JP4114050B2 - 電子機器用シリコーン断熱シート及びこれを用いた断熱方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、シリコーン樹脂(熱硬化性オルガノポリシロキサン組成物)に平均粒子径が200μm以下の中空フィラー(いわゆるマイクロバルーン)を混合した材料によって成型したシリコーンシート成型品により、0.1mmの薄膜状から10mm以上の厚さまで安定した断熱効果を発現し得る電子機器用シリコーン断熱シート及びこれを用いた断熱方法に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
一般に熱源から発生する熱を、筐体やその他の熱に弱い部品に伝えない対策として、シリコーン系のスポンジ材料が使用されていたが、シリコーン系のスポンジ材料は、材料の性質上、特に2.0mm以下の成型品においてはスポンジ構造を形成するために発生する独立気泡がスポンジシートの上下にあるスキン層を突破ってしまう。このため、薄いスポンジシートになるほどシート状成型品を得ること自体が困難であったり、断熱効果が著しく損なわれることが以前から指摘されていた。一方、従来からシリコーン樹脂に無機中空フィラー又は有機樹脂製中空フィラーを配合したゴム組成物は種々の用途に適用されていたが、断熱シートとして適用した例は従来知られていなかった。
【0003】
【特許文献1】
特許第2980852号明細書
【特許文献2】
特開平10−60151号明細書
【特許文献3】
特開平11−269388号明細書
【特許文献4】
特開2000−143986号明細書
【特許文献5】
特開2001−220510号明細書
【特許文献6】
特開2001−220511号明細書
【特許文献7】
特開2002−12696号明細書
【特許文献8】
特開2002−70838号明細書
【0004】
本発明は上記事情に鑑みなされたもので、軽量かつ低熱伝導性で、耐熱性に優れ、0.1mmの薄膜状から10mm以上の厚さまで安定して成型が可能であり、かつ優れた断熱効果がある電子機器用シリコーン断熱シート及びこれを用いた断熱方法を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】
本発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、平均粒子径が200μm以下の中空フィラー(いわゆるマイクロバルーン)を混合した材料によって成型したシリコーンシート成型品により、軽量、低熱伝導性でかつ0.1mmの薄膜状から10mm以上の厚さまで安定して成型が可能であり、かつ優れた断熱効果を発現し得るシリコーン断熱シートが得られることを知見し、本発明をなすに至った。
【0006】
即ち、本発明は、
(A)下記(1)〜(3)成分のみからなる付加硬化型オルガノポリシロキサン組成物:100重量部、
(1)一分子中に少なくとも2個の珪素原子に結合したアルケニル基を含有するオルガノポリシロキサン 100重量部、
(2)一分子中に少なくとも2個の珪素原子と結合する水素原子を含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン 0.1〜50重量部、
(3)付加反応触媒 触媒量、
(B)比重0.01〜0.2、平均粒子径が5〜200μmの有機樹脂製中空フィラー:0.1〜30重量部
を含有する熱硬化型シリコーンゴム組成物の硬化物層を有し、該シリコーンゴム硬化物層の熱伝導率が1.0×10-5〜2.3×10-4cal/cm・sec・℃であり、かつシリコーンゴム硬化物層の厚さが0.2〜2mmである電子機器用シリコーン断熱シートを筐体又はヒートシンクに取り付けて、該筐体又はヒートシンクに対する熱源からの熱を断熱する方法を提供する。
また、本発明は、上記断熱方法に使用されるシリコーン断熱シートであって、
(A)下記(1)〜(3)成分のみからなる付加硬化型オルガノポリシロキサン組成物:100重量部、
(1)一分子中に少なくとも2個の珪素原子に結合したアルケニル基を含有するオルガノポリシロキサン 100重量部、
(2)一分子中に少なくとも2個の珪素原子と結合する水素原子を含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン 0.1〜50重量部、
(3)付加反応触媒 触媒量、
(B)比重0.01〜0.2、平均粒子径が5〜200μmの有機樹脂製中空フィラー:0.1〜30重量部
を含有する熱硬化型シリコーンゴム組成物の硬化物層を有し、該シリコーンゴム硬化物層の熱伝導率が1.0×10-5〜2.3×10-4cal/cm・sec・℃であり、かつシリコーンゴム硬化物層の厚さが0.2〜2mmであることを特徴とする電子機器用シリコーン断熱シートを提供する。
