JP4278883B2 - ローラの洗浄装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、感光性平版印刷版などの感光材料をローラによって搬送しながら処理液処理する感光材料処理装置に係り、詳細には、液外のローラに付着した処理液を除去するローラの洗浄装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
感光材料には、アルミニウム等の支持体に感光層を設けた感光性平版印刷版(以下「PS版」と言う)があり、このPS版を処理する感光材料処理装置であるPS版プロセッサーでは、PS版を現像液に浸漬して処理する現像工程、水洗水をPS版に吹き付けて水洗処理をする水洗工程、水洗処理の終了したPS版の表面にガム液等の不感脂化処理液を塗布して不感脂化処理を施す不感脂化工程等の、処理液を用いた複数の処理工程が設けられ、画像露光されたPS版に、現像、水洗及び不感脂化処理等を施すようになっている。
【0003】
このようなPS版プロセッサーの不感脂化処理工程では、貯留しているガム液外に配置している搬送ローラ対によってPS版を搬送しながら、PS版の表裏面に均一にガム液を塗布し、余剰となったガム液を搬送ローラ対によって絞り落とすことにより、PS版の表裏面に版面保護用の薄膜を形成する。
【0004】
ところで、搬送ローラ対にPS版の不感脂化処理に用いられるガム液が、搬送ローラ対(ローラ)の周面に固着すると、搬送ローラ対が回転いなくなったり、PS版の搬送不良や汚れ、損傷等を生じさせてしまう。このために、PS版プロセッサーでは、PS版の処理を終了して、PS版プロセッサーの稼動を停止するときなどの予め設定しているタイミングで、ガム液が付着しているローラの周面を水等の洗浄液によって洗浄して、ローラの表面からガム液を洗い流すようにしている。
【0005】
しかしながら、PS版には、搬送方向と直交する方向の寸法が約1100mmと幅の広いものがあり、このようなPS版を処理するPS版プロセッサーでは、PS版の搬送に用いるローラの軸線方向に沿った長さも長くなっている。このような長尺のローラでは、洗浄液を軸線方向に均一に供給することは困難であり、このために、ローラからガム液を確実に洗い落とすために、多量の洗浄液を用いる必要があり、また、このために廃液量も増加してしまう。
【0006】
また、PS版プロセッサーでは、ローラを洗浄した洗浄液をガム液の希釈液として用いるものがあり、このようなPS版プロセッサーでは、ローラからガム液を確実に洗い流すために多量の洗浄液を用いることによって、ガム液が薄められ過ぎてしまうという問題がある。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、ローラの洗浄後の洗浄水の廃液量を増加させることなく、確実なローラの周面の洗浄を可能とするローラの洗浄装置を提案することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本発明は、ローラによって感光材料を搬送しながら処理液によって処理する感光材料処理装置において、前記処理液外に配置される前記ローラの表面を洗浄水によって洗浄するローラの洗浄装置であって、前記ローラの周面に接して前記ローラに追従回転するアイドルローラと、長手方向が前記ローラの軸線方向に沿うと共に前記ローラと前記アイドルローラの接触部の上方に配置され、V字状に形成されて前記接触部に向けて突出された底部に、前記洗浄水を前記接触部へ落下可能とする貫通孔が前記ローラの軸線方向に沿って所定の間隔で形成された樋と、前記感光材料処理装置の停止時に前記樋を介して前記洗浄水を前記接触部へ供給する供給手段と、前記供給手段によって供給された前記洗浄水が前記ローラと前記アイドルローラの前記接触部に残留している状態で前記ローラを回転駆動する駆動手段と、を含む。
【0009】
この発明によれば、洗浄するローラの周面に対向して、このローラと一体に回転するアイドルローラを設け、ローラとアイドルローラの間に洗浄水を供給する。このとき、供給手段は、樋に洗浄水を供給し、この樋の底部に形成され貫通孔から洗浄水が、ローラとアイドルローラの間の接触部に落ちるようしている。これにより、洗浄水は、ローラとアイドルローラの接触部分に溜まり、この接触部分で軸線方向に沿って広がる。
【0010】
この状態でローラを回転することにより、ローラの周方向に洗浄水を付着させることができ、ローラの周面の全域に洗浄水を付着させて洗浄することができる。
【0011】
したがって、軸線方向に沿って長いローラであっても、比較的少量の洗浄水によって効率良く、確実な洗浄が可能となる。
【0012】
このような本発明では、前記貫通孔が、前記樋の長手方向に沿った両側でV字状を成す前記底部を跨って形成され、前記樋の長手方向に沿った中央部側で前記底部を離れるように形成されて、前記供給手段が前記樋の長手方向の中央部に前記洗浄水を供給するものであってもよく、前記洗浄水が、前記樋の長手方向の両端から前記ローラと前記アイドルローラの前記接触部へ落下可能とされたものであっても良い。
