JP4152742B2 - イネいもち病防除剤 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の背景】
発明の分野
本発明は、イネいもち病防除剤に関する。
【０００２】
背景技術
これまでに、種々の植物病害に対して防除効果を示す活性物質が、多く見出され、それらを有効成分として含有する様々な植物病害防除剤が開発されてきた。しかしながら、耐性菌の出現などの観点からは、その防除効果には改善の余地があった。
【０００３】
植物病害の一つとして、いもち病が挙げられる。いもち病は、糸状菌の一種で、不完全菌類に属するPyricularia属菌の寄生により起こる植物の病気である。特にイネいもち病は、夏期の低温もしくは多雨などの異常気象の際に大発生することがあり、イネの最も重要な病気の一つである。
【０００４】
したがって、イネいもち病に対して優れた防除効果を有する防除剤が望まれている。
【０００５】
また、国際公開ＷＯ９８／５５４６０号には、４−キノリノール誘導体およびこれらを有効成分として含有する農園芸用殺菌剤が開示されている。しかしながら、ここには、２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−キノリノール誘導体の有用性についてはなんら記載されていない。
【０００６】
【発明の概要】
本発明者らは、今般、４−キノリノール誘導体の中でも特に６位にｔ−ブチル（第３ブチル）と、８位にフッ素とを有するもの、すなわち２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−キノリノール誘導体が、イネいもち病に対して有意に高い防除効果を示すことを見出した。この防除効果は、例えば国際公開ＷＯ９８／５５４６０号に開示されているような他の４−キノリノール誘導体により得られる効果よりも、顕著に優れたものであった。本発明はかかる知見に基づくものである。
【０００７】
したがって、本発明は、イネいもち病に対し優れた防除効果を有する化合物および防除剤の提供をその目的とする。
【０００８】
そして、本発明は、下記式（１）の化合物、またはその酸付加塩に関するものである。
【０００９】
【化３】
［式中、
Ｒは、水素原子、−ＣＯＲ１、−ＣＯＯＲ１（ここでＲ１は炭素数１〜４のアルキル基である）、−ＣＯＣＨ２ＯＣＨ３、または−ＣＯＣＨ２ＯＣＯＣＨ３である］。
【００１０】
また、本発明によるイネいもち病防除剤は、式（１）の化合物またはその酸付加塩の少なくとも一種を有効成分として含有するものである。
【００１１】
【発明の具体的説明】
式（１）の化合物
本発明は、前記式（１）の化合物（２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−キノリノール誘導体）、またはその酸付加塩に関するものである。式（１）の化合物またはその酸付加塩は、イネいもち病(Pyricularia oryzae)に対して優れた防除効果を示し、イネいもち病防除剤として有利に使用することができるものである。
【００１２】
前記式（１）の化合物において、Ｒは、水素原子、−ＣＯＲ１、−ＣＯＯＲ１、−ＣＯＣＨ２ＯＣＨ３、または−ＣＯＣＨ２ＯＣＯＣＨ３を示す。ここでＲ１は炭素数１〜４のアルキル基であり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、もしくはブチル基が挙げられる。
【００１３】
なお、式（１）中においてＲが水素原子である場合には、式（１）の化合物は、その互変異性体である下記式（２）に示される構造をとることができる。式（１）の化合物が、前記式（２）の化合物を包含することは当業者にも明らかである。
【００１４】
【化４】
本発明において、「酸付加塩」とは、例えば塩酸塩、硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、酢酸塩等の一般的に農園芸分野において使用可能な塩を意味する。
【００１５】
なお、式（１）の化合物は、水和物又は溶媒和物の形態をとることも可能であり、本発明においては、そのような水和物および溶媒和物も式（１）の化合物に包含される。
【００１６】
式（１）の化合物の具体例を示せば、下記のものが挙げられる。
【００１７】
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−ヒドロキシキノリン、
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−アセチルキノリン、
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−プロピオニルキノリン、
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−ブチリルキノリン、
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−バレリルキノリン、
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−メトキシカルボニルキノリン、
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−エトキシカルボニルキノリン、
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−ノルマルプロポキシカルボニルキノリン、
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−ノルマルブトキシカルボニルキノリン、
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−メトキシアセチルキノリン、または
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−アセトキシアセチルキノリン。
【００１８】
式（１）の化合物の製造方法
本発明による式（１）の化合物は、結合の形成ないし置換基の導入に関して、合目的的な任意の方法によって合成することができる。
【００１９】
例えば、既知の方法で合成可能な４−ｔ−ブチル−２−フルオロアニリンから、以下のスキームに従って、式（１）の化合物を製造することができる。
【００２０】
【化５】
［上記スキームにおいて、式中、
Ｒは、水素原子、−ＣＯＲ１、−ＣＯＯＲ１（ここでＲ１は炭素数１〜４のアルキル基である）、−ＣＯＣＨ２ＯＣＨ３、または−ＣＯＣＨ２ＯＣＯＣＨ３であり、Ｒ２はＲ１、−ＯＲ１、−ＣＨ２ＯＣＨ３または−ＣＨ２ＯＣＯＣＨ３である］。
【００２１】
このスキームは、先ず、式（２）の化合物を用意し（工程（ａ））、次いで、この式（２）の化合物を、式（３）または式（４）の化合物と、塩基存在下若しくは塩基非存在下において反応させる（工程（ｂ））ことによって、式（１）の化合物を得るものである。
【００２２】
上記スキームを具体的に説明すると、下記の通りである。
【００２３】
工程（ａ）
先ず、４−ｔ−ブチル−２−フルオロアニリンと２−メチルアセト酢酸エチルとから、例えば、J. Am. Chem. Soc. 70, 2402 (1948)、Tetrahedron Lett. 27, 5323 (1986)に準じて、式（２）の化合物を得る。なお、この式（２）の化合物は、式（１）の化合物においてＲが水素原子である化合物に相当する。また使用される４−ｔ−ブチル−２−フルオロアニリンは、例えば、Chem. Abs. 42, 2239またはJ. Chem. Soc.,Chem. Commun., 1992, 595に記載の公知の方法により得ることができる。
【００２４】
工程（ｂ）
次いで、式（１）においてＲが水素原子以外の化合物を所望する場合には、式（３）または式（４）の化合物で塩基存在下若しくは塩基非存在下で反応させることにより、式（１）の化合物を製造することができる。
【００２５】
ここで、使用可能な塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ピリジン等の有機アミン、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム等の無機塩基が挙げられる。また、式（３）または式（４）の化合物は、式（２）の化合物に対して１〜５０当量、好ましくは１〜１０当量の範囲で用いることが望ましい。工程（ｂ）の反応は、無溶媒または反応に関与しない有機溶媒中、例えばジメチルホルムアミドまたはテトラヒドロフラン中において、例えば０〜１４０℃の範囲の温度で実施することができる。
【００２６】
イネいもち病防除剤
本発明によるイネいもち病防除剤は、前記式（１）の化合物またはその酸付加塩の少なくとも一種を有効成分として含有するものである。
【００２７】
ここで「有効成分として含有する」ということは、剤型に応じた担体を含む場合を包含することは当然として、併用可能な他の薬剤を含有してもよいことも意味する。
【００２８】
したがって、式（１）の化合物をイネいもち病防除剤として用いる場合には、該式（１）の化合物をそのまま用いてもよいが、通常は適当な固体担体、液体担体、ガス状担体、界面活性剤、分散剤および／またはその他の製剤用補助剤と混合して、乳剤、液剤、水和剤、粉剤、粒剤、油剤、エアゾール、フロアブル剤等の任意の剤型にして使用することができる。
【００２９】
