JP4213372B2 - 感光材料処理装置 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、処理槽に貯留している処理液に感光材料を浸漬して処理する感光材料処理装置に関する。詳細には、処理槽内から吸引した処理液を、処理槽内に噴出することにより処理液の循環及び攪拌を行う感光材料処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
自動現像装置などの感光材料処理装置では、画像露光した感光材料を搬送しながら、この感光材料を処理液に浸漬したり、感光材料の表面に処理液を吹き付けるなどして、現像処理等の処理液処理を行なう。
【０００３】
アルミニウム等の支持体に感光層を設けた感光材料である感光性平版印刷版（以下「ＰＳ版」と言う）を処理する自動現像装置であるＰＳ版プロセッサーでは、ＰＳ版を現像液に浸漬して処理する現像工程に加えて、現像処理の終了したＰＳ版の表裏面に水洗水を吹き付けて水洗処理する水洗工程、水洗処理したＰＳ版の表裏面にガム液等の不感脂化処理液を塗布して不感脂化処理を行なう不感脂化工程等の処理工程が設けられている。
【０００４】
このようなＰＳ版プロセッサーにおいても、現像槽内にヒータを設け、現像槽内の現像液を、ＰＳ版が最適に処理される温度範囲となるように加熱するようにしたものがある。このとき、ＰＳ版プロセッサーでは、循環ポンプによって現像槽内の現像液を吸引し、吸引した現像液を、現像液中に配置しているスプレーパイプから噴出すことにより、現像液の循環及び攪拌を行って、現像槽内の現像液が均一な温度となるようにしている。
【０００５】
ところで、ＰＳ版の現像処理を効率良く一定品質に仕上がるようにするためには、現像液中を搬送されるＰＳ版の表面に新鮮な現像液を供給し、ＰＳ版の表面近傍から疲労した現像液を除去する液置換を図る必要がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、単に現像槽内に配置したスプレーパイプから現像液を噴出するようにしただけでは、ＰＳ版の表面近傍での確実な液置換が行われ難いという問題がある。また、現像槽内を搬送されるＰＳ版によって、搬送路の上方側と下方側の現像液が分割されるために、現像液の温度を高精度に制御することが困難となっている。
【０００７】
本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、処理液を温調しながら、この処理液に感光材料を浸漬して処理するときに、感光材料の表面近傍での確実な液置換及び均一な温調を可能とする感光材料処理装置を提案することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本発明は、処理槽内に形成されて斜め下方へ向けて案内した後に斜め上方へ向けて案内する搬送路に沿って感光材料を搬送しながら処理槽に貯留した処理液に浸漬して処理する感光材料処理装置であって、前記処理槽内で前記感光材料を斜め下方へ向けて搬送する前記搬送路の上流部側に設けられて、前記処理液が供給されることにより該処理液を前記感光材料の搬送方向と直交する幅方向に沿って噴出する第１の噴出手段と、前記処理槽内で前記感光材料を斜め上方へ向けて搬送する前記搬送路の下流部側に長手方向が搬送幅方向に沿うように設けられて、前記処理液が供給されることにより長手方向に沿って設けられた複数の噴出孔のそれぞれから該処理液を前記感光材料の搬送方向の下流側へ向けて噴出する第２の噴出手段と、前記処理槽の所定位置に設けられた吸込み孔から処理槽内の前記処理液を吸引して前記第１及び第２の噴出手段へ供給することにより処理槽内の処理液を循環する循環手段と、を含む。
【０００９】
この発明によれば、循環手段によって吸込み孔から吸引した処理槽内の処理液を第１及び第２の噴出手段によって処理槽内の処理液中に噴出することにより処理液の循環を行う。
【００１０】
このとき、第１の噴出手段は、処理槽内の上流部で搬送方向と直交する方向である搬送幅方向に沿って処理液を噴出し、搬送路を搬送される感光材料の幅方向に沿って処理液が流れるようにする。これにより、処理液による処理の初期段階で感光材料の表面に多量の処理液を供給して、挿入された感光材料による処理液の温度の変動を少なくして略均一な処理を行うことができる。
【００１１】
また、第２の噴出手段は、処理槽内の下流部で搬送方向の下流側へ向けて処理液を噴出し、感光材料の表面近傍で搬送方向に沿った処理液の流れが生じるようにしている。
【００１２】
これにより、感光材料の仕上がりに影響する処理液による処理の最終段階で、感光材料の搬送方向に沿った処理液の流れを作り、液疲労が進んだ処理液が滞留することがないようにするので、仕上がりムラを生じさせてしまうことがない。
【００１３】
特に感光材料へ処理液を噴出した時には、噴出された処理液が感光材料に直接当たることにより処理ムラを生じさせるが、水平方向から略下方へ向けて処理液を噴出することによりこれを防止することができる。
【００１４】
このような本発明では、前記吸込み孔を、前記第１の噴出手段と前記第２の噴出手段の間の前記処理槽の底部に設けることが好ましい。
【００１５】
処理液を循環する吸込み孔を第１及び第２の噴出手段の間に設けて、吸込み孔の方向へ向けて処理液を噴出しないようにすることにより、第１及び第２の噴出手段から噴出した比較的新鮮な処理液が、そのまま、吸込み孔に吸い込まれて循環手段によって循環されてしまうのを防止することができる。
【００１６】
