JP4197018B2 - 液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
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Description
κ=1/ρ=D/(RS)……(1)
3 単素子シール材
4 液晶
5 液晶注入口
6 封止材
7 外周シール材
8 空気逃げ口
9 封止材
10 組立体
11 エッチング装置
12 エッチング槽
13 エッチング液
14 ヒータ
15 温度センサ
16 冷却水配管
19 冷却水ポンプ
20 導電率計
21 サンプリング配管
22 サンプリングポンプ
23 エッチング液回収配管
24 補給タンク
25 フッ酸
26 補給ポンプ
27 補給配管
28 制御部
31 研磨装置
32 下研磨テーブルユニット
34 下研磨テーブル
37 回転軸
38 太陽歯車
39 内歯歯車
40 遊星歯車
42 上研磨テーブルユニット
44 上研磨テーブル
Claims (8)
- 2枚のガラス基板の外周部を外周シール材で封止して少なくとも一つの組立体を形成する封止工程と、
前記少なくとも一つの組立体をエッチング槽内のエッチング液中に浸漬する浸漬工程と、
前記エッチング槽内のエッチング液の温度及び濃度を一定に維持して、前記2枚のガラス基板の所望のエッチング厚さに対応する時間、前記2枚のガラス基板をエッチングして、前記2枚のガラス基板の厚さを薄くするエッチング工程と、
前記エッチング後の2枚のガラス基板を機械研磨するとともに、当該機械研磨の後に機械化学研磨して、前記2枚のガラス基板の表面を平坦化する研磨工程と、
を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 請求項1に記載の発明において、
前記機械研磨は、研磨剤として、SiC、Al 2 O 3 、SiO 2 またはCを用い、
前記機械化学研磨は、研磨剤としてCeO 2 を用いることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 請求項2に記載の発明において、
前記機械化学研磨は、水に含まれた前記研磨剤により前記2枚のガラス基板の表面を平坦化することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 請求項1から3の何れかに記載の発明において、前記エッチング工程において前記エッチング槽内のエッチング液の温度を一定に維持することは、前記エッチング槽内のエッチング液の温度を温度検出手段で検出する温度検出工程と、この温度検出結果に基づいて加熱手段による加熱あるいは冷却手段による冷却により行う温度調整工程とを含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
- 請求項1から4の何れかに記載の発明において、前記エッチング液はフッ酸系水溶液であり、前記エッチング槽内のエッチング液の濃度を一定に維持することは、前記エッチング槽内のエッチング液中のフッ酸の濃度を濃度検出手段で検出する濃度検出工程と、この濃度検出結果に基づいて前記エッチング槽内にフッ酸を補給することにより行う濃度調整工程とを含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
- 請求項1から5の何れかに記載の発明において、前記2枚のガラス基板は、完成された液晶表示装置を複数個形成することが可能な面積を有し、その間に介在された複数の単素子シール材及び前記外周シール材を介して互いに貼り合わされていることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
- 請求項1から6の何れかに記載の発明において、前記封止工程は、前記2枚のガラス基板を前記外周シール材を介して一部開口を設けた状態で互いに貼り合わせる工程と、前記開口を封止材で封止する開口封止工程とを含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
- 請求項7に記載の発明において、前記研磨工程後に、前記2枚のガラス基板の間に介在された前記封止材を、前記2枚のガラス基板の外周部における少なくとも前記封止材が設けられた箇所を切断することによって除去する封止材除去工程を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
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