JP2001200023A - 硬化性組成物、その硬化物及び積層体 - Google Patents
硬化性組成物、その硬化物及び積層体Info
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Abstract
高硬度及び高屈折率を有するとともに耐擦傷性並びに基
材及び低屈折率層との密着性に優れた塗膜(被膜)を形
成し得る硬化性組成物、その硬化物、並びに低反射率を
有するとともに耐薬品性に優れた積層体を提供する。 【解決手段】(A)ケイ素、アルミニウム、ジルコニウ
ム、チタニウム、亜鉛、ゲルマニウム、インジウム、ス
ズ、アンチモン及びセリウムよりなる群から選ばれる少
なくとも一つの元素の酸化物粒子と、重合性不飽和基を
含む有機化合物とを結合させてなる粒子、(B)メラミ
ン(メタ)アクリレート化合物、及び(C)分子内に2
以上の重合性不飽和基を有する、(B)成分以外の化合
物を含有することを特徴とする硬化性組成物。
Description
の硬化物及び積層体に関する。さらに詳しくは、優れた
塗工性を有し、かつ各種基材[例えば、プラスチック
(ポリカ−ボネ−ト、ポリメチルメタクリレ−ト、ポリ
スチレン、ポリエステル、ポリオレフィン、エポキシ樹
脂、メラミン樹脂、トリアセチルセルロ−ス樹脂、AB
S樹脂、AS樹脂、ノルボルネン系樹脂等)、金属、木
材、紙、ガラス、スレ−ト等]の表面に、高硬度及び高
屈折率を有するとともに耐擦傷性並びに基材及び低屈折
率層との密着性に優れた塗膜(被膜)を形成し得る硬化
性組成物、その硬化物、並びに低反射率を有するととも
に耐薬品性に優れた積層体に関する。本発明の硬化性組
成物、その硬化物及び積層体は、例えば、プラスチック
光学部品、タッチパネル、フィルム型液晶素子、プラス
チック容器、建築内装材としての床材、壁材、人工大理
石等の傷付き(擦傷)防止や汚染防止のための保護コ−
ティング材;フィルム型液晶素子、タッチパネル、プラ
スチック光学部品等の反射防止膜;各種基材の接着剤、
シ−リング材;印刷インクのバインダ−材等として、特
に反射防止膜として好適に用いることができる。
止や汚染防止のための保護コ−ティング材;各種基材の
接着剤、シ−リング材;印刷インクのバインダ−材とし
て、優れた塗工性を有し、かつ各種基材の表面に、硬
度、耐擦傷性、耐摩耗性、低カール性、密着性、透明
性、耐薬品性及び塗膜面の外観のいずれにも優れた硬化
膜を形成し得る硬化性組成物が要請されている。また、
フィルム型液晶素子、タッチパネル、プラスチック光学
部品等の反射防止膜の用途においては、上記要請に加え
て、高屈折率の硬化膜を形成し得る硬化性組成物が要請
されている。
物が提案されているが、硬化性組成物として優れた塗工
性を有し、また硬化膜とした場合に、高硬度及び高屈折
率を有するとともに耐擦傷性並びに基材及び後述する積
層体に用いる低屈折率層との密着性に優れ、さらにその
硬化膜上に塗布によって低屈折率膜を積層した積層体と
した場合に、低反射率を有するとともに耐薬品性に優れ
るという特性を備えたものはまだ得られていないのが現
状である。例えば、特公昭62−21815号公報に
は、コロイダルシリカの表面をメタクリロキシシランで
修飾した粒子とアクリレ−トとの組成物を、放射線
(光)硬化型のコ−ティング材料として用いることが提
案されている。この種の放射線硬化型の組成物は、優れ
た塗工性を有すること等から、最近多用されるようにな
って来ている。しかし、このような組成物を用いた硬化
物上に塗布により低屈折率膜を積層させ、その積層体を
反射防止膜として用いた場合、反射防止効果に一定の改
良が認められるものの、積層体の耐薬品性については必
ずしも十分に満足し得るものではなかった。
に鑑みてなされたものであり、優れた塗工性を有し、か
つ各種基材の表面に、高硬度及び高屈折率を有するとと
もに耐擦傷性並びに基材及び低屈折率層との密着性に優
れた塗膜(被膜)を形成し得る硬化性組成物、その硬化
物、並びに低反射率を有するとともに耐薬品性に優れた
積層体を提供することを目的とする。
を達成するため、鋭意研究した結果、(A)特定の元素
の酸化物粒子と、重合性不飽和基を含む有機化合物とを
結合させてなる粒子、(B)メラミン(メタ)アクリレ
ート化合物、及び(C)分子内に2以上の重合性不飽和
基を有する、(B)成分以外の化合物を含有する硬化性
組成物、その硬化物及び積層体によって、上記諸特性を
全て満足し得るものが得られることを見出し、本発明を
完成させた。すなわち、本発明は、以下の硬化性組成
物、その硬化物及び反射防止膜として好適な積層体を提
供するものである。
コニウム、チタニウム、亜鉛、ゲルマニウム、インジウ
ム、スズ、アンチモン及びセリウムよりなる群から選ば
れる少なくとも一つの元素の酸化物粒子と、重合性不飽
和基を含む有機化合物とを結合させてなる粒子、(B)
メラミン(メタ)アクリレート化合物、及び(C)分子
内に2以上の重合性不飽和基を有する、(B)成分以外
の化合物を含有することを特徴とする硬化性組成物。
機化合物が、重合性不飽和基に加えて、下記式(1)に
示す基を有するものである前記[1]に記載の硬化性組
成物。
子)又はS(イオウ原子)を示し、Yは、O又はSを示
す。]
アクリレート化合物が、下記式(2)及び下記式(3)
又はそのいずれかの式に示す化合物である前記[1]又
は[2]に記載の硬化性組成物。
ル基を示し、4個のXは、それぞれ独立に低級アルキル
基又は(メタ)アクリロイルオキシアルキル基を示し、
4n個のXのうち少なくとも1個が(メタ)アクリロイ
ルオキシアルキル基であり、nは、1〜20の整数であ
る。]
立に低級アルキル基又は(メタ)アクリロイルオキシア
ルキル基を示し、6個のX’のうち1〜5個は低級アル
キル基である。] [4]前記(B)成分のメラミン(メタ)アクリレート
化合物が、メラミン・ホルムアルデヒド・炭素数が1〜
12のアルキルモノアルコール縮合物と、2−ヒドロキ
シエチルアクリレートとの縮合物である前記[1]〜
[3]のいずれかに記載の硬化性組成物。
アクリレート化合物の含有量が、前記(A)成分、
(B)成分及び(C)成分の合計を100重量%とし
て、0.01〜30重量%である前記[1]〜[4]の
いずれかに記載の硬化性組成物。
(C)成分に加えて、(D)酸発生剤をさらに含有する
前記[1]〜[5]のいずれかに記載の硬化性組成物。
載の硬化性組成物を硬化させてなる硬化物。
載の硬化性組成物を硬化させてなる硬化膜及び低屈折率
の膜をこの順に基材上に積層してなる積層体。
の硬化物及び積層体の実施の形態を具体的に説明する。 I.硬化性組成物 本発明の硬化性組成物は、(A)特定の元素の酸化物粒
子(以下、「酸化物粒子(A1)」ということがある)
と、重合性不飽和基を含む有機化合物(以下、「有機化
合物(A2)」ということがある)とを結合させてなる
粒子(以下、「反応性粒子(A)」又は「(A)成分」
ということがある)、(B)メラミン(メタ)アクリレ
ート化合物(以下、「化合物(B)又は「(B)成
分」」ということがある)、及び(C)分子内に2以上
の重合性不飽和基を有する、(B)成分以外の化合物
(以下、「化合物(C)又は「(C)成分」」というこ
とがある)を含有することを特徴とするものである。
について具体的に説明する。 1.反応性粒子(A) 本発明に用いられる反応性粒子(A)は、ケイ素、アル
ミニウム、ジルコニウム、チタニウム、亜鉛、ゲルマニ
ウム、インジウム、スズ、アンチモン及びセリウムより
なる群から選ばれる少なくとも一つの元素の酸化物粒子
(A1)と、重合性不飽和基を含む有機化合物(A2)
(好ましくは、前記式(1)に示す基を含む特定有機化