なお、吸込み孔の位置は、底部が好ましいが、これに限らず、第１及び第２の噴出手段から噴出された処理液が、直接入り込んでしまうことがない位置であれば、処理槽の槽壁等の任意の位置に設けることができる。
【００１７】
また、本発明では、前記第２の噴出手段に形成している前記噴出孔が斜め下方へ向けられていることが好ましい。
【００１８】
さらに、本発明は、前記処理液を所定温度範囲に維持する温調手段と、前記第１の噴出手段から噴出する処理液量を前記第２の噴出手段から噴出する処理液量より多くする流量分配手段と、を含む。
【００１９】
この発明によれば、第１の噴出手段から、搬送路の上流部に多量の処理液を噴出するように流量分配手段を設けている。
【００２０】
これにより、処理が初期段階の感光材料の表面に多量の処理液を供給し、処理液による処理の促進を図ることができる。また、搬送路の上流部の感光材料表面の感光層の温度と処理液の温度との差が大きいが、第１の噴出手段から噴出する処理液の量を多くすることにより、感光材料表面の感光層の温度を早く処理液の温度と同等にすることができ、感光材料を略均一な温度の処理液によって処理することができる。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。図１には、感光材料処置装置の一例として適用した感光性平版印刷版処理装置（以下「ＰＳ版プロセッサー１０」と言う）の概略構成を示している。このＰＳ版プロセッサー１０は、感光材料として図示しない露光装置によって画像露光された感光性平版印刷版（以下「ＰＳ版１２」と言う）の処理液処理を行う。なお、ＰＳ版１２は、アルミニウム板等の薄肉矩形平板を支持体として、この支持体に感光層を形成している。なお、ＰＳ版１２としては、光接合層、光重合層及びオーバーコート層を重ねて感光層を形成し、レーザ光により画像の露光がなされることにより光重合層の画像部の重合反応が促進されるフォトポリマー版等の適用も可能である。
【００２２】
ＰＳ版プロセッサー１０は、ＰＳ版１２を現像液によって処理するための現像部１４と、現像液によって処理されたＰＳ版１２の水洗水を供給して水洗する水洗部１６と、水洗後のＰＳ版１２に版面保護用のガム液を塗布して不感脂化処理する不感脂化処理部１８と、ＰＳ版１２を乾燥させる乾燥部２０と、が配設されている。すなわち、ＰＳ版プロセッサー１０では、ＰＳ版１２の搬送方向（図１の矢印Ａ）方向に沿って、現像工程、水洗工程、不感脂化処理工程及び乾燥工程が順に配置されている。
【００２３】
ＰＳ版プロセッサー１０内には、処理タンク２２が設けられている。この処理タンク２２には、処理槽として現像部１４となる位置に現像槽２４が形成され、水洗部１６及び不感脂化処理部１８となる位置に水洗槽２６及び不感脂化処理槽２８が形成されている。
【００２４】
処理タンク２２を覆う外板パネル３０には、スリット状の挿入口３２が形成され、処理タンク２２には、現像部１４の挿入口３２側に挿入部３４が形成されている。
【００２５】
ＰＳ版プロセッサー１０には、処理タンク２２の上部及び乾燥部２０の上部を覆うカバー３６、３８が設けられている。挿入口３２側のカバー３６は、処理タンク２２の挿入部３４から水洗部１６の上部を覆い、カバー３８は、水洗部１６の上部から乾燥部２０の上部の間を覆うように配置される。
【００２６】
また、カバー３６には、現像部１４と水洗部１６との間にＰＳ版１２を挿入するためのリエントリー用の挿入口（副挿入口）４０が設けられている。その副挿入口４０は、現像部１４での処理を除くＰＳ版プロセッサー１０での処理を行うためのＰＳ版１２の挿入用となっている。
【００２７】
挿入口３６に隣接する挿入部３４には、ゴム製の搬送ローラ対４２が配設されている。画像が焼付けられたＰＳ版１２は、挿入口３２から矢印Ａ方向に沿って挿入されることにより、搬送ローラ対４２の間に送り込まれる。
【００２８】
搬送ローラ対４２は、回転駆動されることにより、このＰＳ版１２を挿入口３２から引き入れながら、水平方向に対して約１５°から３１°の範囲の角度で現像部１４へ送り込む。なお、本実施の形態では、支持体の一方の面に感光層を形成した片面タイプのＰＳ版１２を用いており、ＰＳ版１２は、感光層が上方へ向けられた状態で挿入口３２からＰＳ版プロセッサー１０内へ挿入される。
【００２９】
処理タンク２２に形成されている現像槽２４は、底部中央が下方へ向けて突出された略山形状となっており、ＰＳ版１２の現像処理を行うための現像液を貯留する。この現像槽２４には、ＰＳ版１２の搬送方向に沿った下側にガイド板４４、４６が、底部に沿って配設されている。また、現像槽２４には、上流部（挿入部３４側）、中流部及び下流部（水洗部１６側）に、搬送ローラ対４８、５０、５２及びガイド板４４、４６が配設されている。
【００３０】
搬送ローラ対４２によって挿入口３２から引き入れられたＰＳ版１２は、搬送ローラ対４８の間へ送り込まれ、搬送ローラ対４８は、このＰＳ版１２を現像槽２４内に引き入れて、ガイド板４６上へ送り出す。
【００３１】
ガイド板４４は、搬送ローラ対４８、５０の間に配置され、搬送ローラ対４８によって送り出されるＰＳ版１２を、搬送ローラ対５０へ向けて斜め下方へ案内する。また、ガイド板４６は、搬送ローラ対５０、５２の間に配置されて、搬送ローラ対５０から送り出されるＰＳ版１２を、現像槽２４の底面に沿って斜め上方へ向けて案内する。
【００３２】
これにより、ＰＳ版１２は、現像槽２４内を略Ｕ字状に案内搬送されながら、現像液に浸漬される。
【００３３】