この場合、シリコーンゴム硬化物層の厚さは0.2〜1.8mmであることが好ましく、上記(B)成分の有機樹脂製中空フィラーが、フェノールバルーン、又は塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルから選ばれるモノマーの重合物並びにこれらのうち2種類以上のモノマーの共重合物から選ばれる有機樹脂製中空フィラーからなる少なくとも1種であることが好ましい。また、有機樹脂製中空フィラーの平均粒子径が熱硬化型シリコーンゴム組成物の硬化物層の厚さが80%以下であることが好ましい。更に、シリコーンゴム硬化物層の少なくとも一方の表面が補強性支持層と積層されていること、この場合、補強性支持層がアルミ箔、銅箔、ガラスクロス、ポリイミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、薄膜シリコーンシートから選ばれるものであることが好ましく、またシリコーンゴム硬化物層の少なくとも一方の表面に両面テープが積層されていることが好ましい。
【0007】
また、本発明においてはマイクロバルーンを配合した熱硬化性オルガノポリシロキサン組成物のシート成型において、取扱い性の向上、またはシート強度をアップする目的で、アルミ箔、銅箔、ガラスクロス、ポリイミド、PET、薄膜シリコーンシートなどから選ばれるその他の材料(補強性支持層)との組合せによる複合シートを成型することで、各使用用途に合わせた複合シートの提供が可能となる。
【0008】
更に、本発明においてはマイクロバルーンを配合したシリコーン樹脂シート成型品、複合品に、両面テープを取り付けることで、筐体、ヒートシンクその他の部材に容易に取り付けることが可能となる。特に耐熱性能の高い両面テープとの組合せでは、熱源に直接取り付けることによって外部への熱拡散の抑制も可能となる。
【0009】
以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明のシリコーン断熱シートにおいて、(A)成分である熱硬化性オルガノポリシロキサン組成物(即ち、熱硬化性シリコーンゴム組成物)は、付加反応硬化型オルガノポリシロキサン組成物であり、この場合、付加反応硬化型オルガノポリシロキサン組成物は、
(1)一分子中に少なくとも2個の珪素原子に結合したアルケニル基を含有するオルガノポリシロキサン 100重量部、
(2)一分子中に少なくとも2個の珪素原子と結合する水素原子を含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン 0.1〜50重量部、
(3)付加反応触媒 触媒量
のみからなる。
【0010】
ここで、付加反応硬化型オルガノポリシロキサン組成物の(1)成分である、一分子中に少なくとも2個のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサンとしては下記平均組成式(i)で示されるものを主剤(ベースポリマー)として用いることができる。
R1 aSiO(4-a)/2 (i)
【0011】
式中、R1は互いに同一又は異種の炭素数1〜10、好ましくは1〜8の非置換又は置換一価炭化水素基であり、aは1.5〜2.8、好ましくは1.8〜2.5、より好ましくは1.95〜2.05の範囲の正数である。ここで、上記R1で示される珪素原子に結合した非置換又は置換の一価炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等のアルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等のアラルキル基、ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基、シクロヘキセニル基、オクテニル基等のアルケニル基や、これらの基の水素原子の一部又は全部をフッ素、臭素、塩素等のハロゲン原子、シアノ基等で置換したもの、例えばクロロメチル基、クロロプロピル基、ブロモエチル基、トリフロロプロピル基等のハロゲン置換アルキル基やシアノエチル基等が挙げられる。
【0012】
この場合、R1のうち少なくとも2個はアルケニル基(炭素数2〜8のものが好ましく、更に好ましくは2〜6である)であることが必要である。なお、アルケニル基の含有量は、全有機基(即ち、上記の非置換又は置換一価炭化水素基)R1中0.0001〜20モル%、好ましくは0.001〜10モル%、特に0.01〜5モル%程度とすることが好ましい。このアルケニル基は、分子鎖末端の珪素原子に結合していても、分子鎖途中の珪素原子に結合していても、両者に結合していてもよいが、少なくとも分子鎖両末端の珪素原子に結合したアルケニル基を含有するものが好ましい。
【0013】
重合度については特に制限はなく、常温で液状のものから生ゴム状のものまで使用できるが、通常、平均重合度が50〜20,000、好ましくは100〜10,000、より好ましくは100〜2,000程度のものが好適に使用される。
【0014】
また、このオルガノポリシロキサンの構造は基本的には主鎖がジオルガノシロキサン単位(R1 2SiO2/2)の繰り返しからなり、分子鎖両末端がトリオルガノシロキシ基(R1 3SiO1/2)で封鎖された直鎖状構造を有するが、部分的には分岐状の構造、環状構造などであってもよい。
【0015】
(2)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、(1)成分のアルケニル基含有オルガノポリシロキサンとヒドロシリル化付加反応により組成物を硬化させる架橋剤として作用するものであり、下記平均組成式(ii)
R2 bHcSiO(4-b-c)/2 (ii)
(式中、R2は炭素数1〜10の置換又は非置換の一価炭化水素基である。またbは0.7〜2.1、cは0.001〜1.0で、かつb+cは0.8〜3.0を満足する正数である。)