このとき、固体担体としては、例えば、タルク、ベンナイト、クレー、カオリン、ケイソウ土、バーミキュライト、ホワイトカーボン、および炭酸カルシウム等が挙げられる。
【００３０】
液体担体としては、例えば、メタノール、ｎ−ヘキサノール、エチレングリコール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ｎ−ヘキサン、ケロシン、灯油等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン、メチルナフタレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等の酸アミド類、ダイズ油、綿実油等の植物油類、ジメチルスルホキシド、および水等が挙げられる。
【００３１】
ガス担体としては、例えば、ＬＰＧ、空気、窒素、炭酸ガス、およびジメチルエーテル等が挙げられる。
【００３２】
式（１）の化合物を乳化、分散、もしくは展着等させる目的で使用される界面活性剤もしくは分散剤としては、例えば、アルキル硫酸エステル類、アルキル（アリール）スルホン酸塩類、ポリオキシアルキレンアルキル（アリール）エーテル類、多価アルコールエステル類、およびリグニンスルホン酸塩等が挙げられる。
【００３３】
さらに、製剤の性状を改善するための補助剤としては、例えば、カルボキシメチルセルロース、アラビアガム、ポリエチレングリコール、ステアリン酸カルシウム等が挙げられる。
【００３４】
上記の担体、界面活性剤、分散剤、および補助剤は、その各群内および各群間から２種以上選択してそれらを組み合わせて使用してもよい。
【００３５】
イネいもち病防除剤中における式（１）の化合物またはその酸付加塩の含有量は、該防除剤の製剤形態、適用方法、使用環境、およびその他の条件を考慮して適宜変更可能であるが、該防除剤が乳剤形態である場合には通常１〜７５重量％、好ましくは５〜３０重量％であり、該防除剤が粉剤形態である場合には通常０．３〜２５重量％、好ましくは１〜３重量％であり、該防除剤が水和剤形態である場合には通常１〜９０重量％、好ましくは５〜５０重量％であり、また、該防除剤が粒剤形態である場合には通常０．５〜５０重量％、好ましくは２〜３０重量％である。
【００３６】
本発明によるイネいもち病防除剤は、通常、そのまままたは希釈して用いられる。
【００３７】
本発明によるイネいもち病防除剤の使用態様としては、例えば、イネ植物体自体への適用（茎葉散布）、育苗箱への適用（育苗箱施用）、土壌への適用（土壌混和もしくは側条施用）、田面水への適用（水面施用もしくは本田施用）、および種子への適用（種子処理）等が挙げられる。
【００３８】
本発明の別の態様として、式（１）の化合物またはその酸付加塩を、イネ植物体、土壌または田面水に対して適用することを含んでなる、イネいもち病の防除方法が提供される。
【００３９】
本発明によるイネいもち病防除剤の使用量は、その使用環境およびイネの生育状態等に応じて適宜変更可能であるが、例えば、イネ生育用の土壌または田面水に対して該防除剤を適用する場合には、有効成分量で１０アール当たり９〜５００ｇ、好ましくは３０〜３００ｇ使用することが好ましい。
【００４０】
また、本発明によるイネいもち病防除剤は他の殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、除草剤、植物成長調節剤、肥料等と混合して用いてもよい。
【００４１】
【実施例】
以下本発明を以下の実施例によって詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるれものではない。
【００４２】
製造例
本発明による化合物１〜１１を下記のようにして製造した。また比較例である化合物１２〜１４も前記化合物と同様にして製造した。
【００４３】
４−ｔ−ブチル−２−フルオロアニリンの製造
アセトニトリル（２００ｍｌ）にSELECTFLUOR（Aldrich Chemical Company Inc製）（１−クロロメチル−４−フルオロ−１，４−ジアゾニアビシクロ［２，２，２］オクタンビステトラフルオロボレート）（１５ｇ）を７０℃で３０分加熱し、溶解させた。得られた反応液を６０℃まで冷却し、これに４−ｔ−ブチル−アセトアニリド（５．７ｇ）を加えた。１００℃で１時間撹拌し、放冷後、該反応液を水（２００ｍｌ）に加え、これを酢酸エチルを用いて抽出した（１００ｍｌ、２回）。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥させた後、減圧下溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００（和光純薬工業社製），溶出溶媒ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（１０：１））を用いて精製し、４−ｔ−ブチル−２−フルオロ−アセトアニリド（３．０６ｇ）を得た。この４−ｔ−ブチル−２−フルオロ−アセトアニリド（３．６７ｇ）を、エタノール（３０ｍｌ）と濃塩酸（１５ｍｌ）の混合液中に加え、これを９５℃において２時間撹拌した。この反応液を放冷後、水にあけ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和した後、酢酸エチルを用いて抽出した。酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水を用いて洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥させた後、減圧下溶媒を留去して、４−ｔ−ブチル−２−フルオロアニリン（３．４９ｇ）を得た。この化合物の重クロロホルム中における１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
δ(ppm)： 7.01(1H,dd), 6.95(1H,dd), 6.73(1H,m), 1.28(9H,s)
【００４４】
化合物１： ２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−ヒドロキシキノリン
上記のプロセスに従って得られた４−ｔ−ブチル−２−フルオロアニリン（４．７９ｇ）と２−メチル−アセト酢酸エチル（４．９６ｇ）とを、トリフルオロボロンエーテレート（０．３ｍｌ）の存在下、トルエン中（６０ｍｌ）において３時間還流し、反応液を得た。得られた反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水を用いて洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥させた後、減圧下においてその溶媒を留去した。得られた反応生成物をジフェニルエーテル（８０ｍｌ）中において１時間還流し、放冷させた後、析出した生成物を減圧下で濾取し、２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−ヒドロキシキノリン（化合物１）（１．６６ｇ）を得た。この化合物の重ＤＭＳＯ（ジメチルスルホキシド）中における１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
δ(ppm)： 11.27(1H,br.s), 7.83(1H,s), 7.59(1H,br.d), 2.41(3H,s), 1.96(3H,s), 1.31(9H,s)
【００４５】
化合物２： ２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−アセチルキノリン
化合物１（５０ｍｇ）を、無水酢酸（３ｍｌ）中において、１２０℃で３時間撹拌して反応液を得た。得られた反応液から減圧下において無水酢酸を留去した。得られた残渣を酢酸エチルで溶解させ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水を用いて洗浄し、次いで無水硫酸ナトリウム上で乾燥させた後、減圧下溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００，溶出溶媒ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（５：１））にて精製して、２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−アセチルキノリン（化合物２）（３５．７ｍｇ）を得た。この化合物の重クロロホルム中における１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
δ(ppm)： 7.43(1H,dd), 7.37(1H,d), 2.78(3H,s), 2.51(3H,s), 2.26(3H,s), 1.38(9H,s)
【００４６】
化合物３： ２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−プロピオニルキノリン
