JP3941785B2 - 膜形成方法およびカラーフィルタ基板の製造方法 - Google Patents

Description

この発明は、液滴吐出によりカラーフィルタの保護材料膜を形成する電気光学パネルの製造方法及び電子機器の製造方法、並びに電気光学パネル、電気光学装置及び電子機器に関する。

カラー表示のできる液晶パネルその他の電気光学パネルは、光源の白色光から所定の波長を持った光を選択的に取り出すため、カラーフィルタを備えた基板を有している。カラーフィルタは、一般にＲ（Ｒｅｄ）、Ｇ（Ｇｒｅｅｎ）、Ｂ（Ｂｌｕｅ）の色素で着色した樹脂によって形成されている。そして、カラーフィルタを保護し、またカラーフィルタの表面を平滑にする目的で、カラーフィルタ上にはカラーフィルタ保護膜が形成される。

従来、カラーフィルタ保護膜は、スピンコート法に代表される薄膜形成法によって作られていたが、このような方法では、カラーフィルタ保護膜材料の９割以上を廃棄することになり、無駄が多かった。また、スピンコート法では遠心力によって液状のカラーフィルタ保護膜材料を薄膜化するので、カラーフィルタ基板の裏面までカラーフィルタ保護膜材料が付着してしまい、カラーフィルタ基板の裏面を洗浄する工程が必要であった。そして、これが生産性を低下させる原因となっていた。さらに、スピンコート法では遠心力によって液状のカラーフィルタ保護膜材料を薄膜化するので、寸法の大きいカラーフィルタ基板に対応することが困難であった。

そこで、近年においては、例えば特許文献１、２に開示されているように、インクジェット（液滴吐出）によってカラーフィルタ保護膜材料を塗布する技術が提案されている。インクジェットによれば、ノズルから必要な場所へカラーフィルタ保護膜材料を吐出するので、材料の無駄はほとんど発生しない。また、カラーフィルタ基板上の所定位置に対して正確にカラーフィルタ保護膜材料を吐出できるので、カラーフィルタ基板の裏面洗浄も不要である。さらに、インクジェットヘッドの走査範囲を大きくすれば、寸法の大きいカラーフィルタ基板にも対応できる。

特開平９−３２９７０７号公報 特開２００２−１８９１２０号公報

ところで、インクジェットは微細なノズルから液滴を吐出する。主走査方向（ノズルの配列方向に対して垂直方向）に対しては、吐出の駆動周波数を高くすれば高密度で液滴を塗布できる。しかしながら、ノズルの高密度化には限界があるため、ノズルの配列方向（副走査方向）に対して高密度で液滴を塗布するには限界がある。このため、副走査方向の送り幅を小さくして高密度で液滴を塗布する方法もあるが、これでは生産性が低下してしまう。

そこで、この発明は、上記に鑑みてなされたものであって、液滴吐出によってカラーフィルタ保護膜、配向膜、絶縁膜その他の機能膜を形成する際に、機能膜形成材の塗布速度低下を抑制できる電気光学パネルの製造方法及び電子機器の製造方法、並びに電気光学パネル、電気光学装置及び電子機器を提供することを目的とする。

上述の目的を達成するために、本発明に係る電気光学パネルの製造方法は、基材に機能膜を形成するにあたり、ノズルが一方向に配列された液滴吐出手段により機能液を吐出させて機能膜を形成する際に、前記ノズルの配列方向における前記機能液の液滴の間隔は、前記ノズルの配列方向に対して垂直な方向における前記機能液の液滴の間隔より大きいことを特徴とする。

例えば、液滴吐出のノズルを一方向に配列した液滴吐出ヘッドにおいては、ノズルの配列方向（副走査方向）に対して垂直方向（主走査方向）に走査する過程で機能液を吐出する。副走査方向における液滴の間隔はノズルのピッチに依存するため、ピッチを小さくした場合、同じノズル数であればノズルの配列幅も小さくなる。したがって、ノズルのピッチを小さくすると、ノズル数を増やさない限り機能液の塗布時間は長くなる。この発明では、ノズルの配列方向における液滴間隔を、ノズルの配列方向に対して垂直な方向よりも大きくしている。主走査方向に対しては、吐出の駆動周波数を高くすれば高密度で液滴を塗布できる。これにより、機能液の塗布速度を低下させずに、電気光学パネルを構成するカラーフィルタの保護膜、配向膜、カラーフィルタその他の機能膜を形成することができるので、電気光学パネルの生産性を向上させることができる。ここで、機能膜とは、電気光学パネルの表示基板上に構成されるカラーフィルタ、カラーフィルタ保護膜、配向膜、絶縁膜、液晶、有機ＥＬ装置の発光層、アドレス電極その他の、電気光学パネルを構成するにあたって何らかの機能を発揮する薄膜をいう。また、機能液とは、前記機能膜を液滴吐出によって形成するにあたって、前記機能膜を構成する材料を含む液体をいう。

また、次の発明に係る電気光学パネルの製造方法は、前記電気光学パネルの製造方法において、前記機能液はカラーフィルタの保護膜材料であり、前記機能膜はカラーフィルタの保護膜であって、基材にカラーフィルタを形成するフィルタ形成工程と、ノズルが一方向に配列された液滴吐出手段により前記カラーフィルタ上へ保護膜材料の液滴を塗布する保護膜材料塗布工程と、前記保護膜材料を乾燥させる乾燥工程とを含み、前記ノズルの配列方向における上記液滴の間隔は、前記ノズルの配列方向に対して垂直な方向における上記液滴の間隔より大きいことを特徴とする。

例えば、液滴吐出のノズルを一方向に配列した液滴吐出ヘッドにおいては、ノズルの配列方向（副走査方向）に対して垂直方向（主走査方向）に走査する過程で保護膜材料を吐出する。副走査方向における液滴の間隔はノズルのピッチに依存するため、ピッチを小さくした場合、同じノズル数であればノズルの配列幅も小さくなる。したがって、ノズルのピッチを小さくすると、ノズル数を増やさない限り保護膜材料の塗布時間は長くなる。この発明では、ノズルの配列方向における液滴間隔を、ノズルの配列方向に対して垂直な方向よりも大きくしている。主走査方向に対しては、吐出の駆動周波数を高くすれば高密度で液滴を塗布できる。これにより、保護膜材料の塗布速度を低下させずにカラーフィルタ保護膜を形成することができるので、電気光学パネルの生産性を向上させることができる。

ここで、カラーフィルタに対する保護膜材料の接触角は１０度以下とすることが好ましい。このようにすれば、カラーフィルタに対する保護膜材料の濡れ性が十分に高くなるので、保護膜材料が広がって隣接する液滴と一体となる。これによって、ノズルの配列方向の液滴間隔を、ノズルの配列方向に対して垂直な方向よりも大きくしたとしても、均等な膜厚でカラーフィルタ保護膜を形成することができる（以下同様）。

また、次の発明に係る電気光学パネルの製造方法は、前記電気光学パネルの製造方法において、前記フィルタ形成工程の後に、前記カラーフィルタ表面を改質し、前記カラーフィルタ表面の濡れ性を向上させる表面改質工程を含むことを特徴とする。

この発明は、上記発明と同様の構成を含むので、上記発明の奏する作用・効果も同様に奏する。さらに、フィルタ形成工程の後に、カラーフィルタ表面を改質し、カラーフィルタ表面の濡れ性を向上させる表面改質工程を含む。これにより、保護膜の形成不良を抑制して、均質なカラーフィルタ保護膜を形成できる。その結果、電気光学パネルの表示不良や欠陥等を抑制できるので、電気光学パネルの製造においては歩留まりを向上させることができる。

また、次の発明に係る電気光学パネルの製造方法は、前記電気光学パネルの製造方法において、上記カラーフィルタが形成された前記基材の全面に上記保護膜材料を塗布することを特徴とする。

この発明は、上記発明と同様の構成を含むので、上記発明の奏する作用・効果も同様に奏する。さらに、カラーフィルタ基板の全面に保護膜材料を塗布するので、これよりも寸法の小さいチップ上におけるカラーフィルタ保護膜の厚さを均一に形成しやすくなる。その結果、厚さが均一な高品質のカラーフィルタ保護膜を得ることができる。

また、次の発明に係る電気光学パネルの製造方法は、前記電気光学パネルの製造方法において、上記カラーフィルタが形成された前記基材のうち、チップ上のみに上記保護膜材料を塗布することを特徴とする。

この電気光学パネルの製造方法は、上記発明と同様の構成を含むので、上記発明の奏する作用・効果も同様に奏する。さらに、上記カラーフィルタが形成された母基材のうち、チップ上のみに上記保護膜材料を塗布するので、必要な領域のみに保護膜材料を塗布できる。これにより、保護膜材料の無駄を低減し、製造コストを抑えることができる。

また、次の発明に係る電気光学パネルの製造方法は、前記電気光学パネルの製造方法において、上記カラーフィルタ上に吐出する上記保護膜材料の液滴間隔、又は液滴の質量のうち少なくとも一方を変化させることにより、前記カラーフィルタの膜厚を制御することを特徴とする。これにより、保護膜材料の種類が同一であれば、容易にカラーフィルタ保護膜の膜厚を制御できる。

また、次の発明に係る電子機器の製造方法は、基材にカラーフィルタを形成するフィルタ形成工程と、当該カラーフィルタ表面を改質する表面改質工程と、ノズルが一方向に向かって配列された液滴吐出手段により前記カラーフィルタ上へ樹脂と溶媒とを含む保護膜材料の液滴を塗布する保護膜塗布工程と、前記溶媒を乾燥させて前記カラーフィルタの保護膜を形成する保護膜形成工程と、保護膜形成後の前記基材に所定の部材又は部品を取り付けて電気光学パネルを製造する工程と、前記電気光学パネルに実装部品を実装する工程と、を含み、前記ノズルの配列方向における上記液滴の間隔は、前記ノズルの配列方向に対して垂直な方向における上記液滴の間隔より大きいことを特徴とする。

この電子機器の製造方法は、ノズルの配列方向における液滴間隔を、ノズルの配列方向に対して垂直な方向よりも大きくして、保護膜材料をカラーフィルタ上へ塗布する。これにより、保護膜材料の塗布速度を低下させずにカラーフィルタ保護膜を形成することができるので、電子機器の生産性を向上させることができる。

また、次の発明に係る電気光学パネルは、表面改質処理されたカラーフィルタ上に、第１の方向における液滴の間隔と、当該第１の方向に対して垂直な方向における液滴の間隔とを異ならせて、樹脂と溶媒とを含む保護膜材料を塗布してなるカラーフィルタ基板と、当該カラーフィルタ基板に対向配置される基板と、対向配置される前記基板の間に保持される液晶と、を含むことを特徴とする。

この電気光学パネルは、ノズルの配列方向における液滴間隔を、ノズルの配列方向に対して垂直な方向よりも大きくして、保護膜材料をカラーフィルタ上へ塗布する。これにより、保護膜材料の塗布速度を低下させずにカラーフィルタ保護膜を形成することができるので、電気光学パネルの生産性を向上させることができる。

また、次の発明に係る電気光学パネルは、表面改質処理されたカラーフィルタ上に、第１の方向における液滴の間隔と、当該第１の方向に対して垂直な方向における液滴の間隔とを異ならせて、樹脂と溶媒とを含む保護膜材料を塗布してなるカラーフィルタ基板と、マトリックス状に発光素子が形成された発光装置と、を有してなり、前記発光素子の前面に前記カラーフィルタ基板が配置されてなることを特徴とする。

この電気光学パネルは、ノズルの配列方向における液滴間隔を、ノズルの配列方向に対して垂直な方向よりも大きくして、保護膜材料をカラーフィルタ上へ塗布する。これにより、保護膜材料の塗布速度を低下させずにカラーフィルタ保護膜を形成することができるので、マトリックス状に形成された発光素子の前面にカラーフィルタ基板が配置される電気光学パネルの生産性を向上させることができる。

また、次の発明に係る電気光学装置は、上記電気光学パネルを備えたことを特徴とする。このため、保護膜材料の塗布速度を低下させずにカラーフィルタ保護膜を形成することができるので、電気光学装置の生産性を向上させることができる。

また、次の発明に係る電子機器は、上記電気光学パネルを備えたことを特徴とする。このため、保護膜材料の塗布速度を低下させずにカラーフィルタ保護膜を形成することができるので、電子機器の生産性を向上させることができる。

本発明に係る電気光学パネルの製造方法及び電子機器の製造方法、並びに電気光学パネル、電気光学装置及び電子機器は、液滴吐出によってカラーフィルタ保護膜、配向膜、絶縁膜その他の機能膜を形成する際に、前記機能膜形成材の塗布速度低下を抑制できる。

以下、この発明につき図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、この発明を実施するための最良の形態によりこの発明が限定されるものではない。また、下記実施例における構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、あるいは実質的に同一のものが含まれる。なお、本発明に係る電気光学パネルとしては、例えば液晶表示パネルやＤＭＤ（Digital Micromirror Device）表示パネルや有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示パネルが挙げられる。実施例１〜３では、機能液としてカラーフィルタの保護膜材料を用い、機能膜としてカラーフィルタの保護膜を形成する例を説明する。実施例４では、他の機能膜を形成する例を説明する。

図１は、この発明に係る電気光学パネルの構造を示す一部断面図である。この電気光学パネル１００は、カラーフィルタが形成されたカラーフィルタ基板上へ、粘度と表面張力とを所定範囲に調整した保護膜材料を液滴吐出方式により塗布してカラーフィルタの保護膜を形成する点に特徴がある。

図１に示すように、この電気光学パネル１００は、基材１の上にカラーフィルタ１１を表面に形成したカラーフィルタ基板１０ａと、これに対向配置される対向基板１０ｂとの間に液晶１２が封入されている。カラーフィルタ基板１０ａと対向基板１０ｂとの間には、スペーサ１３が配置されており、両基板の間隔ｔを全面にわたって略一定にしてある。

図２は、この発明に係るカラーフィルタ基板を示す一部断面図である。このカラーフィルタ基板１０ａの対向基板１０ｂと対向する側には、カラーフィルタ１１が形成されている。カラーフィルタ１１間には、ブラックマトリクス１７が形成されている。カラーフィルタ１１上には、本発明に係る保護膜材料によってカラーフィルタ保護膜２０（以下ＣＦ保護膜）が形成されている。これにより、基材１上に形成されたカラーフィルタ１１を保護する。

また、ＣＦ保護膜２０上にはＩＴＯ（Indium Tin Oxide）電極１４及び配向膜１６が形成されている。ＣＦ保護膜２０は、ＩＴＯ１４を形成するときの高温からカラーフィルタ１１を保護する機能、及びカラーフィルタ１１間の凹凸を平坦にしてＩＴＯ電極１４の断線及び配向膜１６のラビング不良を抑制する機能を備えている。

対向基板１０ｂには、その内面に、カラーフィルタ１１側の電極と直交するようにして、複数の電極１５がストライプ状に形成されており、これら電極１５上には、配向膜１６が形成されている。なお、前記カラーフィルタ１１は、それぞれ各基板上のＩＴＯ電極１４、電極１５の交差する位置に配置されている。なお、電極３９も、ＩＴＯ等の透明導電材料によって形成されている。次に、ＣＦ保護膜の形成方法を含んだ電気光学パネル、及び当該電気光学パネルの製造方法を含んだ電子機器の製造方法について説明する。

図３−１〜図３−７は、この発明に係る電気光学パネル及び電子機器の製造方法を示す説明図である。図４は、この発明に係る電気光学パネル及び電子機器の製造方法を示すフローチャートである。図５−１〜図５−５は、この発明に係る液滴吐出装置を示す説明図である。まず、図３−１に示すように、基材１上に、フォトリソグラフィあるいはインクジェットやプランジャ等の液滴吐出によってカラーフィルタ１１を形成する（ステップＳ１０１）。

次に、カラーフィルタ１１と、この上に塗布される液状の保護膜材料との濡れ性を向上させるため、図３−２に示すようにカラーフィルタ１１上へ表面改質処理を施し（ステップＳ１０２）、保護膜材料に対する濡れ性を向上させる。濡れ性が悪いと保護膜材料が滴状になりやすくなるので、カラーフィルタ１１上へ保護膜材料が均一に塗布されないからである。また、カラーフィルタ１１間へ保護膜材料が浸透しにくくなり、この部分へ気泡が生ずることもあり、電気光学パネルの表示画像品質を低下させるおそれもあるからである。本実施例においては、ＵＶランプ３を用いて紫外線光を照射することにより表面改質処理を施しているが、この他にも酸素プラズマ処理を適用することができる。特に酸素プラズマ処理によれば、カラーフィルタ１１上の残渣も除去できるので、ＣＦ保護膜２０の品質が高くなり好ましい。

カラーフィルタ１１と、この上に塗布される液状の保護膜材料との濡れ性は、カラーフィルタ１１に対する保護膜材料の接触角βで規定できる（図３−３参照）。本発明に係る電気光学パネルの製造方法においては、前記接触角βは１０度以下が好ましい。この範囲であればカラーフィルタ１１間へ保護膜材料を十分に浸透させ、また、カラーフィルタ１１上へ保護膜材料が均一の厚さで形成できるので、高品質なＣＦ保護膜２０を形成することができる。

表面改質処理が終了したら、図３−４に示すように、液滴吐出によって液状の保護膜材料をカラーフィルタ１１上へ塗布する（ステップＳ１０３）。ここで、図５を用いて保護膜材料の塗布について説明する。本発明においては、液滴吐出としてインクジェットを使用する。液滴吐出装置５０は、液滴吐出ヘッド５２とステージ６０とを備えている。液滴吐出ヘッド５２には、タンク５６から供給チューブ５８を介して液体の保護膜材料が供給される。

図５−２に示すように、液滴吐出ヘッド５２は、配列幅Ｈの間に複数のノズル５４が一定のピッチＰで配列されている。また、それぞれのノズル５４はピエゾ素子を備えており、制御装置６５からの指令によって、任意のノズル５４から保護膜材料の液滴を吐出する。また、ピエゾ素子に与える駆動パルスを変化させることにより、ノズル５４から吐出される保護膜材料の吐出量を変化させることができる。なお、制御装置６５は、パーソナルコンピュータやワークステーションを使用してもよい。

また、図５−１に示すように、液滴吐出ヘッド５２は、当該ヘッド中心に垂直な回転軸Ａを回転中心として回転軸Ａの周りを回転可能となっている。図５−４、図５−５に示すように、液滴吐出ヘッド５２を回転軸Ａの周りに回転させて、ノズル５４の配列方向とＸ方向とに角度θを与えると、見かけ上ノズル５４のピッチをＰ'＝Ｐ×Ｓｉｎθとすることができる。これにより、カラーフィルタ基板１０ａの塗布領域や保護膜材料の種類その他の塗布条件に応じて、ノズル５４のピッチを変更することができる。カラーフィルタ基板１０ａはステージ６０に設置されている。ステージ６０は、Ｙ方向（副走査方向）に移動でき、また、ステージ６０中心に垂直な回転軸Ｂを回転中心として回転軸Ｂの周りに回転できる。

液滴吐出ヘッド５２は、図５−１中Ｘ方向（主走査方向）に往復して、その間に保護膜材料の液滴をカラーフィルタ基板１０ａ上へノズル５４の配列幅Ｈで吐出する。一回の走査で保護膜材料を塗布したら、ステージ６０がＹ方向にノズル５４の配列幅Ｈだけ移動して、液滴吐出ヘッド５２は次の領域へ保護膜材料を吐出する。液滴吐出ヘッド５２の動作、ノズル５４の吐出及びステージ６０の動作は、制御装置６５によって制御される。これらの動作パターンを予めプログラムしておけば、カラーフィルタ基板１０ａの塗布領域や保護膜材料の種類その他の塗布条件に応じて塗布パターンを変更することも容易である。上記動作を繰り返して、カラーフィルタ基板１０ａの全領域に保護膜材料を塗布することができる。これと同様に、ステージ６０がＹ方向に移動している時に液滴吐出ヘッド５２をＸ方向に配列幅Ｈだけ移動させ、次の領域へ保護膜材料を吐出することもできる。

図６−１、図６−２は、保護膜材料が塗布された状態を示す平面図である。カラーフィルタ基板１０ａ上には、保護膜材料の液滴が主走査方向（Ｘ方向）に１０μｍ、副走査方向（Ｙ方向）に１４０μｍの間隔で塗布されている。副走査方向における液滴の間隔ｙは、ノズル５４のピッチＰ（実施例１では１４０μｍ）と同じである。主走査方向における液滴の間隔ｘは、液滴吐出ヘッド５２の走査速度と吐出周波数とに依存する。

実施例１においては、保護膜材料１滴あたりの質量ｍを２０ｎｇとしているが、上記液滴間隔においては、保護膜材料の溶媒を揮発させた後に膜厚ｓ＝１μｍのＣＦ保護膜２０を形成することができる。保護膜材料が同一の場合、保護膜材料１滴あたりの質量と、カラーフィルタ基板１０ａ上の主、副走査方向における液滴間隔ｘ及びｙによって、ＣＦ保護膜２０の膜厚を制御することができる。すなわち、ＣＦ保護膜２０の膜厚ｓは、上記ｍ、ｘ、ｙをパラメータとして決定することができる。本発明においては、これらのパラメータはすべて制御可能なので、これらのうち少なくとも１個を調整することで、膜厚ｓを制御することができる。

保護膜材料１滴あたりの質量ｍが２０ｎｇのとき、カラーフィルタ基板１０ａ上における保護膜材料は、直径が約２００μｍの円形に広がる。このため、上記ｘ及びｙの値であれば隣接する保護膜材料の液滴はすべてつながって一体となる。カラーフィルタ基板１０ａ上における保護膜材料の直径をｄとすると、図６−２に示すように、ｘ及びｙがともにｄ×√２／２を超えると保護膜材料の液滴がつながらなくなる。したがって、カラーフィルタ基板１０ａ上における保護膜材料の液滴間隔は、ｘ及びｙがともにｄ×√２／２を超えない範囲で定める必要がある。すなわち、カラーフィルタ基板１０ａ上に、隣接して配置されて四角形を形成する４個の液滴が、すべて重なる位置にあることが必要である。

ここで、副走査方向における液滴の間隔ｙはノズル５４のピッチＰに依存するため、これを小さくすると同じノズル数であれば、ノズル５４の配列幅Ｈも小さくなる。したがって、ノズル５４のピッチを小さくすると、ノズル数を増やさない限り保護膜材料の塗布時間は長くなる。本発明では、ｘ及びｙがともにｄ×√２／２以下なので、ｙがｘの１４倍であっても主走査方向におけるノズル５４のピッチＰを変更せずにカラーフィルタ基板１０ａ上における保護膜材料の液滴をつなげることができる。主走査方向に対しては、吐出の駆動周波数を高くすれば高密度で液滴を塗布できる。これによって、保護膜材料の塗布速度を低下させずにＣＦ保護膜２０を形成することができる。

ここで、カラーフィルタに対する保護膜材料の接触角β（図３−３）は１０度以下とすることが好ましい。このようにすれば、カラーフィルタに対する保護膜材料の濡れ性が十分に高くなるので、保護膜材料が広がって隣接する液滴と一体となる。これによって、ノズルの配列方向の液滴間隔を、ノズルの配列方向に対して垂直な方向よりも大きくしたとしても、均等な膜厚でカラーフィルタ保護膜を形成することができる。

図７−１、図７−２は、保護膜材料の塗布パターンを示す説明図である。図７を用いて、保護膜材料の塗布パターンについて説明する。図７−１は、母基材１０ａ″の全面に保護膜材料を塗布した例を示し、図７−２は、カラーフィルタ１１を形成した領域、すなわち、基材（チップ）１５上へ部分的に保護膜材料を塗布した例を示す。図７−２に示した塗布例の場合、必要な領域のみに保護膜材料を塗布するので、保護膜材料の無駄が少なくなる。一方、図７−１に示した塗布例の場合、母基材１０ａ″の全面に保護膜材料を塗布している。このため、母基材１０ａ″よりも寸法の小さいチップ１５上においては、ＣＦ保護膜の厚さを均一に形成しやすい。製造コストとの兼ね合いで、いずれかの塗布パターンを選択することができる。ここで、チップ１５が、１個の電気光学パネルを構成する。なお、これらの塗布パターンに対応した液滴吐出ヘッド５２及びステージ６０の制御データを制御装置６５へ入力しておくことで、容易にこれらの塗布パターンで保護膜材料を塗布できる。

液滴吐出においては、ノズル５４から安定して保護膜材料の液滴を吐出する必要がある。このため、保護膜材料は、液滴吐出に適した物性値に調整されている。具体的には、２０℃における粘度が１〜２０ｍＰａ・ｓ、同じく２０℃における表面張力が２０〜７０ｍＮ／ｍの範囲である。この範囲であれば、安定してノズル５４へ保護膜材料を供給でき、また、ノズル５４の出口における保護膜材料液のメニスカスも安定する。これによって、ノズル５４から安定して保護膜材料の液滴を吐出して、高品質のＣＦ保護膜２０を形成することができる。また、この粘度及び表面張力の範囲であれば、液滴吐出に要するエネルギーも無闇に高くならないので、ピエゾ素子の吐出能力を超えることもない。

さらには、２０℃における粘度が４〜８ｍＰａ・ｓ、同じく２０℃における表面張力が２５〜３５ｍＮ／ｍの範囲がより好ましい。この範囲であれば、さらに安定してノズル５４へ保護膜材料を供給でき、また、ノズル５４出口における保護膜材料液のメニスカスも安定する。これによって、ノズル５４から吐出する保護膜材料の液滴はさらに安定し、高品質のＣＦ保護膜２０を形成することができる。

機能液の一つである保護膜材料について説明する。この保護膜材料には、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、イミド樹脂、フッ素樹脂のうち、少なくとも一が含まれている。保護膜材料中の溶媒が揮発した後、これらの樹脂がカラーフィルタ１１のＣＦ保護膜２０となる。また、前記樹脂の溶媒として、グリセリン、ジエチレングリコール、メタノール、エタノール、水、１、３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、エトキシエタノール、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸ブチル、２−ヘプタノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、γ−ブチロラクトン、酢酸ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルのうち、少なくとも一つを含む。上記樹脂と上記溶媒との混合比によって、粘度や表面張力を調整する。

これらの溶媒のうち、沸点が高いものが好ましい。沸点が高い溶媒は乾燥が遅くなるので、保護膜材料をカラーフィルタ基板１０ａ上へ塗布した際にただちに乾燥しない。その結果、カラーフィルタ基板１０ａ上で保護膜材料の厚さが均一になるまでの時間を十分に確保することができるので、ＣＦ保護膜２０の膜厚を均一にすることができる。また、ノズル近傍において、固形分の析出によるノズルの目詰まりを防止することができる。このような効果を得るためには、溶媒の沸点が１８０℃以上であることが好ましく、より均一な厚さのＣＦ保護膜２０を形成するためには、２００℃以上であることが好ましい。上記溶媒の中では、酢酸ジエチレングリコールモノブチルエーテルの沸点が２４６℃なので、本発明に係る電気光学パネルの製造方法には好適である。また、上記溶媒を組み合わせることにより、所望の沸点に調整して使用してもよい。

さらに、保護膜材料と板状部材であるノズルプレート５４ｐとの接触角α（図５−２、図５−３参照）は３０度〜１７０度の範囲が好ましい。保護膜材料とノズルプレート５４ｐとの接触角αが小さすぎると、保護膜材料がノズル５４から吐出する際に、保護膜材料がノズルプレート５４ｐへ引き寄せられる。その結果、保護膜材料の液滴がカラーフィルタ基板１０ａ上へ付着する位置がずれてしまい、ＣＦ保護膜２０の膜厚が不均一になる場合がある。接触角αが上記範囲であれば、保護膜材料がノズルプレート５４ｐへ引き寄せられることもなく、保護膜材料の液滴はカラーフィルタ基板１０ａ上の所定位置へ付着する。さらに安定して保護膜材料の液滴を所定位置へ付着させるには、上記接触角αは５０度以上が好ましく、さらには８０度以上が好ましい。

保護膜材料とノズルプレート５４ｐとの接触角αを上記範囲に収めるためには、例えばノズルプレート５４ｐに撥液処理を施す。撥液処理は、撥液材料をノズルプレート５４ｐへコーティングすることで実現できる。このような材料としては、フッ素を含むシランカップリング剤を使用することができる。具体的には、撥液材料としてトリフロロプロピルトリクロロシランを用い、エタノールを溶剤としてこれを濃度０．１％に希釈したものをノズルプレート５４ｐへコーティングする。なお、トリフロロプロピルトリクロロシランの他にも、ヘプタデカフロロデシルトリクロロシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、ヘプタデカトリフルオロデシルトリメトキシラン等のフッ素を含むシランカップリング剤を表面改質剤として使用することができる。また、撥液とは、ノズルプレート５４ｐが保護膜材料をはじくことをい、両者の濡れ性を悪くする処理が撥液処理である。

カラーフィルタ基板１０ａ上へ保護膜材料を塗布したら、保護膜材料中の溶媒を揮発させるため、保護膜材料を乾燥させる（ステップＳ１０４）。本実施例においては、図３−５に示すように、保護膜材料の液滴を塗布した基材１をホットプレート６７上へ載せて、保護膜材料中の溶媒を揮発させる。このとき、ＣＦ保護膜２０の表面を平滑にするために、比較的低温度で、ある程度の時間をかけて乾燥させることが好ましい。具体的には７０℃以下で５分以上の時間を要することが好ましい。ＣＦ保護膜２０の表面状態をより平滑にするためには、５０℃以下で１０分以上の時間を要することが好ましく、さらには３０℃以下で１時間以上の時間をようすることが好ましい。なお、乾燥はホットプレート６７に限られず、赤外線ヒータの加熱により乾燥させたり、オーブン内で乾燥させたりしてもよい。このようにして保護膜材料中の溶媒を揮発させて、カラーフィルタ基板１０ａへＣＦ保護膜２０が形成される。

次に、ＣＦ保護膜２０上へＩＴＯ１４及び配向膜１６を形成する（ステップＳ１０５）。その後、配向膜１６のラビング工程、カラーフィルタ基板１０ａと対向基板１０ｂとの貼り合わせ工程及び液晶の注入工程を経て（ステップＳ１０６）、電気光学パネル１００が完成する。図３−６に示すように、完成した電気光学パネル１００にハーネスやＦＰＣ（Flexible Printed Circuit）７、あるいはドライバＩＣ５が実装される（ステップＳ１０７）。そして、図３−７に示すように、携帯電話やＰＤＡ等の電子機器９へ取り付けられて、これらの電子機器が完成する（ステップＳ１０８）。

以上、本発明によれば、ノズルの配列方向における液滴間隔を、ノズルの配列方向に対して垂直な方向よりも大きくしている。これにより、保護膜材料の塗布速度を低下させずにカラーフィルタ保護膜を形成することができるので、電気光学パネルの生産性を向上させることができる。また、本発明では、液滴吐出を用いてＣＦ保護膜を形成するので、従来のスピンコート法と比較して保護膜材料の使用量が低減できる。また、カラーフィルタ基板の裏面洗浄工程が不要になるので、それだけ電気光学パネル、電気光学機器の製造時間を短縮できる上、洗浄液も不要となる。

図８は、実施例２に係る電気光学パネル及び電子機器の製造方法を示すフローチャートである。また、図９は、実施例２に係る電気光学パネルのＣＦ基板を示す説明図である。実施例２に係る電気光学パネル及び電子機器の製造方法は、バンク（隔壁）を設けてその中にカラーフィルタ１１を形成し、さらにカラーフィルタ１１上へＣＦ保護膜２０を形成する点が異なる。その他の構成は実施例１と同様なのでその説明を省略するとともに、同一の構成要素には同一の符号を付す。

まず、基材１にバンク３０を形成して（ステップＳ２０１）、カラーフィルタ１１が形成される区画を形成する。バンク３０は、例えばスピンコートによって撥インク性の樹脂を所定の厚さに塗布し、次にフォトリソグラフィ等のパターニングを用いて前記樹脂の薄膜を格子状に仕切ることによって形成する。撥インク性とは、着色した樹脂を溶媒に溶解したフィルタインクに対する濡れ性が悪い性質である。

次にカラーフィルタ１１を形成する（ステップＳ２０２）。カラーフィルタ１１は、着色した樹脂を溶媒に溶解したカラーフィルタインクを液滴吐出方式を用いてバンク３０で仕切られた区画内へ塗布することにより形成することができる。カラーフィルタインクがバンク３０で仕切られた区画内に向けて、多少ずれて吐出された場合でも、撥インク性の樹脂で形成されるバンク３０によって、カラーフィルタインクを前記区画内へ塗布することができる。なお、液滴吐出には実施例１に係る液滴吐出装置５０（図５参照）を使用することができる。

基材１上にカラーフィルタ１１を形成したら、カラーフィルタ１１に対して表面改質処理を施す（ステップＳ２０３）。この理由は実施例１で述べた通りである。特にバンク３０は撥インク性の樹脂で形成されているので、均一な厚さのＣＦ保護膜２０を形成できるように、バンク３０の部分を十分に表面改質処理する。表面改質処理後、液滴吐出によってカラーフィルタ１１に保護膜材料を塗布する（ステップＳ２０４）。保護膜材料を塗布した後は、乾燥（ステップＳ２０５）及びＩＴＯ、配向膜を形成して（ステップＳ２０６）、カラーフィルタ基板１０ａ'が完成する。その後の工程は、実施例１における電気光学パネル及び電子機器の製造方法のステップＳ１０６〜Ｓ１０８と同様なので、説明を省略する。

このように、バンクで仕切られた区画内にカラーフィルタ１１が形成された電気光学パネルであっても、本発明は適用できる。また、従来のスピンコート法と比較して保護膜材料の使用量が低減でき、また、カラーフィルタ基板の裏面洗浄工程が不要になる分、電気光学パネル、電気光学機器の製造時間を短縮できる。

図１０−１〜図１０−３は、実施例３に係る液滴吐出装置を示す説明図である。この液滴吐出装置５０ａは、液滴吐出としてプランジャを使用する点に特徴がある。プランジャ７０は、先端にノズルヘッド７１が備えられたシリンダ７４と、これに挿入されるピストン７６とで構成されている。ノズルヘッド７１は、図１０−２に示すように、複数のノズル７２が所定ピッチＰで配列されている。また、シリンダ７４内には保護膜材料が溜められており、ピストン７６をノズルヘッド７１方向に移動させることで、保護膜材料がノズル７２から吐出する。

ピストン７６には送りねじ７８が取り付けられており、送りねじ７８が取り付けられたステッピングモータ７３が回転することにより、ピストン７６はノズルヘッド７１方向に移動する。ステッピングモータ７３は、制御部８０からの指令によって所定回転数だけ回転する。送りねじ７８が一回転すると、送りねじ７８のピッチＰＳだけピストン７６が移動する。また、ピストン７６の移動量と保護膜材料の吐出量とは比例関係にあるので、送りねじ７８の回転数によって保護膜材料の吐出量を制御することができる。

カラーフィルタ基板１０ａは、Ｘ−Ｙステージ８２上に設置されており、Ｘ及びＹ方向へ移動可能となっている。プランジャ７０は、ノズル７２の配列方向がＹ方向と並行になるように装置本体５０ｂへ取り付けられている。カラーフィルタ基板１０ａ上へＣＦ保護膜２０を形成する場合には、まず、Ｘ−Ｙステージを移動させて、カラーフィルタ基板１０ａに対する保護膜材料の塗布開始位置を決定する。次に、制御部８０からの指令により、ステッピングモータ７３を所定量回転させることにより、ノズル７２から一定量の保護膜材料を配光基板上へ塗布する。

次に、制御部８０からの指令により、Ｘ−Ｙステージ８２を所定の幅だけＸ方向へ移動させて、同様にノズル７２から一定量の保護膜材料を配光基板上へ塗布する。これをカラーフィルタ基板１０ａの幅まで繰り返すと、カラーフィルタ基板１０ａの幅方向（Ｘ方向）に対して、ノズル７２の配列幅Ｈで保護膜材料を塗布することができる。次に、制御部８０からの指令により、Ｘ−Ｙステージ８２をノズル７２の配列幅ＨだけＹ方向へ移動させて、上記手順を繰り返すことによりＹ方向における次の列に保護膜材料を塗布する。以上の手順をカラーフィルタ基板１０ａのＹ方向にわたって繰り返すことにより、カラーフィルタ基板１０ａ上へＣＦ保護膜２０を形成することができる。このように、液滴吐出にプランジャを使用しても、インクジェットと同様にカラーフィルタ基板１０ａ上へＣＦ保護膜２０を形成することができる。

実施例４では、本発明に係る電気光学パネルの製造方法、あるいは電子機器の製造方法を用いて製造される電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）として、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ装置）、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）、さらにこれら表示装置に形成されてなるアクティブマトリクス基板等を例に、これらの構造及びその製造方法について説明する。なお、アクティブマトリクス基板とは、薄膜トランジスタ、及び薄膜トランジスタに電気的に接続するソース線、データ線が形成された基板を言う。

まず、液晶表示装置や有機ＥＬ装置等に組み込まれるカラーフィルタの製造方法について説明する。この場合、カラーフィルタが機能膜であり、フィルタ材料が機能液となる。図１１は、カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図１２−１〜図１２−５は、製造工程順に示した本実施例のカラーフィルタ６００（フィルタ基体６００Ａ）の模式断面図である。まず、ブラックマトリクス形成工程（ステップＳ３０１）では、図１２−１に示すように、基板（Ｗ）６０１上にブラックマトリクス６０２を形成する。ブラックマトリクス６０２は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、又は樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス６０２を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス６０２を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。

続いて、バンク形成工程（ステップＳ３０２）において、ブラックマトリクス６０２上に重畳する状態でバンク６０３を形成する。即ち、まず図１２−２に示すように、基板６０１及びブラックマトリクス６０２を覆うようにネガ型の透明な感光性樹脂からなるレジスト層６０４を形成する。そして、その上面をマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム６０５で被覆した状態で露光処理を行う。さらに、図１２−３に示すように、レジスト層６０４の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層６０４をパターニングして、バンク６０３を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。このバンク６０３とその下のブラックマトリクス６０２は、各画素領域６０７ａを区画する区画壁部６０７ｂとなり、後の着色層形成工程において機能液滴吐出ヘッド５１により着色層（成膜部）６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。

以上のブラックマトリクス形成工程及びバンク形成工程を経ることにより、上記フィルタ基体６００Ａが得られる。なお、本実施形態においては、バンク６０３の材料として、塗膜表面が疎液（疎水）性となる樹脂材料を用いている。そして、基板（ガラス基板）６０１の表面が親液（親水）性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク６０３（区画壁部６０７ｂ）に囲まれた各画素領域６０７ａ内への液滴の着弾位置精度が向上する。

次に、着色層形成工程（ステップＳ３０３）では、図１２−４に示すように、機能液滴吐出ヘッド５１によって機能液滴を吐出して区画壁部６０７ｂで囲まれた各画素領域６０７ａ内に着弾させる。この場合、機能液滴吐出ヘッド５１を用いて、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の機能液（フィルタ材料）を導入し、実施例１等で説明した電気光学パネルの製造方法により機能液滴の吐出を行う。なお、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライブ配列、モザイク配列及びデルタ配列等がある。

その後、乾燥処理（加熱等の処理）を経て機能液を定着させ、３色の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成する。着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成したならば、保護膜形成工程（ステップＳ３０４）に移り、図１２−５に示すように、基板６０１、区画壁部６０７ｂ、及び着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂの上面を覆うように保護膜６０９を形成する。即ち、基板６０１の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜６０９が形成される。そして、実施例１等で説明した電気光学パネルの製造方法により保護膜６０９を形成した後、カラーフィルタ６００や、次工程の透明電極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの膜付け工程に移行する。

図１３は、カラーフィルタ６００を用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶表示パネル（液晶表示パネル）の概略構成を示す要部断面図である。この液晶表示パネル６２０に、液晶駆動用ＩＣ、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての透過型液晶表示装置が得られる。なお、カラーフィルタ６００は図１２に示したものと同一であるので、対応する部位には同一の符号を付し、その説明は省略する。

この液晶表示パネル６２０は、カラーフィルタ６００、ガラス基板等からなる対向基板６２１、及び、これらの間に挟持されたＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶組成物からなる液晶層６２２により概略構成されており、カラーフィルタ６００を図中上側（観測者側）に配置している。なお、図示していないが、対向基板６２１及びカラーフィルタ６００の外面（液晶層６２２側とは反対側の面）には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板６２１側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。

カラーフィルタ６００の保護膜６０９上（液晶層側）には、図１３において左右方向に長尺な短冊状の第１電極６２３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極６２３のカラーフィルタ６００側とは反対側の面を覆うように第１配向膜６２４が形成されている。一方、対向基板６２１におけるカラーフィルタ６００と対向する面には、カラーフィルタ６００の第１電極６２３と直交する方向に長尺な短冊状の第２電極６２６が所定の間隔で複数形成され、この第２電極６２６の液晶層６２２側の面を覆うように第２配向膜６２７が形成されている。これらの第１電極６２３及び第２電極６２６は、ＩＴＯなどの透明導電材料により形成されている。

液晶層６２２内に設けられたスペーサ６２８は、液晶層６２２の厚さ（セルギャップ）を一定に保持するための部材である。また、シール材６２９は液晶層６２２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するための部材である。なお、第１電極６２３の一端部は引き回し配線６２３ａとしてシール材６２９の外側まで延在している。そして、第１電極６２３と第２電極６２６とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ６００の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが位置するように構成されている。

通常の製造工程では、カラーフィルタ６００に、第１電極６２３のパターニング及び第１配向膜６２４の塗布を行ってカラーフィルタ６００側の部分を作成するとともに、これとは別に対向基板６２１に、第２電極６２６のパターニング及び第２配向膜６２７の塗布を行って対向基板６２１側の部分を作成する。前記第１配向膜６２４及び第２配向膜６２７は、実施例１等で説明した電気光学パネルの製造方法により形成することができる。その後、対向基板６２１側の部分にスペーサ６２８及びシール材６２９を作り込み、この状態でカラーフィルタ６００側の部分を貼り合わせる。次いで、シール材６２９の注入口から液晶層６２２を構成する液晶を注入し、注入口を閉止する。その後、両偏光板及びバックライトを積層する。

実施例１の液滴吐出装置５０は、例えば上記のセルギャップを構成するスペーサ材料（機能液）を塗布するとともに、対向基板６２１側の部分にカラーフィルタ６００側の部分を貼り合わせる前に、シール材６２９で囲んだ領域に液晶（機能液）を均一に塗布することが可能である。また、上記のシール材６２９の印刷を、機能液滴吐出ヘッド５１で行うことも可能である。さらに、第１・第２両配向膜６２４、６２７の塗布を機能液滴吐出ヘッド５１で行うことも可能である。これらの機能液を吐出する際には、実施例１等で説明した電気光学パネルの製造方法を用いる。

図１４は、本実施例において製造したカラーフィルタ６００を用いた液晶表示パネルの第２の例の概略構成を示す要部断面図である。この液晶表示パネル６３０が上記液晶表示パネル６２０と大きく異なる点は、カラーフィルタ６００を図中下側（観測者側とは反対側）に配置した点である。この液晶表示パネル６３０は、カラーフィルタ６００とガラス基板等からなる対向基板６３１との間にＳＴＮ液晶からなる液晶層６３２が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板６３１及びカラーフィルタ６００の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。

カラーフィルタ６００の保護膜６０９上（液晶層６３２側）には、図中奥行き方向に長尺な短冊状の第１電極６３３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極６３３の液晶層６３２側の面を覆うように第１配向膜６３４が形成されている。対向基板６３１のカラーフィルタ６００と対向する面上には、カラーフィルタ６００側の第１電極６３３と直交する方向に延在する複数の短冊状の第２電極６３６が所定の間隔で形成され、この第２電極６３６の液晶層６３２側の面を覆うように第２配向膜６３７が形成されている。

液晶層６３２には、この液晶層６３２の厚さを一定に保持するためのスペーサ６３８と、液晶層６３２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するためのシール材６３９が設けられている。そして、上記した液晶表示パネル６２０と同様に、第１電極６３３と第２電極６３６との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ６００の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが位置するように構成されている。

図１５は、本発明を適用したカラーフィルタ６００を用いて液晶表示パネルを構成した第３の例を示したもので、透過型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）型液晶表示パネルの概略構成を示す分解斜視図である。この液晶表示パネル６５０は、カラーフィルタ６００を図中上側（観測者側）に配置したものである。

この液晶表示パネル６５０は、カラーフィルタ６００と、これに対向するように配置された対向基板６５１と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ６００の上面側（観測者側）に配置された偏光板６５５と、対向基板６５１の下面側に配設された偏光板（図示せず）とにより概略構成されている。カラーフィルタ６００の保護膜６０９の表面（対向基板６５１側の面）には液晶駆動用の電極６５６が形成されている。この電極６５６は、ＩＴＯ等の透明導電材料からなり、後述の画素電極６６０が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極６５６の画素電極６６０とは反対側の面を覆った状態で配向膜６５７が設けられている。

対向基板６５１のカラーフィルタ６００と対向する面には絶縁層６５８が形成されており、この絶縁層６５８上には、走査線６６１及び信号線６６２が互いに直交する状態で形成されている。そして、これらの走査線６６１と信号線６６２とに囲まれた領域内には画素電極６６０が形成されている。なお、実際の液晶表示パネルでは、画素電極６６０上に配向膜が設けられるが、図示を省略している。

また、画素電極６６０の切欠部と走査線６６１と信号線６６２とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体、及びゲート電極とを具備する薄膜トランジスタ６６３が組み込まれて構成されている。そして、走査線６６１と信号線６６２に対する信号の印加によって薄膜トランジスタ６６３をオン・オフして画素電極６６０への通電制御を行うことができるように構成されている。なお、上記の各例の液晶表示パネル６２０、６３０、６５０は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶表示パネルあるいは半透過反射型の液晶表示パネルとすることもできる。次に、有機ＥＬ装置について説明する。

図１６は、有機ＥＬ表示装置の表示領域の要部断面図である。この有機ＥＬ表示装置７００は、基板（Ｗ）７０１上に、回路素子部７０２、発光素子部７０３及び陰極７０４が積層された状態で概略構成されている。この有機ＥＬ表示装置７００においては、発光素子部７０３から基板７０１側に発した光が、回路素子部７０２及び基板７０１を透過して観測者側に出射されるとともに、発光素子部７０３から基板７０１の反対側に発した光が陰極７０４により反射された後、回路素子部７０２及び基板７０１を透過して観測者側に出射されるようになっている。

回路素子部７０２と基板７０１との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜７０６が形成され、この下地保護膜７０６上（発光素子部７０３側）に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜７０７が形成されている。この半導体膜７０７の左右の領域には、ソース領域７０７ａ及びドレイン領域７０７ｂが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域７０７ｃとなっている。

また、回路素子部７０２には、下地保護膜７０６及び半導体膜７０７を覆う透明なゲート絶縁膜７０８が形成され、このゲート絶縁膜７０８上の半導体膜７０７のチャネル領域７０７ｃに対応する位置には、例えばＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等から構成されるゲート電極７０９が形成されている。このゲート電極７０９及びゲート絶縁膜７０８上には、透明な第１層間絶縁膜７１１ａと第２層間絶縁膜７１１ｂが形成されている。また、第１、第２層間絶縁膜７１１ａ、７１１ｂを貫通して、半導体膜７０７のソース領域７０７ａ、ドレイン領域７０７ｂにそれぞれ連通するコンタクトホール７１２ａ、７１２ｂが形成されている。ゲート電極７０９及びゲート絶縁膜７０８は、これらを構成する材料を溶媒に溶解させた機能液の液滴を、実施例１等に係る電気光学パネルの製造方法により、吐出させることにより形成できる。

そして、第２層間絶縁膜７１１ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極７１３が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極７１３は、コンタクトホール７１２ａを通じてソース領域７０７ａに接続されている。また、第１層間絶縁膜７１１ａ上には電源線７１４が配設されており、この電源線７１４は、コンタクトホール７１２ｂを通じてドレイン領域７０７ｂに接続されている。

このように、回路素子部７０２には、各画素電極７１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ７１５がそれぞれ形成されている。上記発光素子部７０３は、複数の画素電極７１３上の各々に積層された機能層７１７と、各画素電極７１３及び機能層７１７の間に備えられて各機能層７１７を区画するバンク部７１８とにより概略構成されている。これら画素電極７１３、機能層７１７、及び、機能層７１７上に配設された陰極７０４によって発光素子が構成されている。なお、画素電極７１３は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極７１３の間にバンク部７１８が形成されている。

バンク部７１８は、例えばＳｉＯ、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂等の無機材料により形成される無機物バンク層７１８ａ（第１バンク層）と、この無機物バンク層７１８ａ上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層７１８ｂ（第２バンク層）とにより構成されている。このバンク部７１８の一部は、画素電極７１３の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。そして、各バンク部７１８の間には、画素電極７１３に対して上方に向けて次第に拡開した開口部７１９が形成されている。

上記機能層７１７は、開口部７１９内において画素電極７１３上に積層状態で形成された正孔注入／輸送層７１７ａと、この正孔注入／輸送層７１７ａ上に形成された発光層７１７ｂとにより構成されている。なお、この発光層７１７ｂに隣接してその他の機能を有する他の機能層をさらに形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成する事も可能である。正孔注入／輸送層７１７ａは、画素電極７１３側から正孔を輸送して発光層７１７ｂに注入する機能を有する。この正孔注入／輸送層７１７ａは、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物（機能液）を吐出することで形成される。第１組成物（機能液）を吐出する際には、実施例１等で説明した電気光学パネルの製造方法を用いる。正孔注入／輸送層形成材料としては、公知の材料を用いる。

発光層７１７ｂは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、又は青色（Ｂ）のいずれかに発光するもので、発光層形成材料（発光材料）を含む第２組成物（機能液）を吐出することで形成される。第２組成物（機能液）を吐出する際には、実施例１等で説明した電気光学パネルの製造方法を用いることができる。第２組成物の溶媒（非極性溶媒）としては、正孔注入／輸送層７１７ａに対して不溶な公知の材料を用いることが好ましく、このような非極性溶媒を発光層７１７ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層７１７ａを再溶解させることなく発光層７１７ｂを形成することができる。

そして、発光層７１７ｂでは、正孔注入／輸送層７１７ａから注入された正孔と、陰極７０４から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。陰極７０４は、発光素子部７０３の全面を覆う状態で形成されており、画素電極７１３と対になって機能層７１７に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極７０４の上部には図示しない封止部材が配置される。

図１７は、有機ＥＬ表示装置の製造工程を示すフローチャートである。図１８〜図２５は、有機ＥＬ表示装置の製造工程を示す説明図である。次に、上記の有機ＥＬ表示装置７００の製造工程を図１７〜図２５を参照して説明する。この有機ＥＬ表示装置７００は、図１７に示すように、バンク部形成工程（ステップＳ４０１）、表面処理工程（ステップＳ４０２）、正孔注入／輸送層形成工程（ステップＳ４０３）、発光層形成工程（ステップＳ４０４）、及び対向電極形成工程（ステップＳ４０５）を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。

まず、バンク部形成工程（ステップＳ４０１）では、図１８に示すように、第２層間絶縁膜７１１ｂ上に無機物バンク層７１８ａを形成する。この無機物バンク層７１８ａは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層７１８ａの一部は画素電極７１３の周縁部と重なるように形成される。無機物バンク層７１８ａを形成したならば、図１９に示すように、無機物バンク層７１８ａ上に有機物バンク層７１８ｂを形成する。この有機物バンク層７１８ｂも無機物バンク層７１８ａと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。このようにしてバンク部７１８が形成される。また、これにともない、各バンク部７１８間には、画素電極７１３に対して上方に開口した開口部７１９が形成される。この開口部７１９は、画素領域を規定する。

表面処理工程（ステップＳ４０２）では、親液化処理及び撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層７１８ａの第１積層部７１８ａａ及び画素電極７１３の電極面７１３ａであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極７１３であるＩＴＯの洗浄等も兼ねている。また、撥液化処理は、有機物バンク層７１８ｂの壁面７１８ｓ及び有機物バンク層７１８ｂの上面７１８ｔに施され、例えば４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）される。この表面処理工程を行うことにより、機能液滴吐出ヘッド５１を用いて機能層７１７を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部７１９から溢れ出るのを防止することが可能となる。

そして、上述した工程を経ることにより、表示装置基体７００Ａが得られる。この表示装置基体７００Ａは、図３に示した実施例１に係る液滴吐出装置５０のステージ６０に載置され、実施例１等で説明した電気光学パネルの製造方法を用いることにより、以下の正孔注入／輸送層形成工程（ステップＳ４０３）及び発光層形成工程（ステップＳ４０４）が行われる。図２０に示すように、正孔注入／輸送層形成工程（ステップＳ４０３）では、機能液滴吐出ヘッド５１から正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を画素領域である各開口部７１９内に吐出する。その後、図２１に示すように、乾燥処理及び熱処理を行い、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極（電極面７１３ａ）７１３上に正孔注入／輸送層７１７ａを形成する。

次に発光層形成工程（ステップＳ４０４）について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入／輸送層７１７ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層７１７ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。しかしその一方で、正孔注入／輸送層７１７ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層７１７ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層７１７ａと発光層７１７ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層７１７ｂを均一に塗布できないおそれがある。

そこで、非極性溶媒ならびに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層７１７ａの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理（表面改質処理）を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第２組成物の非極性溶媒と同一溶媒又はこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入／輸送層７１７ａ上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。このような処理を施すことで、正孔注入／輸送層７１７ａの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、実施例１等で説明した電気光学パネルの製造方法を用いて、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層７１７ａに均一に塗布することができる。

そして次に、図２２に示すように、各色のうちのいずれか（図２２の例では青色（Ｂ））に対応する発光層形成材料を含有する第２組成物を機能液滴として画素領域（開口部７１９）内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第２組成物は、正孔注入／輸送層７１７ａ上に広がって開口部７１９内に満たされる。なお、万一、第２組成物が画素領域から外れてバンク部７１８の上面７１８ｔ上に着弾した場合でも、この上面７１８ｔは、上述したように撥液処理が施されているので、第２組成物が開口部７１９内に転がり込み易くなっている。

その後、乾燥工程等を行う事により、吐出後の第２組成物を乾燥処理し、第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図２３に示すように、正孔注入／輸送層７１７ａ上に発光層７１７ｂが形成される。この図の場合、青色（Ｂ）に対応する発光層７１７ｂが形成されている。同様に、機能液滴吐出ヘッド５１を用い、実施例１等で説明した電気光学パネルの製造方法を用いて、図２４に示すように、上記した青色（Ｂ）に対応する発光層７１７ｂの場合と同様の工程を順次行い、他の色（赤色（Ｒ）及び緑色（Ｇ））に対応する発光層７１７ｂを形成する。なお、発光層７１７ｂの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決める事も可能である。また、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライブ配列、モザイク配列及びデルタ配列等がある。

以上のようにして、画素電極７１３上に機能層７１７、即ち、正孔注入／輸送層７１７ａ及び発光層７１７ｂが形成される。そして、対向電極形成工程（ステップＳ４０５）に移行する。対向電極形成工程（ステップＳ４０５）では、図２５に示すように、発光層７１７ｂ及び有機物バンク層７１８ｂの全面に陰極７０４（対向電極）を、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等によって形成する。この陰極７０４は、本実施例においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。この陰極７０４の上部には、電極としてのＡｌ膜、Ａｇ膜や、その酸化防止のためのＳｉＯ₂、ＳｉＮ等の保護層が適宜設けられる。このようにして陰極７０４を形成した後、この陰極７０４の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、有機ＥＬ表示装置７００が得られる。

図２６は、プラズマ型表示装置の要部分解斜視図である。なお、同図ではプラズマ型表示装置（以下ＰＤＰ表示装置）８００を、その一部を切り欠いた状態で示してある。このＰＤＰ表示装置８００は、互いに対向して配置された第１基板８０１、第２基板８０２、及びこれらの間に形成される放電表示部８０３を含んで概略構成される。放電表示部８０３は、複数の放電室８０５により構成されている。これらの複数の放電室８０５のうち、赤色放電室８０５Ｒ、緑色放電室８０５Ｇ、青色放電室８０５Ｂの３つの放電室８０５が組になって１つの画素を構成するように配置されている。

第１基板８０１の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極８０６が形成され、このアドレス電極８０６と第１基板８０１の上面とを覆うように誘電体層８０７が形成されている。誘電体層８０７上には、各アドレス電極８０６の間に位置し、且つ各アドレス電極８０６に沿うように隔壁８０８が立設されている。この隔壁８０８は、図示するようにアドレス電極８０６の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極８０６と直交する方向に延設された図示しないものを含む。そして、この隔壁８０８によって仕切られた領域が放電室８０５となっている。

放電室８０５内には蛍光体８０９が配置されている。蛍光体８０９は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室８０５Ｒの底部には赤色蛍光体８０９Ｒが、緑色放電室８０５Ｇの底部には緑色蛍光体８０９Ｇが、青色放電室８０５Ｂの底部には青色蛍光体８０９Ｂが各々配置されている。

第２基板８０２の図中下側の面には、上記アドレス電極８０６と直交する方向に複数の表示電極８１１が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層８１２、及びＭｇＯなどからなる保護膜８１３が形成されている。第１基板８０１と第２基板８０２とは、アドレス電極８０６と表示電極８１１が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極８０６と表示電極８１１は図示しない交流電源に接続されている。そして、各電極８０６、８１１に通電することにより、放電表示部８０３において蛍光体８０９が励起発光し、カラー表示が可能となる。

本実施形態においては、上記アドレス電極８０６、表示電極８１１、及び蛍光体８０９を、実施例１等で説明した電気光学パネルの製造方法を用い用いて形成することができる。以下、第１基板８０１におけるアドレス電極８０６の形成工程を例示する。この場合、第１基板８０１を、液滴吐出装置５０のステージ６０に載置された状態で以下の工程が行われる。まず、機能液滴吐出ヘッド５１により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴として、実施例１等で説明した電気光学パネルの製造方法を用いてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、又はニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。

補充対象となるすべてのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極８０６が形成される。ところで、上記においてはアドレス電極８０６の形成を例示したが、上記表示電極８１１及び蛍光体８０９についても上記各工程を経ることにより形成することができる。表示電極８１１の形成の場合、アドレス電極８０６の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴として、実施例１等で説明した電気光学パネルの製造方法により、表示電極形成領域に着弾させる。また、蛍光体８０９の形成の場合には、各色（Ｒ、Ｇ、Ｂ）に対応する蛍光材料を含んだ液体材料（機能液）を機能液滴吐出ヘッド５１から液滴として吐出する。このとき、実施例１等で説明した電気光学パネルの製造方法を用いて対応する色の放電室８０５内に着弾させる。

次に、図２７は、電子放出表示装置の要部断面図である。なお、同図では電子放出表示装置（ＦＥＤ装置あるいはＳＥＤ装置ともいう：以下、単にＦＥＤ表示装置９００と称する）９００を、その一部を断面として示してある。このＦＥＤ表示装置９００は、互いに対向して配置された第１基板９０１、第２基板９０２、及びこれらの間に形成される電界放出表示部９０３を含んで概略構成される。電界放出表示部９０３は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部９０５により構成されている。

第１基板９０１の上面には、カソード電極９０６を構成する第１素子電極９０６ａ及び第２素子電極９０６ｂが相互に直交するように形成されている。また、第１素子電極９０６ａ及び第２素子電極９０６ｂで仕切られた部分には、ギャップ９０８を形成した導電性膜９０７が形成されている。すなわち、第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂ及び導電性膜９０７により複数の電子放出部９０５が構成されている。導電性膜９０７は、例えば酸化パラジウム（ＰｄＯ）等で構成され、またギャップ９０８は、導電性膜９０７を成膜した後、フォーミング等で形成される。

第２基板９０２の下面には、カソード電極９０６に対峙するアノード電極９０９が形成されている。アノード電極９０９の下面には、格子状のバンク部９１１が形成され、このバンク部９１１で囲まれた下向きの各開口部９１２に、電子放出部９０５に対応するように蛍光体９１３が配置されている。蛍光体９１３は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの色の蛍光を発光するもので、各開口部９１２には、赤色蛍光体９１３Ｒ、緑色蛍光体９１３Ｇ及び青色蛍光体９１３Ｂが、上記した所定のパターンで配置されている。

そして、このように構成した第１基板９０１と第２基板９０２とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。このＦＥＤ表示装置９００では、導電性膜（ギャップ９０８）９０７を介して、陰極である第１素子電極９０６ａ又は第２素子電極９０６ｂから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極９０９に形成した蛍光体９１３に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。

この場合も、第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂ、導電性膜９０７及びアノード電極９０９を、実施例１に係る液滴吐出装置５０を用いて形成することができるとともに、各色の蛍光体９１３Ｒ、９１３Ｇ、９１３Ｂを、実施例１等で説明した電気光学パネルの製造方法を用いて形成することができる。

図２８−１は、第１素子電極、第２素子電極及び導電性膜の形状を示す平面図である。図２８−２は、第１素子電極、第２素子電極及び導電性膜の成膜工程を示す平面図である。第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂ及び導電性膜９０７は、図２８−１に示す平面形状を有しており、これらを成膜する場合には、図２８−２に示すように、予め第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂ及び導電性膜９０７を作り込む部分を残して、バンク部ＢＢを形成（フォトリソグラフィ法）する。次に、バンク部ＢＢにより構成された溝部分に、第１素子電極９０６ａ及び第２素子電極９０６ｂを形成（実施例１等で説明した電気光学パネルの製造方法）し、その溶剤を乾燥させて成膜を行った後、導電性膜９０７を形成（実施例１等で説明した電気光学パネルの製造方法）する。そして、導電性膜９０７を成膜後、バンク部ＢＢを取り除き（アッシング剥離処理）、上記のフォーミング処理に移行する。なお、上記の有機ＥＬ装置の場合と同様に、第１基板９０１及び第２基板９０２に対する親液化処理や、バンク部９１１、ＢＢに対する撥液化処理を行うことが、好ましい。

また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成及び光拡散体形成等の装置が考えられる。以上、実施例４では、実施例１等で説明した電気光学パネルの製造方法を各種の電気光学装置（デバイス）の製造に用いる。すなわち、ノズルの配列方向における機能液の液滴の間隔は、ノズルの配列方向に対して垂直な方向における機能液の液滴の間隔よりも大きくして機能液を吐出するので、電気光学装置の構成として用いられる機能膜形成材を塗布する速度の低下を抑制できる。これにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。

（本発明の適用対象）
本発明に係る電気光学パネルが適用できる電子機器としては、携帯電話機の他に、例えば、ＰＤＡ（Personal Digital Assistants）と呼ばれる携帯型情報機器や携帯型パーソナルコンピュータ、パーソナルコンピュータ、デジタルスチルカメラ、車載用モニタ、デジタルビデオカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、ＰＯＳ端末機等、電気光学装置である電気光学パネルを用いる機器が挙げられる。したがって、これらの電子機器における電気的接続構造であっても、本発明が適用可能であることはいうまでもない。

また、この電気光学パネルは、透過型又は反射型の電気光学パネルであり、図示しない照明装置をバックライトとして用いる。なお、アクティブマトリックス型のカラー電気光学パネルであっても同様である。例えば、以上説明した各実施例においては、いずれもパッシブマトリクス型の電気光学パネルを例示してきたが、本発明の電気光学装置としては、アクティブマトリクス型の電気光学パネル（例えば、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）やＴＦＤ（薄膜ダイオード）をスイッチング素子として備えた電気光学パネル）にも同様に適用することができる。また、透過型又は反射型の電気光学パネルだけでなく、エレクトロルミネッセンス装置、無機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動表示装置、電界放出表示装置、ＬＥＤ（ライトエミッティングダイオード）表示装置などのように、複数の画素毎に表示状態を制御可能な各種の電気光学装置においても本発明を同様に適用することができる。さらには、マトリックス状に形成された発光素子の前面にカラーフィルタ基板が配置される電気光学パネルに対しても本発明を適用できる。

以上のように、本発明に係る電気光学パネルの製造方法及び電子機器の製造方法、並びに電気光学パネル、電気光学装置及び電子機器は、液滴吐出によってカラーフィルタ保護膜、配向膜、絶縁膜その他の機能膜を形成することに有用であり、特に、前記機能膜形成材の塗布速度低下を抑制することに適している。

この発明に係る電気光学パネルの構造を示す一部断面図。 この発明に係るカラーフィルタ基板を示す一部断面図。 この発明に係る電気光学パネル及び電子機器の製造方法を示す説明図。 この発明に係る電気光学パネル及び電子機器の製造方法を示す説明図。 この発明に係る電気光学パネル及び電子機器の製造方法を示す説明図。 この発明に係る電気光学パネル及び電子機器の製造方法を示す説明図。 この発明に係る電気光学パネル及び電子機器の製造方法を示す説明図。 この発明に係る電気光学パネル及び電子機器の製造方法を示す説明図。 この発明に係る電気光学パネル及び電子機器の製造方法を示す説明図。 この発明に係る電気光学パネル及び電子機器の製造方法を示すフローチャート。 この発明に係る液滴吐出装置を示す説明図。 この発明に係る液滴吐出装置を示す説明図。 この発明に係る液滴吐出装置を示す説明図。 この発明に係る液滴吐出装置を示す説明図。 この発明に係る液滴吐出装置を示す説明図。 保護膜材料が塗布された状態を示す平面図。 保護膜材料が塗布された状態を示す平面図。 保護膜材料の塗布パターンを示す説明図。 保護膜材料の塗布パターンを示す説明図。 実施例２に係る電気光学パネル及び電子機器の製造方法を示すフローチャート。 実施例２に係る電気光学パネルのＣＦ基板を示す説明図。 実施例３に係る液滴吐出装置を示す説明図。 実施例３に係る液滴吐出装置を示す説明図。 実施例３に係る液滴吐出装置を示す説明図。 カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート。 製造工程順に示した本実施例のカラーフィルタ６００の模式断面図。 製造工程順に示した本実施例のカラーフィルタ６００の模式断面図。 製造工程順に示した本実施例のカラーフィルタ６００の模式断面図。 製造工程順に示した本実施例のカラーフィルタ６００の模式断面図。 製造工程順に示した本実施例のカラーフィルタ６００の模式断面図。 カラーフィルタを用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶表示パネルの概略構成を示す要部断面図。 本実施例において製造したカラーフィルタを用いた液晶表示パネルの第２の例の概略構成を示す要部断面図。 本発明を適用したカラーフィルタを用いて液晶表示パネルを構成した第３の例を示したもので、透過型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）型液晶表示パネルの概略構成を示す分解斜視図。 有機ＥＬ表示装置の表示領域の要部断面図。 有機ＥＬ表示装置の製造工程を示すフローチャート。 有機ＥＬ表示装置の製造工程を示す説明図。 有機ＥＬ表示装置の製造工程を示す説明図。 有機ＥＬ表示装置の製造工程を示す説明図。 有機ＥＬ表示装置の製造工程を示す説明図。 有機ＥＬ表示装置の製造工程を示す説明図。 有機ＥＬ表示装置の製造工程を示す説明図。 有機ＥＬ表示装置の製造工程を示す説明図。 有機ＥＬ表示装置の製造工程を示す説明図。 プラズマ型表示装置の要部分解斜視図。 電子放出表示装置の要部断面図。 第１素子電極、第２素子電極及び導電性膜の形状を示す平面図。 第１素子電極、第２素子電極及び導電性膜の成膜工程を示す平面図。

符号の説明

１ 基材、 ９ 電子機器、 １０ａ カラーフィルタ基板、 １１ カラーフィルタ、 ２０ カラーフィルタ保護膜（ＣＦ保護膜）、 ５０、５０ａ 液滴吐出装置、 ５２ 液滴吐出ヘッド、 ５４ ノズル、 ５４ｐ ノズルプレート、 ６０ ステージ、 ６５ 制御装置、 １００ 電気光学パネル

Claims (6)

1. 基材に膜を形成するにあたり、
   ノズルが一方向に配列された液滴吐出手段により膜材料液を吐出させて膜を形成する際に、前記ノズルの配列方向における前記膜材料液の液滴の間隔は、前記ノズルの配列方向に対して垂直な方向における前記膜材料液の液滴の間隔より大きいことを特徴とする膜形成方法。
2. 基材にカラーフィルタを形成するフィルタ形成工程と、
   ノズルが一方向に配列された液滴吐出手段により前記カラーフィルタ上へ保護膜材料の液滴を塗布する保護膜材料塗布工程と、
   前記保護膜材料を乾燥させる乾燥工程とを含み、
   前記ノズルの配列方向における前記液滴の間隔は、前記ノズルの配列方向に対して垂直な方向における前記液滴の間隔より大きいことを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
3. 前記フィルタ形成工程の後に、前記カラーフィルタ表面を改質し、前記カラーフィルタ表面の濡れ性を向上させる表面改質工程を含むことを特徴とする請求項２に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
4. 前記カラーフィルタが形成された複数の前記基材を分離する前の母基材の全面に前記保護膜材料を塗布することを特徴とする請求項２または３に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
5. 前記カラーフィルタが形成された複数の前記基材を分離する前の母基材のうち、前記基材上のみに前記保護膜材料を塗布することを特徴とする請求項２または３に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
6. 前記カラーフィルタ上に吐出する前記保護膜材料の液滴間隔、又は液滴の質量のうち少なくとも一方を変化させることにより、前記カラーフィルタの膜厚を制御することを特徴とする請求項２〜５のいずれか１項に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。

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