JP4175298B2 - カラーフィルタとその製造方法及び電気光学装置並びに電子機器 - Google Patents
カラーフィルタとその製造方法及び電気光学装置並びに電子機器 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4175298B2 JP4175298B2 JP2004200557A JP2004200557A JP4175298B2 JP 4175298 B2 JP4175298 B2 JP 4175298B2 JP 2004200557 A JP2004200557 A JP 2004200557A JP 2004200557 A JP2004200557 A JP 2004200557A JP 4175298 B2 JP4175298 B2 JP 4175298B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- color filter
- substrate
- lyophilic
- liquid
- manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 29
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 28
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 72
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 40
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 33
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 claims description 17
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 claims description 8
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 5
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 36
- 239000000463 material Substances 0.000 description 15
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 11
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 11
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 10
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 5
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 5
- SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);titanium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Ti+4] SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 4
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 3
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 3
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 3
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical class CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910015902 Bi 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000002772 conduction electron Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000011038 discontinuous diafiltration by volume reduction Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229920000592 inorganic polymer Polymers 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 1
- 230000001443 photoexcitation Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001709 polysilazane Polymers 0.000 description 1
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N tetrafluoromethane Chemical compound FC(F)(F)F TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N tungsten trioxide Chemical compound O=[W](=O)=O ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/201—Filters in the form of arrays
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/1462—Coatings
- H01L27/14621—Colour filter arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14683—Processes or apparatus peculiar to the manufacture or treatment of these devices or parts thereof
- H01L27/14685—Process for coatings or optical elements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0216—Coatings
- H01L31/02161—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
- H01L31/02162—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for filtering or shielding light, e.g. multicolour filters for photodetectors
Description
本発明は、カラーフィルタとその製造方法及び電気光学装置並びに電子機器に関するものである。
液滴吐出方式（インクジェット方式）によりカラーフィルタを製造する際には、バンクと称される隔壁で囲まれた各画素に対して顔料の液滴（インク）を連続して塗布しているが、その場合、液滴が画素内で均一に濡れ拡がらないとムラが生じたり、隔壁を越えて混色を起こす虞がある。そのため、隔壁には撥液性が、そして画素内には高い親液性が要求されている。
そこで、従来では、撥液性のフォトレジストを用いて隔壁を形成したり、特許文献１に開示されているように、酸素と炭化フッ素ガスによるプラズマ処理により隔壁に画素内よりも高い撥液性を付与したり、特許文献２に開示されているように、光触媒とフッ素系ケイ素材料による親液撥液パターニングを行う技術が提供されている。
特開２００２−３７２９２１号公報