６０％水素化ナトリウム（２０ｍｇ）をテトラヒドロフラン（３ｍｌ）に懸濁し、そこに、氷冷下、化合物１（１２４ｍｇ）を加えて、３０分間撹拌した。これにプロピオニルクロリド（２００μｌ）をさらに加えて３時間撹拌した。得られた反応液を氷水にあけ、これを酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水を用いて洗浄し、次いで無水硫酸ナトリウム上で乾燥させた後、減圧下溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００，溶出溶媒ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（３：１））にて精製して、２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−プロピオニルキノリン（２１ｍｇ）（化合物３）を得た。この化合物の重クロロホルム中における１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
δ(ppm)： 7.42(1H,dd), 7.36(1H,d), 2.81(2H,q), 2.75(3H,s), 2.25(3H,s), 1.43(3H,t), 1.37(9H,s)
【００４７】
化合物４： ２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−ブチリルキノリン
６０％水素化ナトリウム（２０ｍｇ）をテトラヒドロフラン（３ｍｌ）に懸濁し、そこに、氷冷下、化合物１（１２４ｍｇ）を加えて、３０分間撹拌した。これにブチリルクロリド（２００μｌ）をさらに加えて３時間撹拌した。得られた反応液を氷水にあけ、これを酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水を用いて洗浄し、次いで無水硫酸ナトリウム上で乾燥させた後、減圧下溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００，溶出溶媒ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（３：１））にて精製して、２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−ブチリルキノリン（化合物４）（６４ｍｇ）を得た。この化合物の重クロロホルム中における１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
δ(ppm)： 7.43(1H,dd), 7.37(1H,d), 2.76(2H,t), 2.75(3H,s), 2.25(3H,s), 1.94(2H,m), 1.37(9H,s), 1.15(3H,t)
【００４８】
化合物５： ２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−バレリルキノリン
６０％水素化ナトリウム（２０ｍｇ）をテトラヒドロフラン（３ｍｌ）に懸濁し、そこに、氷冷下、化合物１（１２４ｍｇ）を加えて、３０分間撹拌した。これにバレリルクロリド（２００μｌ）をさらに加えて３時間撹拌した。得られた反応液を氷水にあけ、これを酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水を用いて洗浄し、次いで無水硫酸ナトリウム上で乾燥させた後、減圧下溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００，溶出溶媒ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（３：１））にて精製して、２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−バレリルキノリン（化合物５）（１２０ｍｇ）を得た。この化合物の重クロロホルム中における１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
δ(ppm)： 7.42(1H,dd), 7.37(1H,d), 2.78(2H,t), 2.75(3H,s), 2.25(3H,s), 1.89(2H,m), 1.56(2H,m), 1.37(9H,s), 1.03(3H,t)
【００４９】
化合物６： ２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−メトキシカルボニルキノリン
６０％水素化ナトリウム（２０ｍｇ）をテトラヒドロフラン（３ｍｌ）に懸濁し、そこに、氷冷下、化合物１（１２４ｍｇ）を加えて、３０分間撹拌した。これにクロロギ酸メチル（２００μｌ）をさらに加えて３時間撹拌した。得られた反応液を氷水にあけ、これを酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水を用いて洗浄し、次いで無水硫酸ナトリウム上で乾燥させた後、減圧下溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００，溶出溶媒ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（３：１））にて精製して、２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−メトキシカルボニルキノリン（化合物６）（１００ｍｇ）を得た。この化合物の重クロロホルム中における１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
δ(ppm)： 7.45(1H,br.s), 7.43(1H,dd), 4.00(3H,s), 2.76(3H,s), 2.31(3H,s), 1.38(9H,s)
【００５０】
化合物７： ２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−エトキシカルボニルキノリン
６０％水素化ナトリウム（６０ｍｇ）をテトラヒドロフラン（１０ｍｌ）に懸濁し、そこに、氷冷下、化合物１（２００ｍｇ）を加えて、３０分間撹拌した。これにクロロギ酸エチル（２００μｌ）をさらに加えて３時間撹拌した。得られた反応液を氷水にあけ、これを酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水を用いて洗浄し、次いで無水硫酸ナトリウム上で乾燥させた後、減圧下溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００，溶出溶媒ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（３：１））にて精製して、２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−エトキシカルボニルキノリン（化合物７）（２２０ｍｇ）を得た。
【００５１】
この化合物の重クロロホルム中における１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
δ(ppm)： 7.45(1H,br.s), 7.43(1H,dd), 4.40(2H,q), 2.32(3H,s,), 2.04(3H,s), 1.44(3H,t), 1.38(9H,s)
【００５２】
化合物８： ２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−ノルマルプロポキシカルボニルキノリン
６０％水素化ナトリウム（２０ｍｇ）をテトラヒドロフラン（３ｍｌ）に懸濁し、そこに、氷冷下、化合物１（１２４ｍｇ）を加えて、３０分間撹拌した。これにクロロギ酸ノルマルプロピル（２００μｌ）をさらに加えて３時間撹拌した。得られた反応液を氷水にあけ、これを酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を飽和食塩水を用いて洗浄し、次いで無水硫酸ナトリウム上で乾燥させた後、減圧下溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００，溶出溶媒ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（３：１））にて精製して、２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−ノルマルプロポキシカルボニルキノリン（化合物８）（９６ｍｇ）を得た。この化合物の重クロロホルム中における１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
δ(ppm)： 7.45(1H,br.s), 7.43(1H,dd), 4.35(2H,t), 2.75(3H,s), 2.31(3H,s), 1.82(2H,m), 1.38(9H,s), 1.04(3H,t)
【００５３】
化合物９： ２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−ノルマルブトキシカルボニルキノリン
６０％水素化ナトリウム（６０ｍｇ）をテトラヒドロフラン（１０ｍｌ）に懸濁し、そこに、氷冷下、化合物１（２００ｍｇ）を加えて、３０分間撹拌した。これにクロロギ酸ノルマルブチル（２００μｌ）をさらに加えて３時間撹拌した。得られた反応液を氷水にあけ、これを酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水を用いて洗浄し、次いで無水硫酸ナトリウム上で乾燥させた後、減圧下溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００，溶出溶媒ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（３：１））にて精製して、２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−ノルマルブトキシカルボニルキノリン（化合物９）（１４２ｍｇ）を得た。この化合物の重クロロホルム中における１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