また、前記ローラを回転駆動しながら前記洗浄水を所定の時間間隔で供給してローラの周面を洗浄しても良く、前記洗浄水の供給を開始して所定時間経過後に、前記ローラの回転駆動を開始して、前記ローラの周面を洗浄するものであっても良い。さらに、前記供給手段による前記洗浄水の供給と前記駆動手段による前記ローラの回転駆動をそれぞれ所定の時間間隔で繰返して前記ローラの周面を洗浄しても良い。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。図1には、感光材料処置装置の一例として適用した感光性平版印刷版処理装置(以下「PS版プロセッサー10」と言う)の概略構成を示している。このPS版プロセッサー10は、感光材料として図示しない露光装置によって画像露光されたフォトポリマー版などの感光性平版印刷版(以下「PS版12」と言う)の現像処理を行う。なお、PS版12は、アルミニウム板等の薄肉矩形平板を支持体として、この支持体に感光層を形成しており、フォトポリマー版は、光接合層、光重合層及びオーバーコート層が重ねられて感光層が形成され、レーザ光により画像の露光がなされることにより光重合層の画像部の重合反応が促進される。
【0016】
なお、以下で説明するPS版プロセッサー10は、搬送方向と直交する方向である幅寸法が約1100mm程度の大きいサイズのPS版12の処理が可能となっている。
【0017】
PS版プロセッサー10は、PS版12を現像液によって処理するための現像部14と、現像液によって処理されたPS版12に水洗水を供給して水洗する水洗部16と、水洗後のPS版12にガム液を塗布して不感脂化処理する不感脂化処理部18と、PS版12を乾燥させる乾燥部20と、が配設されている。すなわち、PS版プロセッサー10では、PS版12の搬送方向(図1の矢印A)方向に沿って、現像工程、水洗工程、不感脂化処理工程及び乾燥工程が順に配置されている。
【0018】
PS版プロセッサー10内には、処理タンク22が設けられている。この処理タンク22には、現像部14となる位置に現像槽24が形成され、水洗部16及び不感脂化処理部18となる位置に水洗槽26及び不感脂化処理槽28が処理槽として形成されている。
【0019】
処理タンク22を覆う外板パネル30には、スリット状の挿入口32が形成され、処理タンク22には、乾燥部20側に排出口34が形成されている。
【0020】
PS版プロセッサー10には、処理タンク22の上部を覆うカバー36が設けられている。このカバー36は、処理タンク22内に設けられている現像工程、水洗工程及び不感脂化処理工程を一体で覆っている。また、このカバー36には、現像部14と水洗部16との間にPS版12を挿入するためのリエントリー用の挿入口(副挿入口)38が設けられている。その副挿入口38は、現像部14での処理を除くPS版プロセッサー10での処理を行うためのPS版12の挿入用となっている。
【0021】
挿入口32の外部には、挿入台40が設けられ、現像部14のPS版12の挿入側には、ゴム製の搬送ローラ対42が配設されている。画像が焼付けられたPS版12は、挿入台40に載置されて挿入口32から、矢印A方向に沿って挿入されて、搬送ローラ対42の間に送り込まれる。
【0022】
搬送ローラ対42は、図示しない駆動手段の駆動力によって回転して、挿入されたPS版12を引き入れ、水平方向に対して約15°から31°の範囲の角度で現像部14へ送り込む。なお、本実施の形態では、支持体の一方の面に感光層を形成した片面タイプのPS版12を用いており、PS版12は、感光層が上方へ向けられた状態で挿入口32からPS版プロセッサー10内へ挿入される。
【0023】
処理タンク22に形成されている現像槽24は、底部中央が下方へ向けて突出された略山形状となっており、PS版12の現像処理を行うための現像液を貯留する。この現像槽24には、PS版12の搬送方向に沿った下側にガイド板44が、底部に沿って配設されている。
【0024】
ガイド板44は、現像槽24の上流部(挿入口32側)に設けられ、自由回転をする複数のコロ(小型のローラ)46が取り付けられている。搬送ローラ対42によって現像部14内に送り込まれたPS版12は、このコロ46によって案内されながらガイド板44上を搬送される。
【0025】
現像槽24には、水洗部16側に、外周がゴム製の搬送ローラ対48が配置されており、現像槽24内を略U字状に案内搬送されたPS版12は、この搬送ローラ対48によって挟持されて現像槽24から引き出される。PS版12は、このようにして現像槽24内を搬送されるときに現像液に浸漬され、画像露光によって感光した感光層の不要な部分が現像液により膨潤し、支持体から剥離され、不要な感光層が除去される。