特開２０００−２２７５１３号公報
しかしながら、上述したような従来技術には、以下のような問題が存在する。
上記の技術では、混色を避けるために隔壁の撥液性は最低限維持しなければならないため、特に画素内の隔壁近傍等、画素内全体で高い濡れ拡がり特性を得ることは困難である。そのため、平坦且つ均一な厚さの着色層が得られず、表示品質が低下する可能性があった。
上記の技術では、混色を避けるために隔壁の撥液性は最低限維持しなければならないため、特に画素内の隔壁近傍等、画素内全体で高い濡れ拡がり特性を得ることは困難である。そのため、平坦且つ均一な厚さの着色層が得られず、表示品質が低下する可能性があった。
特に、近年では、環境問題の観点からプラズマ処理を避けることが検討されている。この場合、撥液性のフォトレジストを用いて隔壁を形成し、画素内の親液化処理を行わず、ガラス基板等の基板が元来有する親液性に依存することになり、やはり十分な濡れ拡がり特性を得ることは困難である。
本発明は、以上のような点を考慮してなされたもので、画素内で高い濡れ拡がり特性を得ることができるカラーフィルタとその製造方法及び電気光学装置並びに電子機器を提供することを目的とする。
上記の目的を達成するために本発明は、以下の構成を採用している。
本発明のカラーフィルタ製造方法は、基板上に隔壁に囲まれた複数の画素部を有するカラーフィルタの製造方法であって、前記基板上に撥液性を有する前記隔壁を形成する工程と、前記隔壁が形成された前記基板上の略全面に親液性を発現する親液性液状体を一括的に塗布して、前記画素部に親液層を形成する工程と、前記親液層が形成された前記画素部に着色材の液滴を塗布する工程と、を有し、前記親液性液状体は、シリカを担持させた酸化チタンを含有することを特徴とするものである。
本発明のカラーフィルタ製造方法は、基板上に隔壁に囲まれた複数の画素部を有するカラーフィルタの製造方法であって、前記基板上に撥液性を有する前記隔壁を形成する工程と、前記隔壁が形成された前記基板上の略全面に親液性を発現する親液性液状体を一括的に塗布して、前記画素部に親液層を形成する工程と、前記親液層が形成された前記画素部に着色材の液滴を塗布する工程と、を有し、前記親液性液状体は、シリカを担持させた酸化チタンを含有することを特徴とするものである。
従って、本発明のカラーフィルタ製造方法では、画素部にプラズマ処理処理等の親液化処理を施していない場合でも、基板に塗布された着色材の液滴が親液層に沿って濡れ拡がるため、画素部に平坦且つ均一な厚さの着色層を得ることが可能になる。
親液性液状体は、スピンコートにより基板上の略全面に一括的に塗布する手順を好適に採用できる。
これにより、複数の画素部に対して簡単な装置構成で容易、且つ迅速に親液性液状体を塗布することが可能になる。基板に塗布された親液性液状体のうち、隔壁上の親液性液状体は隔壁が撥液性を有しているので画素部へ導入される。
これにより、複数の画素部に対して簡単な装置構成で容易、且つ迅速に親液性液状体を塗布することが可能になる。基板に塗布された親液性液状体のうち、隔壁上の親液性液状体は隔壁が撥液性を有しているので画素部へ導入される。
親液性液状体としては、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、チタン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉＯ３）、酸化タングステン（ＷＯ３）、酸化ビスマス（Ｂｉ２Ｏ３）、および酸化鉄（Ｆｅ２Ｏ３）の少なくとも１種の物質からなる微粒子を含有する構成を好適に採用可能である。また、シリカ（ＳｉＯ２）の分散液も採用可能である。
親液性液状体として、例えば酸化チタンを含有する構成を採用した場合、前記基板に紫外光を照射して、前記親液層に親液性を発現させたり、親液性のシリカを担持させる構成も好適である。親液性のシリカを担持させた親液性の酸化チタンであれば、プラズマ処理や紫外線露光等の別工程を設ける必要がなくなり、生産効率を向上させることが可能になる。
さらに、親液性液状体に含有される微粒子は、平均粒径が1.0μｍ以下であることが好ましい。
親液性液状体として、例えば酸化チタンを含有する構成を採用した場合、前記基板に紫外光を照射して、前記親液層に親液性を発現させたり、親液性のシリカを担持させる構成も好適である。親液性のシリカを担持させた親液性の酸化チタンであれば、プラズマ処理や紫外線露光等の別工程を設ける必要がなくなり、生産効率を向上させることが可能になる。
さらに、親液性液状体に含有される微粒子は、平均粒径が1.0μｍ以下であることが好ましい。
また、本発明では、親液性液状体として酸化チタンを含有する構成を採用した場合、前記基板の、前記親液層が形成された側とは逆側に紫外線フィルタを設ける工程を有することが好ましい。
これにより、酸化チタンに紫外線が照射されることを抑制でき、酸化チタンの光触媒効果により着色剤に悪影響が及ぶことを防止できる。
これにより、酸化チタンに紫外線が照射されることを抑制でき、酸化チタンの光触媒効果により着色剤に悪影響が及ぶことを防止できる。
また、本発明のカラーフィルタは、上記の製造方法により製造されているので、画素部に平坦且つ均一な厚さの着色層が形成されたカラーフィルタを得ることが可能になる。
そして、本発明の電気光学装置は上記のカラーフィルタを備えることを特徴としており、本発明の電子機器は上記の電気光学装置を備えることを特徴としている。
従って、本発明では、平坦且つ均一厚さの着色層を容易、且つ高精度に形成することが可能になり、高精細の微細パターニングが可能で高品質の表示特性を有する電気光学装置及び電子機器を得ることができる。
そして、本発明の電気光学装置は上記のカラーフィルタを備えることを特徴としており、本発明の電子機器は上記の電気光学装置を備えることを特徴としている。
従って、本発明では、平坦且つ均一厚さの着色層を容易、且つ高精度に形成することが可能になり、高精細の微細パターニングが可能で高品質の表示特性を有する電気光学装置及び電子機器を得ることができる。
以下、本発明のカラーフィルタとその製造方法及び電気光学装置並びに電子機器の実施の形態を、図１ないし図８を参照して説明する。
まず、本発明に係るカラーフィルタを備えた液晶装置（電気光学装置）について説明する。
ここでは、アクティブマトリクス型の液晶装置の例を用いて説明する。
図１は、ＴＦＴをスイッチング素子に用いたアクティブマトリクス型の液晶装置（液晶表示装置）の一例を示すもので、（Ａ）はこの例の液晶表示装置の全体構成を示す斜視図であり、（Ｂ）は（Ａ）における一画素の拡大図である。
まず、本発明に係るカラーフィルタを備えた液晶装置（電気光学装置）について説明する。
ここでは、アクティブマトリクス型の液晶装置の例を用いて説明する。
図１は、ＴＦＴをスイッチング素子に用いたアクティブマトリクス型の液晶装置（液晶表示装置）の一例を示すもので、（Ａ）はこの例の液晶表示装置の全体構成を示す斜視図であり、（Ｂ）は（Ａ）における一画素の拡大図である。
図１において、本実施形態の液晶装置（電気光学装置）５８０は、ＴＦＴ素子が形成された側の素子基板５７４と対向基板５７５とが対向配置され、これら基板５７４、５７５間にシール材５７３が額縁型に配置され、基板間のシール材５７３に囲まれた領域に液晶層（図示略）が封入されている。
素子基板５７４の液晶側表面上には、多数のソース線５７６（データ線）および多数のゲート線５７７（走査線）が互いに交差するように格子状に設けられている。各ソース線５７６と各ゲート線５７７の交差点の近傍にはＴＦＴ素子５７８が形成されており、各ＴＦＴ素子５７８を介して画素電極５７９が接続され、多数の画素電極５７９は平面視マトリクス状に配置されている。一方、対向基板５７５の液晶層側の表面上には、表示領域に対応してＩＴＯなどからなる透明導電材料製の共通電極５８５が形成されている。
ＴＦＴ素子５７８は、図１（Ｂ）に示すように、ゲート線５７７から延びるゲート電極５８１と、ゲート電極５８１を覆う絶縁膜（図示略）と、絶縁膜上に形成された半導体層５８２と、半導体層５８２中のソース領域に接続されたソース線５７６から延びるソース電極５８３と、半導体層５８２中のドレイン領域に接続されたドレイン電極５８４とを有している。そして、ＴＦＴ素子５７８のドレイン電極５８４が画素電極５７９に接続されている。