で示され、一分子中に少なくとも2個、好ましくは3個以上(通常、3〜200個程度)、より好ましくは3〜100個の珪素原子結合水素原子(SiH基)を有することが必要である。
【0016】
ここで、R2としては、式(i)中のR1と同様の基を挙げることができるが、好ましくは脂肪族不飽和結合を有さないものがよい。
【0017】
上記オルガノハイドロジェンポリシロキサンとしては、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジフェニルシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体、(CH3)2HSiO1/2単位とSiO4/2単位とから成る共重合体、(CH3)2HSiO1/2単位とSiO4/2単位と(C 6 H 5 )SiO 3/2 単位とから成る共重合体などが挙げられる。
【0018】
このオルガノハイドロジェンポリシロキサンの分子構造は、直鎖状、環状、分岐状、三次元網状構造のいずれであってもよいが、一分子中の珪素原子の数(又は重合度)は3〜1,000、特に3〜300程度のものを使用することができる。
【0019】
このオルガノハイドロジェンポリシロキサンの配合量は、(1)成分のオルガノポリシロキサン100重量部に対して0.1〜50重量部、特に0.3〜30重量部とすることが好ましい。
【0020】
また、このオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、(1)成分中の珪素原子に結合したアルケニル基に対する(2)成分中の珪素原子に結合した水素原子(即ち、SiH基)のモル比が0.5〜5モル/モル、好ましくは0.8〜4モル/モル、より好ましくは1〜3モル/モルとなる量で配合することもできる。
【0021】
(3)成分の付加反応触媒は、(1)成分中のアルケニル基と(2)成分中のSiH基とのヒドロシリル化付加反応を促進するための触媒であり、この付加反応触媒としては、白金黒、塩化第2白金、塩化白金酸、塩化白金酸と1価アルコールとの反応物、塩化白金酸とオレフィン類との錯体、白金ビスアセトアセテート等の白金系触媒、パラジウム系触媒、ロジウム系触媒などの白金族金属触媒が挙げられる。なお、この付加反応触媒の配合量は触媒量とすることができるが、通常、白金族金属として(1)及び(2)成分の合計重量に対して0.5〜1,000ppm、特に1〜500ppm程度配合することが好ましい。
【0029】
次に、本発明の特徴的成分である(B)成分の中空フィラー(いわゆるマイクロバルーン)は、硬化ゴム内に気体部分を付与することでスポンジゴムのように比重、熱伝導率を低下させるもので、フィラー自身が中空であることによってシリコーンゴム硬化物の熱伝導率を低下させることができると同時に、フィラー自身が弾性を持つことで、硬化時に成形圧力等の応力を緩和し、0.1mm程度の薄膜状においても中空フィラーがスポンジ構造のスキン層を突破る事がないため、安定して優れた断熱性を発現させる役割を担うものである。
【0030】
このような材料としては、フェノールバルーンや、あるいは塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルから選ばれるモノマーの重合物並びにこれらのうち2種類以上のモノマーの共重合物から選ばれる有機樹脂製中空フィラーなどのいかなるものでもかまわないが、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルから選ばれるモノマーの重合物並びにこれらのモノマーのうち2種類以上の共重合物から選ばれる有機樹脂製中空フィラーが好ましい。また中空フィラーの強度を持たせるため等の理由で表面に無機フィラー等を付着させたものでもよい。
【0031】
本発明において、シリコーンゴム組成物内で断熱性(即ち、低熱伝導率性)を安定して発現させるためには、有機樹脂製中空フィラーの真比重は、0.01〜0.2程度のものが好ましい。比重が大きすぎると、中空フィラーの殻の厚さが大きく、断熱性(低熱伝導率)に効果がない。また、比重が小さすぎると配合・取り扱いが難しいばかりか、中空フィラーの耐圧強度が不十分となり、成型時に破壊してしまう場合がある。
【0032】
また、有機樹脂製中空フィラーの平均粒子径は、5〜200μmであり、好ましくは5〜100μm、より好ましくは10〜90μmであるが、特に5〜90μm程度のものが好ましい。200μmより大きいと成型時の圧力により中空フィラーが破壊されて断熱性が損なわれてしまったり、耐久性が低下するおそれがある。
【0033】
また、中空フィラーの平均粒子径は、断熱シートを構成する熱硬化型シリコーンゴム硬化物層の厚さ以下であること、好ましくは該シリコーンゴム硬化物層の厚さ未満であること、より好ましくは該シリコーンゴム硬化物層の厚さの80%以下、特に50%以下であることが、安定して優れた断熱性を発現させる点で好ましい。なお、上記平均粒子径は、例えばレーザー光回折法等の分析手段を使用した粒度分布計により、重量平均値(メジアン径)等として求めることができる。
【0034】