【0026】
なお、現像槽24内には、スプレーパイプ50が設けられており、図示しないポンプによって吸引した現像槽24内の現像液を、このスプレーパイプ50によってPS版12の感光層面に吹き付け、PS版12の表面に現像液を供給するとともに、現像槽24内の現像液を循環させている。
【0027】
また、現像槽24内には、ガイド板44と搬送ローラ対48の間に、ブラシローラ80が設けられている。このブラシローラ80は、現像液に浸漬されながら搬送されるPS版12の表面に毛材を接触させながら回転することにより、PS版12の表面をブラッシングして、PS版12の表面から不要な感光層の除去を促進している。
【0028】
現像部14には、下面が現像槽24に貯留される現像液の液面より下方となるように液面蓋52が配置されている。また、現像槽24の壁面及び液面蓋52には、挿入口32側に遮蔽部材54A、54Bが設けられ、水洗部24側に遮蔽部材54C、54Dが取り付けられている。処理タンク22には、排出口34の周囲に搬送ローラ対56の周面に接触する遮蔽部材54E、54Fが取り付けられ、カバー36の副挿入口38には、遮蔽部材54Gが取り付けられている。
【0029】
遮蔽部材54A〜54Gは、シリコンゴム等によって形成されており、現像槽24内は、遮蔽部材54A〜54G、搬送ローラ対42、48等によって形成された密閉部内の空間に、液面に接触する大容量の液面蓋52を設けて、この空間に閉じ込められた空気の量を少なくすると共に、液面蓋52と遮蔽部材54A〜54G等によって現像液の液面近傍に新鮮な空気が入り込んでくるのが防止され、空気中の炭酸ガスによる現像液の劣化と水分の蒸発が抑えられている。なお、液面蓋52には、PS版12の搬送方向上流側及び下流側の端部下面に串ローラ52A、52Bが設けられ、現像部14内を搬送されるPS版12が液面蓋52の下面と接触することによる表面(主に感光面)の損傷が防止されている。
【0030】
搬送ローラ対48によって現像槽24から引き出されたPS版12は、搬送ローラ対48によって表面に付着している現像液が絞り落とされながら水洗部16へ送り込まれる。
【0031】
水洗部16には、水洗槽26の上方に配設された搬送ローラ対58、60によってPS版12を略水平状態で搬送する搬送路が形成されており、PS版12は、搬送ローラ対58、60に挟持されて水洗槽26の上方を水平搬送される。
【0032】
水洗部16には、搬送ローラ対58、60の間に、PS版12の搬送路を挟んで上下に対で、スプレーパイプ62A、62Bが設けられている。スプレーパイプ62A、62Bは軸線方向がPS版12の幅方向(搬送方向と直交する方向)に沿って配置され、PS版12の搬送路に対向し、スプレーパイプ62A、62Bの軸線方向に沿って複数の吐出孔が形成されている。
【0033】
水洗槽26には、処理液として水洗水を貯留している。また、水洗槽26の底部には、配管82の一端が開口している。この配管82には、図示しない給液ポンプを介してスプレーパイプ62A、62Bが接続されている(図示省略)。スプレーパイプ62A、62Bでは、PS版12の搬送に同期して給液ポンプが作動することにより供給される水洗水を、吐出孔からPS版12へ向けて噴出する。PS版12は、この水洗水によって表面に付着している現像液が洗い流される。
【0034】
このように水洗水によって洗い流された現像液は、水洗水と共に水洗槽26内に落下する。なお、水洗水の新液は、PS版12の処理量に応じて図示しない手段によって水洗槽26に供給される。
【0035】
PS版12に供給された水洗水は、PS版12が搬送ローラ対60に挟持されて送り出されることにより、PS版12表裏面に付着していた現像液と共にPS版12の表裏面から絞り落とされ、水洗槽26内に回収される。なお、スプレーパイプ62A、62Bからの水洗水の噴出方向は、スプレーパイプ62AがPS版12の搬送方向上流側で、スプレーパイプ62BがPS版12の搬送方向下流側としているが、これに限定されず他の方向であっても良い。
【0036】
不感脂化処理部18には、不感脂化処理槽28の上方に搬送ローラ対56が設けられ、PS版12は、この搬送ローラ対56によって不感脂化処理部18内を搬送された後に、排出口34から送り出される。
【0037】
不感脂化処理部18には、PS版12の搬送路の上方側にスプレーパイプ64が設けられている。スプレーパイプ64は、軸線方向がPS版12の幅方向に沿って配置され、PS版12の搬送路に対向してスプレーパイプ64の軸線方向に沿って複数の吐出孔が形成されている。また、不感脂化処理部18には、PS版12の搬送路の下方に、PS版12の幅方向に亘って連続するスリットが形成された吐出ユニット66が配設されている。
【0038】