図２は、アクティブマトリクス型の液晶装置（液晶表示装置）の断面構成図である。
液晶装置５８０は、互いに対向するように配置された素子基板５７４と対向基板５７５と、これらの間に挟持された液晶層７０２と、対向基板５７５に付設された位相差板７１５ａ、偏光板７１６ａと、素子基板５７４に付設された位相差板７１５ｂ、偏光板７１６ｂとが備えられた液晶パネルを主体として構成されている。
さらに、素子基板５７４には液晶層７０２に駆動信号を供給するためのドライバＩＣ２１３が設けられており、また、偏光板７１６ｂの外側には、透過表示用光源となるバックライト２１４を備えている。
この液晶パネルに、電気信号を伝達するための配線類、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての液晶装置が構成される。
液晶装置５８０は、互いに対向するように配置された素子基板５７４と対向基板５７５と、これらの間に挟持された液晶層７０２と、対向基板５７５に付設された位相差板７１５ａ、偏光板７１６ａと、素子基板５７４に付設された位相差板７１５ｂ、偏光板７１６ｂとが備えられた液晶パネルを主体として構成されている。
さらに、素子基板５７４には液晶層７０２に駆動信号を供給するためのドライバＩＣ２１３が設けられており、また、偏光板７１６ｂの外側には、透過表示用光源となるバックライト２１４を備えている。
この液晶パネルに、電気信号を伝達するための配線類、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての液晶装置が構成される。
対向基板５７５は、石英やガラス等の光透過性の基板７４２と、この基板７４２に形成されたカラーフィルタ７５１とを主体として構成されている。カラーフィルタ７５１は、ブラックマトリクスやバンクなどからなる隔壁７０６と、フィルタエレメントとしての着色層７０３Ｒ，７０３Ｇ，７０３Ｂと、基板７４２と着色層７０３Ｒ，７０３Ｇ，７０３Ｂとの間に介装された親液層７１０と、隔壁７０６及び着色層７０３Ｒ，７０３Ｂ，７０３Ｇを覆う保護膜７０４と、を具備して構成されている。
隔壁７０６は、各着色層７０３Ｒ，７０３Ｇ，７０３Ｂを形成する着色層形成領域であるフィルタエレメント形成領域（画素部）７０７をそれぞれ取り囲むように形成された格子状のもので、基板７４２の一面７４２ａに形成されている。
また、隔壁７０６は、例えば黒色感光性樹脂膜からなり、この黒色感光性樹脂膜としては例えば、通常のフォトレジストに用いられるようなポジ型若しくはネガ型の感光性樹脂と、カーボンブラック等の黒色の無機顔料あるいは黒色の有機顔料とを少なくとも含むものが用いられる。本実施の形態では、隔壁７０６として、フッ素樹脂等の撥液性を有する材料を用いている。また、この隔壁７０６は、黒色の無機顔料または有機顔料を含むもので、着色層７０３Ｒ，７０３Ｇ，７０３Ｂの形成位置を除く部分に形成されているため、着色層７０３Ｒ，７０３Ｇ，７０３Ｂ同士の間の光の透過を遮断でき、従ってこの隔壁７０６は、遮光膜としての機能も有する。
また、隔壁７０６は、例えば黒色感光性樹脂膜からなり、この黒色感光性樹脂膜としては例えば、通常のフォトレジストに用いられるようなポジ型若しくはネガ型の感光性樹脂と、カーボンブラック等の黒色の無機顔料あるいは黒色の有機顔料とを少なくとも含むものが用いられる。本実施の形態では、隔壁７０６として、フッ素樹脂等の撥液性を有する材料を用いている。また、この隔壁７０６は、黒色の無機顔料または有機顔料を含むもので、着色層７０３Ｒ，７０３Ｇ，７０３Ｂの形成位置を除く部分に形成されているため、着色層７０３Ｒ，７０３Ｇ，７０３Ｂ同士の間の光の透過を遮断でき、従ってこの隔壁７０６は、遮光膜としての機能も有する。
親液層７１０は、親液性透明物質、より具体的には親液性の酸化チタン等をアルコールや水等の分散媒に分散させた分散液（親液性液状体）を塗布することにより形成されるものである。酸化チタンの結晶形態としては、アナターゼ構造やブルカイト構造のものを使用できる。また、この酸化チタンは、シリカ等の親液性材料を担持しており、プラズマ処理等を施すことなく親液性を維持する特性を有している。
着色層７０３Ｒ，７０３Ｇ，７０３Ｂは、隔壁７０６の内壁と基板７４２に渡って設けられたフィルタエレメント形成領域７０７に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各フィルタエレメント材料（着色材）をインクジェット方式により導入、すなわち吐出し、その後乾燥させることにより形成したものである。フィルタエレメント材料としては、例えば熱硬化性アクリル樹脂、有機顔料、ジエチレングリコールブチルエーテル誘導体等の溶剤等からなるものを用いることができる。
また、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの透明導電材料からなる液晶駆動用の電極層７０５が保護膜７０４の略全面にわたって形成されている。さらにこの液晶駆動用の電極層７０５を覆って配向膜７１９ａが設けられており、また、素子基板５７４側の画素電極５７９上にも配向膜７１９ｂが設けられている。
素子基板５７４は、石英やガラス等の光透過性の基板７１４上に図示略の絶縁層が形成され、さらにこの絶縁層の上に、ＴＦＴ素子５７８と画素電極５７９が形成されてなるものである。また、基板７１４上に形成された絶縁層上には、先の図１に示したように、マトリクス状に複数の走査線と複数の信号線とが形成され、これら走査線と信号線とに囲まれた領域毎に先の画素電極５７９が設けられ、各画素電極５７９と走査線及び信号線とが電気的に接続される位置にＴＦＴ素子５７８が組み込まれており、走査線と信号線に対する信号の印加によってＴＦＴ素子５７８をオン・オフして画素電極５７９への通電制御が行われる。また、対向基板５７５側に形成された電極層７０５はこの実施形態では画素領域全体をカバーする全面電極とされている。尚、ＴＦＴの配線回路や画素電極形状には様々なものを適用できる。
素子基板５７４と対向基板５７５とは、対向基板５７５の外周縁に沿って形成されたシール材５７３によって所定の間隙を介して貼り合わされている。なお、符号７５６は両基板間の間隔（セルギャップ）を基板面内で一定に保持するためのスペーサである。素子基板５７４と対向基板５７５との間には、平面視略額縁状のシール材５７３によって矩形の液晶封入領域が区画形成され、この液晶封入領域内に、液晶が封入されている。
続いて、上記カラーフィルタ７５１を製造する際に用いる液滴吐出装置について説明する。
図３は、液滴吐出装置ＩＪの概略構成を示す斜視図である。
液滴吐出装置ＩＪは、液滴吐出ヘッド１と、Ｘ軸方向駆動軸４と、Ｙ軸方向ガイド軸５と、制御装置ＣＯＮＴと、ステージ７と、クリーニング機構８と、基台９と、ヒータ１５とを備えている。
ステージ７は、この液滴吐出装置ＩＪによりインク（液体材料）を設けられる基板Ｐを支持するものであって、基板Ｐを基準位置に固定する不図示の固定機構を備えている。
図３は、液滴吐出装置ＩＪの概略構成を示す斜視図である。
液滴吐出装置ＩＪは、液滴吐出ヘッド１と、Ｘ軸方向駆動軸４と、Ｙ軸方向ガイド軸５と、制御装置ＣＯＮＴと、ステージ７と、クリーニング機構８と、基台９と、ヒータ１５とを備えている。
ステージ７は、この液滴吐出装置ＩＪによりインク（液体材料）を設けられる基板Ｐを支持するものであって、基板Ｐを基準位置に固定する不図示の固定機構を備えている。
液滴吐出ヘッド１は、複数の吐出ノズルを備えたマルチノズルタイプの液滴吐出ヘッドであり、長手方向とＹ軸方向とを一致させている。複数の吐出ノズルは、液滴吐出ヘッド１の下面にＹ軸方向に並んで一定間隔で設けられている。液滴吐出ヘッド１の吐出ノズルからは、ステージ７に支持されている基板Ｐに対して、上述した着色材を含むインクが吐出される。
Ｘ軸方向駆動軸４には、Ｘ軸方向駆動モータ２が接続されている。Ｘ軸方向駆動モータ２はステッピングモータ等であり、制御装置ＣＯＮＴからＸ軸方向の駆動信号が供給されると、Ｘ軸方向駆動軸４を回転させる。Ｘ軸方向駆動軸４が回転すると、液滴吐出ヘッド１はＸ軸方向に移動する。