この(B)成分の配合量は、(A)成分のオルガノポリシロキサン組成物100重量部に対し、0.1〜30重量部、好ましくは0.2〜20重量部で、体積比で組成物に対して10〜80%(体積%、以下同様)となるよう配合するとよい。配合量が10%未満では、比重の低下、熱伝導率の低下等が不十分となり、80%を超えると、成形、配合が難しいだけでなく、成形物もゴム弾性のない脆いものとなってしまうおそれがある。
【0035】
本発明のシリコーンゴム組成物は、上記成分に加えて必要に応じ、ヒュームドシリカ、沈降シリカ、溶融シリカ、焼成シリカ、ゾル−ゲル法の球状シリカ、結晶シリカ(石英粉)、ケイソウ土等のシリカ微粒子、炭酸カルシウムのような充填剤、補強剤となるシリコ−ン系のレジン、カ−ボンブラック、導電性亜鉛華、金属粉等の導電剤、窒素含有化合物やアセチレン化合物、リン化合物、ニトリル化合物、カルボキシレート、錫化合物、水銀化合物、硫黄化合物等のヒドロシリル化反応制御剤、酸化鉄、酸化セリウムのような耐熱剤、ジメチルシリコ−ンオイル等の内部離型剤、接着性付与剤、チクソ性付与剤等を本発明の効果を損なわない範囲で任意に配合することができる。
【0036】
本発明のシリコーン断熱シートにおいて、熱硬化性シリコーンゴム組成物は、上記した成分をプラネタリーミキサー、2本ロール、バンバリーミキサー、ドウミキサー(ニーダー)などのゴム混練り機を用いて均一に混合して、必要に応じて加熱処理を施すことにより得ることができる。この場合、例えば第1成分のオルガノポリシロキサンの一部又は全部とシリカ等の無機質充填剤とを必要に応じて表面処理剤と共に予め混合してベースコンパウンドを調製しておき、これに残りの第1成分のオルガノポリシロキサン、第2成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサン、第3成分の付加反応触媒、有機樹脂製中空フィラーや無機中空フィラーとその他の任意成分を混合しても差し支えない。
【0037】
このようにして得られたシリコーンゴム組成物は、射出成形、注型成形、金型加圧成形、押出成形などの種々の成形法によって必要とされるシート状のシリコーンゴム硬化物に成形することができるが、特に射出成形が好適に採用できる。
【0038】
なお、硬化条件は適宜調整することができるが、80〜200℃、好ましくは100〜180℃で、5秒〜60分、好ましくは20秒〜30分程度とすることが好適である。
【0039】
本発明のシリコーン断熱シートにおいて、シリコーンゴム硬化物層は、0.2mm〜2mm程度の厚さにシート成型することによって、薄膜状においても中空フィラーがスポンジ構造のスキン層を突破ることがないため、薄膜状から厚膜状のシートまで安定して成型が可能であり、かつシートの厚さに依存しない安定して優れた断熱効果を発現することができる。
【0040】
本発明のシリコーン断熱シートにおいて、シリコーンゴム硬化物層の熱伝導率は、1.0×10-5〜2.3×10-4cal/cm・sec・℃程度の高断熱性を有するものである。
【0041】
また、本発明においてはマイクロバルーンを配合した熱硬化性オルガノポリシロキサン組成物のシート成型において、取扱い性の向上、またはシート強度をアップする目的で、アルミ箔、銅箔、ガラスクロス、ポリイミド、PET、薄膜シリコーンシートなどから選ばれるその他の材料(補強性支持層)との組合せによる複合シートを成型することで、各使用用途に合わせた複合シートの提供が可能となる。
【0042】
更に、本発明においてはマイクロバルーンを配合したシリコーン樹脂シート成型品、複合品に、日東電工製や寺岡製作所製などの両面テープを取り付けることで、筐体、ヒートシンクその他の部材に容易に取り付けることが可能となる。特に耐熱性能の高い両面テープとの組合せでは、熱源に直接取り付け、外部への熱拡散の規制も可能となる。
【0043】
【発明の効果】
本発明のシリコーン断熱シートは、軽量、低熱伝導性で、0.1mm程度の薄膜状から10mm以上の厚さまで安定して成型が可能であり、かつシートの厚さに依存しない安定して優れた断熱効果を発現することができ、また補強性支持層との組合せや両面テープとの組合せによる複合シートとすることにより作業性、基材への接着性も良好で、筐体、ヒートシンクその他の部材に容易に取り付けることが可能であるため、断熱性を有しかつ熱時の寸法安定性を必要とするコンピューター、液晶プロジェクター、携帯電話などの電子機器用の各種シート材として好適である。
【0044】
【実施例】
以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。尚、特にことわりがない限り、下記例において、部は重量部を、%は重量%を示す。なお参考までに、厚さ10mmのシートについても同様に評価した。
【0045】
[実施例1]