不感脂化処理槽28には、PS版12の版面保護に用いるガム液が貯留されており、このガム液がPS版12の搬送に同期してスプレーパイプ64及び吐出ユニット66に供給される。スプレーパイプ64は、このガム液をPS版12へ向けて滴下してPS版12の表面に広げて塗布する。また、吐出ユニット66は、PS版12の裏面側がスリット部分に接触しながら通過するときに、スリットから吐出するガム液をPS版12の裏面側の全面に塗布する。
【0039】
PS版12は、表裏面に塗布されるガム液によって保護膜が形成される。なお、スプレーパイプ64からのガム液の吐出方向は、PS版12の搬送方向下流側に限らず、他の方向であってもよい。また、PS版12の搬送路の下側に吐出ユニット66を設けてガム液を塗布するようにしているが、これに限らず、スプレーパイプを設けて、このスプレーパイプからガム液を吐出することによりPS版12の裏面にガム液を塗布するようにしてもよい。
【0040】
不感脂化処理部18でガム液が塗布されたPS版12は、搬送ローラ対56に挟持されて、表裏面にガム液が若干残った状態で排出口34から排出され、乾燥部20へ送られる。
【0041】
乾燥部20には、排出口34の近傍にPS版12を支持する支持ローラ68が配設され、乾燥部20内でのPS版12の搬送路の中央部及び排出口70の近傍に、搬送ローラ対72及び搬送ローラ対74が配設され、PS版12は、支持ローラ68及び搬送ローラ対72、74によって乾燥部20内を搬送される。
【0042】
支持ローラ68と搬送ローラ対72との間、及び搬送ローラ対72と搬送ローラ対74との間には、PS版12の搬送路を挟んで対でダクト76A、76Bが配設されている。ダクト76A、76Bは、長手方向がPS版12の幅方向に沿って配設されており、PS版12の搬送路に対向する面にスリット孔78が設けられている。
【0043】
ダクト76A、76Bは、図示しない乾燥風発生手段によって発生された乾燥風が、長手方向の一端側から供給されると、この乾燥風をスリット孔78からPS版12の搬送路へ向けて吐出し、PS版12に吹き付ける。これにより、PS版12は、表裏面に塗布されているガム液が乾燥され、保護膜が形成される。なお、排出口34には、PS版12を処理液によって処理する不感脂化処理部18までのプロセッサ部と乾燥部20とを分離する図示しないシャッタが設けられ、排出口34が不必要に開放されて、乾燥部20内の加熱された空気が不感脂化処理部18へ入り込むのを防止している。
【0044】
このように構成されているPS版プロセッサー10では、図示しない焼付装置等によって画像が記録されたPS版12が挿入台40に載置され、挿入口32へ挿入されと、搬送ローラ対42によってこのPS版12を引き入れ、現像部14へ送り込む。なお、PS版プロセッサー10では、挿入口32を通過するPS版12を図示しないセンサによって検出するとタイマーをスタートさせる。このタイマーは、PS版12を搬送するための駆動手段の動作と共に、水洗部16のスプレーパイプ62A、62Bから水洗水を吐出させるタイミングや、不感脂化処理部18におけるガム液の吐出タイミングの計測に用いる。
【0045】
現像部14では、搬送ローラ対42によってPS版12が水平方向に対して15°〜31°の範囲の挿入角度で送りこまれて現像液に浸漬されながら搬送される。また、このPS版12は、17°〜31°の範囲の排出角度で現像液中から送り出される。PS版12は、現像部14で現像液に浸漬されることにより、画像露光に応じて感光層の不要部分が膨潤し、膨潤した感光層が支持体から除去される。このときに、現像槽24内に配置しているブラシローラ80によってPS版12の表面をブラッシングすることにより、PS版12の表面から不要な感光層の除去を促進するようにしている。
【0046】
なお、PS版プロセッサー10としては、複数のブラシローラ80をPS版12の表面に対向するように配置してブラッシングするものであっても良く、また、ブラシローラ80を用いずにPS版12の処理を行うものであっても良い。
【0047】
このようにして現像液による処理が行われて現像液中から送り出されたPS版12は、搬送ローラ対48によって引き出されて水洗部16へ送られる。このときに、搬送ローラ対48は、PS版12の表裏面に付着してい現像液を、PS版12から絞り落としている。
【0048】
水洗部16では、このPS版12を搬送ローラ対58、60によって挟持して略水平状態で搬送しながら、スプレーパイプ62A、62Bから水洗水を噴出する。また、PS版12の搬送方向の下流側に配置している搬送ローラ対60は、PS版12の表裏面に供給した水洗水を、搬送ローラ対48によって絞り切れずに残った現像液とともに絞り落としながら、このPS版12を不感脂化処理部18へ送り出す。
【0049】
これにより、PS版12は、水洗部16を通過するときに、表裏面に残っている現像液が洗い落とされる。
【0050】
不感脂化処理部18へ送られたPS版12は、スプレーパイプ64と吐出ユニット66の間を通過し、搬送ローラ対56に挟持されることにより、この搬送ローラ対56によって不感脂化処理部18から送り出される。
