、本質的に膨潤不可能であることを保証する濃度で使用される。これは、極性基のモル含量が上記ポリマー100g当たり0.4〜100ミリ等量であることを保証する。極性基としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホニルーカルボン酸アミド基、ニトリル基およびシラノール基を挙げることができる。極性基は、作用で区別される。この作用は、ニトリル<ヒドロキシル<第1カルボン酸アミド<カルボキシル<スルホニル<シラノールの順序で増加する。極性作用が強ければ強いほど、ポリマー中で必要とされる含量は、ますます僅かになる。
ITO 24.5部、
アクリレート混合物 24.5部、
イソプロパノール 50部、
分散添加剤 0.5部、
光開始剤 0.5部
ITOなしのラッカーは、相応して次の組成を有していた:
アクリレート混合物 32.45部、
分散添加剤 0.66部、
光開始剤 0.66部、
イソプロパノール 66.22部。
前記ラッカーは、適当なモノマーを選択することによって、良好な硬化が空気(空気酸素)の存在で保証されているように調節されうる。例は、プロパントリオールトリアクリレートと硫化水素との反応による反応生成物(Roehm GmbH & Co. KGのPLEX6606)である。前記ラッカーは、窒素雰囲気下で実際に急速に硬化するかまたは微少量の光開始剤で硬化するが、しかし、例えば適当な光開始剤、例えばIrgacure 907を使用する場合には、空気中での硬化も可能である。
ITO粒子の良好な微粉砕/分散が保証されるようにラッカー粘度を調節することは、重要なことである。これは、例えばロールバンク上に粉砕体としてのガラス玉で分散させることによって行なうことができる(ドイツ連邦共和国特許第10129374号明細書参照)。
パーコレーションネットワークが真珠のネックレスのように並べられた、互いに接触する導電性粒子から構成されている場合には、静電防止作用は、最適であるように発揮することができる。それによって、比較的高価なITOの費用−利用−比は、最適化される。同時に、透明度は改善され、被膜の曇りは減少される。それというのも、散乱する粒子の含量は、最少化することができるからである。パーコレーションの限界は、粒子の形態に依存する。球状の一次粒子を前提とする場合には、パーコレーションの限界は、例えばITO 40質量%で達成される。針状のITO粒子を使用する場合には、粒子の十分な接触は、既に濃度が僅かな際に起こる。しかし、針状粒子は、透明度および曇りに対して不利な作用を有するという欠点をもっている。
被覆するための方法は、ラッカーが薄手の均一な厚さで塗布されうるように選択されなければならない。適した方法は、例えばナイフ塗布(Drahtrakeln)、浸漬、刷毛塗り、ロール塗布および吹き付け塗りである。当業者に公知の方法により、ラッカーの粘度は、湿式被膜中の層厚が場合によっては添加された溶剤の蒸発後に2〜15μmであるように調節されなければならない。薄手の層は、もはや耐引掻性ではなく、ラッカーマトリックスからの金属酸化物粒子の突出によって艶消し効果を示すことができる。厚手の層は、透過率の損失と関連しており、導電性を全くもたらさず、費用の理由から重要ではない。しかし、絶えず機械的負荷によりラッカー表面が摩耗しているために、厚手の層に調節することは、重要である。また、この場合には、層厚は、100μmにまで調節されてよい。この場合には、場合により厚手の層を形成させるためにラッカーの粘度を上昇させなければならない。
十分な硬化を達成させるために、光開始剤の種類および濃度を適合させることもできる。場合によっては、ラッカーの十分な表面積および深部硬化(Tiefenhaertung)を得るために、光開始剤を組み合わせることが必要とされる。殊に、金属酸化物粒子での高い充填度の場合、十分な深部硬化を得るために、常用の光開始剤(例えば、Ciba社のIrgacure 1173またはIrgacure 184)と長波長範囲内で吸収する光開始剤(例えば、BASF社のLucirin TPOまたはLucirin TPO-L)との組合せ物が重要である。透明な支持体の場合には、場合によっては被覆された支持体を上側および下側から、転位したUV線での照射によって硬化することは、重要である。必要とされる開始剤濃度は、光開始剤0.5%〜8%、有利に1.0〜5%、特に有利に1.5〜3%である。この場合には、硬化の際に不活性ガスの下でアクリレートに対して0.5〜2%の光開始剤量で十分であり、一方、空気の下での硬化の場合には、2〜8%、有利に4〜6%の量が必要とされる。好ましくは、ラッカー中にできるだけ僅かな分解生成物を有するようにするために、できるだけ僅かな開始剤濃度を使用することは、好ましい。それというのも、この分解生成物は、長時間耐候安定性に不利な影響を及ぼすからである。また、経済的理由から、できるだけ僅かな開始剤量を使用することは、重要である。
本発明の本質的な視点は、ラッカーの硬化の際に収縮が少ないことである。勿論、放射線硬化の場合に収縮されたUV硬化可能なラッカーは、それによってラッカー表面に不利な影響を及ぼす可能性があり、支持体に対する付着力は、失われうる。一官能価モノマー、二官能価モノマーおよび多官能価モノマーまたは一官能価オリゴマー、二官能価オリゴマーおよび多官能価オリゴマー、無機充填剤およびポリマー充填剤ならびに添加剤の割合を適度に選択することによって、ラッカーの収縮は、最小限度に減少させることができる。重合時に関与する不活性充填剤、例えば金属酸化物、例えばインジウム錫酸化物、二酸化珪素または非反応性ポリマー成分は、前記組成物の全収縮を減少させ、一面で、一価モノマーおよびオリゴマーは、中程度の程度に収縮し、多価アルコールは、収縮に最も大きく貢献する。
例1:
溶剤、例えばエタノールまたはイソプロパノール100部、
ヒドロキシエチルメタクリレート35部、
SiO2ナノ粒子15部1)、
インジウム錫酸化物ナノ粒子50部、
光開始剤2部および
場合によっては他の添加剤。
例2:
溶剤、例えばエタノールまたはイソプロパノール100部、
ヒドロキシエチルメタクリレート17.5部、
SiO2ナノ粒子7.5部1)、
ヘキサンジオールジアクリレート25部、