δ(ppm)： 7.45(1H,d), 7.43(1H,dd), 4.35(2H,t), 2.75(3H,s), 2.32(3H,s), 1.77(2H,m), 1.48(2H,m), 1.38(9H,s), 0.99(3H,t)
【００５４】
化合物１０： ２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−メトキシアセチルキノリン
６０％水素化ナトリウム（１６５ｍｇ）をテトラヒドロフラン（１０ｍｌ）に懸濁し、そこに、氷冷下、化合物１（６８０ｍｇ）を加えて、３０分間撹拌した。これにメトキシアセチルクロリド（２００μｌ）をさらに加えて３時間撹拌した。得られた反応液を氷水にあけ、これを酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水を用いて洗浄し、次いで無水硫酸ナトリウム上で乾燥させた後、減圧下溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００，溶出溶媒ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（３：１））にて精製して、２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−メトキシアセチルキノリン（化合物１０）（３９０ｍｇ）を得た。この化合物の重クロロホルム中における１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
δ(ppm)： 7.42(1H,dd), 7.35(1H,d), 4.51(2H,s), 3.62(3H,s), 2.75(3H,s), 2.26(3H,s), 1.37(9H,s)
【００５５】
化合物１１： ２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−アセトキシアセチルキノリン
６０％水素化ナトリウム（４４ｍｇ）をテトラヒドロフラン（１０ｍｌ）に懸濁し、そこに、氷冷下、化合物１（２００ｍｇ）を加えて、３０分間撹拌した。これにアセトキシアセチルクロリド（１００μｌ）をさらに加えて３時間撹拌した。得られた反応液を氷水にあけ、これを酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水を用いて洗浄し、次いで無水硫酸ナトリウム上で乾燥させた後、減圧下溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００，溶出溶媒ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（３：１））にて精製して、２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−アセトキシアセチルキノリン（化合物１１）（１４０ｍｇ）を得た。この化合物の重クロロホルム中における１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
δ(ppm)： 7.43(1H,dd), 7.42(1H,br.s), 5.02(2H,s), 2.75(3H,s), 2.27(3H,s), 2.23(3H,s), 1.40(9H,s)
【００５６】
化合物１２〜１４（比較例）
上記した各化合物の製造方法と同様にして、後述する表１に示されるような構造を有する化合物１２〜１４を製造した。これら化合物１２〜１４は本発明の比較例に相当する。
【００５７】
イネいもち病防除剤の製造
製造例１： 水和剤
下記組成の各成分を均一に混合して、粉砕し、水和剤を得た。
【００５８】
化合物２ ２５ 重量％
クレー ３０ 重量％
ケイソウ土 ３５ 重量％
リグニンスルホン酸カルシウム ３ 重量％
ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル ７ 重量％
【００５９】
製造例２： 粉剤
下記組成の各成分を均一に混合して、粉剤を得た。
【００６０】
化合物２ ２ 重量％
クレー ６０ 重量％
タルク ３７ 重量％
ステアリン酸カルシウム １ 重量％
【００６１】
製造例３： 乳剤
下記組成の各成分を均一に混合して、溶解させ、乳剤を得た。
【００６２】
化合物２ ２０ 重量％
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド ２０ 重量％
キシレン ５０ 重量％
ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル １０ 重量％
【００６３】
評価試験
試験１： イネいもち病感染阻害試験（イネいもち病の予防試験）
培養土を入れたプラスチック製ポットに播種した後に１５日程度育苗して、第３葉が完全に展開したイネ（品種：十石）を供試植物とした。
【００６４】
本発明によるイネいもち病防除剤を１０％アセトン水（ネオエステリンを２０００倍で加用）で希釈して所定の各濃度に調整した試験用薬液をそれぞれ調製した。得られた各薬液をスプレーガンを用いてそれぞれ、３ポットあたり１０ｍｌ散布処理し、風乾させた。
【００６５】
次いで、予めイネいもち病菌を培養しておいたシャーレよりイネいもち病菌を採集して、分生胞子懸濁液（１〜５×１０６／ｍｌ）を調製した。この分生胞子懸濁液を、前記ポットにそれぞれ均一に噴霧接種した後、２５℃の湿室内に２４時間、各ポットを静置した。その後夜間２０℃、日中２５℃の人工気象室に移してイネを発病させた。
【００６６】
接種７日後に第３葉の病斑数を数え、処理区の場合に得られた結果と、無処理区の場合に得られた結果とを求め、下記式に従って、各場合の防除価を算出した。
【００６７】
防除価＝［１−（処理区の病斑数／無処理区の病斑数）］×１００
結果は表１に示されるとおりであった。
【００６８】
【表１】
【００６９】
試験２： イネいもち病病斑進展阻害試験（イネいもち病の治療試験）
培養土を入れたプラスチック製ポットに播種した後に１５日程度育苗して、第３葉が完全に展開したイネ（品種：十石）を供試植物とした。
【００７０】
予めイネいもち病菌を培養しておいたシャーレよりイネいもち病菌を採集して、分生胞子懸濁液（１〜５×１０６／ｍｌ）を調製した。この分生胞子懸濁液を、前記ポットに均一に噴霧接種した後、２５℃の湿室内に２４時間、各ポットを静置した。その後夜間２０℃、日中２５℃の人工気象室に移してイネを発病させた。
【００７１】
接種４８時間後に、本発明によるイネいもち病防除剤を所定の各濃度に調整して薬液を調製し、各薬液をそれぞれスプレーガンを用いて３ポットあたり１０ｍｌ散布処理し、風乾させた。次いで、再び前述の人工気象室に移して発病させた。
【００７２】
接種７日後に第３葉の病斑数を数え、処理区の場合に得られた結果と、無処理区の場合に得られた結果とを求め、感染阻害試験の場合と同様に、各場合の防除価を算出した。
【００７３】
結果は表２に示されるとおりであった。
【００７４】
【表２】
【発明の背景】
発明の分野
本発明は、イネいもち病防除剤に関する。
【０００２】
背景技術
これまでに、種々の植物病害に対して防除効果を示す活性物質が、多く見出され、それらを有効成分として含有する様々な植物病害防除剤が開発されてきた。しかしながら、耐性菌の出現などの観点からは、その防除効果には改善の余地があった。
【０００３】
植物病害の一つとして、いもち病が挙げられる。いもち病は、糸状菌の一種で、不完全菌類に属するPyricularia属菌の寄生により起こる植物の病気である。特にイネいもち病は、夏期の低温もしくは多雨などの異常気象の際に大発生することがあり、イネの最も重要な病気の一つである。
【０００４】
したがって、イネいもち病に対して優れた防除効果を有する防除剤が望まれている。
【０００５】
また、国際公開ＷＯ９８／５５４６０号には、４−キノリノール誘導体およびこれらを有効成分として含有する農園芸用殺菌剤が開示されている。しかしながら、ここには、２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−キノリノール誘導体の有用性についてはなんら記載されていない。
【０００６】
【発明の概要】
本発明者らは、今般、４−キノリノール誘導体の中でも特に６位にｔ−ブチル（第３ブチル）と、８位にフッ素とを有するもの、すなわち２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−キノリノール誘導体が、イネいもち病に対して有意に高い防除効果を示すことを見出した。この防除効果は、例えば国際公開ＷＯ９８／５５４６０号に開示されているような他の４−キノリノール誘導体により得られる効果よりも、顕著に優れたものであった。本発明はかかる知見に基づくものである。
【０００７】
したがって、本発明は、イネいもち病に対し優れた防除効果を有する化合物および防除剤の提供をその目的とする。
【０００８】