【0051】
このとき、不感脂化処理部18では、スプレーパイプ64及び吐出ユニット66からPS版12にガム液を供給し、PS版12の表裏面にガム液を塗布する。搬送ローラ対56は、PS版12を挟持して送り出すことにより、PS版12の表裏面にガム液の薄膜を形成すると共に、余剰となったガム液をPS版12の表裏面から絞り落とす。
【0052】
ガム液が塗布されたPS版12は、搬送ローラ対56によって排出口34から乾燥部20へ送り込まれる。なお、排出口34に設けている図示しないシャッタは、PS版12の処理開始のタイミングないしPS版12が不感脂化処理部18から送り出されるタイミングで作動して排出口34を開き、乾燥部20の乾燥風が不必要に不感脂化処理部18へ入り込んで、搬送ローラ対56にガム液が固着してしまうのを防止すると共に、排出口34から空気が入り込み、現像部14にまで及んで空気中の炭酸ガスにより現像液が劣化するのを防止したり、現像液中の水分や水洗水さらにガム液中の水分が蒸発して排出口34から出てしまうのを防止している。
【0053】
乾燥部20では、支持ローラ68及び搬送ローラ対72、74によってPS版12を搬送しながら、ダクト76A、76Bから乾燥風を吹き付ける。これにより、PS版12は、塗布されているガム液によって保護膜が形成されて排出口70から排出される。
【0054】
一方、図2に示すように、PS版プロセッサー10には、不感脂化処理部18で使用する処理液であるガム液の補充液を貯留する補充液タンク100が設けられており、補充液ポンプ102を所定のタイミングで作動することにより補充液タンク100内の補充液が不感脂化処理槽28へ補充される。
【0055】
補充液タンク100から不感脂化処理槽28に供給された補充液は、ガム液として貯留される。また、不感脂化処理部18には、PS版12の搬送に同期して作動する給液ポンプ104が設けられており、この給液ポンプ104の作動によって不感脂化処理槽28内のガム液が、スプレーパイプ64及び吐出ユニット66に供給されて、PS版12の表裏面に塗布される。なお、余剰となったガム液は、搬送ローラ対56によってPS版12の表裏面から絞り落とされて不感脂化処理槽28内に回収される。
【0056】
また、PS版プロセッサー10には、補充水タンク106が設けられており、この補充水タンク106内の水は、現像部14で用いる現像液の補充液を希釈する希釈水や、水洗部16の水洗水として用いられる。
【0057】
また、不感脂化処理部18では、給水ポンプ108が作動することにより、補充水タンク106内の水が不感脂化処理槽28に供給される。なお、PS版プロセッサー10では、補充水タンク106内の水を、ガム液の希釈水として用いるようにしており、不感脂化処理槽28に貯留しているガム液中の水分の蒸発量等に応じて供給することにより、ガム液中の成分を所定の濃度範囲(PS版12の版面保護を行うための適切なガム液の濃度範囲)に保つようにしている。また、PS版プロセッサー10には、現像槽24への現像液の補充及び水洗槽26への水洗水の供給機構が設けられているが、本実施の形態では、現像液の補充液を希釈する希釈水及び水洗水の供給に関する図示及び説明を省略する。
【0058】
ところで、不感脂化処理部18に設けられている搬送ローラ対56には、PS版12から絞りとったガム液が残り、このガム液が固着することにより、回転不良を生じさせたり、固着したガム液が次に処理するPS版12の表面に転写してPS版12の仕上がりを損ねたり、PS版12の表面に傷等を生じさせる。
【0059】
PS版プロセッサー10には、このようなPS版12の仕上がり不良等の発生を防止するために、所定のタイミングで、搬送ローラ対56の周面を洗浄することにより、ガム液を洗い流すなどして、ガム液中の成分が搬送ローラ対56の周面に固着するのを防止している。
【0060】
ここで、PS版プロセッサー10の不感脂化処理部18での搬送ローラ対56の洗浄について説明する。
【0061】
図1及び図2に示すように、不感脂化処理部18に設けている搬送ローラ対56は、上側のローラ56Aと下側のローラ56Bを備えており、不感脂化処理部18には、この搬送ローラ対56の上側のローラ56Aに対向してアイドルローラ120が設けられている。
【0062】
図4に示すように、アイドルローラ120は、軸線方向に沿った長さがローラ56Aの軸線方向に沿った長さと略同じになっており、アイドルローラ120は、軸線がローラ56Aの軸線と平行に配置されている。
【0063】
また、図2及び図3に示すように、アイドルローラ120は、PS版12の搬送方向の上流側でローラ56Aの周面に接し、ローラ56Aが回転駆動(矢印B方向への回転)することにより、このローラ56Aの回転に追従して回転するようになっている。
【0064】