側鎖ビニル基含有ジメチルポリシロキサン(重合度700、ビニル価0.0094mol/100g)100部、比表面積(BET吸着法による)が110m2/gである疎水化処理されたヒュームドシリカ(日本エアロジル社製R−972)5部、比重0.04、平均粒径40μmの熱可塑性樹脂製中空フィラー(エクスパンセル社 Expancel DE)4部(組成物全体に対して49体積%)をプラネタリーミキサーに入れ、30分撹拌を続けた後、更に架橋剤として両末端及び側鎖にSi−H基を有するメチルハイドロジェンポリシロキサンA(重合度17、Si−H量0.0030mol/g)を 3.8部、反応制御剤としてエチニルシクロヘキサノール0.05部を添加し、15分撹拌を続けてできあがった組成物をシリコーンゴム組成物(1)とした。このシリコーンゴム組成物(1)に白金触媒(Pt濃度1%)0.1部を混合し、120℃/3分のプレスキュアにより0.3mm、0.5mm、120℃/5分のキュアにより1.0mm、1.5mm、120℃/10分のキュアにより10mmのシートを作製し、それぞれ200℃で4時間のポストキュアを行った。この0.3mm、0.5mm、1.0mm、1.5mmの各シートより比重、熱伝導率を測定し、10mmのシートより比重、硬さ、熱伝導率を測定した結果及びシートの外観をチェックした結果を表1に示した。
【0046】
[実施例2]
側鎖ビニル基含有ジメチルポリシロキサン(重合度700、ビニル価0.0094mol/100g)50重量部、両末端がジメチルビニルシロキシ基で封鎖されたジメチルポリシロキサン(重合度500)50重量部、比表面積が110m2/gである疎水化処理されたヒュームドシリカ(日本エアロジル社製R−972)5部、比重0.02、平均粒径90μmの熱可塑性樹脂製中空フィラー(松本油脂社 マイクロスフィアーF−80ED)4部(組成物全体に対して65体積%)をプラネタリーミキサーに入れ、30分撹拌を続けた後、更にエチレングリコール5部、架橋剤として実施例1のメチルハイドロジェンポリシロキサンAを3.5部、反応制御剤としてエチニルシクロヘキサノール0.05部を添加し、15分撹拌を続けてできあがった組成物をシリコーンゴム組成物(2)とした。このシリコーンゴム組成物(2)に白金触媒(Pt濃度1%)0.1部を混合し、実施例1と同様に、外観、比重、硬さ、熱伝導率を測定し表1に記した。
【0047】
[参考例1]
ジメチルシロキサン単位99.825モル%、メチルビニルシロキサン単位0.15モル%、ジメチルビニルシロキシ単位0.025モル%からなり、平均重合度が約8,000であるゴム状ジオルガノポリシロキサン100部に、分散剤として末端シラノール基封鎖ジメチルポリシロキサン(平均重合度10)5部、比表面積が200m2/gであるヒュームドシリカ(日本アエロジル(株)製)20部を混合し、ゴムコンパウンドを調製した。このコンパウンド125部に、比重0.13、平均粒径100μmである表面が炭酸カルシウムでコートされた膨張熱可塑性樹脂製中空フィラー(松本油脂製薬社製 マイクロスフィアーMFL−100CA)20部を分散させた後、更に2,5−ジメチル−ビス(2,5−t−ブチルパーオキシ)ヘキサン0.5部を添加し、2本ロールにて均一に分散させてシリコーンゴム組成物(3)を調製した。このシリコーンゴム組成物(3)を165℃/5分のプレスキュアにより0.3mm、0.5mm、165℃/7分のキュアにより1.0mm、1.5mm、165℃/10分のキュアにより10mmのシートを作製し、それぞれ200℃で4時間ポストキュアを行った。この0.3mm、0.5mm、1.0mm、1.5mmの各シートより比重、熱伝導率を測定し、10mmのシートより比重、硬さ、熱伝導率を測定した結果及びシートの外観をチェックした結果を表1に示した。
【0048】
[参考例2]
側鎖ビニル基含有ジメチルポリシロキサン(重合度700、ビニル価0.0094mol/100g)50重量部、両末端がジメチルビニルシロキシ基で封鎖されたジメチルポリシロキサン(重合度500)50重量部、比表面積が200m2/gであるヒュームドシリカ(日本エアロジル社製アエロジル200)5部、比重0.35、平均粒径56μmのガラス中空フィラー(東海工業 セルスターZ−36)30部(組成物全体に対して45体積%)をプラネタリーミキサーに入れ、30分撹拌を続けた後、更に架橋剤として実施例1のメチルハイドロジェンポリシロキサンAを3.5部、反応制御剤としてエチニルシクロヘキサノール0.05部を添加し、15分撹拌を続けてできあがった組成物をシリコーンゴム組成物(4)とした。このシリコーンゴム組成物(4)に白金触媒(Pt濃度1%)0.1部を混合し、実施例1と同様に、外観、比重、硬さ、熱伝導率を測定し表1に記した。
【0049】
[比較例1]
補強性シリカ微粉末を約30重量%含有する熱硬化性シリコーンゴムコンパウンド(信越化学工業(株)製 商品名KE−951−U)100部に対して、硬化剤として有機化酸化物であるジクミルパーオキサイド3部、発泡剤としてアゾビスイソブチルニトリル2部を配合し、2本ロールを使用し、0.15mm、0.25mm、0.50mm、0.75mm及び5mm厚のシート状組成物を作製し、それぞれ厚さ0.3mm、0.5mm、1.0mm、1.5mm及び10mmのシート用型内で200℃において10分間加熱した。しかしながら0.3mm及び0.5mmの型ではシートの破れ、穴等の発生でシートを得ることができなかった。得られた1.0mm、1.5mm及び10mmの各シートについて実施例1と同様に外観、比重、硬さ、熱伝導率を測定し表2に記した。
【0050】
[比較例2]