そして、本発明は、下記式（１）の化合物、またはその酸付加塩に関するものである。
【０００９】
【化３】
Ｒは、水素原子、−ＣＯＲ１、−ＣＯＯＲ１（ここでＲ１は炭素数１〜４のアルキル基である）、−ＣＯＣＨ２ＯＣＨ３、または−ＣＯＣＨ２ＯＣＯＣＨ３である］。
【００１０】
また、本発明によるイネいもち病防除剤は、式（１）の化合物またはその酸付加塩の少なくとも一種を有効成分として含有するものである。
【００１１】
【発明の具体的説明】
式（１）の化合物
本発明は、前記式（１）の化合物（２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−キノリノール誘導体）、またはその酸付加塩に関するものである。式（１）の化合物またはその酸付加塩は、イネいもち病(Pyricularia oryzae)に対して優れた防除効果を示し、イネいもち病防除剤として有利に使用することができるものである。
【００１２】
前記式（１）の化合物において、Ｒは、水素原子、−ＣＯＲ１、−ＣＯＯＲ１、−ＣＯＣＨ２ＯＣＨ３、または−ＣＯＣＨ２ＯＣＯＣＨ３を示す。ここでＲ１は炭素数１〜４のアルキル基であり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、もしくはブチル基が挙げられる。
【００１３】
なお、式（１）中においてＲが水素原子である場合には、式（１）の化合物は、その互変異性体である下記式（２）に示される構造をとることができる。式（１）の化合物が、前記式（２）の化合物を包含することは当業者にも明らかである。
【００１４】
【化４】
【００１５】
なお、式（１）の化合物は、水和物又は溶媒和物の形態をとることも可能であり、本発明においては、そのような水和物および溶媒和物も式（１）の化合物に包含される。
【００１６】
式（１）の化合物の具体例を示せば、下記のものが挙げられる。
【００１７】
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−ヒドロキシキノリン、
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−アセチルキノリン、
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−プロピオニルキノリン、
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−ブチリルキノリン、
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−バレリルキノリン、
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−メトキシカルボニルキノリン、
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−エトキシカルボニルキノリン、
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−ノルマルプロポキシカルボニルキノリン、
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−ノルマルブトキシカルボニルキノリン、
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−メトキシアセチルキノリン、または
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−アセトキシアセチルキノリン。
【００１８】
式（１）の化合物の製造方法
本発明による式（１）の化合物は、結合の形成ないし置換基の導入に関して、合目的的な任意の方法によって合成することができる。
【００１９】
例えば、既知の方法で合成可能な４−ｔ−ブチル−２−フルオロアニリンから、以下のスキームに従って、式（１）の化合物を製造することができる。
【００２０】
【化５】
Ｒは、水素原子、−ＣＯＲ１、−ＣＯＯＲ１（ここでＲ１は炭素数１〜４のアルキル基である）、−ＣＯＣＨ２ＯＣＨ３、または−ＣＯＣＨ２ＯＣＯＣＨ３であり、Ｒ２はＲ１、−ＯＲ１、−ＣＨ２ＯＣＨ３または−ＣＨ２ＯＣＯＣＨ３である］。
【００２１】
このスキームは、先ず、式（２）の化合物を用意し（工程（ａ））、次いで、この式（２）の化合物を、式（３）または式（４）の化合物と、塩基存在下若しくは塩基非存在下において反応させる（工程（ｂ））ことによって、式（１）の化合物を得るものである。
【００２２】
上記スキームを具体的に説明すると、下記の通りである。
【００２３】
工程（ａ）
先ず、４−ｔ−ブチル−２−フルオロアニリンと２−メチルアセト酢酸エチルとから、例えば、J. Am. Chem. Soc. 70, 2402 (1948)、Tetrahedron Lett. 27, 5323 (1986)に準じて、式（２）の化合物を得る。なお、この式（２）の化合物は、式（１）の化合物においてＲが水素原子である化合物に相当する。また使用される４−ｔ−ブチル−２−フルオロアニリンは、例えば、Chem. Abs. 42, 2239またはJ. Chem. Soc.,Chem. Commun., 1992, 595に記載の公知の方法により得ることができる。
【００２４】
工程（ｂ）
次いで、式（１）においてＲが水素原子以外の化合物を所望する場合には、式（３）または式（４）の化合物で塩基存在下若しくは塩基非存在下で反応させることにより、式（１）の化合物を製造することができる。
【００２５】
ここで、使用可能な塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ピリジン等の有機アミン、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム等の無機塩基が挙げられる。また、式（３）または式（４）の化合物は、式（２）の化合物に対して１〜５０当量、好ましくは１〜１０当量の範囲で用いることが望ましい。工程（ｂ）の反応は、無溶媒または反応に関与しない有機溶媒中、例えばジメチルホルムアミドまたはテトラヒドロフラン中において、例えば０〜１４０℃の範囲の温度で実施することができる。
【００２６】
イネいもち病防除剤
本発明によるイネいもち病防除剤は、前記式（１）の化合物またはその酸付加塩の少なくとも一種を有効成分として含有するものである。
【００２７】
ここで「有効成分として含有する」ということは、剤型に応じた担体を含む場合を包含することは当然として、併用可能な他の薬剤を含有してもよいことも意味する。
【００２８】
したがって、式（１）の化合物をイネいもち病防除剤として用いる場合には、該式（１）の化合物をそのまま用いてもよいが、通常は適当な固体担体、液体担体、ガス状担体、界面活性剤、分散剤および／またはその他の製剤用補助剤と混合して、乳剤、液剤、水和剤、粉剤、粒剤、油剤、エアゾール、フロアブル剤等の任意の剤型にして使用することができる。
【００２９】
このとき、固体担体としては、例えば、タルク、ベンナイト、クレー、カオリン、ケイソウ土、バーミキュライト、ホワイトカーボン、および炭酸カルシウム等が挙げられる。
【００３０】
液体担体としては、例えば、メタノール、ｎ−ヘキサノール、エチレングリコール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ｎ−ヘキサン、ケロシン、灯油等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン、メチルナフタレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等の酸アミド類、ダイズ油、綿実油等の植物油類、ジメチルスルホキシド、および水等が挙げられる。
【００３１】
ガス担体としては、例えば、ＬＰＧ、空気、窒素、炭酸ガス、およびジメチルエーテル等が挙げられる。
【００３２】
式（１）の化合物を乳化、分散、もしくは展着等させる目的で使用される界面活性剤もしくは分散剤としては、例えば、アルキル硫酸エステル類、アルキル（アリール）スルホン酸塩類、ポリオキシアルキレンアルキル（アリール）エーテル類、多価アルコールエステル類、およびリグニンスルホン酸塩等が挙げられる。
【００３３】
さらに、製剤の性状を改善するための補助剤としては、例えば、カルボキシメチルセルロース、アラビアガム、ポリエチレングリコール、ステアリン酸カルシウム等が挙げられる。
【００３４】
上記の担体、界面活性剤、分散剤、および補助剤は、その各群内および各群間から２種以上選択してそれらを組み合わせて使用してもよい。
【００３５】
イネいもち病防除剤中における式（１）の化合物またはその酸付加塩の含有量は、該防除剤の製剤形態、適用方法、使用環境、およびその他の条件を考慮して適宜変更可能であるが、該防除剤が乳剤形態である場合には通常１〜７５重量％、好ましくは５〜３０重量％であり、該防除剤が粉剤形態である場合には通常０．３〜２５重量％、好ましくは１〜３重量％であり、該防除剤が水和剤形態である場合には通常１〜９０重量％、好ましくは５〜５０重量％であり、また、該防除剤が粒剤形態である場合には通常０．５〜５０重量％、好ましくは２〜３０重量％である。
【００３６】
本発明によるイネいもち病防除剤は、通常、そのまままたは希釈して用いられる。
【００３７】