Ｙ軸方向ガイド軸５は、基台９に対して動かないように固定されている。ステージ７は、Ｙ軸方向駆動モータ３を備えている。Ｙ軸方向駆動モータ３はステッピングモータ等であり、制御装置ＣＯＮＴからＹ軸方向の駆動信号が供給されると、ステージ７をＹ軸方向に移動する。
Ｙ軸方向ガイド軸５は、基台９に対して動かないように固定されている。ステージ７は、Ｙ軸方向駆動モータ３を備えている。Ｙ軸方向駆動モータ３はステッピングモータ等であり、制御装置ＣＯＮＴからＹ軸方向の駆動信号が供給されると、ステージ７をＹ軸方向に移動する。
制御装置ＣＯＮＴは、液滴吐出ヘッド１に液滴の吐出制御用の電圧を供給する。また、Ｘ軸方向駆動モータ２に液滴吐出ヘッド１のＸ軸方向の移動を制御する駆動パルス信号を、Ｙ軸方向駆動モータ３にステージ７のＹ軸方向の移動を制御する駆動パルス信号を供給する。
クリーニング機構８は、液滴吐出ヘッド１をクリーニングするものである。クリーニング機構８には、図示しないＹ軸方向の駆動モータが備えられている。このＹ軸方向の駆動モータの駆動により、クリーニング機構は、Ｙ軸方向ガイド軸５に沿って移動する。クリーニング機構８の移動も制御装置ＣＯＮＴにより制御される。
ヒータ１５は、ここではランプアニールにより基板Ｐを熱処理する手段であり、基板Ｐ上に塗布された液体材料に含まれる溶媒の蒸発及び乾燥を行う。このヒータ１５の電源の投入及び遮断も制御装置ＣＯＮＴにより制御される。
クリーニング機構８は、液滴吐出ヘッド１をクリーニングするものである。クリーニング機構８には、図示しないＹ軸方向の駆動モータが備えられている。このＹ軸方向の駆動モータの駆動により、クリーニング機構は、Ｙ軸方向ガイド軸５に沿って移動する。クリーニング機構８の移動も制御装置ＣＯＮＴにより制御される。
ヒータ１５は、ここではランプアニールにより基板Ｐを熱処理する手段であり、基板Ｐ上に塗布された液体材料に含まれる溶媒の蒸発及び乾燥を行う。このヒータ１５の電源の投入及び遮断も制御装置ＣＯＮＴにより制御される。
液滴吐出装置ＩＪは、液滴吐出ヘッド１と基板Ｐを支持するステージ７とを相対的に走査しつつ基板Ｐに対して液滴を吐出する。ここで、以下の説明において、Ｘ軸方向を走査方向、Ｘ軸方向と直交するＹ軸方向を非走査方向とする。したがって、液滴吐出ヘッド１の吐出ノズルは、非走査方向であるＹ軸方向に一定間隔で並んで設けられている。なお、図３では、液滴吐出ヘッド１は、基板Ｐの進行方向に対し直角に配置されているが、液滴吐出ヘッド１の角度を調整し、基板Ｐの進行方向に対して交差させるようにしてもよい。このようにすれば、液滴吐出ヘッド１の角度を調整することで、ノズル間のピッチを調節することが出来る。また、基板Ｐとノズル面との距離を任意に調節することが出来るようにしてもよい。
図４は、ピエゾ方式による液体材料の吐出原理を説明するための図である。
図４において、液体材料を収容する液体室２１に隣接してピエゾ素子２２が設置されている。液体室２１には、液体材料を収容する材料タンクを含む液体材料供給系２３を介して液体材料が供給される。ピエゾ素子２２は駆動回路２４に接続されており、この駆動回路２４を介してピエゾ素子２２に電圧を印加し、ピエゾ素子２２を変形させることにより、液体室２１が変形し、ノズル２５から液体材料が吐出される。この場合、印加電圧の値を変化させることにより、ピエゾ素子２２の歪み量が制御される。また、印加電圧の周波数を変化させることにより、ピエゾ素子２２の歪み速度が制御される。
なお、液滴吐出方式としては、液体材料を加熱し発生した泡（バブル）により液体材料を吐出させるバブル（サーマル）方式でも採用可能であるが、ピエゾ方式による液滴吐出は材料に熱を加えないため、材料の組成に影響を与えにくいという利点を有する。
図４において、液体材料を収容する液体室２１に隣接してピエゾ素子２２が設置されている。液体室２１には、液体材料を収容する材料タンクを含む液体材料供給系２３を介して液体材料が供給される。ピエゾ素子２２は駆動回路２４に接続されており、この駆動回路２４を介してピエゾ素子２２に電圧を印加し、ピエゾ素子２２を変形させることにより、液体室２１が変形し、ノズル２５から液体材料が吐出される。この場合、印加電圧の値を変化させることにより、ピエゾ素子２２の歪み量が制御される。また、印加電圧の周波数を変化させることにより、ピエゾ素子２２の歪み速度が制御される。
なお、液滴吐出方式としては、液体材料を加熱し発生した泡（バブル）により液体材料を吐出させるバブル（サーマル）方式でも採用可能であるが、ピエゾ方式による液滴吐出は材料に熱を加えないため、材料の組成に影響を与えにくいという利点を有する。
次に、上記液滴吐出装置ＩＪを用いてカラーフィルタ７５１を製造する手順について説明する。 図５及び図６は、カラーフィルタ７５１の製造方法の一例を説明するための図である。
まず、図５（ａ）に示すように、透明の基板７４２の一方の面に対し、隔壁７０６（ブラックマトリクス）を形成する。この隔壁７０６を形成する際には、光透過性のない樹脂（好ましくは黒色樹脂）を、スピンコート等の方法で所定の厚さ（例えば２μｍ程度）に塗布し、フォトリソグラフィー技術を用いてパターニングする。あるいは、インクジェットプロセスを用いることもできる。
なお、リソグラフィ法を使用する場合は、スピンコート、スプレーコート、ロールコート、ダイコート、ディップコート、バーコート、スリットコート等所定の方法で隔壁の高さに合わせて有機材料を塗布し、その上にレジスト層を塗布する。そして、隔壁形状に合わせてマスクを施しレジストを露光・現像することにより隔壁形状に合わせたレジストを残す。最後にエッチングしてマスク以外の部分の隔壁材料を除去する。また、下層が無機物で上層が有機物で構成された２層以上で隔壁を形成してもよい。
なお、リソグラフィ法を使用する場合は、スピンコート、スプレーコート、ロールコート、ダイコート、ディップコート、バーコート、スリットコート等所定の方法で隔壁の高さに合わせて有機材料を塗布し、その上にレジスト層を塗布する。そして、隔壁形状に合わせてマスクを施しレジストを露光・現像することにより隔壁形状に合わせたレジストを残す。最後にエッチングしてマスク以外の部分の隔壁材料を除去する。また、下層が無機物で上層が有機物で構成された２層以上で隔壁を形成してもよい。
続いて、図５（ｂ）に示すように、基板７４２上に親液層７１０を形成する。ここでは、親液性の酸化チタン微粒子をアルコールに分散させた酸化チタン分散液（親液性液状体；石原産業株式会社製ST-K211）をスピンコートにより全面的に一括塗布した。
酸化チタン微粒子としては、平均粒径が１〜５００ｎｍであることが好ましく、特に５〜１００ｎｍが望ましい。また、分散媒としてはアルコール類、例えばメタノール、エタノール、ｉ−プロパノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉ−ブタノール、ｔ−ブタノール、メトキシエタノール、エトキシエタノール、エチレングリコール等を例示でき、これら２種以上を組み合わせて使用することも可能である。
酸化チタン微粒子としては、平均粒径が１〜５００ｎｍであることが好ましく、特に５〜１００ｎｍが望ましい。また、分散媒としてはアルコール類、例えばメタノール、エタノール、ｉ−プロパノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉ−ブタノール、ｔ−ブタノール、メトキシエタノール、エトキシエタノール、エチレングリコール等を例示でき、これら２種以上を組み合わせて使用することも可能である。
この酸化チタン分散液を０．２wt％の濃度で、基板７４２に５００ｒｐｍでスピンコート塗布を行った。
ここで、基板７４２の全面に塗布された酸化チタン分散液は、隔壁７０６が撥液性を有しており、またスピンによる遠心力により、隔壁７０６からはじかれて画素部であるフィルタエレメント形成領域７０７に導入される。また、この分散液はアルコールが分散媒であるため、フィルタエレメント形成領域７０７に導入された後に直ちに蒸発・乾燥して透明層として製膜される。
ここで、基板７４２の全面に塗布された酸化チタン分散液は、隔壁７０６が撥液性を有しており、またスピンによる遠心力により、隔壁７０６からはじかれて画素部であるフィルタエレメント形成領域７０７に導入される。また、この分散液はアルコールが分散媒であるため、フィルタエレメント形成領域７０７に導入された後に直ちに蒸発・乾燥して透明層として製膜される。