なお、アイドルローラ120のローラ56Aへの接触位置は、ローラ56Aの頂部(上方側の端部)よりも下方側で軸心位置の高さまでの間であれば、PS版12の搬送方向の上流が側に限らず下流側であっても良い。また、アイドルローラ120は、自重によってローラ56Aの周面に接触するものであっても良く、また、所定の付勢力によってローラ56Aの周面に接触しているものであっても良い。
【0065】
一方、図1乃至図4に示すように、不感脂化処理部18には、給水樋110が設けられている。図2乃至図4に詳細に示すように、給水樋110は、例えば所定幅の平板を屈曲することにより水平部112と、水平部112から略V字状に下方へ延設された樋部114とが形成された形状となっている。
【0066】
この給水樋110は、長手方向がアイドルローラ120の軸線と平行となるように配置され、アイドルローラ120とローラ56Aの接触部分の上方に樋部114の下端の底部118が位置するように取り付けられている。
【0067】
この給水樋110の水平部112には、給水ポンプ108に連結しているノズル116が設けられており、このノズル116が樋部114へ向けて開口している。なお、ノズル116の開口位置は、給水樋110の長手方向の中間部となるアイドルローラ120の軸線方向に沿った中間位置となっている。
【0068】
これにより、給水ポンプ108が作動することにより補充水タンク106内の水が、給水樋110の樋部114に供給される。また、この水は、略V字状の樋部114の底部118に沿って、長手方向の両端側へ流れるようになっている。
【0069】
図3及び図4に示すように、樋部114には、略V字状に形成している底部118の近傍の所定位置に複数の貫通孔122が形成されている。この貫通孔122は、例えば、樋部114の長手方向に沿って所定の間隔で設けられている。
【0070】
これにより、ノズル116から供給される水が、貫通孔122からローラ56Aとアイドルローラ120の接触部分に落下する。また、給水樋110では、貫通孔122から落下せずに樋部114の端部に達した水が、この樋部114の端部からローラ56Aとアイドルローラ120の接触部分に落下するようになっている。
【0071】
なお、貫通孔122としては、樋部114の長手方向の中間部側が底部118から離れる位置に形成され、長手方向の両端部側が底部118に跨るように形成されることがより好ましく、これにより、複数の貫通孔122のそれぞれから略均等な量の水を落下させることが可能となる。
【0072】
一方、ローラ56Aとアイドルローラ120の間では、接触部分で閉じられているため、貫通孔122から落下した水は、ローラ56Aとアイドルローラ120の間から落下せずに、ローラ56Aの軸線方向に沿って広がる。
【0073】
すなわち、ローラ56Aとアイドルローラ120の接触部分に落下した水がローラ56Aの軸線方向に沿って流れて広がるため、ローラ56Aの軸線方向に沿って均一に水が供給される。このとき、アイドルローラ120が、ローラ56Aの軸線方向に沿った長さと略同じになっているために、この水は、ローラ56の軸端まで達するようになっている。
【0074】
一方、図2に示すように、PS版プロセッサー10には、制御部124が設けられており、不感脂化処理部18に設けている補充液ポンプ102、給液ポンプ104及び給水ポンプ108のそれぞれが接続しており、補充液ポンプ102、給液ポンプ104及び給水ポンプ108のそれぞれが、この制御部124によって作動が制御される。また、制御部124には、搬送ローラ対56を回転駆動するモータ等の駆動源126が接続しており、制御部124は、PS版プロセッサー10でのPS版12の処理に合わせて駆動源126の駆動を制御するようになっている。
【0075】
一方、この制御部124は、例えばPS版プロセッサー10の稼動停止時などに、給水ポンプ108と共に駆動源126を作動させることにより、搬送ローラ対56の洗浄を行い、PS版12の処理によって搬送ローラ対56のローラ56A、56Bの周面に付着しているガム液を洗い流すようにしている。
【0076】
このように構成されている不感脂化処理部18では、例えばPS版プロセッサー10の1日の処理が終了して装置の稼動を停止させるときに、搬送ローラ対56の周面に付着しているガム液を洗い流すために、制御部124が給水ポンプ108を作動する。これにより、補充水タンク106内の水が、洗浄水として洗浄樋110に供給される。これと共に、制御部124は、駆動源126を作動させて搬送ローラ対56を回転駆動する。なお、搬送ローラ対56の洗浄のタイミング及び洗浄に用いる水の量の算出は、従来公知のタイミング及び方法を用いることができる。
【0077】
不感脂化処理部18では、給液ポンプ108が作動することにより、洗浄樋110の樋部114に水が供給される。この水は、樋部114の底部118に沿って両端側に流れながら、貫通孔122から搬送ローラ対56のローラ56Aとアイドルローラ120の接触部分に落下する。また、樋部114の両端部に達した水は、樋部114の端部からローラ56Aとアイドルローラ120の接触部分でローラ56Aの軸端部近傍に落下する。
【0078】
このようにしてローラ56Aとアイドルローラ120の接触部分に落下した水は、ローラ56Aの周面に接触しているアイドルローラ120によって落下が阻止されているので、この接触部分に沿ってローラ56Aの軸線方向に広がり、ローラ56Aの軸線方向の全域に確実に洗浄用の水が供給される。
【0079】
制御部124では、所定のタイミングで駆動源126を作動させて搬送ローラ対56(ローラ56A、56B)を回転駆動する。アイドルローラ120は、ローラ56Aの回転に追従して回転する。
【0080】
これにより、ローラ56Aとアイドルローラ120の間に供給された水に接触している領域が、この水に濡れた状態でローラ56B側に回転移動し、さらに、ローラ56Bに接触することにより、ローラ56Bの表面を濡らす。
【0081】
また、ローラ56Aでは、新たな領域がアイドルローラ120との接触部分まで回転し、アイドルローラ120との接触部分に残っている水に漬かる。これにより、ローラ56Aの周面の全域は勿論、ローラ56の周面の全域にも水を供給することができる。
【0082】
したがって、搬送ローラ対56のローラ56A、56Bの周面に付着しているガム液は、給水樋110からアイドルローラ120との間に供給された水によって薄められながら、この水と共に、ローラ56Aとローラ56Bが接触して回転することにより、ローラ56A、56Bの周面から絞り落とされて、不感脂化処理槽28内に落下して、ローラ56A、56Bの周面から除去される。すなわち、ローラ56A、56Bの周面に付着していたガム液が、給水樋110からローラ56Aとアイドルローラ120の間に供給される水によって、ローラ56A、56Bの周面から洗い落とされる。
【0083】
このようにして搬送ローラ対56の洗浄を行うときの給水タイミングと搬送ローラ対56の回転タイミングは、種々のタイミングを用いることができる。
【0084】
ここで、図5(A)及び図5(B)参照しながら、その一例を説明する。
【0085】
図5(A)に示すタイミングチャートでは、搬送ローラ対56を回転駆動しながら、給水ポンプ108を間欠的に作動させながら所定量の水(例えば合計200cc)を供給する。すなわち、ローラ56Aとアイドルローラ120を回転させながら、ローラ56Aとアイドルローラ120の間へ所定量ずつ洗浄水を供給する。
【0086】
このとき、給水ポンプ108を停止する時間t1(例えば2sec〜3sec程度)を設けることにより、ローラ56Aとアイドルローラ120の間へ供給した水が溢れてしまい、洗浄効率が低下するのを防止することができる。すなわち、所定の時間t2だけ給水ポンプ108を作動させた後、給水を停止する時間t1を設けることにより、ローラ56Aとアイドルローラ120の間に供給した水の全てを用いて、ローラ56A、56Bの周面の洗浄を行うことができるようにしている。
【0087】
また、給水ポンプ108を停止(給水停止)してから所定の時間t3(例えば30sec)の間、搬送ローラ対56を回転駆動することが好ましい。これにより、ローラ56A、56Bの周面に供給した水と共に、ガム液をローラ56A、56Bから落下させることができ、所謂、水切り効果を上げることができる。
【0088】
一方、図5(B)に示すように、給水ポンプ108を作動させて、ローラ56Aとアイドルローラ120の間への給水を開始してから、所定の時間t4(例えば2sec〜3sec程度)だけ遅らせて、搬送ローラ対56の回転を開始する。
【0089】
これにより、ローラ56Aとアイドルローラ120の間へ供給した水が、ローラ56Aの軸線方向に広がる時間を持たせることができるので、ローラ56A、56Bの軸線方向に沿った全域に、確実に洗浄用の水を供給することができる。
【0090】
その後、搬送ローラ対56を間欠的に回転駆動されるのだが、搬送ローラ対56の回転を途中で停止してから給水ポンプ108を作動させて給水を開始するまでの時間t5は、少なくとも給水開始時に搬送ローラ対56の回転駆動が停止していれば良く、例えばt5=0であっても良い。
【0091】
このように1回当たりの給水量や給水時間、総給水量を考慮して、給水ポンプ108と搬送ローラ対56の駆動タイミングを設定することにより、少ない水の量で効率的な搬送ローラ対56の洗浄が可能となる。なお、時間t1〜t5は、不感脂化処理部18の構成等に合わせて適宜設定するものであれば良い
このようにして、搬送ローラ対56の確実な洗浄を行うことにより、ローラ56A、56Bにガム液中の成分が固着してしまうのを確実に防止することができる。また、ローラ56A、56Bの効率的な洗浄を行うことにより、不感脂化処理槽28に貯留しているガム液が多量の洗浄水により薄められ過ぎてしまうのを防止することができる。
【0092】
また、PS版プロセッサー10では、ガム液が薄くなることによるPS版12の仕上がり不良が生じることがなくなると共に、ローラ56A、56Bに固着したガム液中の成分が、PS版12の表面に付着したり、ローラ56A、56Bの回転を停止させてしまったり、さらには、PS版12の表面を損傷させてしまうことによる仕上がり不良の発生を確実に防止できる。
【0093】
なお、以上説明した本実施の形態は、本発明の構成を限定するものではない。例えば、本実施の形態では、感光材料としてPS版12を用い、このPS版12を処理するPS版プロセッサー10に適用した例を説明したが、本発明は、PS版12に限らず他の感光性平版印刷版の処理に用いる種々の構成の感光性平版印刷版処理装置や、印画紙、写真フィルム等などの他の感光材料の処理に用いる感光材料処理装置においても、液外に配置しているローラを洗浄するための構成に適用することができる。
【0094】
また、本実施の形態では、搬送ローラ対56の洗浄水として水を用いたが、これに限らず、水カビ防止剤等を混入させた水溶液であっても良い。
【0095】
また、本実施の形態では、給水樋110を用いて、ローラ56Aの軸線方向に沿って所定の間隔で水を供給するようにしているが、給水樋110等を用いずにノズル116からローラ56Aとアイドルローラ120の間へ直接給水するようにしても良く、また、給水樋110に限らず、任意の給水方法を適用することができる。
【0096】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、ローラの周面に軸線方向に沿って接触するアイドルローラを設け、ローラとこのアイドルローラの間へ樋を介して洗浄水を供給する。このときに、樋の底部に、ローラの軸方向に沿って所定間隔で貫通孔を形成し、この貫通孔から洗浄水が落下するようにしているので、ローラの軸線方向に沿った全域に確実に洗浄水を供給することができる。また、給水に合わせた所定のタイミングでローラを回転駆動することにより、ローラの軸線に沿った全域に確実に洗浄水を供給して効率的なローラ洗浄を行うことができるという優れた効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施の形態に適用したPS版プロセッサーの概略構成図である。
【図2】ローラの洗浄を行う不感脂化処理部を示す概略構成図である。
【図3】ローラに対向して配置するアイドルローラ及び給水樋の概略構成を示す要部斜視図である。
【図4】PS版の搬送路の上方側から見たローラ、アイドルローラ及び給水樋の配置を示す概略構成図である。
【図5】(A)及び(B)はそれぞれ、給水と搬送ローラ対の駆動のタイミングの好ましい適用例を示すタイミングチャートである。
【符号の説明】
10 PS版プロセッサー(感光材料処理装置)
12 PS版(感光材料)
18 不感脂化処理部
28 不感脂化処理槽
56 搬送ローラ対
56A、56B ローラ
106 補充水タンク
108 給水ポンプ
110 洗浄樋
114 樋部
116 ノズル
120 アイドルローラ
124 制御部
126 駆動源
Claims (4)
- ローラによって感光材料を搬送しながら処理液によって処理する感光材料処理装置において、前記処理液外に配置される前記ローラの表面を洗浄水によって洗浄するローラの洗浄装置であって、
前記ローラの周面に接して前記ローラに追従回転するアイドルローラと、
長手方向が前記ローラの軸線方向に沿うと共に前記ローラと前記アイドルローラの接触部の上方に配置され、V字状に形成されて前記接触部に向けて突出された底部に、前記洗浄水を前記接触部へ落下可能とする貫通孔が前記ローラの軸線方向に沿って所定の間隔で形成された樋と、
前記感光材料処理装置の停止時に前記樋を介して前記洗浄水を前記接触部へ供給する供給手段と、
前記供給手段によって供給された前記洗浄水が前記ローラと前記アイドルローラの前記接触部に残留している状態で前記ローラを回転駆動する駆動手段と、
を含むローラの洗浄装置。 - 前記貫通孔が、前記樋の長手方向に沿った両側でV字状を成す前記底部を跨って形成され、前記樋の長手方向に沿った中央部側で前記底部を離れるように形成されて、前記供給手段が前記樋の長手方向の中央部に前記洗浄水を供給する請求項1に記載のローラの洗浄装置。
- 前記洗浄水が、前記樋の長手方向の両端から前記ローラと前記アイドルローラの前記接触部へ落下可能とされた請求項1又は請求項2に記載のローラの洗浄装置。
- 前記供給手段による前記洗浄水の供給と前記駆動手段による前記ローラの回転駆動をそれぞれ所定の時間間隔で繰返して前記ローラの周面を洗浄する請求項1から請求項3の何れか1項に記載のローラの洗浄装置。
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