合物)とを結合させてなる反応性粒子である。
化性組成物の硬化被膜の無色性の観点から、ケイ素、ア
ルミニウム、ジルコニウム、チタニウム、亜鉛、ゲルマ
ニウム、インジウム、スズ、アンチモン及びセリウムよ
りなる群から選ばれる少なくとも一つの元素の酸化物粒
子である。
えば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化チタン、酸
化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化ス
ズ、インジウムスズ酸化物(ITO)、酸化アンチモ
ン、酸化セリウム等の粒子を挙げることができる。中で
も、高硬度の観点から、シリカ、アルミナ、ジルコニア
及び酸化アンチモンの粒子が好ましい。これらは1種単
独で又は2種以上を組合わせて用いることができる。さ
らには、酸化物粒子(A1)は、粉体状又は溶剤分散ゾ
ルであることが好ましい。溶剤分散ゾルである場合、他
の成分との相溶性、分散性の観点から、分散媒は、有機
溶剤が好ましい。このような有機溶剤としては、例え
ば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタ
ノール、オクタノール等のアルコール類;アセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘ
キサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸
エチル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモ
ノエチルエーテルアセテート等のエステル類;エチレン
グリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール
モノブチルエーテル等のエーテル類;ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類;ジメチルフォルム
アミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン
等のアミド類を挙げることができる。中でも、メタノー
ル、イソプロパノール、ブタノール、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、トルエン、キシレンが好ましい。
0.001μm〜2μmが好ましく、0.001μm〜
0.2μmがさらに好ましく、0.001μm〜0.1
μmが特に好ましい。数平均粒子径が2μmを越える
と、硬化物としたときの透明性が低下したり、被膜とし
たときの表面状態が悪化する傾向がある。また、粒子の
分散性を改良するために各種の界面活性剤やアミン類を
添加してもよい。
として市販されている商品としては、例えば、コロイダ
ルシリカとして、日産化学工業(株)製 商品名:メタ
ノ−ルシリカゾル、IPA−ST、MEK−ST、NB
A−ST、XBA−ST、DMAC−ST、ST−U
P、ST−OUP、ST−20、ST−40、ST−
C、ST−N、ST−O、ST−50、ST−OL等を
挙げることができる。また粉体シリカとしては、日本ア
エロジル(株)製 商品名:アエロジル130、アエロ
ジル300、アエロジル380、アエロジルTT60
0、アエロジルOX50、旭硝子(株)製 商品名:シ
ルデックスH31、H32、H51、H52、H12
1、H122、日本シリカ工業(株)製 商品名:E2
20A、E220、富士シリシア(株)製 商品名:S
YLYSIA470、日本板硝子(株)製商品名:SG
フレ−ク等を挙げることができる。
化学工業(株)製 商品名:アルミナゾル−100、−
200、−520;アルミナのイソプロパノール分散品
としては、住友大阪セメント(株)製 商品名:AS−
150I;アルミナのトルエン分散品としては、住友大
阪セメント(株)製 商品名:AS−150T;ジルコ
ニアのトルエン分散品としては、住友大阪セメント
(株)製 商品名:HXU−110JC;アンチモン酸
亜鉛粉末の水分散品としては、日産化学工業(株)製
商品名:セルナックス;アルミナ、酸化チタン、酸化ス
ズ、酸化インジウム、酸化亜鉛等の粉末及び溶剤分散品
としては、シーアイ化成(株)製 商品名:ナノテッ
ク;アンチモンドープ酸化スズの水分散ゾルとしては、
石原産業(株)製 商品名:SN−100D;ITO粉
末としては、三菱マテリアル(株)製の製品;酸化セリ
ウム水分散液としては、多木化学(株)製 商品名:ニ
ードラール等を挙げることができる。
状、多孔質状、棒状、板状、繊維状、又は不定形状であ
り、好ましくは、球状である。酸化物粒子(A1)の比
表面積(窒素を用いたBET比表面積測定法による)
は、好ましくは、10〜1000m2/gであり、さら
に好ましくは、100〜500m2/gである。これら
酸化物粒子(A1)の使用形態は、乾燥状態の粉末、又
は水もしくは有機溶剤で分散した状態で用いることがで
きる。例えば、上記の酸化物の溶剤分散ゾルとして当業
界に知られている微粒子状の酸化物粒子の分散液を直接
用いることができる。特に、硬化物に優れた透明性を要
求する用途においては酸化物の溶剤分散ゾルの利用が好
ましい。
重合性不飽和基を含む化合物であり、さらに、前記式
(1)に示す基[−X−C(=Y)−NH−]を含む特
定有機化合物であることが好ましい。また、[−O−C
(=O)−NH−]基を含み、さらに、[−O−C(=
S)−NH−]基及び[−S−C(=O)−NH−]基
の少なくとも1を含むものであることが好ましい。ま
た、この有機化合物(A2)は、分子内にシラノ−ル基
を有する化合物又は加水分解によってシラノ−ル基を生
成する化合物であることが好ましい。
特に制限はないが、例えば、アクリロイル基、メタクリ
ロイル基、ビニル基、プロペニル基、ブタジエニル基、
スチリル基、エチニル基、シンナモイル基、マレエ−ト
基、アクリルアミド基を好適例として挙げることができ
る。この重合性不飽和基は、活性ラジカル種により付加
重合をする構成単位である。
−C(=Y)−NH−]は、具体的には、[−O−C
(=O)−NH−]、[−O−C(=S)−NH−]、
[−S−C(=O)−NH−]、[−NH−C(=O)
−NH−]、[−NH−C(=S)−NH−]、及び
[−S−C(=S)−NH−]の6種である。これらの
基は、1種単独で又は2種以上を組合わせて用いること
ができる。中でも、熱安定性の観点から、[−O−C
(=O)−NH−]基と、[−O−C(=S)−NH
−]基及び[−S−C(=O)−NH−]基の少なくと
も1つとを併用することが好ましい。前記式(1)に示
す基[−X−C(=Y)−NH−]は、分子間において
水素結合による適度の凝集力を発生させ、硬化物にした
場合、優れた機械的強度、基材との密着性及び耐熱性等
の特性を付与せしめるものと考えられる。
ノ−ル基を生成する基 有機化合物(A2)は、分子内にシラノール基を有する
化合物(以下、「シラノール基含有化合物」ということ
がある)又は加水分解によってシラノール基を生成する
化合物(以下、「シラノール基生成化合物」ということ
がある)であることが好ましい。このようなシラノール
基生成化合物としては、ケイ素原子にアルコキシ基、ア
リールオキシ基、アセトキシ基、アミノ基、ハロゲン原
子等が結合した化合物を挙げることができるが、ケイ素
原子にアルコキシ基又はアリールオキシ基が結合した化
合物、すなわち、アルコキシシリル基含有化合物又はア
リールオキシシリル基含有化合物が好ましい。シラノー
ル基又はシラノール基生成化合物のシラノール基生成部
位は、縮合反応又は加水分解に続いて生じる縮合反応に