本発明によるイネいもち病防除剤の使用態様としては、例えば、イネ植物体自体への適用（茎葉散布）、育苗箱への適用（育苗箱施用）、土壌への適用（土壌混和もしくは側条施用）、田面水への適用（水面施用もしくは本田施用）、および種子への適用（種子処理）等が挙げられる。
【００３８】
本発明の別の態様として、式（１）の化合物またはその酸付加塩を、イネ植物体、土壌または田面水に対して適用することを含んでなる、イネいもち病の防除方法が提供される。
【００３９】
本発明によるイネいもち病防除剤の使用量は、その使用環境およびイネの生育状態等に応じて適宜変更可能であるが、例えば、イネ生育用の土壌または田面水に対して該防除剤を適用する場合には、有効成分量で１０アール当たり９〜５００ｇ、好ましくは３０〜３００ｇ使用することが好ましい。
【００４０】
また、本発明によるイネいもち病防除剤は他の殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、除草剤、植物成長調節剤、肥料等と混合して用いてもよい。
【００４１】
【実施例】
以下本発明を以下の実施例によって詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるれものではない。
【００４２】
製造例
本発明による化合物１〜１１を下記のようにして製造した。また比較例である化合物１２〜１４も前記化合物と同様にして製造した。
【００４３】
４−ｔ−ブチル−２−フルオロアニリンの製造
アセトニトリル（２００ｍｌ）にSELECTFLUOR（Aldrich Chemical Company Inc製）（１−クロロメチル−４−フルオロ−１，４−ジアゾニアビシクロ［２，２，２］オクタンビステトラフルオロボレート）（１５ｇ）を７０℃で３０分加熱し、溶解させた。得られた反応液を６０℃まで冷却し、これに４−ｔ−ブチル−アセトアニリド（５．７ｇ）を加えた。１００℃で１時間撹拌し、放冷後、該反応液を水（２００ｍｌ）に加え、これを酢酸エチルを用いて抽出した（１００ｍｌ、２回）。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥させた後、減圧下溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００（和光純薬工業社製），溶出溶媒ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（１０：１））を用いて精製し、４−ｔ−ブチル−２−フルオロ−アセトアニリド（３．０６ｇ）を得た。この４−ｔ−ブチル−２−フルオロ−アセトアニリド（３．６７ｇ）を、エタノール（３０ｍｌ）と濃塩酸（１５ｍｌ）の混合液中に加え、これを９５℃において２時間撹拌した。この反応液を放冷後、水にあけ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和した後、酢酸エチルを用いて抽出した。酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水を用いて洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥させた後、減圧下溶媒を留去して、４−ｔ−ブチル−２−フルオロアニリン（３．４９ｇ）を得た。この化合物の重クロロホルム中における１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
δ(ppm)： 7.01(1H,dd), 6.95(1H,dd), 6.73(1H,m), 1.28(9H,s)
【００４４】
化合物１： ２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−ヒドロキシキノリン
上記のプロセスに従って得られた４−ｔ−ブチル−２−フルオロアニリン（４．７９ｇ）と２−メチル−アセト酢酸エチル（４．９６ｇ）とを、トリフルオロボロンエーテレート（０．３ｍｌ）の存在下、トルエン中（６０ｍｌ）において３時間還流し、反応液を得た。得られた反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水を用いて洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥させた後、減圧下においてその溶媒を留去した。得られた反応生成物をジフェニルエーテル（８０ｍｌ）中において１時間還流し、放冷させた後、析出した生成物を減圧下で濾取し、２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−ヒドロキシキノリン（化合物１）（１．６６ｇ）を得た。この化合物の重ＤＭＳＯ（ジメチルスルホキシド）中における１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
δ(ppm)： 11.27(1H,br.s), 7.83(1H,s), 7.59(1H,br.d), 2.41(3H,s), 1.96(3H,s), 1.31(9H,s)
【００４５】
化合物２： ２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−アセチルキノリン
化合物１（５０ｍｇ）を、無水酢酸（３ｍｌ）中において、１２０℃で３時間撹拌して反応液を得た。得られた反応液から減圧下において無水酢酸を留去した。得られた残渣を酢酸エチルで溶解させ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水を用いて洗浄し、次いで無水硫酸ナトリウム上で乾燥させた後、減圧下溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００，溶出溶媒ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（５：１））にて精製して、２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−アセチルキノリン（化合物２）（３５．７ｍｇ）を得た。この化合物の重クロロホルム中における１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
δ(ppm)： 7.43(1H,dd), 7.37(1H,d), 2.78(3H,s), 2.51(3H,s), 2.26(3H,s), 1.38(9H,s)
【００４６】
化合物３： ２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−プロピオニルキノリン
６０％水素化ナトリウム（２０ｍｇ）をテトラヒドロフラン（３ｍｌ）に懸濁し、そこに、氷冷下、化合物１（１２４ｍｇ）を加えて、３０分間撹拌した。これにプロピオニルクロリド（２００μｌ）をさらに加えて３時間撹拌した。得られた反応液を氷水にあけ、これを酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水を用いて洗浄し、次いで無水硫酸ナトリウム上で乾燥させた後、減圧下溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００，溶出溶媒ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（３：１））にて精製して、２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−プロピオニルキノリン（２１ｍｇ）（化合物３）を得た。この化合物の重クロロホルム中における１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
δ(ppm)： 7.42(1H,dd), 7.36(1H,d), 2.81(2H,q), 2.75(3H,s), 2.25(3H,s), 1.43(3H,t), 1.37(9H,s)
【００４７】
化合物４： ２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−ブチリルキノリン
６０％水素化ナトリウム（２０ｍｇ）をテトラヒドロフラン（３ｍｌ）に懸濁し、そこに、氷冷下、化合物１（１２４ｍｇ）を加えて、３０分間撹拌した。これにブチリルクロリド（２００μｌ）をさらに加えて３時間撹拌した。得られた反応液を氷水にあけ、これを酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水を用いて洗浄し、次いで無水硫酸ナトリウム上で乾燥させた後、減圧下溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００，溶出溶媒ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（３：１））にて精製して、２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−ブチリルキノリン（化合物４）（６４ｍｇ）を得た。この化合物の重クロロホルム中における１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
δ(ppm)： 7.43(1H,dd), 7.37(1H,d), 2.76(2H,t), 2.75(3H,s), 2.25(3H,s), 1.94(2H,m), 1.37(9H,s), 1.15(3H,t)
【００４８】
化合物５： ２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−バレリルキノリン
６０％水素化ナトリウム（２０ｍｇ）をテトラヒドロフラン（３ｍｌ）に懸濁し、そこに、氷冷下、化合物１（１２４ｍｇ）を加えて、３０分間撹拌した。これにバレリルクロリド（２００μｌ）をさらに加えて３時間撹拌した。得られた反応液を氷水にあけ、これを酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水を用いて洗浄し、次いで無水硫酸ナトリウム上で乾燥させた後、減圧下溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００，溶出溶媒ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（３：１））にて精製して、２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−バレリルキノリン（化合物５）（１２０ｍｇ）を得た。この化合物の重クロロホルム中における１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
δ(ppm)： 7.42(1H,dd), 7.37(1H,d), 2.78(2H,t), 2.75(3H,s), 2.25(3H,s), 1.89(2H,m), 1.56(2H,m), 1.37(9H,s), 1.03(3H,t)
【００４９】
化合物６： ２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−メトキシカルボニルキノリン
６０％水素化ナトリウム（２０ｍｇ）をテトラヒドロフラン（３ｍｌ）に懸濁し、そこに、氷冷下、化合物１（１２４ｍｇ）を加えて、３０分間撹拌した。これにクロロギ酸メチル（２００μｌ）をさらに加えて３時間撹拌した。得られた反応液を氷水にあけ、これを酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水を用いて洗浄し、次いで無水硫酸ナトリウム上で乾燥させた後、減圧下溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００，溶出溶媒ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（３：１））にて精製して、２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−メトキシカルボニルキノリン（化合物６）（１００ｍｇ）を得た。この化合物の重クロロホルム中における１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
δ(ppm)： 7.45(1H,br.s), 7.43(1H,dd), 4.00(3H,s), 2.76(3H,s), 2.31(3H,s), 1.38(9H,s)
【００５０】
化合物７： ２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−エトキシカルボニルキノリン
６０％水素化ナトリウム（６０ｍｇ）をテトラヒドロフラン（１０ｍｌ）に懸濁し、そこに、氷冷下、化合物１（２００ｍｇ）を加えて、３０分間撹拌した。これにクロロギ酸エチル（２００μｌ）をさらに加えて３時間撹拌した。得られた反応液を氷水にあけ、これを酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水を用いて洗浄し、次いで無水硫酸ナトリウム上で乾燥させた後、減圧下溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００，溶出溶媒ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（３：１））にて精製して、２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−エトキシカルボニルキノリン（化合物７）（２２０ｍｇ）を得た。
【００５１】
この化合物の重クロロホルム中における１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
δ(ppm)： 7.45(1H,br.s), 7.43(1H,dd), 4.40(2H,q), 2.32(3H,s,), 2.04(3H,s), 1.44(3H,t), 1.38(9H,s)
【００５２】
化合物８： ２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−ノルマルプロポキシカルボニルキノリン
６０％水素化ナトリウム（２０ｍｇ）をテトラヒドロフラン（３ｍｌ）に懸濁し、そこに、氷冷下、化合物１（１２４ｍｇ）を加えて、３０分間撹拌した。これにクロロギ酸ノルマルプロピル（２００μｌ）をさらに加えて３時間撹拌した。得られた反応液を氷水にあけ、これを酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を飽和食塩水を用いて洗浄し、次いで無水硫酸ナトリウム上で乾燥させた後、減圧下溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００，溶出溶媒ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（３：１））にて精製して、２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−ノルマルプロポキシカルボニルキノリン（化合物８）（９６ｍｇ）を得た。この化合物の重クロロホルム中における１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
δ(ppm)： 7.45(1H,br.s), 7.43(1H,dd), 4.35(2H,t), 2.75(3H,s), 2.31(3H,s), 1.82(2H,m), 1.38(9H,s), 1.04(3H,t)
【００５３】
化合物９： ２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−ノルマルブトキシカルボニルキノリン
６０％水素化ナトリウム（６０ｍｇ）をテトラヒドロフラン（１０ｍｌ）に懸濁し、そこに、氷冷下、化合物１（２００ｍｇ）を加えて、３０分間撹拌した。これにクロロギ酸ノルマルブチル（２００μｌ）をさらに加えて３時間撹拌した。得られた反応液を氷水にあけ、これを酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水を用いて洗浄し、次いで無水硫酸ナトリウム上で乾燥させた後、減圧下溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００，溶出溶媒ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（３：１））にて精製して、２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−ノルマルブトキシカルボニルキノリン（化合物９）（１４２ｍｇ）を得た。この化合物の重クロロホルム中における１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
δ(ppm)： 7.45(1H,d), 7.43(1H,dd), 4.35(2H,t), 2.75(3H,s), 2.32(3H,s), 1.77(2H,m), 1.48(2H,m), 1.38(9H,s), 0.99(3H,t)
【００５４】
化合物１０： ２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−メトキシアセチルキノリン
６０％水素化ナトリウム（１６５ｍｇ）をテトラヒドロフラン（１０ｍｌ）に懸濁し、そこに、氷冷下、化合物１（６８０ｍｇ）を加えて、３０分間撹拌した。これにメトキシアセチルクロリド（２００μｌ）をさらに加えて３時間撹拌した。得られた反応液を氷水にあけ、これを酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水を用いて洗浄し、次いで無水硫酸ナトリウム上で乾燥させた後、減圧下溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００，溶出溶媒ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（３：１））にて精製して、２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−メトキシアセチルキノリン（化合物１０）（３９０ｍｇ）を得た。この化合物の重クロロホルム中における１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
δ(ppm)： 7.42(1H,dd), 7.35(1H,d), 4.51(2H,s), 3.62(3H,s), 2.75(3H,s), 2.26(3H,s), 1.37(9H,s)
【００５５】
化合物１１： ２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−アセトキシアセチルキノリン
６０％水素化ナトリウム（４４ｍｇ）をテトラヒドロフラン（１０ｍｌ）に懸濁し、そこに、氷冷下、化合物１（２００ｍｇ）を加えて、３０分間撹拌した。これにアセトキシアセチルクロリド（１００μｌ）をさらに加えて３時間撹拌した。得られた反応液を氷水にあけ、これを酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水を用いて洗浄し、次いで無水硫酸ナトリウム上で乾燥させた後、減圧下溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００，溶出溶媒ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（３：１））にて精製して、２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−アセトキシアセチルキノリン（化合物１１）（１４０ｍｇ）を得た。この化合物の重クロロホルム中における１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
δ(ppm)： 7.43(1H,dd), 7.42(1H,br.s), 5.02(2H,s), 2.75(3H,s), 2.27(3H,s), 2.23(3H,s), 1.40(9H,s)
【００５６】
化合物１２〜１４（比較例）
上記した各化合物の製造方法と同様にして、後述する表１に示されるような構造を有する化合物１２〜１４を製造した。これら化合物１２〜１４は本発明の比較例に相当する。
【００５７】
イネいもち病防除剤の製造
製造例１： 水和剤
下記組成の各成分を均一に混合して、粉砕し、水和剤を得た。
【００５８】
化合物２ ２５ 重量％
クレー ３０ 重量％
ケイソウ土 ３５ 重量％
リグニンスルホン酸カルシウム ３ 重量％
ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル ７ 重量％
【００５９】
製造例２： 粉剤
下記組成の各成分を均一に混合して、粉剤を得た。
【００６０】
化合物２ ２ 重量％
クレー ６０ 重量％
タルク ３７ 重量％
ステアリン酸カルシウム １ 重量％
【００６１】
製造例３： 乳剤
下記組成の各成分を均一に混合して、溶解させ、乳剤を得た。
【００６２】
化合物２ ２０ 重量％
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド ２０ 重量％
キシレン ５０ 重量％
ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル １０ 重量％
【００６３】
評価試験
試験１： イネいもち病感染阻害試験（イネいもち病の予防試験）
培養土を入れたプラスチック製ポットに播種した後に１５日程度育苗して、第３葉が完全に展開したイネ（品種：十石）を供試植物とした。
【００６４】
本発明によるイネいもち病防除剤を１０％アセトン水（ネオエステリンを２０００倍で加用）で希釈して所定の各濃度に調整した試験用薬液をそれぞれ調製した。得られた各薬液をスプレーガンを用いてそれぞれ、３ポットあたり１０ｍｌ散布処理し、風乾させた。
【００６５】
次いで、予めイネいもち病菌を培養しておいたシャーレよりイネいもち病菌を採集して、分生胞子懸濁液（１〜５×１０６／ｍｌ）を調製した。この分生胞子懸濁液を、前記ポットにそれぞれ均一に噴霧接種した後、２５℃の湿室内に２４時間、各ポットを静置した。その後夜間２０℃、日中２５℃の人工気象室に移してイネを発病させた。
【００６６】
接種７日後に第３葉の病斑数を数え、処理区の場合に得られた結果と、無処理区の場合に得られた結果とを求め、下記式に従って、各場合の防除価を算出した。
【００６７】
防除価＝［１−（処理区の病斑数／無処理区の病斑数）］×１００
結果は表１に示されるとおりであった。
【００６８】
【表１】
試験２： イネいもち病病斑進展阻害試験（イネいもち病の治療試験）
培養土を入れたプラスチック製ポットに播種した後に１５日程度育苗して、第３葉が完全に展開したイネ（品種：十石）を供試植物とした。
【００７０】
予めイネいもち病菌を培養しておいたシャーレよりイネいもち病菌を採集して、分生胞子懸濁液（１〜５×１０６／ｍｌ）を調製した。この分生胞子懸濁液を、前記ポットに均一に噴霧接種した後、２５℃の湿室内に２４時間、各ポットを静置した。その後夜間２０℃、日中２５℃の人工気象室に移してイネを発病させた。
【００７１】
接種４８時間後に、本発明によるイネいもち病防除剤を所定の各濃度に調整して薬液を調製し、各薬液をそれぞれスプレーガンを用いて３ポットあたり１０ｍｌ散布処理し、風乾させた。次いで、再び前述の人工気象室に移して発病させた。
【００７２】
接種７日後に第３葉の病斑数を数え、処理区の場合に得られた結果と、無処理区の場合に得られた結果とを求め、感染阻害試験の場合と同様に、各場合の防除価を算出した。
【００７３】
結果は表２に示されるとおりであった。
【００７４】
【表２】
Claims (4)
- 下記式（１）の化合物またはその酸付加塩の少なくとも一種を有効成分として含有する、イネいもち病防除剤。
Ｒは、水素原子、−ＣＯＲ１、−ＣＯＯＲ１（ここでＲ１は炭素数１〜４のアルキル基である）、−ＣＯＣＨ２ＯＣＨ３、または−ＣＯＣＨ２ＯＣＯＣＨ３である］。 - 式（１）の化合物が下記からなる群より選択されるものである、請求項１に記載のイネいもち病防除剤：
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−ヒドロキシキノリン、
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−アセチルキノリン、
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−プロピオニルキノリン、
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−ブチリルキノリン、
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−バレリルキノリン、
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−メトキシカルボニルキノリン、
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−エトキシカルボニルキノリン、
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−ノルマルプロポキシカルボニルキノリン、
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−ノルマルブトキシカルボニルキノリン、
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−メトキシアセチルキノリン、および
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−アセトキシアセチルキノリン。 - 下記式（１）の化合物またはその酸付加塩を、イネ植物体、土壌または田面水に対して適用することを含んでなる、イネいもち病の防除方法。
Ｒは、水素原子、−ＣＯＲ １ 、−ＣＯＯＲ １ （ここでＲ １ は炭素数１〜４のアルキル基である）、−ＣＯＣＨ ２ ＯＣＨ ３ 、または−ＣＯＣＨ ２ ＯＣＯＣＨ ３ である］。 - 式（１）の化合物が下記からなる群より選択されるものである、請求項３に記載のイネいもち病の防除方法：
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−ヒドロキシキノリン、
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−アセチルキノリン、
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−プロピオニルキノリン、
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−ブチリルキノリン、
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−バレリルキノリン、
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−メトキシカルボニルキノリン、
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−エトキシカルボニルキノリン、
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−ノルマルプロポキシカルボニルキノリン、
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−ノルマルブトキシカルボニルキノリン、
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−メトキシアセチルキノリン、および
２，３−ジメチル−６−ｔ−ブチル−８−フルオロ−４−アセトキシアセチルキノリン。
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