JP4222390B2 - パターンの形成方法、及び液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
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Description
該バンク膜の表面に撥液処理を施す工程と、撥液処理が施された前記バンク膜をパターニングし、バンクを形成する工程と、該バンクに区画されたカラーフィルタ形成領域の表面の水酸基を、アルキル化する表面改質処理を施す工程と、前記カラーフィルタ形成領域にカラーフィルタ形成材料を配置する工程と、前記カラーフィルタ形成材料を焼成して、前記カラーフィルタを形成する工程と、を備えることを特徴とする。
該バンク膜の表面に撥液処理を施す工程と、撥液処理が施された前記バンク膜をパターニングし、バンクを形成する工程と、該バンクに区画された導電膜パターン形成領域の表面の水酸基を、アルキル化する表面改質処理を施す工程と、前記導電膜パターン形成領域に導電性機能液を配置する工程と、前記導電性機能液を焼成して、前記導電膜パターンを形成する工程と、を備えることを特徴とする。
まず、基板上にバンクを形成する材料としてのバンク膜を形成する。本実施形態では、前記バンク膜を形成するに際し、該バンク膜と基板Pとの密着性を向上させる処理を行っている。具体的には、図1(a)に示すように、前記基板Pに対しHMDS処理を120秒程度行う。このHMDS処理は、ヘキサメチルジシラサン(((CH3)3SiNHSi(CH3)3))の蒸気を前記基板Pの表面に接触させるものである。そして、ホットプレートを用い、基板Pに対して加熱処理を行う(条件;95℃、60秒)。
先に、一括焼成の場合について説明する。一括焼成では、上述したように、バンクB及びパターン形成領域34内に配置された機能液における焼成工程を一括して行う。このように一括焼成を行えば、バンクの焼成工程を省略できるので、パターン形成工程における処理時間の短縮を実現できる。
乾燥処理された機能膜は、微粒子間の電気的接触をよくするために、分散媒を完全に除去する必要がある。また、導電性微粒子の表面に分散性を向上させるために有機物などのコーティング材がコーティングされている場合には、このコーティング材も除去する必要がある。そのため、吐出工程後の基板Pには熱処理及び/又は光処理が施す(焼成処理)。この焼成処理の条件としては、220℃にて30分間行った。
次に、分割焼成の場合について説明する。分割焼成では、バンクBとパターン形成領域34内に配置される機能液Lにおける焼成工程とを別々に行うもので、具体的には、バンクBの焼成処理を行った後、前記機能液Lの焼成処理を行う。
次に、本発明のパターンの形成方法の第2の実施形態について図6を参照しながら説明する。なお、本実施形態において、第1の実施形態と同様の部材又は部位については同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
次に、本発明のパターンの形成方法の第3の実施形態について図7及び図8を参照しながら説明する。なお、本実施形態において第1、第2の実施形態と同様の部材又は部位については同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
本発明のパターンの形成方法は、図11に示すようなスイッチング素子としての薄膜トランジスタ(TFT)及びそれに接続する配線を形成するときに適用可能である。図11において、TFTを有するTFT基板P上には、ゲート配線40と、このゲート配線40に電気的に接続するゲート電極41と、ソース配線42と、このソース配線42に電気的に接続するソース電極43と、ドレイン電極44と、ドレイン電極44に電気的に接続する画素電極45とを備えている。ゲート配線40はX軸方向に延びるように形成され、ゲート電極41はY軸方向に延びるように形成されている。
Claims (9)
- 機能液を基板上に配置することによりパターンを形成する方法であって、
前記基板上にバンク膜を形成する工程と、
該バンク膜の表面に撥液処理を施す工程と、
撥液処理が施された前記バンク膜をパターニングし、バンクを形成する工程と、
該バンクに区画されたパターン形成領域の表面の水酸基を、アルキル化する表面改質処理を施す工程と、
前記パターン形成領域に前記機能液を配置する工程と、
該機能液を焼成して、パターンを形成する工程と、を備え、
前記撥液処理として、前記バンク膜上にフッ素系樹脂材料を塗布し、
前記表面改質処理後であり、且つ前記機能液を配置する工程の前に、前記バンクを焼成することを特徴とするパターンの形成方法。 - 前記表面改質処理として、ヘキサメチルシラザンの蒸気を前記パターン形成領域の表面に接触させることを特徴とする請求項1に記載のパターンの形成方法。
- 前記機能液として、炭化水素系の分散媒を含むものを用いることを特徴とする請求項1又は2に記載のパターンの形成方法。
- 前記バンク膜を形成する材料として、ポリシラザン、ポリシラン、ポリシロキサンのいずれか一つを含有するものを用いることを特徴とする請求項1〜3のいずれ一項に記載のパターンの形成方法。
- 前記バンク膜を形成する材料として、ポリシラザン、ポリシラン、ポリシロキサンのいずれか一つを含有する感光性の材料からなるものを用いることを特徴とする請求項4に記載のパターンの形成方法。
- カラーフィルタを備えた液晶表示装置の製造方法において、
前記カラーフィルタを製造するに際し、
基体上にバンク膜を形成する工程と、
該バンク膜の表面に撥液処理を施す工程と、
撥液処理が施された前記バンク膜をパターニングし、バンクを形成する工程と、
該バンクに区画されたカラーフィルタ形成領域の表面の水酸基を、アルキル化する表面改質処理を施す工程と、
前記カラーフィルタ形成領域にカラーフィルタ形成材料を配置する工程と、
前記カラーフィルタ形成材料を焼成して、前記カラーフィルタを形成する工程と、を備え、
前記撥液処理として、前記バンク膜上にフッ素系樹脂材料を塗布し、
前記表面改質処理後であり、且つ前記機能液を配置する工程の前に、前記バンクを焼成することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 前記表面改質処理として、ヘキサメチルシラザンの蒸気を前記パターン形成領域の表面に接触させることを特徴とする請求項6に記載の液晶表示装置の製造方法。
- バンクに区画された領域に形成された導電膜パターンを備える、液晶表示装置の製造方法において、
基体上にバンク膜を形成する工程と、
該バンク膜の表面に撥液処理を施す工程と、
撥液処理が施された前記バンク膜をパターニングし、バンクを形成する工程と、
該バンクに区画された導電膜パターン形成領域の表面の水酸基を、アルキル化する表面改質処理を施す工程と、
前記導電膜パターン形成領域に導電性機能液を配置する工程と、
前記導電性機能液を焼成して、前記導電膜パターンを形成する工程と、を備え、
前記撥液処理として、前記バンク膜上にフッ素系樹脂材料を塗布し、
前記表面改質処理後であり、且つ前記機能液を配置する工程の前に、前記バンクを焼成することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 前記表面改質処理として、ヘキサメチルシラザンの蒸気を前記パターン形成領域の表面に接触させることを特徴とする請求項8に記載の液晶表示装置の製造方法。
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