よって、酸化物粒子(A1)と結合する構成単位であ
る。
ば、下記式(4)に示す化合物を挙げることができる。
ていてもよいが、水素原子又はC1〜C8のアルキル基若
しくはアリール基であり、例えば、メチル、エチル、プ
ロピル、ブチル、オクチル、フェニル、キシリル基等を
挙げることができる。ここで、pは、1〜3の整数であ
る。
としては、例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキ
シシリル基、トリフェノキシシリル基、メチルジメトキ
シシリル基、ジメチルメトキシシリル基等を挙げること
ができる。このような基のうち、トリメトキシシリル基
又はトリエトキシシリル基等が好ましい。R5は、C1か
らC12の脂肪族又は芳香族構造を有する2価の有機基で
あり、鎖状、分岐状又は環状の構造を含んでいてもよ
い。また、R6は、2価の有機基であり、通常、分子量
14から1万、好ましくは、分子量76から500の2
価の有機基の中から選ばれる。R7は、(q+1)価の
有機基であり、好ましくは、鎖状、分岐状又は環状の飽
和炭化水素基、不飽和炭化水素基の中から選ばれる。Z
は、活性ラジカル種の存在下、分子間架橋反応をする重
合性不飽和基を分子中に有する1価の有機基を示す。ま
た、qは、好ましくは、1〜20の整数であり、さらに
好ましくは、1〜10の整数、特に好ましくは、1〜5
の整数である。
合成は、例えば、特開平9−100111号公報に記載
された方法を用いることができる。
2)の結合量は、反応性粒子(A)(酸化物粒子(A
1)及び有機化合物(A2)の合計)を100重量%と
して、好ましくは、0.01重量%以上であり、さらに
好ましくは、0.1重量%以上、特に好ましくは、1重
量%以上である。酸化物粒子(A1)に結合した有機化
合物(A2)の結合量が0.01重量%未満であると、
組成物中における反応性粒子(A)の分散性が十分でな
く、得られる硬化物の透明性、耐擦傷性が十分でなくな
る場合がある。また、反応性粒子(A)製造時の原料中
の酸化物粒子(A1)の配合割合は、好ましくは、5〜
99重量%であり、さらに好ましくは、10〜98重量
%である。
る配合(含有)量は、組成物[反応性粒子(A)、化合
物(B)及び化合物(C)の合計]を100重量%とし
て、5〜90重量%が好ましく、65〜85重量%がさ
らに好ましい。5重量%未満であると、高屈折率のもの
を得られないことがあり、90重量%を超えると、成膜
性が不十分となることがある。この場合、反応性粒子
(A)を構成する酸化物粒子(A1)の組成物中の含有
量は、65〜90重量%であることが好ましい。なお、
反応性粒子(A)の量は、固形分を意味し、反応性粒子
(A)が溶剤分散ゾルの形態で用いられるときは、その
配合量には溶剤の量を含まない。
アクリレート化合物であり、前記式(2)及び前記式
(3)又はそのいずれかの式に示す化合物であることが
好ましく、メラミン・ホルムアルデヒド・炭素数が1〜
12のアルキルモノアルコール縮合物と、2−ヒドロキ
シエチルアクリレートとの縮合物であることがさらに好
ましい。なお、本発明におけるメラミン(メタ)アクリ
レート化合物とは、分子中にメラミン環を有する(メ
タ)アクリレート化合物を意味する。この化合物(B)
は、硬化物としたときの屈折率を高めるとともに、積層
体の耐薬品性を向上するために好適に用いられる。
けるR1、R2、X及びX’で示される低級アルキル基と
しては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプ
ロピル基等を挙げることができる。R1及びR2として
は、硬化性に優れることからメチル基であることが好ま
しい。また、X及びX’で示される(メタ)アクリロイ
ルオキシアルキル基としては、アクリロイルオキシエチ
ル基、メタクリロイルオキシエチル基、アクリロイルオ
キシイソプロピル基、メタクリロイルオキシイソプロピ
ル基、アクリロイルオキシブチル基、メタクリロイルオ
キシブチル基等を挙げることができる。
は、例えば、アクゾアクチェンゲゼルシャフト社製 商
品名:SETACURE 591、三和ケミカル(株)
製 商品名:ニカラック MX−302等を挙げること
ができる。
分子量は、500〜20,000であることが好まし
い。500未満であると、得られる積層体の耐薬品性が
不十分になることがあり、20,000を超えると、塗
工性が不十分になることがある。
は、組成物[反応性粒子(A)、化合物(B)及び化合
物(C)の合計]を100重量%として、好ましくは、
0.01〜30重量%、さらに好ましくは、1〜15重
量%である。0.01重量%未満であると、積層体の耐
薬品性が劣ることがあり、30重量%を超えると、硬化
物の硬度が不十分となることがある。
重合性不飽和基を有する、(B)成分以外の化合物であ
る。この化合物(C)は組成物の成膜性を高めるために
好適に用いられる。化合物(C)としては、分子内に重
合性不飽和基を2以上含むものであれば特に制限はない
が、例えば、(メタ)アクリルエステル類、ビニル化合
物類を挙げることができる。この中では、(メタ)アク
リルエステル類が好ましい。
具体例を列挙する。(メタ)アクリルエステル類として
は、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレー
ト、グリセリントリ(メタ)アクリレート、トリス(2
−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)ア
クリレート、エチレングルコールジ(メタ)アクリレー
ト、1,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、
1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,
6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペ
ンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレン
グルコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングル
コールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングルコー
ルジ(メタ)アクリレート、ビス(2−ヒドロキシエチ
ル)イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、及びこ
れらの出発アルコール類へのエチレンオキシド又はプロ
ピレンオキシド付加物のポリ(メタ)アクリレート類、
分子内に2以上の(メタ)アクリロイル基を有するオリ
ゴエステル(メタ)アクリレート類、オリゴエーテル
(メタ)アクリレート類、オリゴウレタン(メタ)アク
リレート類、及びオリゴエポキシ(メタ)アクリレート
類等を挙げることができる。この中では、ジペンタエリ
スリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリ
スリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリス
リトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロー
ルプロパンテトラ(メタ)アクリレートが好ましい。
ン、エチレングリコ−ルジビニルエ−テル、ジエチレン
グリコ−ルジビニルエ−テル、トリエチレングリコ−ル
ジビニルエ−テル等を挙げることができる。
は、例えば、東亞合成(株)製 商品名:アロニックス