次に、図５（ｃ）に示すように、Ｒの液滴７９０Ｒ（液状体）を吐出し、これを基板７４２上の親液層７１０に着弾させる。ここで、フィルタエレメント形成領域７０７に親液層が製膜されておらず、基板７４２に液滴７９０Ｒを着弾させる場合、基板７４２における接触角は３０°程度なので、図７（ａ）に示すように、液滴７９０Ｒは十分に濡れ拡がらないが、本実施の形態のように親液層７１０上に液滴７９０Ｒを着弾させる場合、親液層７１０における接触角は５°以下なので、所定量以上の液滴を吐出することで、図７（ｂ）に示すように、フィルタエレメント形成領域７０７をほぼ全面に亘って濡れ拡がることになる。
なお、フィルタエレメント形成領域７０７に吐出する液滴７９０Ｒの量については、加熱工程における液状体の体積減少を考慮した十分な量とする。次いで、液状体の仮焼成を行い、図６（ｄ）に示すようなＲ着色層７０３Ｒとする。以上の工程を、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色について繰り返し、図６（ｅ）に示すように、着色層７０３Ｇ，７０３Ｂを順次形成する。着色層７０３Ｒ，７０３Ｇ，７０３Ｂを全て形成した後、着色層７０３Ｒ，７０３Ｇ，７０３Ｂを一括して焼成する。
次に、基板７４２を平坦化し、かつ着色層７０３Ｒ，７０３Ｇ，７０３Ｂを保護するため、図６（ｆ）に示すように各着色層７０３Ｒ，７０３Ｇ，７０３Ｂや隔壁７０６を覆うオーバーコート膜（保護膜）７０４を形成する。この保護膜７０４の形成にあたっては、スピンコート法、ロールコート法、リッピング法等の方法を採用することもできるが、着色層７０３Ｒ，７０３Ｇ，７０３Ｂの場合と同様に液滴吐出プロセスを用いることもできる。
以上のように、本実施の形態では、親液層７１０が形成されたフィルタエレメント形成領域７０７に対して着色材の液滴を吐出するので、基板７４２に親液化処理を施さない場合でもフィルタエレメント形成領域７０７内に着色材の液滴を濡れ拡がらせることが可能になり、ムラがなく平坦且つ均一な厚さの着色層を得ることができる。
また、本実施の形態では、酸化チタン分散液をスピンコートにより塗布するので、簡単な装置構成で容易、且つ迅速に親液層７１０を形成することが可能になり、生産効率を向上させることができる。
また、本実施の形態では、酸化チタン分散液をスピンコートにより塗布するので、簡単な装置構成で容易、且つ迅速に親液層７１０を形成することが可能になり、生産効率を向上させることができる。
さらに、本実施の形態では、親液性の酸化チタンにより親液層７１０を形成しているので、別途プラズマ処理等の親液化処理工程を設ける必要がなくなり、生産効率を一層向上させることが可能になる。加えて、本実施の形態では、撥液性材料により隔壁７０６を形成しているので、隔壁７０６を撥液化させるためのプラズマ処理も不要であり、生産効率の向上及び地球環境保護に寄与できる。
また、本実施の形態では、隔壁７０６を基板７４２上に形成した後に、親液層７１０を製膜しているので、親液層７１０が分断されることになり、親液層７１０を製膜した後に隔壁を形成する場合のように、着色材が親液層を介して他のフィルタエレメント形成領域７０７に染み出て混色を起こす不具合を未然に防ぐことも可能である。
なお、本発明における液晶装置としては、透過型のパネルに加え、反射型のパネル、半透過反射型のパネルにも適用可能である。
なお、本発明における液晶装置としては、透過型のパネルに加え、反射型のパネル、半透過反射型のパネルにも適用可能である。
（電子機器）
図８（ａ）〜（ｃ）は、本発明の電子機器の実施の形態例を示している。
本例の電子機器は、本発明に係るカラーフィルタを有する液晶装置を表示手段として備えている。
図８（ａ）は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図８（ａ）において、符号１０００は携帯電話本体（電子機器）を示し、符号１００１は上記の液晶装置を用いた表示部を示している。
図８（ｂ）は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図８（ｂ）において、符号１１００は時計本体（電子機器）を示し、符号１１０１は上記の液晶装置を用いた表示部を示している。
図８（ｃ）は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図８（ｃ）において、符号１２００は情報処理装置（電子機器）、符号１２０２はキーボードなどの入力部、符号１２０４は情報処理装置本体、符号１２０６は上記の液晶装置を用いた表示部を示している。
図８（ａ）〜（ｃ）に示すそれぞれの電子機器は、本発明の液晶装置を表示手段として備えているので、高精細の微細パターニングが可能で高品質の表示特性を有する電子機器を得ることができる。
図８（ａ）〜（ｃ）は、本発明の電子機器の実施の形態例を示している。
本例の電子機器は、本発明に係るカラーフィルタを有する液晶装置を表示手段として備えている。
図８（ａ）は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図８（ａ）において、符号１０００は携帯電話本体（電子機器）を示し、符号１００１は上記の液晶装置を用いた表示部を示している。
図８（ｂ）は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図８（ｂ）において、符号１１００は時計本体（電子機器）を示し、符号１１０１は上記の液晶装置を用いた表示部を示している。
図８（ｃ）は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図８（ｃ）において、符号１２００は情報処理装置（電子機器）、符号１２０２はキーボードなどの入力部、符号１２０４は情報処理装置本体、符号１２０６は上記の液晶装置を用いた表示部を示している。
図８（ａ）〜（ｃ）に示すそれぞれの電子機器は、本発明の液晶装置を表示手段として備えているので、高精細の微細パターニングが可能で高品質の表示特性を有する電子機器を得ることができる。
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
例えば、上記実施の形態では、撥液性を有する材料で隔壁７０６を形成する構成としたが、これに限定されるものではなく、プラズマ処理による撥液化が可能で下地基板との密着性が良くフォトリソグラフィによるパターニングがし易い有機材料、例えば、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、オレフィン樹脂、メラミン樹脂等の有機系高分子材料やポリシラン、ポリシラザン、ポリシロキサン等の無機系高分子材料を用い、大気雰囲気中でテトラフルオロメタンを処理ガスとするプラズマ処理法（ＣＦ４プラズマ処理法）を採用して撥液性を付与する構成としてもよい。
また、上記実施の形態では、親液性の酸化チタンを用いて親液層７１０を形成する構成としたが、これに限られず、酸化チタンのような光触媒機能を有する材料に関しては紫外線等の高いエネルギーの波長を有する光により照射されることで、光励起により生成した伝導電子と正孔とによって表面に極性が付与されて、水が水酸基（ＯＨ−）の形で化学吸着され、さらにその上に物理吸着水層が形成されることで表面が超親水性になる性質を有しているため、基板７４２に対して紫外線照射を行うことにより、より高い親液性を発現させる構成としてもよい。
また、酸化チタン等は、その光触媒機能を有しているため、例えば紫外線が照射された際に着色層７０３Ｒ、７０３Ｇ、７０３Ｂに悪影響を及ぼす虞がある。そのため、親液層７１０に紫外線が入射ないように、基板７４２に紫外線フィルタを設ける構成も好適である。この場合、紫外線フィルタは、例えば図２に示した偏光板７１６ａの外側や、位相差板７１５ａと基板７４２との間に設ければよい。
また、上記実施の形態では、スピンコートにより酸化チタン分散液を基板７４２上に一括して塗布する構成としたが、この方法以外にも浸漬法により親液層を形成する構成としてもよい。