補強性シリカ微粉末を約30重量%含有する熱硬化性シリコーンゴムコンパウンド(信越化学工業(株)製 商品名KE−951−U)100部に対して、付加架橋剤であるC−25AとC−25B(信越化学工業製)をそれぞれ0.5部、2.0部、発泡剤としてアゾビスイソブチルニトリル2部を配合し、2本ロールを使用し、0.15mm、0.25mm、0.50mm、0.75mm及び5mm厚のシート状組成物を作製し、それぞれ厚さ0.3mm、0.5mm、1.0mm、1.5mm及び10mmのシート用型内で200℃において10分間加熱した。しかしながら0.3mm及び0.5mmの型ではシートの破れ、穴等の発生でシートを得ることができなかった。得られた1.0mm、1.5mm及び10mmの各シートについて実施例1と同様に外観、比重、硬さ、熱伝導率を測定し表2に記した。
【0051】
【表1】
【0052】
【表2】
【0053】
表1及び表2の結果から、実施例1〜2のシリコーン断熱シートは、軽量かつ低熱伝導性で、薄膜状から10mm以上の厚さまで安定して成型が可能であり、かつシートの厚さに依存しない安定して優れた断熱効果を発現することを確認した。
【0054】
[実施例3及び比較例3]
実施例1のシリコーンゴム組成物(1)に白金触媒(Pt濃度1%)0.1部を混合し、120℃/5分のプレスキュア及び200℃で4時間のポストキュアにより100mm×100mm×1.8mm(厚さ)のシートを作製し、このシリコーンゴムシートの一方の表面にアルミ箔を貼り合せ、他方の表面に日東電工製の両面テープを貼り合せて複合シートを作製した。この複合シートから両面テープ上の剥離テープを剥がして液晶プロジェクターの筐体内側(光源ランプ温度:350℃)に取り付け、筐体外側表面の温度を測定した結果56℃であった。これは複合シートを筐体内側に取り付けない場合(比較例3)の筐体外側表面の温度が68℃であったのに対して12℃の温度差があり、優れた断熱効果が確認された。また、この複合シートは両面テープが積層されたものであるため筐体内側への取り付けが容易であると共に、補強性支持層としてアルミ箔が積層されたものであるため筐体内側への取り付けの際の作業性に優れるものであった。
Claims (14)
- (A)下記(1)〜(3)成分のみからなる付加硬化型オルガノポリシロキサン組成物:100重量部、
(1)一分子中に少なくとも2個の珪素原子に結合したアルケニル基を含有するオルガノポリシロキサン 100重量部、
(2)一分子中に少なくとも2個の珪素原子と結合する水素原子を含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン 0.1〜50重量部、
(3)付加反応触媒 触媒量、
(B)比重0.01〜0.2、平均粒子径が5〜200μmの有機樹脂製中空フィラー:0.1〜30重量部
を含有する熱硬化型シリコーンゴム組成物の硬化物層を有し、該シリコーンゴム硬化物層の熱伝導率が1.0×10-5〜2.3×10-4cal/cm・sec・℃であり、かつシリコーンゴム硬化物層の厚さが0.2〜2mmである電子機器用シリコーン断熱シートを筐体又はヒートシンクに取り付けて、該筐体又はヒートシンクに対する熱源からの熱を断熱する方法。 - シリコーンゴム硬化物層の厚さが0.2〜1.8mmである請求項1記載の断熱方法。
- (B)成分の有機樹脂製中空フィラーが、フェノールバルーン、又は塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルから選ばれるモノマーの重合物並びにこれらのうち2種類以上のモノマーの共重合物から選ばれる有機樹脂製中空フィラーからなる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1又は2記載の断熱方法。
- 有機樹脂製中空フィラーの平均粒子径が熱硬化型シリコーンゴム組成物の硬化物層の厚さの80%以下である請求項1乃至3のいずれか1項記載の断熱方法。
- シリコーンゴム硬化物層の少なくとも一方の表面が補強性支持層と積層されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項記載の断熱方法。
- 補強性支持層がアルミ箔、銅箔、ガラスクロス、ポリイミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、薄膜シリコーンシートから選ばれるものである請求項5記載の断熱方法。
- シリコーンゴム硬化物層の少なくとも一方の表面に両面テープが積層されていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項記載の断熱方法。
- 請求項1記載の断熱方法に使用されるシリコーン断熱シートであって、
(A)下記(1)〜(3)成分のみからなる付加硬化型オルガノポリシロキサン組成物:100重量部、
(1)一分子中に少なくとも2個の珪素原子に結合したアルケニル基を含有するオルガノポリシロキサン 100重量部、
(2)一分子中に少なくとも2個の珪素原子と結合する水素原子を含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン 0.1〜50重量部、
(3)付加反応触媒 触媒量、
(B)比重0.01〜0.2、平均粒子径が5〜200μmの有機樹脂製中空フィラー:0.1〜30重量部
を含有する熱硬化型シリコーンゴム組成物の硬化物層を有し、該シリコーンゴム硬化物層の熱伝導率が1.0×10-5〜2.3×10-4cal/cm・sec・℃であり、かつシリコーンゴム硬化物層の厚さが0.2〜2mmであることを特徴とする電子機器用シリコーン断熱シート。 - シリコーンゴム硬化物層の厚さが0.2〜1.8mmである請求項8記載の断熱シート。