M−400、M−408、M−450、M−305、
M−309、M−310、M−315、M−320、M
−350、M−360、M−208、M−210、M−
215、M−220、M−225、M−233、M−2
40、M−245、M−260、M−270、M−11
00、M−1200、M−1210、M−1310、M
−1600、M−221、M−203、TO−924、
TO−1270、TO−1231、TO−595、TO
−756、TO−1343、TO−902、TO−90
4、TO−905、TO−1330、日本化薬(株)製
商品名:KAYARAD D−310、D−330、
DPHA、DPCA−20、DPCA−30、DPCA
−60、DPCA−120、DN−0075、DN−2
475、SR−295、SR−355、SR−399
E、SR−494、SR−9041、SR−368、S
R−415、SR−444、SR−454、SR−49
2、SR−499、SR−502、SR−9020、S
R−9035、SR−111、SR−212、SR−2
13、SR−230、SR−259、SR−268、S
R−272、SR−344、SR−349、SR−60
1、SR−602、SR−610、SR−9003、P
ET−30、T−1420、GPO−303、TC−1
20S、HDDA、NPGDA、TPGDA、PEG4
00DA、MANDA、HX−220、HX−620、
R−551、R−712、R−167、R−526、R
−551、R−712、R−604、R−684、TM
PTA、THE−330、TPA−320、TPA−3
30、KS−HDDA、KS−TPGDA、KS−TM
PTA、共栄社化学(株)製商品名:ライトアクリレー
ト PE−4A、DPE−6A、DTMP−4A等を挙
げることができる。
(含有)量は、組成物[反応性粒子(A)、化合物
(B)及び化合物(C)の合計]を100重量%とし
て、10〜80重量%配合することが好ましく、20〜
75重量%がさらに好ましい。10重量%未満又は80
重量%を超えると、硬化物としたときに高硬度のものを
得られないことがある。なお、本発明の組成物中には、
化合物(C)の外に、必要に応じて、分子内に重合性不
飽和基を1つ有する化合物を含有させてもよい。
粒子(A)、化合物(B)及び化合物(C)以外の配合
成分として、(D)酸発生剤(以下、「酸発生剤
(D)」ということがある)を配合することができる。
このような酸発生剤(D)としては、例えば、熱的にカ
チオン種を発生させる化合物等及び放射線(光)照射に
よりカチオン種を発生させる化合物等の、汎用されてい
るものを挙げることができる。熱的にカチオン種を発生
させる化合物としては、例えば、脂肪族スルホン酸、酸
脂肪族スルホン酸塩、脂肪族カルボン酸、脂肪族カルボ
ン酸塩、芳香族カルボン酸、芳香族カルボン酸塩、アル
キルベンゼンスルホン酸、アルキルベンゼンスルホン酸
塩、リン酸エステル、金属塩等の化合物を挙げることが
できる。これらは、1種単独で又は2種以上を組合わせ
て用いることができる。
物としては、例えば、下記式(5)に示す構造を有する
オニウム塩を好適例として挙げることができる。このオ
ニウム塩は、光を受けることによりルイス酸を放出する
化合物である [R8 dR9 eR10 fR11 gW]+j [MYj+k]-j (5) (式(8)中、カチオンはオニウムイオンであり、W
は、S、Se、Te、P、As、Sb、Bi、O、I、
Br、Cl、又はN≡N−であり、R8、R9、R10及び
R11は同一又は異なる有機基であり、d、e、f、及び
gは、それぞれ0〜3の整数であって、(d+e+f+
g)はWの価数に等しい。Mは、ハロゲン化物錯体[M
Yj+k]の中心原子を構成する金属又はメタロイドであ
り、例えば、B、P、As、Sb、Fe、Sn、Bi、
Al、Ca、In、Ti、Zn、Sc、V、Cr、M
n、Co等である。Yは、例えば、F、Cl、Br等の
ハロゲン原子であり、jは、ハロゲン化物錯体イオンの
正味の電荷であり、kは、原子価である。)
j+k)の具体例としては、テトラフルオロボレート(B
F4 -)、ヘキサフルオロホスフェート(PF6 -)、ヘキ
サフルオロアンチモネート(SbF6 -)、ヘキサフルオ
ロアルセネート(AsF6 -)、ヘキサクロロアンチモネ
ート(SbCl6 -)等を挙げることができる。
ンを有するオニウム塩を用いることもできる。さらに、
過塩素酸イオン(ClO4 -)、トリフルオロメタンスル
フォン酸イオン(CF3SO3 -)、フルオロスルフォン
酸イオン(FSO3 -)、トルエンスルフォン酸イオン、
トリニトロベンゼンスルフォン酸陰イオン、トリニトロ
トルエンスルフォン酸陰イオン等の他の陰イオンを有す
るオニウム塩をであってもよい。
(D)として特に有効なオニウム塩は、芳香族オニウム
塩である。中でも、特開昭50−151996号公報、
特開昭50−158680号公報等に記載された芳香族
ハロニウム塩、特開昭50−151997号公報、特開
昭52−30899号公報、特開昭56−55420号
公報、特開昭55−125105号公報等に記載された
VIA族芳香族オニウム塩、特開昭50−158698
号公報等に記載されたVA族芳香族オニウム塩、特開昭
56−8428号公報、特開昭56−149402号公
報、特開昭57−192429号公報等に記載されたオ
キソスルホキソニウム塩、特開昭49−17040号公
報等に記載された芳香族ジアゾニウム塩、米国特許第
4,139,655号明細書に記載されたチオビリリウ
ム塩等が好ましい。また、鉄/アレン錯体、アルミニウ
ム錯体/光分解ケイ素化合物系開始剤等も挙げることが
できる。これらは、1種単独で又は2種以上を組合わせ
て用いることができる。
合開始剤の市販品としては、ユニオンカーバイド社製
商品名:UVI−6950、UVI−6970、UVI
−6974、UVI−6990、旭電化工業(株)製
商品名:アデカオプトマーSP−150、SP−15
1、SP−170、SP−171、チバスペシャルティ
ケミカルズ(株)製 商品名:イルガキュアー 26
1、日本曹達(株)製商品名:CI−2481、CI−
2624、CI−2639、CI−2064、サートマ
ー社製 商品名:CD−1010、CD−1011、C
D−1012、みどり化学(株)製 商品名:DTS−
102、DTS−103、NAT−103、NDS−1
03、TPS−103、MDS−103、MPI−10
3、BBI−103、日本化薬(株)製 商品名:PC
I−061T、PCI−062T、PCI−020T、
PCI−022T等を挙げることができる。これらのう
ち、UVI−6970、UVI−6974、UVI−6
990、アデカオプトマーSP−150、SP−17
0、SP−171、CD−1012、MPI−103
が、これらを含有してなる硬化性組成物を硬化させたと
きに、高い表面硬化性を発現させることができることか
ら好ましい。
発生剤(D)の配合量は、組成物[反応性粒子(A)、
化合物(B)及び化合物(C)の合計]100重量部に
対して、0.01〜20重量部配合することが好まし
く、0.1〜10重量部が、さらに好ましい。0.01
重量部未満であると、成膜性が不十分となることがあ
り、20重量部を超えると、高硬度の硬化物が得られな
いことがある。
粒子(A)、化合物(B)、化合物(C)及び酸発生剤
(D)以外の配合成分として、(E)ラジカル重合開始
剤(以下、「ラジカル重合開始剤(E)」ということが
ある)を配合することができる。このようなラジカル重
合開始剤(E)としては、例えば、熱的に活性ラジカル
種を発生させる化合物等(熱重合開始剤)、及び放射線
(光)照射により活性ラジカル種を発生させる化合物等