また、上記実施の形態では、スピンコートにより酸化チタン分散液を基板７４２上に一括して塗布する構成としたが、この方法以外にも浸漬法により親液層を形成する構成としてもよい。
一方、上記実施の形態では、アクティブマトリクス型の液晶装置の例を用いて説明したが、パッシブマトリクス型の液晶装置にも適用可能である。
さらに、フィルタエレメント形成領域７０７の形成パターンとしては、ストライプ型の例を図示したが、ストライプ型の他に、モザイク型、デルタ型、あるいはスクウェア型などでもよい。
また、本実施形態におけるフィルタエレメント形成領域７０７の配色は、ＲＧＢ系を採用したが、ＲＧＢ系に限らず、ＹＭＣ系であっても構わない。なお、Ｙはイエロー、Ｍはマゼンタ、Ｃはシアンである。
さらに、フィルタエレメント形成領域７０７の形成パターンとしては、ストライプ型の例を図示したが、ストライプ型の他に、モザイク型、デルタ型、あるいはスクウェア型などでもよい。
また、本実施形態におけるフィルタエレメント形成領域７０７の配色は、ＲＧＢ系を採用したが、ＲＧＢ系に限らず、ＹＭＣ系であっても構わない。なお、Ｙはイエロー、Ｍはマゼンタ、Ｃはシアンである。
５８０…液晶装置（電気光学装置）、 ７０６…隔壁、 ７０７…フィルタエレメント形成領域（画素部）、 ７１０…親液層、 ７４２…基板、 ７５１…カラーフィルタ、 ７９０Ｒ…液滴（着色材）、 １０００…携帯電話本体（電子機器）、 １１００…時計本体（電子機器）、 １２００…情報処理装置（電子機器）
Claims (9)
- 基板上に隔壁に囲まれた複数の画素部を有するカラーフィルタの製造方法であって、
前記基板上に撥液性を有する前記隔壁を形成する工程と、
前記隔壁が形成された前記基板上の略全面に親液性を発現する親液性液状体を一括的に塗布して、前記画素部に親液層を形成する工程と、
前記親液層が形成された前記画素部に着色材の液滴を塗布する工程と、
を有し、
前記親液性液状体は、シリカを担持させた酸化チタンを含有することを特徴とするカラーフィルタ製造方法。 - 請求項１記載のカラーフィルタ製造方法において、
前記親液性液状体をスピンコートにより前記基板上に一括的に塗布することを特徴とするカラーフィルタ製造方法。 - 請求項１または２記載のカラーフィルタ製造方法において、
前記親液性液状体は、酸化亜鉛、酸化スズ、チタン酸ストロンチウム、酸化タングステン、酸化ビスマス、および酸化鉄から選択される少なくとも１種類の物質からなる微粒子を含有することを特徴とするカラーフィルタ製造方法。 - 請求項３記載のカラーフィルタ製造方法において、
前記親液性液状体に含有される微粒子は、平均粒径が1.0μｍ以下であることを特徴とするカラーフィルタ製造方法。 - 請求項３記載のカラーフィルタ製造方法において、
前記基板に紫外光を照射して、前記親液層に親液性を発現させる工程を有することを特徴とするカラーフィルタ製造方法。 - 請求項３から５のいずれかに記載のカラーフィルタ製造方法において、
前記基板の、前記親液層が形成された側とは逆側に紫外線フィルタを設ける工程を有することを特徴とするカラーフィルタ製造方法。 - 請求項１から６のいずれかに記載のカラーフィルタ製造方法により製造されたことを特徴とするカラーフィルタ。
- 請求項７記載のカラーフィルタを備えることを特徴とする電気光学装置。
- 請求項８記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004200557A JP4175298B2 (ja) | 2004-07-07 | 2004-07-07 | カラーフィルタとその製造方法及び電気光学装置並びに電子機器 |
| US11/128,160 US7241639B2 (en) | 2004-07-07 | 2005-05-13 | Color filter, manufacturing method thereof, electrooptical device and electronic equipment |
| KR1020050052800A KR100691713B1 (ko) | 2004-07-07 | 2005-06-20 | 칼라 필터와 그 제조 방법 및 전기 광학 장치 및 전자 기기 |
| TW094121912A TWI261691B (en) | 2004-07-07 | 2005-06-29 | Color filter, manufacturing method thereof, electrooptical device and electronic equipment |
| CNB2005100832066A CN100374932C (zh) | 2004-07-07 | 2005-07-07 | 滤色片和其制造方法、电光学装置以及电子机器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004200557A JP4175298B2 (ja) | 2004-07-07 | 2004-07-07 | カラーフィルタとその製造方法及び電気光学装置並びに電子機器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2006023462A JP2006023462A (ja) | 2006-01-26 |
| JP4175298B2 true JP4175298B2 (ja) | 2008-11-05 |
Family
ID=35541876
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004200557A Expired - Fee Related JP4175298B2 (ja) | 2004-07-07 | 2004-07-07 | カラーフィルタとその製造方法及び電気光学装置並びに電子機器 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7241639B2 (ja) |
| JP (1) | JP4175298B2 (ja) |
| KR (1) | KR100691713B1 (ja) |
| CN (1) | CN100374932C (ja) |
| TW (1) | TWI261691B (ja) |
Families Citing this family (29)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU2003278807A1 (en) * | 2002-03-01 | 2004-08-13 | Bracco International B.V. | Kdr and vegf/kdr binding peptides and their use in diagnosis and therapy |
| US7794693B2 (en) | 2002-03-01 | 2010-09-14 | Bracco International B.V. | Targeting vector-phospholipid conjugates |
| US7261876B2 (en) | 2002-03-01 | 2007-08-28 | Bracco International Bv | Multivalent constructs for therapeutic and diagnostic applications |
| US20050250700A1 (en) * | 2002-03-01 | 2005-11-10 | Sato Aaron K | KDR and VEGF/KDR binding peptides |
| US8623822B2 (en) * | 2002-03-01 | 2014-01-07 | Bracco Suisse Sa | KDR and VEGF/KDR binding peptides and their use in diagnosis and therapy |
| US7211240B2 (en) * | 2002-03-01 | 2007-05-01 | Bracco International B.V. | Multivalent constructs for therapeutic and diagnostic applications |