インジウム錫酸化物ナノ粒子50部、
光開始剤2部および
場合によっては他の添加剤。
収縮は、処方外で適当な硬化条件を選択することによって影響を及ぼされてもよい。比較的に僅かな照射エネルギーでの緩徐の硬化は、有利であり、一方、急速な硬化および大きな照射エネルギーの場合には、よりいっそう大きい収縮が観察される。
本発明のもう1つの特徴は、静電防止ラッカーの良好な耐引掻性にある。記載された硬化条件を選択した場合には、僅かな収縮率および良好な付着力を有する耐引掻性の静電防止ラッカーを形成させることができる。
本発明によるラッカーは、短い作用時間で化学薬品、例えば無機酸およびアルカリ液、多数の有機溶剤、例えばエステル、ケトン、アルコール、芳香族溶剤に対して良好な安定性を有する。本発明によるラッカーで被覆されたプラスチック成形体は、例えば必要な場合には、前記溶剤で清浄化されていてよい。
安定剤貧有の配合物を使用する特殊な利点は、大気空気下で硬化させることができ、それによって不活性化(不活性ガス使用のための装置的費用および運転費用)のための費用を減らすことができる。更に、利点は、比較的少量の光開始剤で既に良好な硬化を達成させることができることである。実施例中に記載された配合物ならびにSiO2ナノ粒子が全く使用されておらずかつオルガノゾルの代わりに一官能価モノマーもしくは多官能価モノマーまたはこれらの混合物が使用されているような配合物は、光開始剤、例えばIrgacure 184、Irgacure 1173、Irgacure 907またはこれらの混合物それぞれ2%を用いて耐引掻性で耐候性の配合物に硬化させることができる。
溶剤、例えばエタノールまたはイソプロパノール100部、
ペンタエリトリットトリテトラアクリレート40部、
ヘキサンジオールジアクリレート60部、
インジウム錫酸化物ナノ粒子50部、
SiO2ナノ粒子5部、
光開始剤2部および
場合によっては他の添加剤。
例3と同様ではあるが、しかし、次のものを含む:
PLEX 8770(濃稠化剤) 5部、
ペンタエリトリットトリテトラアクリレート20部、
ヘキサンジオールジアクリレート 75部。
また、静電防止被膜は、透明な使用以外に、非透明の支持体に使用されてもよい。例は、次の通りである:静電性を備えたプラスチック床板、一般に支持体上、例えば木材、紙装飾物上への耐引掻性の静電防止フィルムの貼り合わせ品。もう1つの使用は、電子線の下での硬化を伴う装飾紙の被覆である。
1.試薬
蒸留されたかまたは完全脱塩された水、pH5.5を上廻る
2.機器
回転数測定器を備えた実験室用ディスソルバーLR34、Pendraulik社, 31832 Springe 1 分散ディスク、直径40mm、
超音波プロセッサUP 400S、Dr. Hielscher社, 70184 Stuttgart チタンからなるSonotrode H7、直径7mm、
粒径分析器HORIBA LB-500、Retsch Technology社, 42781 Haan アクリル製使い捨てキュベット1.5mlを装備、
計量供給装置 Hoechst, 識別番号22926、内容量250ml、DD−PE、性質0/0021、Hoechst AG社、
部門EK-Verpackung V, Brueningstr. 64, 65929 Frankfurt-Hoechst
計量供給装置のための蓋、250ml、識別番号22918、
パスツールピペット、3.5ml、150ml長さ、注文番号1-6151、
精密計量器(読取り可能性0.01g)。
3.1%の分散液の製造
粉末試料(約10〜100g)を貯蔵容器中で手で振盪することによって(30秒間)均質化する。脱気のために、この試料を少なくとも10分間放置する。
前記試料を実験室用ディスソルバーを用いて5分間、2000r.p.m.で蓋をしたポリ容器中で前分散させ、引続き4分間、超音波で80%の振幅およびサイクル=1で分散させる。
4.粒子分布の測定
理論:当該試験法には、光子相関分光分析法(PCS、”動的光散乱”)を用いて粒径分布を測定することが記載されている。この方法は、粒子およびその凝集物をサブミクロン範囲内で測定するのに特に好適である(10nm〜3μm)。使用される機器HORIBA LB-500は、後方散乱光学系を使用しており、この場合この後方散乱光学系は、1回の散乱と多重散乱との割合を殆んど一定にし、したがって無視することができる。また、この理由から、高い濃度を有する分散液を測定することもでき、この場合には、間違った測定を行なうことがない。粒径分布の正確な測定のために、次のパラメーターは、公知であるはずである:
分散液の温度:粒子の自由運動をだめにする、キュベット中での対流運動を排除するために、一定の温度は、重要である。HORIBA LB-500は、キュベット中の温度を測定し、この測定された温度を評価の際に考慮する。
粒子および媒体の屈折率の入力、
分散媒体の粘度の入力、
試料についての名称および注釈
ディスソルバーおよび超音波で分散された試料を、パスツールピペットを用いてアクリルガラス製使い捨てキュベット1.5ml中に移す。このアクリルガラス製使い捨てキュベットをPCS機器の測定室中に差し込み、温度センサーを上方から分散液中に導入し、ソフトウェアを用いての測定を開始する(キー”測定”)。20秒間の待ち時間の後に、”測定表示”のウィンドウを開き、全部で3秒間、実際の粒子分布を表示する。測定表示のウィンドウ内の測定キーを再び押すことにより、固有の測定を開始する。前調節に応じて、多種多様な測定結果(例えば、d50、d10、d90、標準偏差)を有する粒径分布を30〜60秒後に表示する。d50値が強く変動する場合(例えば、150nm+/−20%;これは、極めて幅広い分布の際に起こりうる)には、約6〜8回の測定を実施し、他の場合には、3〜4回で十分である。
5.d50値の記載
測定された全てのd50値の平均値(小数の位なしに)は、明らかな異常値を除いてnmで記載される。
Claims (6)
- プラスチックからなる成形体を製造する方法において、成形体を1つの側または多数の側で、
a)結合剤または結合剤混合物、
b)場合によっては溶剤または溶剤混合物、
c)場合によってはラッカー系で常用の他の添加剤および
d)場合によっては濃稠化剤、この場合には、それぞれ乾燥被膜に対して0〜20%の含有量を有するポリマーの濃稠化剤および0〜40%の含有量を有するオリゴマーの濃稠化剤を使用することができ(成分a、c、d、e)、
e)1〜80nmの平均一次粒径および0.01%〜99%の凝集度を有する、a)に対して5〜500質量部の導電性の金属酸化物粉末、
f)a)に対して5〜500質量部の不活性のAl 2 O 3 ナノ粒子およびSiO 2 ナノ粒子からなるラッカー系で自体公知の方法で被覆し、ラッカーを硬化させることを特徴とする、プラスチックからなる成形体を製造する方法。 - ラッカー(a)〜c))は、5〜500mPa.sの粘度を有する(ブルックフィールド粘度計LVTで測定した)、請求項1記載の方法。
- ラッカー系(請求項1記載の成分a)〜e))は、150〜5000mPa.sの粘度を有する、請求項1記載の方法。
- 導電性粒子としてITOおよび/またはアンチモン錫オキシドATOおよび/またはドープされたITOからなる混合物を使用する、請求項1記載の方法。
- 請求項1から4までのいずれか1項に記載の方法により得ることができるプラスチック成形体において、該プラスチック成形体がPMMA、PC、PET、PET−G、PE、PVC、ABSまたはPPからなることを特徴とする、請求項1から4までのいずれか1項に記載の方法により得ることができるプラスチック成形体。
- 窓ガラスとして、ハウジングのため、クリーンルームの装備のため、機械の被覆のため、インキュベータのため、ディスプレイのため、テレビのスクリーンおよびテレビのスクリーン用被覆のため、バックプロジェクションスクリーンのため、医療装置のためおよび電化製品のための請求項5記載のプラスチック成形体の使用。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2003111639 DE10311639A1 (de) | 2003-03-14 | 2003-03-14 | Antistatisch beschichteter Formkörper und Verfahren zu seiner Herstellung |
PCT/EP2004/002063 WO2004081122A1 (de) | 2003-03-14 | 2004-03-02 | Antistatisch beschichteter formkörper und verfahren zu seiner herstellung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006520681A JP2006520681A (ja) | 2006-09-14 |
JP4308252B2 true JP4308252B2 (ja) | 2009-08-05 |
Family
ID=32892282
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006504499A Expired - Lifetime JP4308252B2 (ja) | 2003-03-14 | 2004-03-02 | 帯電防止被覆された成形体およびその製造法 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7608306B2 (ja) |
EP (1) | EP1603980A1 (ja) |
JP (1) | JP4308252B2 (ja) |
KR (1) | KR101007152B1 (ja) |
CN (1) | CN100381510C (ja) |
DE (1) | DE10311639A1 (ja) |
HK (1) | HK1088350A1 (ja) |
TW (1) | TWI313280B (ja) |
WO (1) | WO2004081122A1 (ja) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10352177A1 (de) * | 2003-11-05 | 2005-06-02 | Röhm GmbH & Co. KG | Antistatisch beschichteter Formkörper und Verfahren zu seiner Herstellung |
WO2005101427A1 (en) * | 2004-04-14 | 2005-10-27 | Sukgyung A.T Co., Ltd | Conducting metal nano particle and nano-metal ink containing it |
JP2006024535A (ja) * | 2004-07-09 | 2006-01-26 | Seiko Epson Corp | 有機薄膜素子の製造方法、電気光学装置の製造方法及び電子機器の製造方法 |
DE102004045295A1 (de) * | 2004-09-16 | 2006-03-23 | Röhm GmbH & Co. KG | Kunststoffkörper mit anorganischer Beschichtung, Verfahren zur Herstellung sowie Verwendungen |
JP4649923B2 (ja) * | 2004-09-22 | 2011-03-16 | Tdk株式会社 | 透明導電材料及び透明導電体 |
JP2006124572A (ja) * | 2004-10-29 | 2006-05-18 | Dainippon Toryo Co Ltd | 活性エネルギー線硬化性導電膜形成用組成物 |
DE102005013082A1 (de) * | 2005-02-23 | 2006-08-24 | Röhm GmbH & Co. KG | Extrudierte Folie oder Platte mit elektrisch leitfähiger Beschichtung, Verfahren zu ihrer Herstellung, sowie Verwendungen |