また、搬送ローラ対５２は、例えば外周部がゴム製のローラによって形成されており、ガイド板４６によって案内されるＰＳ版１２を挟持して現像槽２４から引き出しながら、水洗部１６へ送り込む。このとき、搬送ローラ対５２は、現像槽２４から引き出されたＰＳ版１２から現像液を絞り落としながら送り出す。
【００３４】
現像槽２４内には、ガイド板４４、４６の下面側にスプレーパイプ５４、５６が設けられている。また、ガイド板４４、４６のそれぞれには、多数の通液孔（図示省略）が穿設されている。
【００３５】
スプレーパイプ５４、５６は、後述する循環手段によって現像槽２４内に貯留されている現像液が供給されることにより、この現像液を噴出する。これにより、現像槽２４内の現像液が攪拌されて、ＰＳ版１２の均一な処理が可能となるようにしている。このとき、ガイド板４４、４６に形成さている通液孔からＰＳ版１２の搬送路側に現像液が回りこむことにより、ＰＳ版１２の迅速な現像処理と処理ムラの発生を防止するようにしている。
【００３６】
また、現像槽２４内には、ガイド板４６に対向してブラシローラ５８、搬送ローラ６０が設けられている。このブラシローラ５８は、現像液に浸漬されながらガイド板４６上を搬送されるＰＳ版１２の表面に毛材を接触させながら回転することにより、ＰＳ版１２の表面をブラッシングして、ＰＳ版１２の表面からの不要な感光層の除去を促進している。このとき、搬送ローラ６０は、ブラシローラ５８によってブラッシングされるＰＳ版１２が、ガイド板４６から浮き上がるのを防止している。
【００３７】
ＰＳ版１２は、このようにして現像液に浸漬されながら現像槽２４内を搬送されることにより、露光されることにより不要となった感光層が除去される。
【００３８】
水洗部１６には、水洗槽２６の上方に配設された搬送ローラ対６２、６４によってＰＳ版１２を略水平状態で搬送する搬送路が形成されており、ＰＳ版１２は、搬送ローラ対６２、６４に挟持されて水洗槽２６の上方を水平搬送される。
【００３９】
水洗部１６には、搬送ローラ対６２、６４の間に、ＰＳ版１２の搬送路を挟んで上下に対で、スプレーパイプ６６、６８が設けられている。スプレーパイプ６６、６８は軸線方向がＰＳ版１２の幅方向（搬送方向と直交する方向）に沿って配置され、ＰＳ版１２の搬送路に対向する複数の吐出孔（図示省略）が、軸線方向に沿って形成されている。
【００４０】
水洗槽２６には、水洗水が貯留されており、この水洗水を、ＰＳ版１２の搬送に同期させてスプレーパイプ６６、６８に供給する。これにより、水洗水が、スプレーパイプ６６、６８からＰＳ版１２へ向けて噴出されて、ＰＳ版１２は、表面に付着している現像液が洗い流される。
【００４１】
ＰＳ版１２に供給された水洗水は、ＰＳ版１２が搬送ローラ対６４に挟持されて送り出されることにより、ＰＳ版１２表裏面に付着していた現像液と共にＰＳ版１２の表裏面から絞り落とされ、水洗槽２６内に回収される。なお、スプレーパイプ６６、６８からの水洗水の噴出方向は、スプレーパイプ６６がＰＳ版１２の搬送方向上流側で、スプレーパイプ６８がＰＳ版１２の搬送方向下流側としているが、これに限定されず他の方向であっても良い。
【００４２】
不感脂化処理部１８には、不感脂化処理槽２８の上方に搬送ローラ対７０が設けられ、ＰＳ版１２は、搬送ローラ対６４によって搬送ローラ対７０へ向けて搬送されることにより、不感脂化処理部１８内を搬送された後に、搬送ローラ対７０によって挟持されて乾燥部２０へ向けて送られる。
【００４３】
不感脂化処理部１８には、ＰＳ版１２の搬送路の上方側にスプレーパイプ７２が設けられ、搬送路の下方側にスプレーパイプ７４が設けられている。スプレーパイプ７２、７４は、長手方向（軸線方向）がＰＳ版１２の幅方向に沿い、ＰＳ版１２の搬送路を挟んで上下に配置されている。また、スプレーパイプ７２、７４には、ＰＳ版１２の幅方向に沿って複数の吐出孔が形成されている。
【００４４】
不感脂化処理槽２８には、ＰＳ版１２の版面保護に用いるガム液が貯留されており、このガム液がＰＳ版１２の搬送に同期してスプレーパイプ７２、７４に供給される。スプレーパイプ７２は、このガム液をＰＳ版１２へ向けて滴下してＰＳ版１２の表面に広げて塗布する。また、スプレーパイプ７４は、吐出孔からＰＳ版１２の裏面へ向けてガム液を吐出して、ＰＳ版１２の裏面にガム液を塗布する。
【００４５】
ＰＳ版１２は、表裏面に塗布されるガム液によって保護膜が形成される。なお、スプレーパイプ７２からのガム液の吐出方向は、ＰＳ版１２の搬送方向下流側に限らず、他の方向であっても良く、また、整流板を設け、この整流板へ向けて噴出したガム液を、整流板でＰＳ版１２の幅方向に沿って均一に拡散させながら、ＰＳ版１２の表面に流し落として塗布するようにしてもよい。また、スプレーパイプ７４に換えて、吐出したガム液にＰＳ版１２が接触しながら移動することによりＰＳ版１２の裏面にガム液を塗布する吐出ユニット等を用いても良い。
【００４６】
なお、不感脂化処理部１８には、搬送ローラ対７０の上方に洗浄スプレー７６が設けられ、搬送ローラ対７０の上方のローラに接触しながら回転する洗浄ローラ７８が設けられており、予め設定している所定のタイミングで、この洗浄スプレー７６から搬送ローラ対７０の上方のローラと洗浄ローラ７８の接触位置に、整流板８０を介して洗浄水を滴下することにより、洗浄水を搬送ローラ対７０の上方のローラの周面に均一に拡散させて、搬送ローラ対７０の上下のローラの周面からガム液を洗い流し、ローラの周面にガム液が固着してＰＳ版１２を損傷させてしまうのを防止するようにしている。
【００４７】
不感脂化処理部１８でガム液が塗布されたＰＳ版１２は、搬送ローラ対７０に挟持されて、表裏面にガム液が若干残った状態で乾燥部２０へ送られる。
【００４８】
ＰＳ版プロセッサー１０には、不感脂化処理部１８と乾燥部２０の間に、仕切り板８２が設けられている。この仕切り板８２は、ＰＳ版１２の搬送路の上方に、処理タンク２２の上端と対向するように配置されており、これにより、不感脂化処理部１８と乾燥部２０の間にスリット状の挿通口８４が形成されている。なお、仕切り板８２は、二重構造となっており、これにより、挿通口８４の乾燥部２０側に溝状の通気路が形成され、乾燥部２０内の空気がこの通気路内に入り込むことにより、乾燥部２０内の空気が挿通口８４から不感脂化処理部１８内に入り込んでしまうのを防止している。
【００４９】
乾燥部２０内には、挿通口８４の近傍に、ＰＳ版１２を支持する支持ローラ８６が配設され、また、ＰＳ版１２の搬送方向の中央部及び、排出口８８の近傍には、搬送ローラ対９０及び搬送ローラ対９２が配設されている。ＰＳ版１２は、支持ローラ８６及び搬送ローラ対９０、９２によって乾燥部２０内を搬送される。
【００５０】
支持ローラ８６と搬送ローラ対９０との間、及び搬送ローラ対９０と搬送ローラ対９２との間には、ＰＳ版１２の搬送路を挟んで対でダクト９４、９６が配設されている。ダクト９４、９６は、長手方向がＰＳ版１２の幅方向に沿って配設されており、ＰＳ版１２の搬送路に対向する面にスリット孔９８が設けられている。
【００５１】
ダクト９４、９６は、図示しない乾燥風発生手段によって発生された乾燥風が、長手方向の一端側から供給されると、この乾燥風をスリット孔９８からＰＳ版１２の搬送路へ向けて吐出し、ＰＳ版１２に吹き付ける。これにより、ＰＳ版１２は、表裏面に塗布されているガム液が乾燥され、保護膜が形成される。
【００５２】
一方、現像部１４には、下面が現像槽２４に貯留される現像液の液面より下方となるように遮蔽蓋１００が配置され、現像槽２４内の現像液の液面が空気と接触する面積を狭めている。また、カバー３６の副挿入口（リエントリー用の挿入口）４０には、図示しない遮蔽部材によって閉塞されており、この遮蔽部材によって外気が現像部１４内に入り込むのを防止している。さらに、遮蔽蓋１００は、液面から突出する搬送ローラ対４８、５２の上側のローラ等との間が狭められており、これにより、現像槽２４内の現像液が空気中の炭酸ガス等と接触してしまうことによる劣化を防止するようにしている。なお、遮蔽蓋１００及び処理タンク２２と搬送ローラ対４８、５２等の間にシリコンゴム等によって形成したブレード状の遮蔽部材を設けて、現像槽２４内の現像液が新鮮な外気と接触したり、現像液中の水分が蒸発してしまうのを防止してもよい。
【００５３】
図２には、ＰＳ版プロセッサー１０での処理液の配管系統を示している。ＰＳ版プロセッサー１０の処理タンク２２には、現像槽２４の底部に配管１０２の一端が接続されている。この配管１０２の他端は、現像槽２４内に配置しているスプレーパイプ５４、５６に接続し、中間部に、循環ポンプ１０４及びフィルタ１０６が設けられている。これにより、循環ポンプ１０４が作動することにより、現像槽２４内の現像液がスプレーパイプ５４、５６に供給され、スプレーパイプ５４、５６から現像槽２４内に噴出されることにより、現像液の循環および攪拌を行う。このとき、現像液は、フィルタ１０６を通過するときに浮遊物が除去される。
【００５４】
水洗槽２６の底部には、配管１１０の一端が接続している。この配管１１０の他端は、スプレーパイプ６６、６８に接続しており、また、中間部に循環ポンプ１１２及びフィルタ１１４が設けられている。これにより、循環ポンプ１１２の作動によって水洗槽２６内の水洗水が、フィルタ１１４によって浮遊物が除去されながらスプレーパイプ６６、６８に供給される。
【００５５】
また、不感脂化処理槽２８には、底部に配管１１６の一端が接続している。この配管１１６は、他端がスプレーパイプ７２、７４に接続し、中間部に循環ポンプ１１８及びフィルタ１２０が設けられている。これにより、循環ポンプ１１８が作動すると、不感脂化処理槽２８内のガム液がフィルタ１２０によって浮遊物が除去されながらスプレーパイプ７２、７４に供給される。
【００５６】
現像槽２４には、オーバーフロー管１２２が設けられている。このオーバーフロー管１２２には、配管１２４の一端が接続しており、配管１２４の他端が図示しない廃液タンクに接続している。また、水洗槽２６には、オーバーフロー管１２６が設けられ、不感脂化処理槽２８には、オーバーフロー管１２８が設けられている。オーバーフロー管１２６、１２８のそれぞれには、配管１３０、１３２の一端が接続しており、配管１３０、１３２の他端が図示しない廃液タンクに接続している。
【００５７】
これにより、現像槽２４、水洗槽２６及び不感脂化処理槽２８で余剰となった現像液、水洗水及びガム液が、オーバーフロー管１２２、１２６、１２８に流れ込むことにより廃液タンクに排出される。
【００５８】
現像液の循環用の配管１０２は、循環ポンプ１０４の入り側で分岐され、廃液バルブ１３４を介して配管１２４に接続している。また、水洗水の循環用の配管１１０及び、ガム液の循環用の配管１１６は、循環ポンプ１１２、１１８の入り側で分岐され、廃液バルブ１３６、１３８を介して配管１３０、１３２に接続している。
【００５９】
これにより、廃液バルブ１３４、１３６、１３８を開放することにより、現像槽２４内の現像液、水洗槽２６内の水洗水及び不感脂化処理槽２８内のガム液を排出することができるようになっている。
【００６０】
一方、ＰＳ版プロセッサー１０には、現像槽２４へ現像液の補充液として供給する現像補充液を貯留する補充液タンク１４０と、不感脂化処理槽２８へガム液の補充液として供給するガム補充液を貯留する補充液タンク１４２と、水を貯留する補充水タンク１４４が設けられている。補充水タンク１４４に貯留される水は、現像補充液やガム補充液の希釈及び水洗槽２６への水洗水の補充に用いられる。なお、この補充水タンク１４４には、図示しない配管を介して水道水が供給されることにより、貯留している水の量が所定範囲に維持されている。
【００６１】
また、ＰＳ版プロセッサー１０には、現像槽２４の近傍に混合槽１４６が設けられている。この混合槽１４６には、配管１４８、１５０の一端が開口している。配管１４８の他端は、補充液タンク１４０に接続しており、中間部に補充ポンプ１５２が設けられている。また、配管１５０の他端は、補充水タンク１４４に挿入されており、中間部に補充水ポンプ１５４が設けられている。
【００６２】
ＰＳ版プロセッサー１０では、現像槽２４へ補充液を補充するときに、補充ポンプ１５２及び補充水ポンプ１５４を所定のタイミングで作動させ、混合槽１４６内に現像補充液とこの現像補充液を所定の比率で希釈する水（希釈水）を補充液として供給する。
【００６３】
混合槽１４６の底部には、配管１５６の一端が接続している。この配管１５６の他端は、循環ポンプ１０４の入り側に接続している。これにより、混合槽１４６に供給された補充液が、循環ポンプ１０４が作動することにより吸引されて、現像槽２４内の現像液と混合されながらスプレーパイプ５４、５６に供給される。
【００６４】
また、ＰＳ版プロセッサー１０には、水洗槽２６及び不感脂化処理槽２８のそれぞれに隣接して補助槽１５８、１６０が設けられている。水洗槽２６側の補助槽１５８には、配管１６２の一端が開口し、この配管１６２の他端が補充水タンク１４４内に開口している。また、不感脂化処理槽２８側の補助槽１６０には、配管１６４、１６６の一端が開口し、配管１６４の他端が補充液タンク１４２に接続していると共に、配管１６６の他端が補充水タンク１４４内に開口している。
【００６５】
配管１６２、１６６には、中間部に補充水ポンプ１６８、１７０が設けられ、配管１６４には、中間部に補充ポンプ１７２が設けられている。
【００６６】
これにより、補充水ポンプ１６８が作動することにより補助槽１５６に補充水タンク１４４内の水が水洗水の新液として供給され、補充ポンプ１７２及び補充水ポンプ１７０が作動することにより、補助槽１５８に補充タンク１４２内のガム補充液とこのガム補充液を所定比率で希釈する水が、不感脂化処理槽２８へのガム液の補充液として供給される。
【００６７】
補助槽１５６には、底部に配管１７４の一端が接続され、この配管１７４の他端が、循環ポンプ１１２の入り側に接続している。また、補助槽１５８には、底部に配管１７６の一端が接続され、この配管１７６の他端が循環ポンプ１１８の入り側に接続している。
【００６８】
これにより、循環ポンプ１１２が作動することにより、補助槽１５６内の水が水洗槽２６内の水洗水と混合されながらスプレーパイプ６６、６８に供給され、循環ポンプ１１８が作動することにより、補助槽１５８内の補充液が不感脂化処理槽２８内のガム液と混合されながらスプレーパイプ７２、７４に供給される。
【００６９】
ＰＳ版プロセッサー１０では、予め設定された条件に基づいて循環ポンプ１０４、１１２、１１８、補充ポンプ１５２、１７２及び補充水ポンプ１５４、１６８、１７０の作動を制御することにより、現像液、水洗水及びガム液の循環、現像槽２４、水洗槽２６及び不感脂化処理槽２８への補充液の補充を行う。
【００７０】
なお、この制御は、従来公知の方法を適用でき、本実施の形態では詳細な説明を省略する。
【００７１】
また、ＰＳ版プロセッサー１０には、一端が洗浄スプレー７６に接続して、他端が補充水タンク１４４内に開口している配管１７８が設けられ、この配管１７８の中間部に洗浄ポンプ１８０が設けられており、洗浄ポンプ１８０が作動することにより、補充水タンク１４４内の水を洗浄ノズル７６に供給して、不感脂化処理処理槽２８の搬送ローラ対７０の洗浄が行われるようにしている。
【００７２】
このとき、搬送ローラ対７０を洗浄した水を不感脂化処理槽２８に回収するようにして、不感脂化処理槽２８に回収した水を、ガム補充液の希釈に用いるようにしているが、配管１６６及び補充水ポンプ１７０を省略して、洗浄水ポンプ１８０を用いてガム補充液を希釈する水を供給するようにしても良い。
【００７３】
ところで、循環ポンプ１０４によって現像槽２４内から吸い込まれた現像液は、第１の噴出手段として設けられているスプレーパイプ５４と、第２の噴出手段として設けられているスプレーパイプ５６に供給されることにより、スプレーパイプ５４、５６から現像槽２４内の現像液中に噴出される。
【００７４】
図３に詳細に示すように、スプレーパイプ５４は、現像槽２４の上流部で、ガイド板４４の下方に設けられている。また、図４に示すように、このスプレーパイプ５４は、現像槽２４の搬送幅方向の一端側から、搬送幅方向の他端側へ向けて延設され、搬送幅方向に沿った中間部で開口されている。
【００７５】
スプレーパイプ５４は、循環ポンプ１０４によって吸引された現像液を、ＰＳ版１２の搬送幅方向に沿って噴出するようになっている。
【００７６】
これにより、現像槽２４内では、ＰＳ版１２の搬送路の上流部で、ＰＳ版１２の幅方向に沿った現像液の流れが形成される。すなわち、スプレーパイプ５４から噴出された現像液は、現像槽２４に配置しているラック側板２００や現像槽２４の側壁２０２によって折り返されることにより、搬送幅方向に沿って流れる。したがって、現像槽２４内の現像液は、現像槽２４の上流部を搬送されるＰＳ版１２の表面に沿って、幅方向の一端側から他端側に流れて、ＰＳ版１２の表面近傍で液置換を行う。
【００７７】
なお、図３では、遮蔽蓋１００等の図示を省略し、図４では、スプレーパイプ５４、５６の上方側のガイド板４４、４６及び搬送ローラ６０等の図示を省略している。
【００７８】
図３及び図４に示すように、スプレーパイプ５６は、現像槽２４の下流部で、ガイド板４６の下方に配置されている。図４に示すように、スプレーパイプ５６は、長手方向がＰＳ版１２の搬送幅方向に沿って配置されている。また、このスプレーパイプ５６には、多数の噴出孔２０４が形成されている。噴出孔２０４は、スプレーパイプ５６の長手方向に沿って所定間隔で形成されている。また、図３及び図４に示すように、噴出孔２０４は、ＰＳ版１２の搬送方向の下流側で、斜め下方へ向けられている。なお、噴出孔２０４の相互の間隔は、スプレーパイプ５６からＰＳ版１２の搬送幅方向に現像液が略均一に噴出可能となる間隔であればよい。
【００７９】
これにより、循環ポンプ１０４からスプレーパイプ５６に供給される現像液は、スプレーパイプ５６からＰＳ版１２の搬送方向の下流側へ向けて噴出されて、ＰＳ版１２の搬送路の下流部で、ＰＳ版１２の搬送方向に沿った現像液の流れを形成する。すなわち、スプレーパイプ５６から噴出された現像液は、現像槽２４の底部ないし現像槽２４の下流側の槽壁２０６で折り返されることにより、ＰＳ版１２の搬送方向に沿った流れを形成する。
【００８０】
ガイド板４６上を搬送されるＰＳ版１２には、この現像液の流れによって、ＰＳ版１２の搬送幅方向に沿って処理性能が均一となる現像液が供給されて、表面近傍での液置換が行われる。
【００８１】
一方、図３に示すように、現像槽２４の底部には、スプレーパイプ５４、５６の間の最も低い底板２０８に、吸込み孔２１０が形成されており、循環ポンプ１０４が作動することにより、この吸込み孔２１０から現像槽２４内の現像液が吸引されるようになっている。また、現像槽２４には、吸込み孔２１０の近傍に、現像液の加熱に用いるヒータ２１２が温調手段として設けられている。
【００８２】
これにより、吸込み口２１０には、主にヒータ２１２によって加熱された現像液が流れ込むようにしている。
【００８３】
ＰＳ版プロセッサー１０では、ヒータ２１２によって加熱した現像液をスプレーパイプ５４、５６から噴出すことにより、現像槽２４内の現像液が略均一な温度となるようにしている。なお、吸込み孔２１０は、スプレーパイプ５４、５６から噴出される現像液が直接入り込まない位置ならば、スプレーパイプ５４、５６の間の底板２０８に限らず、現像槽２４の槽壁等の他の場所に設けてもよい。
【００８４】
なお、ヒータ２１２を用いた現像液の温調制御は、従来公知の方法を用いることができ、本実施の形態では詳細な説明を省略する。また、ヒータ２１２を現像槽２４内に設けず、現像液を循環させる配管１０２の途中に設けても良く、また、ヒータ２１２に加えて、現像液の冷却ないし温調を図る熱交換器等を配管１０２に設けても良い。
【００８５】
図２に示すように、配管１０２には、スプレーパイプ５４とスプレーパイプ５６の分岐部に分岐管２１４が設けられている。この分岐部２１４には、例えばオリフィス（図示省略）等の流量制限手段が設けられており、スプレーパイプ５４に供給する現像液の量がスプレーパイプ５６に供給する現像液の量より多くなるようにしている。なお、本実施の形態では、一例としてスプレーパイプ５４とスプレーパイプ５６との現像液の吐出量の比が、６：４〜８：２となるようにしている。
【００８６】
このように構成されているＰＳ版プロセッサー１０では、図示しない焼付装置によって露光されることにより画像が記録されたＰＳ版１２が、挿入口３２から挿入されると、搬送ローラ４２を回転駆動させる。これにより、ＰＳ版１２は、搬送ローラ対４２によって挟持されて、ＰＳ版プロセッサー１０内に引き入れられる。
【００８７】
なお、ＰＳ版プロセッサー１０では、挿入口３２の近傍に、挿入口３２を通過するＰＳ版１２を検出するセンサが設けられており、このセンサがＰＳ版１２の挿入を検出することにより、搬送ローラ対４２等の回転駆動を開始するとともに、このセンサによるＰＳ版１２の検出に基づいたタイミングで、水洗部１６のスプレーパイプ６６、６８からの水洗水の吐出及び不感脂化処理部１８のスプレーパイプ７２、７４からのガム液の吐出を行うようにしている。
【００８８】
搬送ローラ対４２は、挿入口３２から引き入れたＰＳ版１２を、水平方向に対して１５°〜３１°の範囲の挿入角度で、現像槽２４へ送り込む。これにより、ＰＳ版１２は、ガイド板４４、４６によって案内されながら搬送ローラ対４８〜５２によって現像槽２４内を搬送されて、現像槽２４内に貯留されている現像液に浸漬され、１７°〜３１°の範囲の排出角度で、現像液中から送り出される。
【００８９】
ＰＳ版１２は、現像槽２４内で現像液に浸漬されることにより、露光画像に応じて不要な感光層が膨潤し、膨潤した感光層が支持体から除去される。このとき、ＰＳ版プロセッサー１０では、現像槽２４内に配置しているブラシローラ５８によってＰＳ版１２の表面（感光層側の面）がブラッシングされることにより、ＰＳ版１２の表面からの不要な感光層の除去を促進するようにしている。
【００９０】
なお、ＰＳ版プロセッサー１０としては、複数のブラシローラを用いてＰＳ版１２の表面をブラッシングするものであってもよく、また、ブラシローラを用いずにＰＳ版１２の処理を行うものであっても良い。
【００９１】
現像処理が行われて、現像槽２４から送り出されるＰＳ版１２は、搬送ローラ対５２によって水洗部１６へ送られる。このとき、搬送ローラ対５２は、ＰＳ版１２の表裏面に付着している現像液を、絞り落とす。
【００９２】
水洗部１６では、このＰＳ版１２を搬送ローラ対６２、６４によって挟持して略水平状態で搬送しながら、スプレーパイプ６６、６８から水洗水を噴出する。また、ＰＳ版１２の搬送方向の下流側に配置している搬送ローラ対６４は、ＰＳ版１２の表裏面に供給した水洗水を、搬送ローラ対５２によって絞り切れずに残った現像液とともに絞り落としながら、このＰＳ版１２を不感脂化処理部１８へ送り出す。
【００９３】
これにより、ＰＳ版１２は、水洗部１６を通過するときに、表裏面に残っている現像液が洗い落とされる。
【００９４】
不感脂化処理部１８へ送られたＰＳ版１２は、スプレーパイプ７２、７４の間を通過し、搬送ローラ対７０に挟持されることにより、この搬送ローラ対７０によって不感脂化処理部１８から送り出される。
【００９５】
このとき、不感脂化処理部１８では、スプレーパイプ７２、７４からガム液を吐出して、ＰＳ版１２の表裏面にガム液を拡散させながら均一に塗布する。搬送ローラ対７０は、ＰＳ版１２を挟持搬送して、余剰となったガム液をＰＳ版１２の表裏面から絞り落とすことにより、ＰＳ版１２の表裏面にガム液の均一な薄膜を形成する。
【００９６】
ガム液が塗布されたＰＳ版１２は、搬送ローラ対７０によって挿通口８４からから乾燥部２０へ送り込まれる。なお、挿通口８４にシャッタを設けているときには、ＰＳ版１２の処理開始のタイミングないしＰＳ版１２が不感脂化処理部１８から送り出されるタイミングで、シャッタを作動させて、挿通口８４を開放し、ＰＳ版１２の非通過時に乾燥部２０の乾燥風が不必要に不感脂化処理部１８へ入り込んで、搬送ローラ対７０にガム液が固着してしまうのを防止すると共に、挿通口８４から空気が入り込み、現像部１４にまで及んで空気中の炭酸ガスにより現像液が劣化するのを防止したり、現像液中の水分や水洗水さらにガム液中の水分が蒸発して挿通口８４から出てしまうのを防止している。
【００９７】
乾燥部２０では、支持ローラ８６及び搬送ローラ対９０、９２によってＰＳ版１２を搬送しながら、ダクト９４、９６からこのＰＳ版１２の表裏面に乾燥風を吹き付ける。これにより、ＰＳ版１２は、表面に塗布されているガム液による保護膜が形成されて排出口８８から排出される。
【００９８】
ところで、ＰＳ版プロセッサー１０では、現像槽２４内の現像液をヒータ２１２によって加熱しながら、循環ポンプ１０４によって循環することにより攪拌して、ＰＳ版１２を最適に仕上げることができる所定の温度範囲に維持するようにしている。
【００９９】
ＰＳ版プロセッサー１０では、循環ポンプ１０４を作動させることにより、現像槽２４の底板２０８に形成している吸込み孔２１０から現像液を吸い込む。この現像液は、配管１０２を介して、スプレーパイプ５４、５６に供給され、スプレーパイプ５４、５６から現像槽２４内に噴出される。
【０１００】
一方、スプレーパイプ５４は、現像槽２４の上流部に設けられて、ＰＳ版１２の搬送幅方向に沿って現像液を噴出し、ガイド板４４の近傍で、ＰＳ版１２の搬送幅方向に沿った現像液の流れを形成するようにしている。
【０１０１】
これにより、挿入部３４から挿入されてガイド板４４上を案内搬送されるＰＳ版１２の表裏面には、搬送幅方向に沿って流れる現像液によって、表面近傍の現像液が排出されながら、新たな現像液が供給される液置換が行われる。
【０１０２】
このとき、ＰＳ版プロセッサー１０では、現像液を循環させる配管１０２に分岐管２１４を設け、スプレーパイプ５４から多量の現像液が噴出されるようにしている。これにより、ガイド板４４上を搬送されるＰＳ版１２の表裏面では、迅速な液置換が行われて、現像液によりＰＳ版１２の現像処理の促進が図られる。
【０１０３】
また、現像槽２４に挿入されるＰＳ版１２の温度は、ＰＳ版１２を最適に処理する時の現像液の温度と異なり、一般に現像液の温度より低い。このために、現像液中に挿入された当初のＰＳ版１２の表面近傍では、現像液の温度がＰＳ版１２の温度の影響を受けて、ＰＳ版１２を最適に処理する温度範囲を外れてしまう。
【０１０４】
このとき、ＰＳ版プロセッサー１０では、現像槽２４の上流部に設けているスプレーパイプ５４から多量の現像液を噴出することにより、ＰＳ版１２の表裏面近傍の現像液の温度がＰＳ版１２の温度の影響を受けて変化するのを防止している。
【０１０５】
すなわち、スプレーパイプ５４から多量の現像液を噴出することにより、ＰＳ版１２の温度の影響を受けて温度が低下したＰＳ版１２の表面近傍の現像液を迅速に排除するように、現像槽２４の上流部の現像液がＰＳ版１２の温度の影響を受けて変化してしまうのを防止しながら、ＰＳ版１２の効率的な現像処理を開始することができるようにしている。
【０１０６】
これにより、現像槽２４内の現像液の液温が適正に保たれるようにしている。すなわち、現像槽２４の上流部に多量の現像液を噴出することにより、現像液の高精度の温調が可能となるようにしている。
【０１０７】
また、ＰＳ版プロセッサー１０では、現像槽２４の下流部に設けているスプレーパイプ５６から、ＰＳ版１２の搬送方向の下流側へ向けて現像液を噴出するようにしている。これにより、下流部に設けたガイド板４６上を搬送されるＰＳ版の表裏面の近傍には、ＰＳ版１２の搬送方向に沿った現像液の流れが形成され、ＰＳ版１２は、この現像液により表面近傍での液置換が行われる。
【０１０８】
一方、現像槽２４の下流部を通過する現像液は、比較的現像処理が進行しており、現像液の処理性能の差が現像処理の仕上がりに影響する。このとき、ＰＳ版プロセッサー１０では、スプレーパイプ５６から噴出された現像液が、ＰＳ版１２の表裏面に直接当たることにより生じる仕上がりムラを防止するために、搬送方向の下流側で、斜め下方へ向けて現像液を噴出するようにしている。
【０１０９】
このように、ＰＳ版プロセッサー１０では、現像槽２４の下流部でＰＳ版１２の搬送方向に沿った現像液の流れを形成することにより、ＰＳ版１２の搬送幅方向に沿ってＰＳ版１２に処理性能が均一な現像液が供給されるようにしている。
【０１１０】
これにより、ＰＳ版プロセッサー１０では、ＰＳ版１２の表面近傍の現像液の処理性能の差が、ＰＳ版１２の搬送幅方向に沿って生じるのを防止し、現像処理による仕上がりにムラが生じないようにしている。
【０１１１】
このように、ＰＳ版プロセッサー１０では、現像槽２４の上流部でスプレーパイプ５４からＰＳ版の搬送幅方向に沿って多量の現像液を噴出することにより、現像液の温調精度の向上を図ると共に、上流部を搬送されるＰＳ版１２の表裏面の近傍で迅速な液置換を行うことにより、現像処理の促進を図るようにしている。
【０１１２】
また、ＰＳ版プロセッサー１０では、現像槽２４の下流部でＰＳ版１２の搬送方向に沿った現像液の流れが生じるようにスプレーパイプ５６から現像液を噴出するようにしているので、ＰＳ版１２の仕上がりにムラが生じることなく現像処理を行うことができる。
【０１１３】
さらに、ＰＳ版プロセッサー１０では、スプレーパイプ５４、５６のそれぞれが、循環ポンプ１０４によって現像槽２４内の現像液を吸い込む吸込み口２１０へ向けて現像液を噴出しないようにしているため、スプレーパイプ５４、５６から噴出された比較的新鮮な現像液が、そのまま、吸込み口２１０へ吸い込まれてしまうのを抑え、この比較的新鮮な現像液によってＰＳ版１２の現像処理が行われるようにしている。
【０１１４】
これにより、現像槽２４内に貯留している現像液を用いてＰＳ版１２を効率的で高品質に仕上げることができるようにしている。
【０１１５】
なお、以上説明した本実施の形態は、本発明の構成を限定するものではない。例えば、本実施の形態では、処理液としてＰＳ版１２の現像処理を行う現像槽２４内の現像液を例に説明したが、これに限らず、ＰＳ版１２を処理液に浸漬しながら搬送して処理する任意の処理槽に適用することができる。
【０１１６】
また、本実施の形態では、感光材料としてＰＳ版１２を用い、このＰＳ版１２を処理液処理するＰＳ版プロセッサー１０を例に説明したが、本発明は、ＰＳ版１２等の印刷版に限らず、印画紙や写真フィルム等の他の感光材料を処理液に浸漬しながら搬送して処理する任意の構成の感光材料処理装置に適用することができる。
【０１１７】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、処理槽の上流部に設けた第１の噴出手段によって処理液を感光材料の搬送幅方向に沿って噴出すると共に、処理槽の下流部に設けた第２の噴出手段によって処理液を感光材料の搬送方向の下流側へ向けて噴出することにより、感光材料を効率的に処理液処理して高品質に仕上げることができるという優れた効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施の形態に適用したＰＳ版プロセサーの概略構成図である。
【図２】ＰＳ版プロセッサーの配管系統を示す概略図である。
【図３】ＰＳ版プロセッサーの現像槽を示す概略構成図である。
【図４】ＰＳ版プロセッサーの現像槽の概略構成を示す処理タンクの要部斜視図である。
【符号の説明】
１０ ＰＳ版プロセッサー（感光材料処理装置）
１２ ＰＳ版（感光材料）
１４ 現像部
２２ 処理タンク
２４ 現像槽（処理槽）
４４、４６ ガイド板
４８、５０、５２ 搬送ローラ対
５４ スプレーパイプ（第１の噴出手段）
５６ スプレーパイプ（第２の噴出手段）
１０２ 配管（循環手段）
１０４ 循環ポンプ（循環手段）
２０４ 噴出し孔
２１０ 吸込み孔
２１２ ヒータ（温調手段）
２１４ 分岐管（流量制御手段）

Claims (4)

1. 処理槽内に形成されて斜め下方へ向けて案内した後に斜め上方へ向けて案内する搬送路に沿って感光材料を搬送しながら処理槽に貯留した処理液に浸漬して処理する感光材料処理装置であって、
   前記処理槽内で前記感光材料を斜め下方へ向けて搬送する前記搬送路の上流部側に設けられて、前記処理液が供給されることにより該処理液を前記感光材料の搬送方向と直交する幅方向に沿って噴出する第１の噴出手段と、
   前記処理槽内で前記感光材料を斜め上方へ向けて搬送する前記搬送路の下流部側に長手方向が搬送幅方向に沿うように設けられて、前記処理液が供給されることにより長手方向に沿って設けられた複数の噴出孔のそれぞれから該処理液を前記感光材料の搬送方向の下流側へ向けて噴出する第２の噴出手段と、
   前記処理槽の所定位置に設けられた吸込み孔から処理槽内の前記処理液を吸引して前記第１及び第２の噴出手段へ供給することにより処理槽内の処理液を循環する循環手段と、
   を含む感光材料処理装置。
2. 前記吸込み孔を、前記第１の噴出手段と前記第２の噴出手段の間の前記処理槽の底部に設けた請求項１に記載の感光材料処理装置。
3. 前記第２の噴出手段に形成している前記噴出孔が斜め下方へ向けられている請求項１又は請求項２に記載の感光材料処理装置。
4. 前記処理液を所定温度範囲に維持する温調手段と、前記第１の噴出手段から噴出する処理液量を前記第２の噴出手段から噴出する処理液量より多くする流量分配手段と、を含む請求項１から請求項３の何れか１項に記載の感光材料処理装置。

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