(放射線(光)重合開始剤)の、汎用されているものを
挙げることができる。
により分解してラジカルを発生して重合を開始せしめる
ものであれば特に制限はなく、例えば、アセトフェノ
ン、アセトフェノンベンジルケタール、1−ヒドロキシ
シクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキシ−
1,2−ジフェニルエタン−1−オン、キサントン、フ
ルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラ
キノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、3−メチ
ルアセトフェノン、4−クロロベンゾフェノン、4,
4’−ジメトキシベンゾフェノン、4,4’−ジアミノ
ベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾ
インエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、1−
(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−
メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチ
ル−1−フェニルプロパン−1−オン、チオキサント
ン、ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキ
サントン、2−クロロチオキサントン、2−メチル−1
−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−
プロパン−1−オン、2−ベンジルー2−ジメチルアミ
ノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−
1,4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−
ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、2,4,6−トリ
メチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、
ビス−(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4
−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、オリゴ
(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−(4−(1−メチ
ルビニル)フェニル)プロパノン)等を挙げることがで
きる。
は、例えば、チバスペシャルティケミカルズ(株)製
商品名:イルガキュア 184、369、651、50
0、819、907、784、2959、CGI170
0、CGI1750、CGI1850、CG24−6
1、ダロキュア 1116、1173、BASF社製
商品名:ルシリン TPO、UCB社製 商品名:ユベ
クリル P36、フラテツリ・ランベルティ社製 商品
名:エザキュアー KIP150、KIP65LT、K
IP100F、KT37、KT55、KTO46、KI
P75/B等を挙げることができる。
ジカル重合開始剤(E)の配合量は、組成物[反応性粒
子(A)、化合物(B)及び化合物(C)]の合計10
0重量部に対して、0.01〜20重量部配合すること
が好ましく、0.1〜10重量部が、さらに好ましい。
0.01重量部未満であると、硬化物としたときの硬度
が不十分となることがあり、20重量部を超えると、硬
化物としたときに内部(下層)まで硬化しないことがあ
る。
応じて光重合開始剤と熱重合開始剤とを併用することが
できる。好ましい熱重合開始剤としては、例えば、過酸
化物、アゾ化合物を挙げることができ、具体例として
は、ベンゾイルパーオキサイド、t−ブチル−パーオキ
シベンゾエート、アゾビスイソブチロニトリル等を挙げ
ることができる。
り、反射防止や被覆の対象となる基材としては、例え
ば、プラスチック(ポリカ−ボネ−ト、ポリメタクリレ
−ト、ポリスチレン、ポリエステル、ポリオレフィン、
エポキシ、メラミン、トリアセチルセルロース、AB
S、AS、ノルボルネン系樹脂等)、金属、木材、紙、
ガラス、スレ−ト等を挙げることができる。これら基材
の形状は板状、フィルム状又は3次元成形体でもよく、
コーティング方法は、通常のコーティング方法、例えば
ディッピングコ−ト、スプレ−コ−ト、フロ−コ−ト、
シャワ−コ−ト、ロ−ルコ−ト、スピンコート、刷毛塗
り等を挙げることができる。これらコーティングにおけ
る塗膜の厚さは、乾燥、硬化後、通常0.1〜400μ
mであり、好ましくは、1〜200μmである。
ために、溶剤で希釈して用いることができる。例えば、
反射防止膜や被覆材として用いる場合の粘度は、通常
0.1〜50,000mPa・秒/25℃であり、好ま
しくは、0.5〜10,000mPa・秒/25℃であ
る。
硬化させることができる。熱による場合、その熱源とし
ては、例えば、電気ヒーター、赤外線ランプ、熱風等を
用いることができる。放射線(光)による場合、その線
源としては、組成物をコーティング後短時間で硬化させ
ることができるものである限り特に制限はないが、例え
ば、赤外線の線源として、ランプ、抵抗加熱板、レーザ
ー等を、また可視光線の線源として、日光、ランプ、蛍
光灯、レーザー等を、また紫外線の線源として、水銀ラ
ンプ、ハライドランプ、レーザー等を、また電子線の線
源として、市販されているタングステンフィラメントか
ら発生する熱電子を利用する方式、金属に高電圧パルス
を通じて発生させる冷陰極方式及びイオン化したガス状
分子と金属電極との衝突により発生する2次電子を利用
する2次電子方式を挙げることができる。また、アルフ
ァ線、ベ−タ線及びガンマ線の線源として、例えば、C
o60等の核分裂物質を挙げることができ、ガンマ線につ
いては加速電子を陽極へ衝突させる真空管等を利用する
ことができる。これら放射線は1種単独で又は2種以上
を同時に又は一定期間をおいて照射することができる。
えば、プラスチック基材にコーティングして硬化させる
ことにより得ることができる。具体的には、組成物をコ
ーティングし、好ましくは、0〜200℃で揮発成分を
乾燥させた後、上述の、熱及び/又は放射線で硬化処理
を行うことにより被覆成形体として得ることができる。
熱による場合の好ましい硬化条件は20〜150℃であ
り、10秒〜24時間の範囲内で行われる。放射線によ
る場合、紫外線又は電子線を用いることが好ましい。そ
のような場合、好ましい紫外線の照射光量は0.01〜
10J/cm2であり、より好ましくは、0.1〜2J
/cm2である。また、好ましい電子線の照射条件は、
加圧電圧は10〜300KV、電子密度は0.02〜
0.30mA/cm2であり、電子線照射量は1〜10
Mradである。
有するとともに、耐擦傷性並びに基材及び低屈折率層と
の密着性に優れた塗膜(被膜)を形成し得る特徴を有し
ているので、フィルム型液晶素子、タッチパネル、プラ
スチック光学部品等の反射防止膜等として特に好適に用
いられる。
高屈折率の硬化膜及び低屈折率の膜をこの順に基材上に
積層してなり、反射防止膜として特に好適なものであ
る。本発明に用いられる基材としては特に制限はない
が、反射防止膜として用いる場合には、例えば前述の、
プラスチック(ポリカ−ボネ−ト、ポリメチルメタクリ
レ−ト、ポリスチレン、ポリエステル、ポリオレフィ
ン、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、トリアセチルセルロ