DE102005009209A1 (de) * | 2005-02-25 | 2006-08-31 | Röhm GmbH & Co. KG | Beschichtungsmittel zur Herstellung von umformbaren Kratzfestbeschichtungen mit schmutzabweisender Wirkung, kratzfeste umformbare schmutzabweisende Formkörper sowie Verfahren zu deren Herstellung |
DE102007032886A1 (de) * | 2007-07-14 | 2009-01-15 | Bayer Materialscience Ag | Hydrophile Hardcoatbeschichtungen |
DE102008004622A1 (de) | 2008-01-16 | 2009-07-23 | Bayer Materialscience Ag | Silikahaltige UV-vernetzbare Hardcoatbeschichtungen mit Urethanacrylaten |
KR20110124232A (ko) | 2009-02-12 | 2011-11-16 | 바이엘 머티리얼사이언스 아게 | 반사-방지/연무-방지 코팅 |
DE102010006755A1 (de) * | 2010-02-04 | 2011-08-04 | BASF Coatings AG, 48165 | Kratzfestbeschichtete Kunststoffsubstrate, insbesondere Gehäuse von elektronischen Geräten, mit hoher Transparenz, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
DE102010011401A1 (de) * | 2010-03-15 | 2011-09-15 | Oerlikon Textile Components Gmbh | Umlenkrolle |
US9439334B2 (en) | 2012-04-03 | 2016-09-06 | X-Card Holdings, Llc | Information carrying card comprising crosslinked polymer composition, and method of making the same |
US9122968B2 (en) | 2012-04-03 | 2015-09-01 | X-Card Holdings, Llc | Information carrying card comprising a cross-linked polymer composition, and method of making the same |
US10906287B2 (en) | 2013-03-15 | 2021-02-02 | X-Card Holdings, Llc | Methods of making a core layer for an information carrying card, and resulting products |
JP6686284B2 (ja) * | 2015-03-26 | 2020-04-22 | 三菱ケミカル株式会社 | 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物を含む物品 |
CN106200243A (zh) * | 2015-04-17 | 2016-12-07 | 金学正 | 利用容易去除的涂料的光束投影机照射用显示屏 |
EP3762871B1 (en) | 2018-03-07 | 2024-08-07 | X-Card Holdings, LLC | Metal card |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4500669A (en) * | 1977-10-27 | 1985-02-19 | Swedlow, Inc. | Transparent, abrasion resistant coating compositions |
US4442168A (en) * | 1981-10-07 | 1984-04-10 | Swedlow, Inc. | Coated substrate comprising a cured transparent abrasion resistant filled organo-polysiloxane coatings containing colloidal antimony oxide and colloidal silica |
DE69130921T2 (de) | 1990-11-21 | 1999-06-24 | Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd., Tokio/Tokyo | Überzugslösung zur bildung eines durchsichtigen, leitfähigen films, verfahren zu deren herstellung, leitfähiges substrat, verfahren zur dessen herstellung, und anzeigevorrichtung mit einem durchsichtigen, leitfähigen substrat |
SG54108A1 (en) | 1994-03-31 | 1998-11-16 | Catalysts & Chem Ind Co | Coating solution for formation of coating and use thereof |
JPH0812332A (ja) | 1994-07-04 | 1996-01-16 | Mitsubishi Materials Corp | 導電性粉末及びその製造方法並びに導電性分散液及び導電性塗料 |