| US7985402B2 (en) * | 2002-03-01 | 2011-07-26 | Bracco Suisse Sa | Targeting vector-phospholipid conjugates |
| JP4306599B2 (ja) * | 2004-12-15 | 2009-08-05 | セイコーエプソン株式会社 | パターン形成基板、電気光学装置及び電気光学装置の製造方法 |
| JP4244933B2 (ja) * | 2005-01-19 | 2009-03-25 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶表示装置 |
| JP4240018B2 (ja) * | 2005-02-04 | 2009-03-18 | セイコーエプソン株式会社 | 膜パターンの形成方法、デバイス及びその製造方法、電気光学装置、並びに電子機器 |
| JP2006245526A (ja) * | 2005-02-04 | 2006-09-14 | Seiko Epson Corp | 膜パターンの形成方法、デバイス及びその製造方法、電気光学装置、並びに電子機器 |
| JP4400558B2 (ja) * | 2005-12-19 | 2010-01-20 | セイコーエプソン株式会社 | カラーフィルタ基板、液晶表示装置および電子機器、カラーフィルタ基板の製造方法および液晶表示装置の製造方法 |
| JP2007219482A (ja) * | 2006-01-23 | 2007-08-30 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルターの製造方法 |
| JP2007233376A (ja) * | 2006-02-03 | 2007-09-13 | Fujifilm Corp | パターン状のカラーフィルタ層と光学異方性層とを有する液晶表示装置、及びその製造方法、ならびにカラーフィルタ基板及びその製造方法 |
| WO2007089040A1 (en) * | 2006-02-03 | 2007-08-09 | Fujifilm Corporation | Liquid crystal display device and color film plate, and processes for producing the same |
| JP2007272181A (ja) * | 2006-03-06 | 2007-10-18 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルターの製造方法 |
| JP2007256699A (ja) * | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタおよびカラーフィルタの製造方法 |
| US20070238035A1 (en) * | 2006-04-07 | 2007-10-11 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus defining a color filter array for an image sensor |
| WO2008010332A1 (fr) * | 2006-07-20 | 2008-01-24 | Sharp Kabushiki Kaisha | dispositif d'affichage à cristaux liquides, et son procédé de fabrication |
| JP5239143B2 (ja) * | 2006-09-29 | 2013-07-17 | 大日本印刷株式会社 | カラーフィルターの製造方法、並びに液晶表示装置の製造方法 |
| DE102006060604A1 (de) * | 2006-12-21 | 2008-06-26 | Leopold Kostal Gmbh & Co. Kg | Photoelektrische Sensoreinrichtung |
| JP2010034141A (ja) * | 2008-07-25 | 2010-02-12 | Panasonic Corp | 固体撮像装置とその製造方法 |
| TWI484301B (zh) * | 2012-10-26 | 2015-05-11 | Nat Univ Tsing Hua | 形成連續性三維結構的噴墨方法 |
| JP6200340B2 (ja) * | 2014-02-04 | 2017-09-20 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 表示装置およびその製造方法 |
| CN104260554B (zh) * | 2014-09-24 | 2016-03-30 | 京东方科技集团股份有限公司 | 喷墨打印方法及设备、显示基板的制作方法 |
| JP6528745B2 (ja) * | 2016-09-06 | 2019-06-12 | 株式会社デンソー | 圧力センサ |
| CN108693573A (zh) * | 2017-03-31 | 2018-10-23 | 恒颢科技股份有限公司 | 防眩耐磨盖板及其制造方法 |
| CN107632440B (zh) * | 2017-10-09 | 2021-04-02 | 天马微电子股份有限公司 | 显示面板及其制作方法和显示装置 |
| CN107991726A (zh) * | 2017-12-29 | 2018-05-04 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种喷墨打印制造彩色滤光片的方法及彩色滤光片 |
Family Cites Families (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5863233A (en) * | 1996-03-05 | 1999-01-26 | Candescent Technologies Corporation | Field emitter fabrication using open circuit electrochemical lift off |
| US5658697A (en) * | 1996-04-17 | 1997-08-19 | Industrial Technology Research, Institute | Method for producing color filters by the use of anionic electrocoats |
| US6120674A (en) * | 1997-06-30 | 2000-09-19 | Candescent Technologies Corporation | Electrochemical removal of material in electron-emitting device |
| JP3743630B2 (ja) | 1998-03-17 | 2006-02-08 | セイコーエプソン株式会社 | 薄膜発光素子の製造方法 |
| JP3646510B2 (ja) * | 1998-03-18 | 2005-05-11 | セイコーエプソン株式会社 | 薄膜形成方法、表示装置およびカラーフィルタ |
| JP4377980B2 (ja) | 1998-12-09 | 2009-12-02 | キヤノン株式会社 | カラーフィルタとその製造方法、該カラーフィルタを用いた液晶素子 |
| JP2000187206A (ja) | 1998-12-22 | 2000-07-04 | Oputeku:Kk | ディスプレイデバイス及びカラ―フィルタ―及びカラ―フィルタ―の製造方法 |
| JP3381146B2 (ja) | 1999-02-05 | 2003-02-24 | 大日本印刷株式会社 | カラーフィルタおよびその製造方法 |
| JP4377984B2 (ja) | 1999-03-10 | 2009-12-02 | キヤノン株式会社 | カラーフィルタとその製造方法、該カラーフィルタを用いた液晶素子 |
| JP3237667B2 (ja) * | 1999-11-12 | 2001-12-10 | 富士ゼロックス株式会社 | 光触媒を用いた新規な着膜方法およびこの方法を使用するカラーフィルターの製造方法、それに使用する電解液、ならびに製造装置 |
| ATE324603T1 (de) * | 2000-06-02 | 2006-05-15 | Canon Kk | Herstellungsverfahren für ein optisches element |
| JP4612773B2 (ja) * | 2001-01-10 | 2011-01-12 | キヤノン株式会社 | 光学素子の製造方法 |
| JP4149161B2 (ja) * | 2001-12-06 | 2008-09-10 | 大日本印刷株式会社 | パターン形成体の製造方法およびパターン製造装置 |
| US7148148B2 (en) * | 2001-12-06 | 2006-12-12 | Seiko Epson Corporation | Mask forming and removing method, and semiconductor device, an electric circuit, a display module, a color filter and an emissive device manufactured by the same method |
| JP4314557B2 (ja) * | 2002-09-12 | 2009-08-19 | セイコーエプソン株式会社 | 成膜方法、光学素子、半導体素子および電子機器、電気光学装置の製造方法、カラーフィルターの製造方法 |
| JP2004184977A (ja) * | 2002-11-22 | 2004-07-02 | Seiko Epson Corp | カラーフィルタ及びその製造方法及び表示装置並びに電子機器 |
-
2004
- 2004-07-07 JP JP2004200557A patent/JP4175298B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-05-13 US US11/128,160 patent/US7241639B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2005-06-20 KR KR1020050052800A patent/KR100691713B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2005-06-29 TW TW094121912A patent/TWI261691B/zh not_active IP Right Cessation
- 2005-07-07 CN CNB2005100832066A patent/CN100374932C/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR100691713B1 (ko) | 2007-03-09 |
| CN100374932C (zh) | 2008-03-12 |
| JP2006023462A (ja) | 2006-01-26 |
| US20060008930A1 (en) | 2006-01-12 |
| TW200606468A (en) | 2006-02-16 |
| TWI261691B (en) | 2006-09-11 |
| CN1719316A (zh) | 2006-01-11 |
| US7241639B2 (en) | 2007-07-10 |
| KR20060048437A (ko) | 2006-05-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4175298B2 (ja) | カラーフィルタとその製造方法及び電気光学装置並びに電子機器 | |
| KR100691710B1 (ko) | 컬러 필터와 그 제조 방법, 전기 광학 장치 및 전자 기기 | |
| KR100726272B1 (ko) | 격벽 구조체, 격벽 구조체의 형성 방법, 디바이스, 전기 광학 장치 및 전자 기기 | |
| JP3941785B2 (ja) | 膜形成方法およびカラーフィルタ基板の製造方法 | |
| US20100316851A1 (en) | Process for producing patterned film-formed member, patterned film-formed member, electrooptical device, and electronic apparatus | |
| US8665401B2 (en) | Liquid crystal display panel having hydrophobic planarization with hydrophilic regions and fabricating method and apparatus thereof | |
| JP4297106B2 (ja) | 膜パターンの形成方法及びデバイスの製造方法、電気光学装置及び電子機器 | |
| JP3952729B2 (ja) | カラーフィルタ基板の製造方法 | |
| JP4509120B2 (ja) | 液晶表示装置用基板 | |
| US20080286666A1 (en) | Color filter and method of producing same | |
| JP4788203B2 (ja) | カラーフィルタおよびその製造方法 | |
| JP4285544B2 (ja) | 描画方法、着色層の形成方法、電気光学装置の製造方法 | |
| JP4337744B2 (ja) | 膜パターンの形成方法、アクティブマトリクス基板の製造方法 | |
| JP4400558B2 (ja) | カラーフィルタ基板、液晶表示装置および電子機器、カラーフィルタ基板の製造方法および液晶表示装置の製造方法 | |
| JP4655543B2 (ja) | 液晶表示素子の製造方法、液晶表示素子、液晶表示素子の製造装置および電気光学装置並びに電子機器 | |
| JP2007178532A (ja) | カラーフィルタ基板の製造方法および液晶表示装置の製造方法 | |
| JP2007047441A (ja) | カラーフィルタの製造方法、液晶装置、電子機器 | |
| JP2010259963A (ja) | 液滴吐出方法及びカラーフィルター製造方法 | |
| JP4666283B2 (ja) | バンク形成方法、カラーフィルタ基板の製造方法、有機ｅｌ装置の製造方法、配線パターンの形成方法 | |
| JP2006084852A (ja) | カラーフィルタ、カラーフィルタを備えた液晶表示装置およびカラーフィルタの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20070403 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070720 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070731 |
|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20070821 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071001 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080729 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080811 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110829 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |