JP2007047441A - カラーフィルタの製造方法、液晶装置、電子機器 - Google Patents
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Abstract
【課題】 色の濃淡差が少なく且つ平坦な表面構造が得られるカラーフィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明のカラーフィルタの製造方法は、基体P上に着色材料を含む機能液を配置することによりカラーフィルタを製造するカラーフィルタの製造方法であって、前記基体P上にバンクBを形成する工程と、前記バンクBによって区画された領域Hに前記機能液を配置する工程とを有し、前記バンクBの形成工程は、前記基体P上に前記バンクBの形成材料からなる薄膜B0を形成する工程と、前記薄膜B0の表面に撥液処理を施す工程と、前記薄膜B0を前記バンクBの形状にパターニングする工程とを含むことを特徴とする。
【選択図】 図1
【解決手段】 本発明のカラーフィルタの製造方法は、基体P上に着色材料を含む機能液を配置することによりカラーフィルタを製造するカラーフィルタの製造方法であって、前記基体P上にバンクBを形成する工程と、前記バンクBによって区画された領域Hに前記機能液を配置する工程とを有し、前記バンクBの形成工程は、前記基体P上に前記バンクBの形成材料からなる薄膜B0を形成する工程と、前記薄膜B0の表面に撥液処理を施す工程と、前記薄膜B0を前記バンクBの形状にパターニングする工程とを含むことを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
本発明は、カラーフィルタの製造方法、液晶装置、電子機器に関するものである。
近年、ノートパソコン、携帯電話機、電子手帳等の電子機器において、情報を表示する手段として液晶装置が広く利用されている。最近では、一方の基体にカラーフィルタを配置してフルカラー表示を可能とした液晶装置が主流となっている。このカラーフィルタの製造方法は、着色部の材料や製造プロセスによりいくつかに分類されるが、インクジェット法を用いて、着色インクをノズルから吐出させることにより、基体上に多数のカラーフィルタを形成するインクジェット方式が提案されている。インクジェット法は、膜形成領域に液滴を吐出し、吐出した液滴を膜形成領域の全体に濡れ広がらせた後に、乾燥させて膜を形成する方法である(特許文献1参照)。
特開2001−272527号公報
インクジェット法を用いて基体上に膜パターンを形成する場合には、通常、インクの広がりを防止するために、バンクと呼ばれる土手構造を形成する。この場合、バンクの表面に不要な膜が形成されないように、バンクの表面に撥液処理を施す工程が必須となる。例えば特許文献1では、インクジェット方式によって吐出されたインクをバンクの開口部に収納するために、バンクは撥液性を呈し、基体は親液性を呈するようにしてインクがバンクを乗り越えないようにしている。
しかしながら、バンク全体を撥液化すると、画素内のインクは収縮して鞍形状となり、画素の中央部付近では色が濃く、画素周辺部のバンクの近傍では膜厚が薄くなるためという問題があった。また、バンクの側面がインクを弾くため、矩形に形成されたバンク開口部の角部にインクが充填されにくいといった問題もあった。さらに、カラーフィルタの平坦性が阻害されるため、この上に電極等を形成する場合に断線等を生じる可能性もある。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、色の濃淡差が少なく且つ平坦な表面構造が得られるカラーフィルタの製造方法を提供することを目的とする。また、このようなカラーフィルタを備えた表示品質の高い液晶装置及び電子機器を提供することを目的とする。
上記の課題を解決するため、本発明のカラーフィルタの製造方法は、基体上に着色材料を含む機能液を配置することによりカラーフィルタを製造するカラーフィルタの製造方法であって、前記基体上にバンクを形成する工程と、前記バンクによって区画された領域に前記機能液を配置する工程とを有し、前記バンクの形成工程は、前記基体上に前記バンクの形成材料からなる薄膜を形成する工程と、前記薄膜の表面に撥液処理を施す工程と、前記薄膜を前記バンクの形状にパターニングする工程とを含むことを特徴とする。
この方法によれば、バンクをパターニングする前に撥液処理を行なうため、バンクの上面のみを撥液化し、バンクの側面を撥液化しない状態とすることができる。このため、機能液はバンクの側面に沿ってスムーズに濡れ広がり、バンク内に平坦且つ均一な厚さのカラーフィルタを形成することができる。
この方法によれば、バンクをパターニングする前に撥液処理を行なうため、バンクの上面のみを撥液化し、バンクの側面を撥液化しない状態とすることができる。このため、機能液はバンクの側面に沿ってスムーズに濡れ広がり、バンク内に平坦且つ均一な厚さのカラーフィルタを形成することができる。
本発明においては,前記バンクの形成材料は光透過性を有しない材料であるものとすることができる。
この方法によれば、バンクを遮光膜として利用することができるため、遮光膜を別個に形成する場合に比べて製造が容易になる。このような材料としては、例えば黒色顔料を分散させた樹脂等がある。
この方法によれば、バンクを遮光膜として利用することができるため、遮光膜を別個に形成する場合に比べて製造が容易になる。このような材料としては、例えば黒色顔料を分散させた樹脂等がある。
本発明においては,前記基体に遮光層が設けられており、前記バンクは前記遮光層と平面的に重なる位置に形成されるものとすることができる。
この方法によれば、バンクと遮光膜とが平面的に重なる位置に配置されるため、開口率が高く、明るい表示が可能になる。
この方法によれば、バンクと遮光膜とが平面的に重なる位置に配置されるため、開口率が高く、明るい表示が可能になる。
本発明においては,前記着色材料の硬化工程と前記バンクの硬化工程とが共通の工程で行なわれるものとすることができる。
この方法によれば、より製造が容易になる。
この方法によれば、より製造が容易になる。
本発明においては、前記機能液を液滴吐出法を用いて前記領域に配置するものとすることができる。
この方法によれば、液滴吐出法を用いることにより、スピンコート法などの他の塗布技術に比べて、液体材料の消費に無駄が少なく、基板上に配置する機能液の量や位置の制御を行ないやすい。
この方法によれば、液滴吐出法を用いることにより、スピンコート法などの他の塗布技術に比べて、液体材料の消費に無駄が少なく、基板上に配置する機能液の量や位置の制御を行ないやすい。
本発明の液晶装置は、上述した本発明のカラーフィルタの製造方法により製造されたカラーフィルタを備えたことを特徴とする。また、本発明の電子機器は、当該液晶装置を備えたことを特徴とする。
これらの構成によれば、表示品質に優れた液晶装置又は電子機器を提供することができる。
これらの構成によれば、表示品質に優れた液晶装置又は電子機器を提供することができる。
[カラーフィルタの製造方法]
図1及び図2は、本発明のカラーフィルタの製造方法を示す工程図である。
まず、図1(a)に示すように、基体P上にバンクBの形成材料からなる薄膜B0を形成する。
図1及び図2は、本発明のカラーフィルタの製造方法を示す工程図である。
まず、図1(a)に示すように、基体P上にバンクBの形成材料からなる薄膜B0を形成する。
基体Pとしては、ガラス、石英ガラス、Siウエハ、プラスチックフィルム、金属板など各種のものが挙げられる。さらに、これら各種の素材基板の表面に遮光膜、半導体膜、金属膜、誘電体膜、有機膜などが下地層として形成されたものも含む。
薄膜B0の材料としては、有機系の材料又は無機系の材料のいずれを用いてもよい。有機系のバンク材料としては、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、オレフィン樹脂、メラミン樹脂等が挙げられ、無機系のバンク材料としては、ポリシラザン、ポリシロキサン、シロキサン系レジスト、ポリシラン系レジスト等の骨格にケイ素を含む高分子無機材料や感光性無機材料、シリカガラス、アルキルシロキサンポリマー、アルキルシルセスキオキサンポリマー、水素化アルキルシルセスキオキサンポリマー、ポリアリールエーテルのうちいずれかを含むスピンオングラス膜、ダイヤモンド膜、及びフッ素化アモルファス炭素膜、などが挙げられる。さらに、無機系のバンク材料として、エアロゲル、多孔質シリカ、などを用いてもよい。
薄膜B0の材料は、光透過性を有しない樹脂(好ましくは黒色顔料を分散させた樹脂)であることが望ましい。こうすることで、バンクBを遮光膜として利用することができる。ただし、薄膜B0を光透過性の材料とし、バンクBとは別に遮光膜を設けることも勿論可能である。この場合、バンクBは遮光層と平面的に重なる位置に形成されることが望ましい。これにより、開口率の低下を避けることができる。
また、薄膜B0は、パターニングを容易にするために感光性の材料によって形成することが望ましい。図1の例では薄膜B0を感光性レジストによって形成するが、薄膜B0上にレジストを形成し、このレジストをマスクとして薄膜B0をパターニングすることも勿論可能である。
薄膜B0を形成したら、図1(b)に示すように、マスクMを用いて薄膜B0を露光する。続いて、図1(c)に示すように、薄膜B0の表面全体に撥液処理を施す。
撥液処理としては、例えばフッ素系化合物を含むガス(フッ素含有ガス)を処理ガスとしてプラズマ処理する方法を採用することができる。フッ素化合物を用いることにより、薄膜B0の表面にフッ素基が導入され、これにより液体材料を弾くことが可能になる。フッ素化合物としては、例えばCF4、SF6、CHF3などが挙げられる。
薄膜B0の表面を撥液化したら、図1(d)に示すように、薄膜B0を現像し、バンクBの形状にパターニングする。
バンクBは、各カラーフィルタを形成する着色層形成領域(画素部)をそれぞれ取り囲むように、当該領域に開口部Hを有した状態で格子状に形成される。
バンクBは、各カラーフィルタを形成する着色層形成領域(画素部)をそれぞれ取り囲むように、当該領域に開口部Hを有した状態で格子状に形成される。
このように撥液処理を行なってからバンクBをパターニングすると、バンクBの上面のみが撥液処理され(撥液面)、バンクBの側面は撥液されない状態となる(非撥液面)。
次に、図2(a)に示すように、バンクBによって区画された領域(開口部H)にカラーフィルタを構成する着色材料(顔料等の微粒子着色材料)を含む機能液Lを配置する。
前述のように、バンクBの表面は上面のみが撥液化され、側面は撥液化されていないので、バンクBの開口部Hに機能液L(図2(a)参照)を吐出すると、機能液LはバンクBの側面に沿ってスムーズに濡れ広がり、開口部Hの隅々まで行き渡ることができる。
すなわち、従来のカラーフィルタの製造方法においては、バンクBの側面が撥液化された状態となっているので、図5(a)に示すように、矩形に形成されたバンク開口部Hの角部の領域には機能液Lがスムーズに充填されずに、空隙Gが形成される場合があった。また、機能液LはバンクBの側面に弾かれて鞍型の形状となり、開口部Hの中央部のみに溶質(着色材料)が滞留するため、これを乾燥して得られた膜も開口部Hの中央部が盛り上がった状態となっていた。
これに対して、本発明のカラーフィルタの製造方法では、図5(b)に示すように、バンクBの側面が撥液化されずに機能液Lに対して親和性の高い状態に維持されるので、機能液Lは4つの角部に対してもスムーズに濡れ広がり、図5(a)のような空隙Gは生じない。また、バンクBの側面が機能液Lをはじかないので、開口部Hの中央部にのみ溶質が偏ることもなく、殆ど均一な厚みの膜が形成されるようになる。
なお、機能液LをバンクBによって区画された領域に配置する方法としては、液滴吐出法、いわゆるインクジェット法を用いるのが好ましい。液滴吐出法を用いることにより、スピンコート法などの他の塗布技術に比べて、液体材料の消費に無駄が少なく、基体上に配置する機能液の量や位置の制御を行ないやすいという利点がある。
機能液Lの分散媒としては、上記の着色材料を分散できるもので、凝集を起こさないものであれば特に限定されない。例えば、水の他に、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール類、n−ヘプタン、n−オクタン、デカン、ドデカン、テトラデカン、トルエン、キシレン、シメン、デュレン、インデン、ジペンテン、テトラヒドロナフタレン、デカヒドロナフタレン、シクロヘキシルベンゼンなどの炭化水素系化合物、またエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、ビス(2−メトキシエチル)エーテル、p−ジオキサンなどのエーテル系化合物、さらにプロピレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、シクロヘキサノンなどの極性化合物を例示できる。これらのうち、微粒子の分散性と分散液の安定性、また液滴吐出法(インクジェット法)への適用の容易さの点で、水、アルコール類、炭化水素系化合物、エーテル系化合物が好ましく、より好ましい分散媒としては、水、炭化水素系化合物を挙げることができる。
上記膜成分を分散させた分散駅の表面張力は0.02N/m以上0.07N/m以下の範囲内であることが好ましい。液滴吐出法にて液体を吐出する際、表面張力が0.02N/m未満であると、インク組成物のノズル面に対する濡れ性が増大するため飛行曲りが生じやすくなり、0.07N/mを超えるとノズル先端でのメニスカスの形状が安定しないため吐出量や、吐出タイミングの制御が困難になる。表面張力を調整するため、上記分散液には、基体との接触角を大きく低下させない範囲で、フッ素系、シリコーン系、ノニオン系などの表面張力調節剤を微量添加するとよい。ノニオン系表面張力調節剤は、液体の基体への濡れ性を向上させ、膜のレベリング性を改良し、膜の微細な凹凸の発生などの防止に役立つものである。上記表面張力調節剤は、必要に応じて、アルコール、エーテル、エステル、ケトン等の有機化合物を含んでもよい。