DE19501182C2 (de) * | 1995-01-17 | 2000-02-03 | Agomer Gmbh | Copolymere zur Herstellung von Gußglas, Verfahren zur Herstellung wärmeformstabiler Gußglaskörper und Verwendung |
JPH09115334A (ja) * | 1995-10-23 | 1997-05-02 | Mitsubishi Materiais Corp | 透明導電膜および膜形成用組成物 |
US6146753A (en) * | 1997-05-26 | 2000-11-14 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Antistatic hard coat film |
TW432397B (en) | 1997-10-23 | 2001-05-01 | Sumitomo Metal Mining Co | Transparent electro-conductive structure, progess for its production, transparent electro-conductive layer forming coating fluid used for its production, and process for preparing the coating fluid |
DE19757542A1 (de) * | 1997-12-23 | 1999-06-24 | Bayer Ag | Siebdruckpaste zur Herstellung elektrisch leitfähiger Beschichtungen |
JP4542210B2 (ja) * | 1998-02-24 | 2010-09-08 | 旭硝子株式会社 | プラスチック成形品 |
JP3937113B2 (ja) * | 1998-06-05 | 2007-06-27 | 日産化学工業株式会社 | 有機−無機複合導電性ゾル及びその製造法 |
DE19825371A1 (de) * | 1998-06-06 | 1999-12-09 | Bayer Ag | Elektrochrome Anzeigevorrichtung mit isolierten Zuleitungen |
JP4183419B2 (ja) * | 1999-08-31 | 2008-11-19 | 帝人株式会社 | 透明導電性積層体及びこれを用いたタッチパネル |
WO2001077234A1 (fr) * | 2000-04-10 | 2001-10-18 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | Composition pour revetement dur antistatique, revetement dur antistatique, procede de production d'un tel revetement et pellicule multicouche a revetement dur antistatique |
DE10129374A1 (de) * | 2001-06-20 | 2003-01-02 | Roehm Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Formkörpern mit elektrisch-leitfähiger Beschichtung und Formkörper mit entsprechender Beschichtung |
DE10129376A1 (de) * | 2001-06-20 | 2003-01-09 | Degussa | Indium-Zinn-Oxide |
DE10141314A1 (de) * | 2001-08-09 | 2003-02-27 | Roehm Gmbh | Kunststoffkörper mit niedriger Wärmeleitfähigkeit, hoher Lichttransmission und Absorption im nahen Infrarotbereich |
JP2003119207A (ja) * | 2001-10-11 | 2003-04-23 | Jsr Corp | 光硬化性組成物、その硬化物、及び積層体 |
DE10212458A1 (de) * | 2002-03-20 | 2003-10-02 | Roehm Gmbh | Hagelbeständiges Verbund-Acrylglas und Verfahren zu seiner Herstellung |
DE10224895A1 (de) * | 2002-06-04 | 2003-12-18 | Roehm Gmbh | Selbstreinigender Kunststoffkörper und Verfahren zu dessen Herstellung |
-
2003
- 2003-03-14 DE DE2003111639 patent/DE10311639A1/de not_active Withdrawn
-
2004
- 2004-02-26 TW TW93104973A patent/TWI313280B/zh not_active IP Right Cessation
- 2004-03-02 US US10/548,878 patent/US7608306B2/en active Active
- 2004-03-02 JP JP2006504499A patent/JP4308252B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2004-03-02 CN CNB2004800043641A patent/CN100381510C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2004-03-02 KR KR1020057017224A patent/KR101007152B1/ko active IP Right Grant
- 2004-03-02 WO PCT/EP2004/002063 patent/WO2004081122A1/de active Application Filing
- 2004-03-02 EP EP04716235A patent/EP1603980A1/de not_active Withdrawn
-
2006
- 2006-08-02 HK HK06108586A patent/HK1088350A1/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7608306B2 (en) | 2009-10-27 |
CN100381510C (zh) | 2008-04-16 |
KR20050111768A (ko) | 2005-11-28 |
JP2006520681A (ja) | 2006-09-14 |
TW200427743A (en) | 2004-12-16 |
KR101007152B1 (ko) | 2011-01-12 |
TWI313280B (en) | 2009-08-11 |
HK1088350A1 (en) | 2006-11-03 |
DE10311639A1 (de) | 2004-09-23 |
WO2004081122A8 (de) | 2005-07-28 |
US20060157675A1 (en) | 2006-07-20 |
EP1603980A1 (de) | 2005-12-14 |
CN1751105A (zh) | 2006-03-22 |
WO2004081122A1 (de) | 2004-09-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4308252B2 (ja) | 帯電防止被覆された成形体およびその製造法 | |
JP5048304B2 (ja) | ハードコートフィルムおよび反射防止フィルム | |
JP5627592B2 (ja) | 耐引掻性被膜を有する高い透明度のポリカーボネート、その製造法および該ポリカーボネートの使用 | |
KR101365382B1 (ko) | 중공 실리카 미립자, 그것을 포함한 투명 피막 형성용조성물, 및 투명 피막 부착 기재 | |
RU2353631C2 (ru) | Способ изготовления формованного изделия с антистатическим покрытием | |
JP5092744B2 (ja) | 反射防止積層体 | |
JP2001200023A (ja) | 硬化性組成物、その硬化物及び積層体 | |
US20040213989A1 (en) | Method for producing moulded bodies comprising an electroconductive coating and moulded bodies having one such coating | |
Buruga et al. | A facile synthesis of halloysite nanotubes based polymer nanocomposites for glass coating application | |
JP2007076297A (ja) | 光学物品の表面コート用積層体 | |
JP2009249595A (ja) | コーティング組成物 | |
JP2000230107A (ja) | 樹脂組成物及びその硬化物 | |
JP2000281863A (ja) | 樹脂組成物及びその硬化物 | |
JP4913627B2 (ja) | 反射防止フィルムおよびその製造方法 | |
JP2006022258A (ja) | 組成物、成形物および硬化塗膜の製造方法 | |
WO2007004447A1 (ja) | 帯電防止用硬化性組成物、その硬化膜及び帯電防止用積層体 | |
JP2020169240A (ja) | 防霜用積層体、該積層体を備える熱交換器、及び防霜用コーティング剤 | |
JP2007007984A (ja) | 帯電防止用積層体 | |
JP4901397B2 (ja) | フィラー分散アクリル系樹脂組成物の製造方法、該組成物で表面を被覆された透明樹脂成形体 | |
JP2007007965A (ja) | 帯電防止用積層体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080807 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080820 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20081119 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20081127 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081222 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090402 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090430 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4308252 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120515 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120515 Year of fee payment: 3 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120515 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130515 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |