JP2003107729A - 感光材料処理装置の処理タンク構造 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 処理槽の底部に形成している処理液の流出用
の底孔に、小部品が落ちるのを防止する。 【解決手段】 処理タンク２２の現像槽２４の底板１１
０には、底孔１１２が形成されており、例えば、現像槽
から現像液を排出するときに、この底孔に現像液が流れ
込むようになっている。底板には、この底孔の周囲に、
底孔を囲むように複数の立壁部１３２を形成したガイド
部１３０を設け、現像槽から排出される現像液は、立壁
部の間の開口部１３４を通過するが、ネジ、ナット、Ｅ
リング等の小部品は、開口部を通過せずに、立壁部に当
たって停止するようにして、底孔に入り込むのを確実に
防止している。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、処理液を貯留する
処理槽を形成している感光材料処理装置の処理タンク構
造に関する。

【０００２】

【従来の技術】自動現像装置などの感光材料処理装置で
は、画像露光した感光材料を搬送しながら、この感光材
料を処理液に浸漬したり、感光材料の表面に処理液を吹
き付けるなどして、現像処理等の処理液処理を行なう。

【０００３】アルミニウム等の支持体に感光層を設けた
感光材料である感光性平版印刷版（以下「ＰＳ版」と言
う）を処理する自動現像装置であるＰＳ版プロセッサー
では、ＰＳ版を現像液に浸漬して処理する現像工程に加
えて、現像処理の終了したＰＳ版の表裏面に水洗水を吹
き付けて水洗処理する水洗工程、水洗処理したＰＳ版の
表裏面にガム液等の不感脂化処理液を塗布して不感脂化
処理を行なう不感脂化工程等の処理工程が設けられてい
る。

【０００４】ところで、ＰＳ版プロセッサーでは、現像
液、水洗水、不感脂化処理液（ガム液）等の処理液によ
ってＰＳ版を処理する工程には、それぞれの処理液を貯
留する処理槽が設けられている。これらの処理槽は、一
般に樹脂等の成形によって形成した処理タンクに一体に
設けられている。

【０００５】また、ＰＳ版プロセッサーでは、それぞれ
の処理槽の液中や液外でＰＳ版を搬送するためのローラ
やガイド等が、ビス、ナット、Ｅリング等の各種の小部
品を用いて取り付けられている。

【０００６】一方、ＰＳ版プロセッサーでは、各処理槽
内の処理液を循環ポンプ等によって吸引した後に、スプ
レーパイプを用いて再び処理槽へ噴出したり、ＰＳ版に
供給した後に処理槽に回収するなどして、処理液の循環
を行い、ＰＳ版が一定の仕上がり品質となるように処理
できるようにしている。

【０００７】また、ＰＳ版プロセッサーにおいて、例え
ば一定量のＰＳ版の処理を行ったり、一定期間が経過す
ると、処理槽内の処理液を全て排出して、清掃等のメン
テナンスを行ったり、処理液の入れ替えを行うようにし
ている。

【０００８】このために、処理タンクには、各処理槽の
底部に、処理槽内の処理液を排出ないし吸引するための
底孔が形成され、さらに、各処理槽の底部がこの底孔へ
向けて傾斜されている。

【０００９】これにより、例えば、底孔に接続している
配管に設けたバルブを開くことにより、処理槽内の処理
液を全て排出して、処理槽を空にすることができるよう
になっている。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、処理槽
の底に孔を形成していると、メンテナンス等を行うとき
に、ビス、ナット、Ｅリング等の小部品を誤って処理槽
内に落としてしまうと、この小部品が、処理槽の底を転
がるなどしてこの孔に入り込んでしまう。これにより、
この開口に処理液の排出用や循環用の配管が接続してい
ると、開口から入り込んだこれらの小部品が、配管を詰
まらせてしまうなどの問題が生じる。

【００１１】本発明は上記事実に鑑みてなされたもので
あり、処理槽の底部に形成している孔に、ビス、ナッ
ト、Ｅリングなどの小部品が入り込んでしまうのを防止
した感光材料処理装置の処理タンク構造を提案すること
を目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、感光材料を処理液によって処理する感光材
料処理装置の処理タンク構造であって、前記処理槽の底
部を形成すると共に処理液の流出を可能とするように開
口された底孔へ向けて傾斜された底板部と、前記底板部
から前記底孔の開口の周囲を囲うように所定高さに突出
されると共に突出した周囲から処理液が前記底板部の上
面に沿って前記底孔の開口に到達可能とする開口部が形
成された保護壁と、を含むことを特徴とする。

【００１３】この発明によれば、底板部によって処理槽
の底部を形成している。この底板部は、底孔の開口へ向
けて傾斜されており、これにより、処理槽内の処理液を
排出したり、循環等のための処理液の吸引が可能となっ
ている。

【００１４】また、この底板部には、底孔の周囲に底孔
の開口を囲うように所定の高さの保護壁が突設されてい
る。この保護壁には、開口部が形成されており、これに
より、処理槽内の処理液が確実に底孔へ向けて流れるよ
うにしている。また、処理槽内に小部品を落とした時に
は、小部品が底孔へ向けて転がるのを保護壁が阻止する
ので、ネジ、ナット、Ｅリング等の小部品が底孔に入り
込むのを確実に防止することができる。

【００１５】このような本発明の保護壁は、底板部の上
面からの突出高さを、底板部上を転がり落ちる小部品が
乗り越えることがない高さとし、かつ、処理槽内に配置
する感光材料搬送用のローラやガイド等の処理槽内に配
置する部材と干渉することがないようにしたものであれ
ば任意で良い。

【００１６】また、本発明では、前記保護壁に、上端部
から前記底板部に達するように所定間隔で形成された所
定幅の切込み部によって前記開口部が形成したものであ
っても良い。

【００１７】この発明によれば、保護壁に、所定間隔で
切込み部を形成している。このとき、切込み部の切込み
幅を、小部品が通過しない幅とすることにより、小部品
が底孔に入り込むのを確実に防止することができる。ま
た、底孔の周囲に沿って複数の切込み部を形成すること
により、処理液が底孔に流れるのを阻害してしまうこと
がないようにできる。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。図１には、感光材料処置装置の一
例として適用した感光性平版印刷版処理装置（以下「Ｐ
Ｓ版プロセッサー１０」と言う）の概略構成を示してい
る。このＰＳ版プロセッサー１０は、感光材料として図
示しない露光装置によって画像露光された感光性平版印
刷版（以下「ＰＳ版１２」と言う）の処理液処理を行
う。なお、ＰＳ版１２は、アルミニウム板等の薄肉矩形
平板を支持体として、この支持体に感光層を形成してい
る。なお、ＰＳ版１２としては、光接合層、光重合層及
びオーバーコート層を重ねて感光層を形成し、レーザ光
により画像の露光がなされることにより光重合層の画像
部の重合反応が促進されるフォトポリマー版等の適用も
可能である。

【００１９】ＰＳ版プロセッサー１０は、ＰＳ版１２を
現像液に浸漬して処理するための現像部１４と、現像液
によって処理されたＰＳ版１２に水洗水をスプレーパイ
プで供給して水洗する水洗部１６と、水洗後のＰＳ版１
２に版面保護用のガム液をスプレーパイプで供給するこ
とにより塗布して不感脂化処理する不感脂化処理部１８
と、ＰＳ版１２を乾燥させる乾燥部２０と、が配設され
ている。すなわち、ＰＳ版プロセッサー１０では、ＰＳ
版１２の搬送方向（図１の矢印Ａ方向）方向に沿って、
現像工程、水洗工程、不感脂化処理工程及び乾燥工程が
順に配置されている。

【００２０】ＰＳ版プロセッサー１０内には、処理タン
ク２２が設けられている。図１及び図２に示すように、
この処理タンク２２には、処理槽として現像部１４とな
る位置に現像槽２４が形成され、図１及び図２に示すよ
うに、水洗部１６及び不感脂化処理部１８となる位置に
水洗槽２６及び不感脂化処理槽２８が形成されている。
また、図１及び図２に示すように、処理タンク２２に
は、現像槽２４の上流側に挿入部３４となるスペースが
設けられ、図１及び図３に示すように、不感脂化処理槽
２８の下流側に乾燥部２０のスペースが設けられてい
る。

【００２１】図１に示すように、処理タンク２２を覆う
外板パネル３０には、スリット状の挿入口３２が形成さ
れ、挿入口３２と現像部１４の間に挿入部３４が設けら
れている。

【００２２】ＰＳ版プロセッサー１０には、処理タンク
２２の上部及び乾燥部２０の上部を覆うカバー３６、３
８が設けられている。挿入口３２側のカバー３６は、処
理タンク２２の挿入部３４から水洗部１６の上部を覆
い、カバー３８は、水洗部１６の上部から乾燥部２０の
上部の間を覆うように配置される。

【００２３】また、カバー３６には、現像部１４と水洗
部１６との間に、現像部１４での処理を除くＰＳ版プロ
セッサー１０での処理を行うためのＰＳ版１２の挿入用
としてリエントリー用の挿入口（副挿入口）４０が設け
られている。

【００２４】挿入口３２に隣接する挿入部３４には、ゴ
ム製の搬送ローラ対４２が配設されている。画像が焼付
けられたＰＳ版１２は、挿入口３２から矢印Ａ方向に沿
って挿入されることにより、搬送ローラ対４２の間に送
り込まれる。

【００２５】搬送ローラ対４２は、このＰＳ版１２を挿
入口３２から引き入れながら、水平方向に対して約１５
°から３１°の範囲の角度で現像部１４へ送り込む。な
お、本実施の形態では、支持体の一方の面に感光層を形
成した片面タイプのＰＳ版１２を用いており、ＰＳ版１
２は、感光層が上方へ向けられた状態で挿入口３２から
ＰＳ版プロセッサー１０内へ挿入される。

【００２６】処理タンク２２に形成されている現像槽２
４は、底部中央が下方へ向けて突出された略山形状とな
っており、ＰＳ版１２の現像処理を行うための現像液を
貯留する。この現像槽２４には、ＰＳ版１２の搬送方向
に沿った下側にガイド板４４、４６が、底部に沿って配
設されている。また、現像槽２４には、上流部（挿入部
３４側）、中流部及び下流部（水洗部１６側）に、搬送
ローラ対４８、５０、５２が配設されている。

【００２７】搬送ローラ対４２によって挿入口３２から
引き入れられたＰＳ版１２は、搬送ローラ対４８の間へ
送り込まれ、搬送ローラ対４８は、このＰＳ版１２を現
像槽２４内に引き入れて、ガイド板４４に沿って送り出
す。ガイド板４４は、搬送ローラ対４８によって現像槽
２４内に引き入れられるＰＳ版１２を、斜め下方へ向け
て案内する。

【００２８】搬送ローラ対５０は、ガイド板４４に案内
されてくるＰＳ版１２を挟持して、ガイド板４６に沿っ
て送り出す。また、ガイド板４６は、搬送ローラ対５０
から送り出されるＰＳ版１２を現像槽２４の底面に沿っ
て斜め上方へ向けて案内する。

【００２９】また、搬送ローラ対５２は、例えば外周部
がゴム製のローラによって形成されており、ガイド板４
６によって案内されるＰＳ版１２を挟持して現像槽２４
から引き出しながら、水洗部１６へ送り込む。

【００３０】これにより、ＰＳ版１２は、現像槽２４内
を略Ｕ字状に案内搬送されながら、現像液に浸漬され、
露光されることにより不要となる感光層が除去される。

【００３１】現像槽２４内には、ガイド板４４、４６の
下面側にスプレーパイプ５４、５６が設けられている。
また、ガイド板４４、４６のそれぞれには、多数の通液
孔（図示省略）が穿設されている。

【００３２】スプレーパイプ５４、５６には、図示しな
いポンプによって吸引した現像槽２４内の現像液が供給
されるようになっており、スプレーパイプ５４、５６か
らこの現像液を噴出する。これにより、現像槽２４内の
現像液が攪拌されて、ＰＳ版１２の均一な処理が可能と
なるようにしている。このとき、ガイド板４４、４６に
形成さている通液孔からＰＳ版１２の搬送路側に現像液
を回り込ませることにより、ＰＳ版１２の迅速な現像処
理と処理ムラの発生を防止するようにしている。

【００３３】また、現像槽２４内には、ガイド板４６に
対向してブラシローラ５８、搬送ローラ６０が設けられ
ている。このブラシローラ５８は、現像液に浸漬されな
がらガイド板４６上を搬送されるＰＳ版１２の表面に毛
材を接触させながら回転することにより、ＰＳ版１２の
表面をブラッシングして、ＰＳ版１２の表面からの不要
な感光層の除去を促進している。このとき、搬送ローラ
６０は、ブラシローラ５８によってブラッシングされる
ＰＳ版１２が、ガイド板４６から浮き上がるのを防止し
ている。

【００３４】このようにして現像処理されるＰＳ版１２
は、搬送ローラ対５２によって水洗部１６へ送り出され
るときに、表面に付着している現像液が絞り落とされ
る。

【００３５】水洗部１６には、水洗槽２６の上方に配設
された搬送ローラ対６２、６４によってＰＳ版１２を略
水平状態で搬送する搬送路が形成されており、ＰＳ版１
２は、搬送ローラ対６２、６４に挟持されて水洗槽２６
の上方を水平搬送される。

【００３６】水洗部１６には、搬送ローラ対６２、６４
の間に、ＰＳ版１２の搬送路を挟んで上下に対で、スプ
レーパイプ６６、６８が設けられている。スプレーパイ
プ６６、６８は軸線方向がＰＳ版１２の幅方向（搬送方
向と直交する方向）に沿って配置され、ＰＳ版１２の搬
送路に対向する複数の吐出孔（図示省略）が、軸線方向
に沿って形成されている。

【００３７】水洗槽２６には、水洗水が貯留されてお
り、ＰＳ版プロセッサー１０では、図示しない給水ポン
プによって、ＰＳ版１２の搬送に同期させて、スプレー
パイプ６６、６８に水洗水を供給する。これにより、水
洗水が、スプレーパイプ６６、６８からＰＳ版１２へ向
けて噴出されて、ＰＳ版１２の表面に付着している現像
液を洗い流す。

【００３８】ＰＳ版１２に供給された水洗水は、ＰＳ版
１２が搬送ローラ対６４に挟持されて送り出されること
により、ＰＳ版１２表裏面に付着していた現像液と共に
ＰＳ版１２の表裏面から絞り落とされ、水洗槽２６内に
回収される。なお、スプレーパイプ６６、６８からの水
洗水の噴出方向は、スプレーパイプ６６がＰＳ版１２の
搬送方向上流側で、スプレーパイプ６８がＰＳ版１２の
搬送方向下流側としているが、これに限定されず他の方
向であっても良い。

【００３９】不感脂化処理部１８には、不感脂化処理槽
２８の上方に搬送ローラ対７０が設けられ、ＰＳ版１２
は、搬送ローラ対６４によって搬送ローラ対７０へ向け
て搬送されることにより、不感脂化処理部１８内を搬送
された後に、搬送ローラ対７０によって挟持されて乾燥
部２０へ向けて送られる。

【００４０】不感脂化処理部１８には、ＰＳ版１２の搬
送路の上方側にスプレーパイプ７２が設けられ、搬送路
の下方側にスプレーパイプ７４が設けられている。スプ
レーパイプ７２、７４は、長手方向（軸線方向）がＰＳ
版１２の幅方向に沿い、ＰＳ版１２の搬送路を挟んで上
下に配置されている。また、スプレーパイプ７２、７４
には、ＰＳ版１２の幅方向に沿って複数の吐出孔が形成
されている。

【００４１】不感脂化処理槽２８には、ＰＳ版１２の版
面保護に用いるガム液が貯留されており、このガム液が
ＰＳ版１２の搬送に同期してスプレーパイプ７２、７４
に供給される。スプレーパイプ７２は、このガム液をＰ
Ｓ版１２へ向けて滴下してＰＳ版１２の表面に広げて塗
布する。また、スプレーパイプ７４は、吐出孔からＰＳ
版１２の裏面へ向けてガム液を吐出して、ＰＳ版１２の
裏面にガム液を塗布する。

【００４２】ＰＳ版１２は、表裏面に塗布されるガム液
によって保護膜が形成される。なお、スプレーパイプ７
２からのガム液の吐出方向は、ＰＳ版１２の搬送方向下
流側に限らず、他の方向であっても良く、また、整流板
を設け、この整流板へ向けて噴出したガム液を、整流板
でＰＳ版１２の幅方向に沿って均一に拡散させながら、
ＰＳ版１２の表面に流し落として塗布するようにしても
よい。また、スプレーパイプ７４に換えて、吐出したガ
ム液にＰＳ版１２が接触しながら移動することによりＰ
Ｓ版１２の裏面にガム液を塗布する吐出ユニット等を用
いても良い。

【００４３】なお、不感脂化処理部１８には、搬送ロー
ラ対７０の上方に洗浄スプレー７６が設けられ、搬送ロ
ーラ対７０の上方のローラに接触しながら回転する洗浄
ローラ７８が設けられており、予め設定している所定の
タイミングで、この洗浄スプレー７６から搬送ローラ対
７０の上方のローラと洗浄ローラ７８の接触位置に、整
流板８０を介して洗浄水を滴下することにより、洗浄水
を搬送ローラ対７０の上方のローラの周面に均一に拡散
させて、搬送ローラ対７０の上下のローラの周面からガ
ム液を洗い流し、ローラの周面にガム液が固着してＰＳ
版１２を損傷させてしまうのを防止するようにしてい
る。

【００４４】不感脂化処理部１８でガム液が塗布された
ＰＳ版１２は、搬送ローラ対７０に挟持されて、表裏面
にガム液が若干残った状態で乾燥部２０へ送られる。こ
のとき、余剰となるガム液が搬送ローラ対７０によって
ＰＳ版１２の表裏面から絞り落とされて不感脂化処理槽
２８内に回収される。

【００４５】ＰＳ版プロセッサー１０には、不感脂化処
理部１８と乾燥部２０の間に、仕切り板８２が設けられ
ている。この仕切り板８２は、ＰＳ版１２の搬送路の上
方に、処理タンク２２の上端と対向するように配置され
ており、これにより、不感脂化処理部１８と乾燥部２０
の間にスリット状の挿通口８４が形成されている。な
お、仕切り板８２は、二重構造となっており、これによ
り、挿通口８４の乾燥部２０側に溝状の通気路が形成さ
れ、乾燥部２０内の空気がこの通気路内に入り込むこと
により、乾燥部２０内の空気が挿通口８４から不感脂化
処理部１８内に入り込んでしまうのを防止している。

【００４６】乾燥部２０内には、挿通口８４の近傍に、
ＰＳ版１２を支持する支持ローラ８６が配設され、ま
た、ＰＳ版１２の搬送方向の中央部及び、排出口８８の
近傍には、搬送ローラ対９０及び搬送ローラ対９２が配
設されている。ＰＳ版１２は、支持ローラ８６及び搬送
ローラ対９０、９２によって乾燥部２０内を搬送され
る。

【００４７】支持ローラ８６と搬送ローラ対９０との
間、及び搬送ローラ対９０と搬送ローラ対９２との間に
は、ＰＳ版１２の搬送路を挟んで対でダクト９４、９６
が配設されている。ダクト９４、９６は、長手方向がＰ
Ｓ版１２の幅方向に沿って配設されており、ＰＳ版１２
の搬送路に対向する面にスリット孔９８が設けられてい
る。

【００４８】ダクト９４、９６は、図示しない乾燥風発
生手段によって発生された乾燥風が、長手方向の一端側
から供給されると、この乾燥風をスリット孔９８からＰ
Ｓ版１２の搬送路へ向けて吐出し、ＰＳ版１２に吹き付
ける。これにより、ＰＳ版１２は、表裏面に塗布されて
いるガム液が乾燥され、保護膜が形成される。

【００４９】一方、現像部１４には、下面が現像槽２４
に貯留される現像液の液面より下方となるように遮蔽蓋
１００が配置され、現像槽２４内の現像液の液面が空気
と接触する面積を狭めている。また、カバー３６の副挿
入口（リエントリー用の挿入口）４０には、図示しない
遮蔽部材によって閉塞されており、この遮蔽部材によっ
て外気が現像部１４内に入り込むのを防止している。さ
らに、遮蔽蓋１００は、液面から突出する搬送ローラ対
４８、５２の上側のローラ等との間が狭められており、
これにより、現像槽２４内の現像液が空気中の炭酸ガス
等と接触してしまうことによる劣化を防止するようにし
ている。なお、遮蔽蓋１００及び処理タンク２２と搬送
ローラ対４８、５２等の間にシリコンゴム等によって形
成したブレード状の遮蔽部材を設けて、現像槽２４内の
現像液が新鮮な外気と接触したり、現像液中の水分が蒸
発してしまうのを防止してもよい。

【００５０】このように構成されているＰＳ版プロセッ
サー１０では、図示しない焼付装置によって露光される
ことにより画像が記録されたＰＳ版１２が、挿入口３２
から挿入されると、搬送ローラ４２を回転駆動させる。
これにより、ＰＳ版１２は、搬送ローラ対４２によって
挟持されて、ＰＳ版プロセッサー１０内に引き入れられ
る。

【００５１】なお、ＰＳ版プロセッサー１０では、挿入
口３２の近傍に、挿入口３２を通過するＰＳ版１２を検
出するセンサが設けられており、このセンサがＰＳ版１
２の挿入を検出することにより、搬送ローラ対４２等の
回転駆動を開始するとともに、このセンサによるＰＳ版
１２の検出に基づいたタイミングで、水洗部１６のスプ
レーパイプ６６、６８からの水洗水の吐出及び不感脂化
処理部１８のスプレーパイプ７２、７４からのガム液の
吐出を行うようにしている。

【００５２】搬送ローラ対４２は、挿入口３２から引き
入れたＰＳ版１２を、水平方向に対して１５°〜３１°
の範囲の挿入角度で、現像槽２４へ送り込む。これによ
り、ＰＳ版１２は、ガイド板４４、４６によって案内さ
れながら搬送ローラ対４８〜５２によって現像槽２４内
を搬送されて、現像槽２４内に貯留されている現像液に
浸漬され、１７°〜３１°の範囲の排出角度で、現像液
中から送り出される。

【００５３】ＰＳ版１２は、現像槽２４内で現像液に浸
漬されることにより、露光画像に応じて不要な感光層が
膨潤し、膨潤した感光層が支持体から除去される。この
とき、ＰＳ版プロセッサー１０では、現像槽２４内に配
置しているブラシローラ５８によってＰＳ版１２の表面
（感光層側の面）がブラッシングされることにより、Ｐ
Ｓ版１２の表面からの不要な感光層の除去を促進するよ
うにしている。

【００５４】なお、ＰＳ版プロセッサー１０としては、
複数のブラシローラを用いてＰＳ版１２の表面をブラッ
シングするものであってもよく、また、ブラシローラを
用いずにＰＳ版１２の処理を行うものであっても良い。

【００５５】現像処理が行われて、現像槽２４から送り
出されるＰＳ版１２は、搬送ローラ対５２によって水洗
部１６へ送られる。このとき、搬送ローラ対５２は、Ｐ
Ｓ版１２の表裏面に付着している現像液を絞り落とす。

【００５６】水洗部１６では、このＰＳ版１２を搬送ロ
ーラ対６２、６４によって挟持して略水平状態で搬送し
ながら、スプレーパイプ６６、６８から水洗水を噴出す
る。また、ＰＳ版１２の搬送方向の下流側に配置してい
る搬送ローラ対６４は、ＰＳ版１２の表裏面に供給した
水洗水を、搬送ローラ対５２によって絞り切れずに残っ
た現像液とともに絞り落としながら、このＰＳ版１２を
不感脂化処理部１８へ送り出す。

【００５７】これにより、ＰＳ版１２は、水洗部１６を
通過するときに、表裏面に残っている現像液が洗い落と
される。

【００５８】不感脂化処理部１８へ送られたＰＳ版１２
は、スプレーパイプ７２、７４の間を通過し、搬送ロー
ラ対７０に挟持されることにより、この搬送ローラ対７
０によって不感脂化処理部１８から送り出される。

【００５９】このとき、不感脂化処理部１８では、スプ
レーパイプ６６、６８からガム液を吐出して、ＰＳ版１
２の表裏面にガム液を拡散させながら均一に塗布する。
搬送ローラ対７０は、ＰＳ版１２を挟持搬送して、余剰
となったガム液をＰＳ版１２の表裏面から絞り落とすこ
とにより、ＰＳ版１２の表裏面にガム液の均一な薄膜を
形成する。

【００６０】ガム液が塗布されたＰＳ版１２は、搬送ロ
ーラ対７０によって挿通口８４からから乾燥部２０へ送
り込まれる。なお、挿通口８４にシャッタを設けている
ときには、ＰＳ版１２の処理開始のタイミングないしＰ
Ｓ版１２が不感脂化処理部１８から送り出されるタイミ
ングで、シャッタを作動させて、挿通口８４を開放し、
ＰＳ版１２の非通過時に乾燥部２０の乾燥風が不必要に
不感脂化処理部１８へ入り込んで、搬送ローラ対７０に
ガム液が固着してしまうのを防止すると共に、挿通口８
４から空気が入り込み、現像部１４にまで及んで空気中
の炭酸ガスにより現像液が劣化するのを防止したり、現
像液中の水分や水洗水さらにガム液中の水分が蒸発して
挿通口８４から出てしまうのを防止している。

【００６１】乾燥部２０では、支持ローラ８６及び搬送
ローラ対９０、９２によってＰＳ版１２を搬送しなが
ら、ダクト９４、９６からこのＰＳ版１２の表裏面に乾
燥風を吹き付ける。これにより、ＰＳ版１２は、表面に
塗布されているガム液による保護膜が形成されて排出口
８８から排出される。

【００６２】ところで、図２に示すように、ＰＳ版プロ
セッサー１０に用いられる処理タンク２２には、現像槽
２４の底部となる底板１１０に底孔１１２が形成されて
いる。また、現像槽２４の底板１１０は、底孔１１２側
が最も低位となるように傾斜されている。すなわち、底
孔１１２が形成されている現像槽２４の底板１１０は、
現像槽２４の中で最も低くなっており、さらに、底板１
１０は、底孔１１２へ向けて傾斜している。

【００６３】図１に示すように、現像槽２４の底板１１
０には、下方へ向けてパイプ部１１４が突設されてお
り、底孔１１２（図１では図示省略）がこのパイプ部１
１４の一方の開口となっている。

【００６４】これにより、パイプ部１１４の他端側（底
孔１１２と反対側）を開放することにより、現像槽２４
内の現像液が、底孔１１２へ流れ込むようになってい
る。

【００６５】このパイプ部１１４には、図示しない配管
によってスプレーパイプ５４、５６に連通しており、こ
の配管の中間部に設けている図示しない循環ポンプを作
動することにより、現像槽２４内の現像液が底孔１１２
から吸引されて、スプレーパイプ５４、５６に供給され
る。

【００６６】また、パイプ部１１４に接続している配管
は、循環ポンプより前で分岐して、廃液バルブを介して
廃液タンクに接続している（いずれも図示省略）。これ
により、この廃液バルブを開けることにより、現像槽２
４が空になるように現像液を排出することができるよう
になっている。

【００６７】図３に示すように、処理タンク２２には、
水洗槽２６の底部となる底板１１６に底孔１１８が形成
され、不感脂化処理槽２６の底部となる底板１２０に底
孔１２２が形成されている。底孔１１８、１２２はそれ
ぞれ、ＰＳ版１２の搬送方向と直交する方向である幅方
向の中間部に形成されている。また、底板１１６、１２
０のそれぞれは、幅方向の両端部から底孔１１８、１２
２へ向けて、底孔１１８、１２２の周囲が最も低くなる
ように傾斜されている。

【００６８】図１に示すように、水洗槽２６の底板１１
６には、下方へ向けてパイプ部１２４が突設され、底孔
１１８がこのパイプ部１２４の一方の開口となってお
り、不感脂化処理槽２８の底板１２０には、下方へ向け
てパイプ部１２６が突設され、底孔１２２がパイプ部１
２６の一方の開口となっている。

【００６９】また、水洗槽２６の底板１１６に形成して
いるパイプ部１２４及び不感脂化処理槽２８の底板１２
０に形成しているパイプ部１２６は、それぞれが図示し
ない循環ポンプを介して、スプレーパイプ６６、６８又
はスプレーパイプ７２、７４に接続している。

【００７０】これにより、それぞれの循環ポンプを作動
させることにより、水洗槽２６内の水洗水が底孔１１８
から吸引されてスプレーパイプ６６、６８に供給され、
不感脂化処理槽２８内のガム液が底孔１２２から吸引さ
れてスプレーパイプ７２、７４に供給されるようになっ
ている。

【００７１】また、パイプ部１２４、１２６に接続して
いるそれぞれの配管は、途中で分岐されて、廃液バルブ
を介して廃液タンクに接続している（いずれも図示省
略）。

【００７２】これにより、それぞれの廃液バルブを開く
ことにより、水洗槽２６内の水洗水が底孔１１８に流れ
込み、不感脂化処理槽２８内のガム液が底孔１２２に流
れ込んで、水洗槽２６及び不感脂化処理槽２８が空とな
るように排出可能となっている。なお、各処理液の循環
及び廃液配管等は、従来公知の構成を適用でき本実施の
形態では詳細な説明を省略する。

【００７３】一方、図１、図２及び図３に示すように、
底板１１０、１１６、１２０には、底孔１１２、１１
８、１２２を囲うようにガイド部１３０が形成されてい
る。なお、現像槽２４の底板１１０、水洗槽２６の底板
１１６及び不感脂化処理槽２８の底板１２０に設けてい
るガイド部１３０の基本的構成は同じであり、以下で
は、主に現像槽２４を例に説明して、水洗槽２６及び不
感脂化処理槽２８での説明を省略する。

【００７４】図４に示すようにガイド部１３０は、底孔
１１２を囲うように底板１１０から突設された複数の立
壁１３２によって形成されている。立壁１３２のそれぞ
れは、所定の曲率で湾曲され、底孔１１２と同心円状に
配置されている。これにより、ガイド部１３０は、立壁
部１３２の間に、所定幅の開口部１３４が形成されてい
る。

【００７５】すなわち、ガイド部１３０は、円筒状の部
材を底孔１１２と同軸的に配置し、この円筒状部材に所
定幅の切込みを形成することにより立壁部１３２及び開
口部１３４が形成された形状となっている。

【００７６】このガイド部１３０は、立壁部１３２の間
隔である開口部１３４の開口幅Ｗが、例えば２mm〜５mm
の範囲とすることができると共に、立壁部１３２の高さ
Ｈを、例えば５mm〜１５mmの範囲で、現像槽２４内に配
置している搬送用ローラ（例えば搬送用ローラ対５０な
ど）やガイド（例えばガイド板４４、４６など）と干渉
することのないように形成することができる。

【００７７】立壁部１３２の間の開口部１３４は、底板
１１０の上面に達しており、これにより、底板１１０に
沿って流れる現像液が立壁部の間の開口部１３４を通過
して、底孔１１２へ流れ込むことができるようになって
いる。

【００７８】また、現像槽２４内に多量（液面レベルが
立壁部１３２の上端を越える量）の現像液を貯留してい
るときには、立壁部１３２の上方側の開口から底孔１１
２内に流れ込み可能となっている。

【００７９】このとき、立壁部１３２の高さＨ及び開口
部１３４の開口幅のそれぞれを、前記した所定の範囲と
することにより、ネジ、ナット、Ｅリング等の小部品が
開口部１３４を通過したり、立壁部１３２を乗り越えて
しまうのを防止することができる。

【００８０】このように形成された処理タンク２２を備
えたＰＳ版プロセッサー１０では、処理タンク２２内の
清掃や、現像槽２４、水洗槽２６及び不感脂化処理槽２
８内に配置している搬送用ローラ、スプレーパイプ、ガ
イド等の各種部材のメンテナンス等を行うときには、該
当する部材（作業対象部材）の取り外しや取り付けが行
われる。

【００８１】このとき、作業対象部材の取り付けや作業
対象部材に設けられているネジ、ナット、Ｅリング等の
小部品を、誤って処理タンク２２内に落としてしまうこ
とがある。

【００８２】このような小部品が、例えば現像槽２４内
に落下すると、現像槽２４では、底孔１１２が形成され
ている底板１１０が最も低いので、落下した小部品が現
像槽２４の底部を転がり落ち、さらに、底板１１０上を
底孔１１２へ向けて転がる。

【００８３】一方、処理タンク２２には、底板１１０に
ガイド部１３０が形成されている。このガイド部１３０
は、底孔１１２を囲むように立壁部１３２が形成されお
り、底板１１０上を底孔１１２へ向けて転がる小部品
は、立壁部１３２の間の開口部１３４を通過することが
ないので、立壁部１３２に当たって停止する。

【００８４】これにより、小部品が底孔１１２に入り込
んでパイプ部１１４内に落下することがないため、パイ
プ部１１４やこのパイプ部１１４に接続している配管に
目詰まりを生じさせてしまうのを確実に防止することが
できる。

【００８５】また、誤って落とした小部品が、立壁部１
３２に当たって停止するので、小部品を誤って落として
も、容易に取り出すことができ、紛失してしまうことが
ない。

【００８６】このようにＰＳ版プロセッサー１２に設け
ている処理タンク２２では、処理タンク２２内に設けて
いる現像槽２４、水洗槽２６及び不感脂化処理槽２８の
それぞれの底孔１１２、１１８、１２２に対してガイド
部１３０を設けているので、メンテナンス等を行うとき
に誤って落としやすいネジ、ナット、Ｅリング等の小部
品が、底孔１１２、１１８、１２２内に落ちることがな
いので、底孔１１２、１１８、１２２に落ちた小部品を
取り出すために、パイプ部１１４、１２４、１２６等に
接続している配管等を取り外すなどの煩雑な作業を行う
必要がない。

【００８７】なお、以上説明した本実施の形態は、本発
明の構成を限定するものではない。例えば本実施の形態
では、ガイド部１３０として、底孔１１２（１１６、１
２０）の周囲を４分割するように立壁部１３２を形成し
たが、これに限るものではない。

【００８８】例えば、図５（Ａ）に示すガイド部１３６
では、底孔１１２の周囲を６分割する立壁部１３８と開
口部１４０を形成しており、このようなガイド部１３６
を用いても良い。すなわち、任意の数に分割して立壁部
と開口部を形成したものを適用することができる。

【００８９】また、本発明としては、図５（Ｂ）に示す
ガイド部１４２の適用も可能である。このガイド部１４
２では、底板１１０から円筒状の立壁部１４４を突設し
ている。この立壁部１４４には、底板１１０側の複数個
所（図５（Ｂ）では一例として４箇所）に開口部１４６
を形成している。

【００９０】このように形成してガイド部１４２におい
ても、現像液が立壁部１４４に遮られ得ることなく、底
板１１０上を確実に底孔１１２へ向けて流れることがで
きるのが、小部品が開口部１４６を通過したり立壁部１
４４を乗り越えることがなく、小部品が底孔１１２に落
ちるのを確実に防止することができる。

【００９１】また、以上説明した本実施の形態では、感
光材料としてＰＳ版１２を処理するＰＳ版プロセッサー
１０に設けた処理タンク２２を例に説明したが、本発明
は、ＰＳ版１２等の印刷版に限らず、印画紙や写真フィ
ルム等の各種感光材料を処理する感光材料処理装置の処
理タンクに適用することができる。

【００９２】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、処
理液が底孔に流れ込むのを遮ることなく、ネジ、ナッ
ト、Ｅリング等の小部品が底孔に落下してしまうのを確
実に防止することができる。これにより、感光材料処理
装置のメンテナンスを行うときに、誤って小部品を処理
槽内に落としても、底孔に落下した小部品を取り出す煩
わしい作業が生じてしまうことがないという優れた効果
が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施の形態に適用したＰＳ版プロセッサーの
概略構成図である。

【図２】ＰＳ版プロセッサーに設けた処理タンクの現像
槽側の要部を示す概略図である。

【図３】ＰＳ版プロセッサーに設けた処理タンクの水洗
槽及び不感脂化処理槽側の要部を示す概略図である。

【図４】本発明の保護壁となるガイド部の概略を示す要
部斜視図である。

【図５】（Ａ）及び（Ｂ）は、保護壁として適用可能な
ガイド部の他の例を示す概略斜視図である。

【符号の説明】

１０ ＰＳ版プロセッサー（感光材料処理装置） １２ ＰＳ版（感光材料） １４ 現像部 １６ 水洗部 １８ 不感脂化処理部 ２２ 処理タンク ２４ 現像槽（処理槽） ２６ 水洗槽（処理槽） ２８ 不感脂化処理槽（処理槽） １１０、１１６、１２０ 底板 １１２、１１８、１２２ 底孔 １３０ ガイド部（保護壁） １３２ 立壁部（保護壁） １３４ 開口部

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 感光材料を処理液によって処理する感光
   材料処理装置の処理タンク構造であって、 前記処理槽の底部を形成すると共に処理液の流出を可能
   とするように開口された底孔へ向けて傾斜された底板部
   と、 前記底板部から前記底孔の開口の周囲を囲うように所定
   高さに突出されると共に突出した周囲から処理液が前記
   底板部の上面に沿って前記底孔の開口に到達可能とする
   開口部が形成された保護壁と、 を含むことを特徴とする感光材料処理装置の処理タンク
   構造。
2. 【請求項２】 前記保護壁に、上端部から前記底板部に
   達するように所定間隔で形成された所定幅の切込み部に
   よって前記開口部が形成されていることを特徴とする請
   求項１に記載の感光材料処理装置の処理タンク構造。