上記分散液の粘度は1mPa・s以上50mPa・s以下であることが好ましい。液滴吐出法を用いて液体材料を液滴として吐出する際、粘度が1mPa・sより小さい場合にはノズル周辺部がインクの流出により汚染されやすく、また粘度が50mPa・sより大きい場合は、ノズル孔での目詰まり頻度が高くなり円滑な液滴の吐出が困難となる。
液滴吐出法の吐出技術としては、帯電制御方式、加圧振動方式、電気機械変換式、電気熱変換方式、静電吸引方式などが挙げられる。
帯電制御方式は、材料に帯電電極で電荷を付与し、偏向電極で材料の飛翔方向を制御してノズルから吐出させるものである。また、加圧振動方式は、材料に30kg/cm2 程度の超高圧を印加してノズル先端側に材料を吐出させるものであり、制御電圧をかけない場合には材料が直進してノズルから吐出され、制御電圧をかけると材料間に静電的な反発が起こり、材料が飛散してノズルから吐出されない。また、電気機械変換方式は、ピエゾ素子(圧電素子)がパルス的な電気信号を受けて変形する性質を利用したもので、ピエゾ素子が変形することによって材料を貯留した空間に可撓物質を介して圧力を与え、この空間から材料を押し出してノズルから吐出させるものである。
電気熱変換方式は、材料を貯留した空間内に設けたヒータにより、材料を急激に気化させてバブル(泡)を発生させ、バブルの圧力によって空間内の材料を吐出させるものである。静電吸引方式は、材料を貯留した空間内に微小圧力を加え、ノズルに材料のメニスカスを形成し、この状態で静電引力を加えてから材料を引き出すものである。また、この他に、電場による流体の粘性変化を利用する方式や、放電火花で飛ばす方式などの技術も適用可能である。液滴吐出法は、材料の使用に無駄が少なく、しかも所望の位置に所望の量の材料を的確に配置できるという利点を有する。なお、液滴吐出法により吐出される液状材料(流動体)の一滴の量は、例えば1〜300ナノグラムである。
図3は、本発明の膜パターンの形成方法に用いられる装置の一例として、液滴吐出法によって基体上に液体材料を配置する液滴吐出装置(インクジェット装置)IJの概略構成を示す斜視図である。
液滴吐出装置IJは、液滴吐出ヘッド1と、X軸方向駆動軸4と、Y軸方向ガイド軸5と、制御装置CONTと、ステージ7と、クリーニング機構8と、基台9と、ヒータ15とを備えている。
ステージ7は、この液滴吐出装置IJによりインク(液体材料)を設けられる基体Pを支持するものであって、基体Pを基準位置に固定する不図示の固定機構を備えている。
液滴吐出ヘッド1は、複数の吐出ノズルを備えたマルチノズルタイプの液滴吐出ヘッドであり、長手方向とY軸方向とを一致させている。複数の吐出ノズルは、液滴吐出ヘッド1の下面にY軸方向に並んで一定間隔で設けられている。液滴吐出ヘッド1の吐出ノズルからは、ステージ7に支持されている基体Pに対して、上述した導電性微粒子を含むインクが吐出される。
X軸方向駆動軸4には、X軸方向駆動モータ2が接続されている。X軸方向駆動モータ2はステッピングモータ等であり、制御装置CONTからX軸方向の駆動信号が供給されると、X軸方向駆動軸4を回転させる。X軸方向駆動軸4が回転すると、液滴吐出ヘッド1はX軸方向に移動する。
Y軸方向ガイド軸5は、基台9に対して動かないように固定されている。ステージ7は、Y軸方向駆動モータ3を備えている。Y軸方向駆動モータ3はステッピングモータ等であり、制御装置CONTからY軸方向の駆動信号が供給されると、ステージ7をY軸方向に移動する。
制御装置CONTは、液滴吐出ヘッド1に液滴の吐出制御用の電圧を供給する。また、X軸方向駆動モータ2に液滴吐出ヘッド1のX軸方向の移動を制御する駆動パルス信号を、Y軸方向駆動モータ3にステージ7のY軸方向の移動を制御する駆動パルス信号を供給する。
クリーニング機構8は、液滴吐出ヘッド1をクリーニングするものである。クリーニング機構8には、図示しないY軸方向の駆動モータが備えられている。このY軸方向の駆動モータの駆動により、クリーニング機構8は、Y軸方向ガイド軸5に沿って移動する。クリーニング機構8の移動も制御装置CONTにより制御される。
ヒータ15は、ここではランプアニールにより基体Pを熱処理する手段であり、基体P上に塗布された液体材料に含まれる溶媒の蒸発及び乾燥を行なう。このヒータ15の電源の投入及び遮断も制御装置CONTにより制御される。
液滴吐出装置IJは、液滴吐出ヘッド1と基体Pを支持するステージ7とを相対的に走査しつつ基体Pに対して液滴を吐出する。ここで、以下の説明において、X軸方向を走査方向、X軸方向と直交するY軸方向を非走査方向とする。したがって、液滴吐出ヘッド1の吐出ノズルは、非走査方向であるY軸方向に一定間隔で並んで設けられている。なお、図3では、液滴吐出ヘッド1は、基体Pの進行方向に対し直角に配置されているが、液滴吐出ヘッド1の角度を調整し、基体Pの進行方向に対して交差させるようにしてもよい。このようにすれば、液滴吐出ヘッド1の角度を調整することで、ノズル間のピッチを調節することが出来る。また、基体Pとノズル面との距離を任意に調節することが出来るようにしてもよい。
図4は、ピエゾ方式による液体材料の吐出原理を説明するための図である。
図4において、液体材料(配線パターン用インク、機能液)を収容する液体室21に隣接してピエゾ素子22が設置されている。液体室21には、液体材料を収容する材料タンクを含む液体材料供給系23を介して液体材料が供給される。
図4において、液体材料(配線パターン用インク、機能液)を収容する液体室21に隣接してピエゾ素子22が設置されている。液体室21には、液体材料を収容する材料タンクを含む液体材料供給系23を介して液体材料が供給される。
ピエゾ素子22は駆動回路24に接続されており、この駆動回路24を介してピエゾ素子22に電圧を印加し、ピエゾ素子22を変形させることにより、液体室21が変形し、ノズル25から液体材料が吐出される。この場合、印加電圧の値を変化させることにより、ピエゾ素子22の歪み量が制御される。また、印加電圧の周波数を変化させることにより、ピエゾ素子22の歪み速度が制御される。
ピエゾ方式による液滴吐出は材料に熱を加えないため、材料の組成に影響を与えにくいという利点を有する。
図2に戻って、バンクB内に機能液Lを配置したら、図2(b)に示すように、機能液Lを乾燥又は焼成し、機能液Lに含まれる着色材料を硬化することによって、カラーフィルタFRを形成する。カラーフィルタFRは、例えば赤色のカラーフィルタである。同様の方法により、緑色のカラーフィルタFG、青色のカラーフィルタFBを形成することで、図2(c)に示すようなカラーフィルタ基板が完成する。
前述のように機能液LはバンクBの開口領域Hの全域に均一に濡れ広がった状態となっているので、これを乾燥又は焼成して得られるカラーフィルタFR,FG,FBも開口領域H内において平坦且つ均一な厚さを有するものとなる。
なお、着色材料の硬化工程とバンクBの硬化工程とは共通の工程で行なわれることが望ましい。こうすることで、より製造が容易になる。
[液晶装置]
次に、本発明の液晶装置の一例として、TFD素子を画素スイッチング素子とするアクティブマトリクス型のカラー液晶表示装置100を説明する。この液晶表示装置100は、上記の方法で製造されたカラーフィルタを備えたものである。
次に、本発明の液晶装置の一例として、TFD素子を画素スイッチング素子とするアクティブマトリクス型のカラー液晶表示装置100を説明する。この液晶表示装置100は、上記の方法で製造されたカラーフィルタを備えたものである。
図6は、液晶表示装置の分解斜視図である。
液晶表示装置100は、素子基板25の端部が露出するようにCF基板10を貼り合わせて構成されている。露出した素子基板25の端部には、素子基板25に形成されたデータ線11が引廻されている。またCF基板10に形成された走査線9も、基板間導通部70および引廻し配線78を介して、素子基板25の端部に引廻されている。
液晶表示装置100は、素子基板25の端部が露出するようにCF基板10を貼り合わせて構成されている。露出した素子基板25の端部には、素子基板25に形成されたデータ線11が引廻されている。またCF基板10に形成された走査線9も、基板間導通部70および引廻し配線78を介して、素子基板25の端部に引廻されている。
その素子基板25の端部に駆動用IC4が実装されて、データ線11および走査線9と電気的に接続されている。また駆動用IC4は、素子基板25の端部に実装されたフレキシブルプリント基板(FPC)5に対しても電気的に接続されている。そして、外部からFPC5を介して駆動用IC4に信号が供給され、さらに駆動用IC4からデータ線11および走査線9を介して液晶表示装置100の画素領域に信号が供給される。これにより、液晶表示装置100が駆動されて、画像が表示されるようになっている。
(等価回路)
図7は、TFD素子を用いた液晶表示装置の等価回路図である。
液晶表示装置100の画像表示領域には、走査信号駆動回路110により駆動される複数の走査線9と、データ信号駆動回路120により駆動される複数のデータ線11とが、格子状に配置されている。その各走査線9と各データ線11との複数の交点付近には、それぞれTFD素子13および液晶表示要素(液晶層)50が配置されている。そして、その各TFD素子13および各液晶層50は、各走査線9と各データ線11との間に直列接続されている。
図7は、TFD素子を用いた液晶表示装置の等価回路図である。
液晶表示装置100の画像表示領域には、走査信号駆動回路110により駆動される複数の走査線9と、データ信号駆動回路120により駆動される複数のデータ線11とが、格子状に配置されている。その各走査線9と各データ線11との複数の交点付近には、それぞれTFD素子13および液晶表示要素(液晶層)50が配置されている。そして、その各TFD素子13および各液晶層50は、各走査線9と各データ線11との間に直列接続されている。
図8は、液晶表示装置100の表示領域を示す部分斜視図である。
この液晶表示装置100は、相互に対向する素子基板25とカラーフィルタ基板10とを主体として構成されており、両基板10,25の間には図示略の液晶層が挟持されている。
この液晶表示装置100は、相互に対向する素子基板25とカラーフィルタ基板10とを主体として構成されており、両基板10,25の間には図示略の液晶層が挟持されている。
素子基板25は、ガラスやプラスチック、石英等の透光性材料からなる基板本体25Aを備えている。また、基板本体25Aの内側(図示下側)には、複数のデータ線11がストライプ状に設けられている。さらに、ITO(インジウム錫酸化物)等の透明導電材料からなる平面視略矩形状の複数の画素電極31が、マトリクス状に配列形成されている。そして、各画素電極31はTFD素子13を介して前記データ線11と接続されている。
このTFD素子13は、基板表面に形成されたTaを主成分とする第1導電膜と、その第1導電膜の表面に形成されたTa2O3を主成分とする絶縁膜と、その絶縁膜の表面に形成されたCrを主成分とする第2導電膜とによって構成されている(いわゆるMIM構造)。その第1導電膜がデータ線11に接続され、第2導電膜が画素電極31に接続されている。これによりTFD素子13は、画素電極31への通電を制御するスイッチング素子として機能するようになっている。
一方、カラーフィルタ基板10は、ガラスやプラスチック、石英等の透光性材料からなる基板本体10Aを備えている。また、基板本体10Aの内側(図示上側)には、カラーフィルタ層(CF層)22と、複数の対向電極(走査線)9とが形成されている。CF層22は、平面視略矩形状のカラーフィルタ22R,22G,22Bが周期的に配列された構成となっている。各カラーフィルタ22R,22G,22Bは、前記素子基板25の画素電極31に対応して形成されている。そのカラーフィルタ22R,22G,22Bを覆うように、対向電極9が形成されている。対向電極9は、ITO等の透明導電材料によって略帯状に形成され、前記素子基板25のデータ線11と交差する方向に延在し、走査線として機能するようになっている。なお、画素電極31の形成領域により1ドットが構成され、カラーフィルタ22R,22G,22Bを備えた3ドットにより1画素が構成されている。
カラーフィルタ22R,22G,22Bは、前述した本発明のカラーフィルタの製造方法により製造されたものである。このため、1画素内での膜厚が均一になっており、色むらが殆どない優れた表示品質を提供することができる。また、表面が平坦であるため、この上に形成された対向電極9にも断線等が生じにくく、信頼性に優れた液晶表示装置となっている。
なお、本実施形態では液晶表示装置100をアクティブマトリクス型の液晶表示装置としたが、パッシブマトリクス型の液晶表示装置に本発明を適用することもできる。また、カラーフィルタ22R,22G,22Bの配置もストライプ配列又はデルタ配列とする等、種々の変更が可能である。
[電子機器]
次に、上述の液晶装置を備えた電子機器の具体例について説明する。
図9は、本発明に係る電子機器の一例を示す斜視図である。
図9に示す携帯電話1300は、本発明の液晶装置を小サイズの表示部1301として備え、複数の操作ボタン1302、受話口1303、及び送話口1304を備えて構成されている。
なお、本発明の液晶装置は、前述した携帯電話機に限らず、電子ブック、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器等々の画像表示手段として好適に用いることができ、いずれの電子機器においても、優れた表示品質と高い信頼性を兼ね備えたものとなる。
次に、上述の液晶装置を備えた電子機器の具体例について説明する。
図9は、本発明に係る電子機器の一例を示す斜視図である。
図9に示す携帯電話1300は、本発明の液晶装置を小サイズの表示部1301として備え、複数の操作ボタン1302、受話口1303、及び送話口1304を備えて構成されている。
なお、本発明の液晶装置は、前述した携帯電話機に限らず、電子ブック、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器等々の画像表示手段として好適に用いることができ、いずれの電子機器においても、優れた表示品質と高い信頼性を兼ね備えたものとなる。
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施の形態例について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
22R,22G,22B…カラーフィルタ、100…液晶装置、1300…電子機器、B…バンク、B0…バンクの形成材料からなる薄膜、FR,FG,FB…カラーフィルタ、H…開口部(バンクによって区画された領域)、L…機能液、P…基体
Claims (7)
- 基体上に着色材料を含む機能液を配置することによりカラーフィルタを製造するカラーフィルタの製造方法であって、
前記基体上にバンクを形成する工程と、
前記バンクによって区画された領域に前記機能液を配置する工程とを有し、
前記バンクの形成工程は、前記基体上に前記バンクの形成材料からなる薄膜を形成する工程と、前記薄膜の表面に撥液処理を施す工程と、前記薄膜を前記バンクの形状にパターニングする工程とを含むことを特徴とする、カラーフィルタの製造方法。 - 前記バンクの形成材料は光透過性を有しない材料であることを特徴とする、請求項1記載のカラーフィルタの製造方法。
- 前記基体に遮光層が設けられており、
前記バンクは前記遮光層と平面的に重なる位置に形成されることを特徴とする、請求項1記載のカラーフィルタの製造方法。 - 前記着色材料の硬化工程と前記バンクの硬化工程とが共通の工程で行なわれることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかの項に記載のカラーフィルタの製造方法。
- 前記機能液を液滴吐出法を用いて前記領域に配置することを特徴とする、請求項1〜4のいずれかの項に記載のカラーフィルタの製造方法。
- 請求項1〜5のいずれかの項に記載のカラーフィルタの製造方法により製造されたカラーフィルタを備えたことを特徴とする、液晶装置。
- 請求項6記載の液晶装置を備えたことを特徴とする、電子機器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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---|---|---|---|---|
EP2009070A1 (en) | 2007-06-29 | 2008-12-31 | FUJIFILM Corporation | Ink-jet ink and method of producing the same, color filter and method of producing the same, display device, and method of forming functional film |
US8372490B2 (en) | 2008-09-08 | 2013-02-12 | Seiko Epson Corporation | Film-formation method, method for manufacturing electro-optical device, electro-optical device, and electronic apparatus |
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2005
- 2005-08-10 JP JP2005231703A patent/JP2007047441A/ja not_active Withdrawn
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US8372490B2 (en) | 2008-09-08 | 2013-02-12 | Seiko Epson Corporation | Film-formation method, method for manufacturing electro-optical device, electro-optical device, and electronic apparatus |
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