−ス樹脂、ABS樹脂、AS樹脂、ノルボルネン系樹脂
等)等を挙げることができる。本発明に用いられる低屈
折率の膜としては、例えば、屈折率が1.38〜1.4
5のフッ化マグネシウム、二酸化ケイ素等の金属酸化物
膜、フッ素系コート材硬化膜等を挙げることができる。
前記硬化性組成物を硬化させてなる高屈折率の硬化膜上
に低屈折率の膜を形成する方法としては、例えば、金属
酸化物膜の場合には、真空蒸着やスパッタリング等を挙
げることができ、またフッ素系コート材硬化膜の場合に
は、前述した組成物の塗布(コーティング)方法と同一
の方法を挙げることができる。このように前記高屈折率
の硬化膜と低屈折率の膜とを基材上に積層することによ
って、基材表面における光の反射を有効に防止すること
ができる。本発明の積層体は、低反射率を有するととも
に耐薬品性に優れるため、フィルム型液晶素子、タッチ
パネル、プラスチック光学部品等の反射防止膜として特
に好適に用いられる。
説明するが、本発明はこれらの実施例によっていかなる
制限を受けるものではない。なお、以下において、部、
%は特に記載しない限り、それぞれ重量部、重量%を示
す。また、本発明において「固形分」とは、組成物から
溶剤等の揮発成分を除いた部分を意味し、具体的には、
組成物を175℃のホットプレート上で1時間乾燥して
得られる残渣物(不揮発成分)を意味する。
7.8部、ジブチルスズジラウレート0.2部からなる
溶液に対し、イソフォロンジイソシアネート20.6部
を攪拌しながら50℃で1時間かけて滴下後、60℃で
3時間攪拌した。これにペンタエリスリトールトリアク
リレート71.4部を30℃で1時間かけて滴下後、6
0℃で3時間加熱攪拌することで有機化合物(A2−
1)を得た。生成物中の残存イソシアネ−ト量を分析し
たところ0.1%以下であり、反応がほぼ定量的に終了
したことを示した。
2に示し、その結果を表1にまとめて示す。 製造例1 合成例1で合成した有機化合物(A2−1)2.1部、
メチルエチルケトンジルコニアゾル(数平均粒子径0.
01μm、ジルコニア濃度30%)97.9部、イオン
交換水0.1部、メチルエチルケトン24.5部の混合
液を、60℃、3時間攪拌後、オルト蟻酸メチルエステ
ル1.0部を添加し、さらに1時間同一温度で加熱攪拌
することで反応性粒子(A)分散液(分散液(A−
1))を得た。この分散液(A−1)の固形分含量を製
造例1と同様に求めたところ25%であった。
イソプロパノールアルミナゾル(住友大阪セメント
(株)製、商品名:AS−150I、数平均粒子径0.
013μm、アルミナ濃度15%)95.2部、p−メ
トキシフェノール0.01部、及びイオン交換水0.1
部の混合液を60℃で3時間攪拌後、オルト蟻酸メチル
エステル1.0部を添加し、さらに1時間同温度で加熱
攪拌することで反応性粒子(A)分散液(分散液(A−
2))を得た。この分散液(A−2)の固形分含量を製
造例1と同様に求めたところ19%であった。
に示す。 A−1:製造例1で製造した反応性粒子(A)分散液 A−2:製造例2で製造した反応性粒子(A)分散液 A1−1:メチルエチルケトンジルコニアゾル(ジルコ
ニア濃度30%) A1−2:イソプロパノールアルミナゾル(アルミナ濃
度15%) A2−1:合成例1で合成した有機化合物
製比較例を比較例1〜3に示す。また、各成分の配合重
量比を表2に示す。 実施例1 乾燥空気気流下、製造例1で製造した分散液(A−1)
305.6部(反応性粒子76.4部、分散媒ME
K)、メラミンアクリレート((株)三和ケミカル製
商品名:ニカラック MX−302)5.2部、ジペン
タエリスリト−ルヘキサアクリレ−ト18.4部、酸発
生剤(ユニオンカーバイド社製 商品名:サイラキュア
UVI−6974)4.7部を50℃で2時間攪拌す
ることで均一な溶液の組成物を得た。この組成物の固形
分含量を製造例1と同様に求めたところ、31%であっ
た。
作により、実施例2〜4の各組成物を得た。
作により、比較例1〜2の各組成物を得た。
を用いて塗布、乾燥、光照射して得られた硬化物及び積
層体の評価を行った。以下にその評価方法を示す。ま
た、評価結果を表2に示す。 1.塗布、乾燥、硬化条件 (1)硬化物 表2の実施例1〜4及び比較例1〜2で得られた組成物
を、基材上にバーコーターを用いて乾燥膜厚5μmにな
るように塗布した後、80℃の熱風式乾燥機中で3分間
乾燥し、コンベア式水銀ランプを用いて1J/cm2の
光量で照射して硬化物を得た。この硬化物を用いて、鉛
筆硬度、屈折率、基材との密着性及び耐スチールウール
(SW)擦傷性を評価した。さらに、下記の積層体を用
いて、硬化物とその上層である低屈折率層との密着性を
評価した。その結果を表2に示す。なお、基材は、鉛筆
硬度の評価の場合にはガラスを、また基材との密着性及
び耐スチールウール(SW)擦傷性の評価の場合には厚
さが188μmのポリエチレンテレフタレート(PE
T)フィルムをそれぞれ用いた。
材上にバーコーターを用いて乾燥膜厚5μmになるよう
に塗布した後、80℃の熱風式乾燥機中で3分間乾燥
し、コンベア式水銀ランプを用いて1J/cm2の光量
で照射して硬化物を得た。次いで、この硬化物上に低屈
折率層用コート材(JSR(株)製 商品名:オプスタ
ー JN7215)を、バーコーターを用いて乾燥膜厚
が0.1μmになるように塗工し、120℃の熱風式乾
燥機中で30分間加熱処理を行い積層体を得た。得られ
た積層体サンプルを用いて以下の方法にて反射率及び耐
薬品性を評価した。その結果を表2に示す。
た被膜を評価した。 ・屈折率 実施例1〜4及び比較例1〜2で得られた組成物を、テ
フロン板上にバーコーターを用いて、塗布と、80℃の
熱風式乾燥機中における3分間の乾燥とを繰り返し、乾
燥膜厚を30μmとした後、コンベア式水銀ランプを用
いて、1J/cm2の光量で照射して硬化物を得た。こ
の硬化物をテフロン板から剥離して、JIS K 71
05に準拠し、屈折率を評価した。 ・基材との密着性:JIS K5400における碁盤目
セロハンテ−プ剥離試験に準拠し、1mm角、計100
個の碁盤目における残膜率(%)で評価した。 ・低屈折率層との密着性:十條キンバリー(株)製キム
ワイプペーパーを用いて上記の積層体サンプルの表面を
約9.8N/cm2荷重にて、25回繰り返し摩擦し、
表面の剥がれ度合いを目視にて評価した。剥がれがない
場合を○、剥がれがある場合を×とした。 ・耐スチールウール(SW)擦傷性:テスター産業
(株)製 学振型耐磨耗試験機を、500g荷重をかけ
た#0000スチールウールにて30往復し、試験した
塗膜面の傷つき状態を目視にて評価した。傷がない場合
を○、傷がある場合を×とした。
60mmφ積分球付分光光度計(日立製作所(株)製
U−3410型)に装着し、反射防止膜における反射率
を測定した。 ・耐薬品性:エタノールを含浸させた十條キンバリー
(株)製キムワイプペーパーを用いて反射防止膜の表面
を約9.8N/cm2荷重にて、25回繰り返し摩擦
し、反射防止膜表面に発生した傷を目視にて評価した。
傷がない場合を○、傷があったり、摩耗により消滅した
場合を×とした。
子(A1)*は、各粒子分散ゾルの仕込量中に含まれる
粒子重量(有機溶剤を除く)を示す。表2中の略称の内
容を下記に示す。 A−1:製造例1で製造した分散液 A−2:製造例2で製造した分散液 A1−1:メチルエチルケトンジルコニアゾル(ジルコ
ニア濃度30%) B−1:メラミンアクリレート((株)三和ケミカル製
商品名:ニカラックMX−302) C−1:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート C−2:ペンタエリスリトールトリアクリレート D−1:ユニオンカーバイド社製 商品名:サイラキュ
ア UVI−6974 E−1:1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン E−2:2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニ
ル]−2−モルフォリノプロパノン−1
優れた塗工性を有し、かつ各種基材の表面に、高硬度及
び高屈折率を有するとともに耐擦傷性並びに基材及び低
屈折率層との密着性に優れた塗膜(被膜)を形成し得る
硬化性組成物、その硬化物、並びに低反射率を有すると
ともに耐薬品性に優れた積層体を提供することができ
る。
Claims (8)
- 【請求項1】(A)ケイ素、アルミニウム、ジルコニウ
ム、チタニウム、亜鉛、ゲルマニウム、インジウム、ス
ズ、アンチモン及びセリウムよりなる群から選ばれる少
なくとも一つの元素の酸化物粒子と、重合性不飽和基を
含む有機化合物とを結合させてなる粒子、(B)メラミ
ン(メタ)アクリレート化合物、及び(C)分子内に2
以上の重合性不飽和基を有する、(B)成分以外の化合
物を含有することを特徴とする硬化性組成物。 - 【請求項2】前記(A)成分の粒子中における有機化合
物が、重合性不飽和基に加えて、下記式(1)に示す基
を有するものである請求項1に記載の硬化性組成物。 【化1】 [式(1)中、Xは、NH、O(酸素原子)又はS(イ
オウ原子)を示し、Yは、O又はSを示す。] - 【請求項3】前記(B)成分のメラミン(メタ)アクリ
レート化合物が、下記式(2)及び下記式(3)又はそ
のいずれかの式に示す化合物である請求項1又は2に記
載の硬化性組成物。 【化2】 [式(2)中、R1及びR2は、低級アルキル基を示し、
4個のXは、それぞれ独立に低級アルキル基又は(メ
タ)アクリロイルオキシアルキル基を示し、4n個のX
のうち少なくとも1個が(メタ)アクリロイルオキシア
ルキル基であり、nは、1〜20の整数である。] 【化3】 [式(3)中、6個のX’は、それぞれ独立に低級アル
キル基又は(メタ)アクリロイルオキシアルキル基を示
し、6個のX’のうち1〜5個は低級アルキル基であ
る。] - 【請求項4】前記(B)成分のメラミン(メタ)アクリ
レート化合物が、メラミン・ホルムアルデヒド・炭素数
が1〜12のアルキルモノアルコール縮合物と、2−ヒ
ドロキシエチルアクリレートとの縮合物である請求項1
〜3のいずれかに記載の硬化性組成物。 - 【請求項5】前記(B)成分のメラミン(メタ)アクリ
レート化合物の含有量が、前記(A)成分、(B)成分
及び(C)成分の合計を100重量%として、0.01
〜30重量%である請求項1〜4のいずれかに記載の硬
化性組成物。 - 【請求項6】前記(A)成分、(B)成分及び(C)成
分に加えて、(D)酸発生剤をさらに含有する請求項1
〜5のいずれかに記載の硬化性組成物。 - 【請求項7】請求項1〜6のいずれかに記載の硬化性組
成物を硬化させてなる硬化物。 - 【請求項8】請求項1〜6のいずれかに記載の硬化性組
成物を硬化させてなる硬化膜及び低屈折率の膜をこの順
に基材上に積層してなる積層体。
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Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20030027174A (ko) * | 2001-09-14 | 2003-04-07 | 박기암 | 게르마늄이 함유된 멜라민 수지 제품의 제조방법 |
JP2005089651A (ja) * | 2003-09-18 | 2005-04-07 | Jsr Corp | 硬化性組成物、その硬化物及び積層体 |
JP2005097438A (ja) * | 2003-09-25 | 2005-04-14 | Jsr Corp | 硬化性組成物、その硬化物及び積層体 |
WO2006046855A1 (en) * | 2004-10-27 | 2006-05-04 | Jsr Corporation | Curable composition, cured product, and laminate |
WO2006049487A1 (en) * | 2004-09-22 | 2006-05-11 | Jsr Corporation | Curable composition, cured product, and laminate |
JP2006182826A (ja) * | 2004-12-27 | 2006-07-13 | Jsr Corp | 硬化性組成物、その硬化物及び積層体 |
JP2007077351A (ja) * | 2005-09-16 | 2007-03-29 | Jsr Corp | 硬化性組成物、及びその硬化膜 |
JP2007270069A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Aica Kogyo Co Ltd | 樹脂組成物及びハードコート剤並びにインサート成型用ハードコートフィルム |
JP2008056776A (ja) * | 2006-08-30 | 2008-03-13 | Canon Inc | ナノ酸化物粒子及びその製造方法 |
JP2010530455A (ja) * | 2007-06-19 | 2010-09-09 | エボニック レーム ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 反応射出成形により成形体を被覆するための反応性混合物並びに被覆成形体 |
JP2012167262A (ja) * | 2011-01-25 | 2012-09-06 | Sanyo Chem Ind Ltd | 感光性組成物 |
JP2013011701A (ja) * | 2011-06-28 | 2013-01-17 | Kaneka Corp | 感光性樹脂組成物及びその利用 |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3846342B2 (ja) * | 2002-03-22 | 2006-11-15 | Jsr株式会社 | 硬化性組成物、その硬化物及び積層体 |
JP3705282B2 (ja) * | 2002-10-03 | 2005-10-12 | セイコーエプソン株式会社 | 表示パネル及びその表示パネルを備えた電子機器並びに表示パネルの製造方法 |
US7355337B2 (en) * | 2002-12-27 | 2008-04-08 | Seiko Epson Corporation | Display panel, electronic apparatus with the same, and method of manufacturing the same |
JP2004269644A (ja) * | 2003-03-07 | 2004-09-30 | Jsr Corp | 硬化性組成物、その硬化物及び積層体 |
JP4217886B2 (ja) * | 2003-06-25 | 2009-02-04 | Jsr株式会社 | 感放射線性屈折率変化性組成物、パターン形成法および光学材料 |
JP2005133026A (ja) | 2003-10-31 | 2005-05-26 | Lintec Corp | コーティング用組成物、ハードコートフィルムおよび光ディスク |
US20080096033A1 (en) * | 2004-10-28 | 2008-04-24 | Jsr Corporation | Curable Composition, Cured Layer, and Laminate |
US7888441B2 (en) * | 2004-12-13 | 2011-02-15 | Pryog, Llc | Metal-containing compositions |
US8709705B2 (en) | 2004-12-13 | 2014-04-29 | Pryog, Llc | Metal-containing compositions and method of making same |
JP4703180B2 (ja) * | 2004-12-28 | 2011-06-15 | リンテック株式会社 | コーティング用組成物、ハードコートフィルムおよび光記録媒体 |
US7629424B2 (en) * | 2005-12-09 | 2009-12-08 | Pryog, Llc | Metal-containing compositions and method of making same |
US7754801B2 (en) * | 2005-12-30 | 2010-07-13 | Columbia Insurance Company | Translucent coating compositions providing improved UV degradation resistance |
DE102006007888A1 (de) | 2006-02-21 | 2007-08-23 | Degussa Gmbh | Aluminiumoxid enthaltende Dispersion, Zubereitung enthaltend diese Dispersion und ein Melaminharz und mittels dieser Zubereitung hergestelles gehärtetes Produkt |
US8231973B2 (en) * | 2006-06-13 | 2012-07-31 | 3M Innovative Properties Company | Fluoro(meth)acrylate polymer composition suitable for low index layer of antireflective film |
US7615283B2 (en) * | 2006-06-13 | 2009-11-10 | 3M Innovative Properties Company | Fluoro(meth)acrylate polymer composition suitable for low index layer of antireflective film |
JP5247016B2 (ja) * | 2006-08-31 | 2013-07-24 | キヤノン株式会社 | 複合材料及び分散剤の製造方法 |
US8802346B2 (en) * | 2008-08-07 | 2014-08-12 | Pryog, Llc | Metal compositions and methods of making same |
KR102465065B1 (ko) | 2015-09-29 | 2022-11-09 | 프라이요그, 엘엘씨 | 금속 조성물 및 이의 제조 방법 |
CN110218508B (zh) * | 2019-04-23 | 2021-04-27 | 莆田学院 | 一种含锌铝锡的磷酸根插层类层状氢氧化物的环氧丙烯酸酯阻燃材料及其制备方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3899611A (en) | 1972-05-22 | 1975-08-12 | Scm Corp | Curing by actinic radiation |
JPS57128760A (en) * | 1981-02-02 | 1982-08-10 | Shokubai Kasei Kogyo Kk | Liquid thermosetting resin composition |
DE3439482A1 (de) * | 1984-10-27 | 1986-05-07 | Röhm GmbH, 6100 Darmstadt | Verfahren zur beschichtung von substraten mit kratzfesten, nichtreflektierenden ueberzuegen |
US5026816A (en) * | 1989-01-19 | 1991-06-25 | Keehan Donald J | Metallic oxide-oxirane polymers and prepolymers |
US5258225A (en) * | 1990-02-16 | 1993-11-02 | General Electric Company | Acrylic coated thermoplastic substrate |
JP3972347B2 (ja) * | 1997-03-28 | 2007-09-05 | Jsr株式会社 | 液状硬化性樹脂組成物 |
-
2000
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Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20030027174A (ko) * | 2001-09-14 | 2003-04-07 | 박기암 | 게르마늄이 함유된 멜라민 수지 제품의 제조방법 |
JP2005089651A (ja) * | 2003-09-18 | 2005-04-07 | Jsr Corp | 硬化性組成物、その硬化物及び積層体 |
JP2005097438A (ja) * | 2003-09-25 | 2005-04-14 | Jsr Corp | 硬化性組成物、その硬化物及び積層体 |
WO2006049487A1 (en) * | 2004-09-22 | 2006-05-11 | Jsr Corporation | Curable composition, cured product, and laminate |
WO2006046855A1 (en) * | 2004-10-27 | 2006-05-04 | Jsr Corporation | Curable composition, cured product, and laminate |
JP4609068B2 (ja) * | 2004-12-27 | 2011-01-12 | Jsr株式会社 | 硬化性組成物、その硬化物及び積層体 |
JP2006182826A (ja) * | 2004-12-27 | 2006-07-13 | Jsr Corp | 硬化性組成物、その硬化物及び積層体 |
JP2007077351A (ja) * | 2005-09-16 | 2007-03-29 | Jsr Corp | 硬化性組成物、及びその硬化膜 |
JP2007270069A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Aica Kogyo Co Ltd | 樹脂組成物及びハードコート剤並びにインサート成型用ハードコートフィルム |
JP2008056776A (ja) * | 2006-08-30 | 2008-03-13 | Canon Inc | ナノ酸化物粒子及びその製造方法 |
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