- (B)成分の有機樹脂製中空フィラーが、フェノールバルーン、又は塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルから選ばれるモノマーの重合物並びにこれらのうち2種類以上のモノマーの共重合物から選ばれる有機樹脂製中空フィラーからなる少なくとも1種であることを特徴とする請求項8又は9記載のシリコーン断熱シート。
- 有機樹脂製中空フィラーの平均粒子径が熱硬化型シリコーンゴム組成物の硬化物層の厚さの80%以下である請求項8記載のシリコーン断熱シート。
- シリコーンゴム硬化物層の少なくとも一方の表面が補強性支持層と積層されていることを特徴とする請求項8乃至11のいずれか1項記載のシリコーン断熱シート。
- 補強性支持層がアルミ箔、銅箔、ガラスクロス、ポリイミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、薄膜シリコーンシートから選ばれるものである請求項12記載のシリコーン断熱シート。
- シリコーンゴム硬化物層の少なくとも一方の表面に両面テープが積層されていることを特徴とする請求項8乃至13のいずれか1項記載のシリコーン断熱シート。
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---|---|---|---|---|
JP2007099945A (ja) * | 2005-10-05 | 2007-04-19 | Nikko Kasei Kk | 熱硬化性オルガノポリシロキサン組成物、並びにそれを用いて製造される熱硬化性オルガノポリシロキサン積層板およびその製造方法 |
JP2010202728A (ja) * | 2009-03-02 | 2010-09-16 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | シリコーンゴム組成物及び定着ロール |
JP2012119674A (ja) * | 2010-11-11 | 2012-06-21 | Kitagawa Ind Co Ltd | 熱伝導シート |
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FR2973260B1 (fr) * | 2011-03-31 | 2015-02-20 | Pylote | Procede de preparation de particules d'oxyde de metal creuses utilisables en tant que barriere thermique |
JP5508344B2 (ja) * | 2011-06-07 | 2014-05-28 | 中外商工株式会社 | 断熱処理方法 |
EP2780775A4 (en) * | 2011-11-15 | 2015-08-26 | Henkel IP & Holding GmbH | ELECTRONIC DEVICES ASSEMBLED WITH THERMAL INSULATION LAYERS |
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JP2014166079A (ja) * | 2013-02-26 | 2014-09-08 | Techno-Commons Inc | 熱伝導シート、断熱シート、温度センサ装置、及び、熱電発電システム |
KR102455173B1 (ko) * | 2016-10-14 | 2022-10-17 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 열전도성 복합 실리콘 고무 시트 및 그 제조 방법 |
CA3049132C (en) * | 2017-02-08 | 2024-04-09 | Elkem Silicones USA Corp. | Silicone rubber syntactic foam |
KR102193178B1 (ko) * | 2019-01-31 | 2020-12-18 | 주식회사 익스톨 | 단열재료 조성물, 단열재료 및 이의 제조방법 |
CN112322049A (zh) * | 2020-11-12 | 2021-02-05 | 株洲时代新材料科技股份有限公司 | 一种低导热系数有机硅泡沫材料及其制备方法 |
TW202330798A (zh) * | 2021-11-01 | 2023-08-01 | 美商羅傑斯公司 | 經填充之聚矽氧發泡層、其製造組成物及製造方法、及包含該經填充之聚矽氧發泡層之製品 |
Family Cites Families (21)
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---|---|---|---|---|
JPS5857462A (ja) * | 1981-09-30 | 1983-04-05 | Nok Corp | 中空球充填シリコン系ゴム材料 |
KR930004059B1 (ko) * | 1984-12-28 | 1993-05-19 | 가부시끼가이샤 큐우빅 엔지니어링 | 완충재용 복합형 실리콘겔재 |
FR2575407B1 (fr) * | 1984-12-31 | 1987-03-20 | Hutchinson | Nouveau materiau isolant thermique, du type syntactique, a base d'elastomeres notamment, partiellement ou totalement ininflammable |
JP3405821B2 (ja) * | 1994-06-28 | 2003-05-12 | ジーイー東芝シリコーン株式会社 | シリコーンゴムスポンジ組成物 |
DE19540886A1 (de) * | 1995-11-02 | 1997-05-07 | Wacker Chemie Gmbh | Kompressibler Siliconkautschuk |
JP4762389B2 (ja) * | 1998-10-15 | 2011-08-31 | 信越化学工業株式会社 | 中空フィラー含有シリコーンゴム組成物 |
JP3494039B2 (ja) * | 1998-11-06 | 2004-02-03 | 信越化学工業株式会社 | 熱定着ロール用シリコーンゴム組成物及び熱定着ロール |
JP4190634B2 (ja) * | 1998-12-17 | 2008-12-03 | 泉株式会社 | シリコーン樹脂積層シート |
JP2000309710A (ja) * | 1999-04-26 | 2000-11-07 | Shin Etsu Chem Co Ltd | キーパッド用シリコーンゴム組成物及びキーパッド |
JP2001115025A (ja) * | 1999-10-20 | 2001-04-24 | Dow Corning Toray Silicone Co Ltd | 液状シリコーンゴム組成物、その製造方法およびシリコーンゴム発泡体の製造方法 |
JP3748025B2 (ja) * | 2000-02-08 | 2006-02-22 | 信越化学工業株式会社 | シリコーンゴムの圧縮永久歪を低減させる方法 |
JP2001220511A (ja) * | 2000-02-08 | 2001-08-14 | Arai Pump Mfg Co Ltd | シリコーンゴム組成物、ローラ用シリコーンゴム組成物およびシリコーンゴムローラならびにこれらの製造方法 |
JP4168225B2 (ja) * | 2000-02-29 | 2008-10-22 | 信越化学工業株式会社 | 低比重シリコーンゴム弾性体の製造方法 |
JP2001336692A (ja) * | 2000-05-29 | 2001-12-07 | Cd Technos Kk | 断熱構造 |
JP3804753B2 (ja) * | 2000-06-29 | 2006-08-02 | 信越化学工業株式会社 | 中空フィラー含有シリコーンゴム及びその製造方法 |
JP3969942B2 (ja) * | 2000-09-01 | 2007-09-05 | キヤノン株式会社 | ローラとその製造方法、及び加熱定着装置 |
JP2002148990A (ja) * | 2000-11-09 | 2002-05-22 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 熱定着ロール用シリコーンゴム組成物及び熱定着ロール |
JP4132696B2 (ja) * | 2001-03-14 | 2008-08-13 | 株式会社金陽社 | 定着器用ローラ |
JP2002296940A (ja) * | 2001-03-29 | 2002-10-09 | Ge Toshiba Silicones Co Ltd | 熱定着ロール用シリコーンゴム組成物 |
JP2002296943A (ja) * | 2001-04-02 | 2002-10-09 | Reiko Udagawa | 収縮チューブ及びそれらを用いた定着ロール |
JP4217869B2 (ja) * | 2002-06-21 | 2009-02-04 | 信越化学工業株式会社 | シリコーンゴム組成物 |
-
2002
- 2002-10-15 JP JP2002301067A patent/JP4114050B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100921799B1 (ko) * | 2009-07-17 | 2009-10-15 | 실리콘밸리(주) | 열확산시트와 그의 제조방법 |
WO2013176179A1 (ja) | 2012-05-22 | 2013-11-28 | 積水化学工業株式会社 | シート状シール材及び積層シート状シール材 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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JP2004137308A (ja) | 2004-05-13 |
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