JP4091773B2 - 光デバイス - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は光ファイバ通信用の各種モジュールに用いる光学素子とホルダを低融点ガラスによって接合された光デバイスに関する。
【0002】
【従来の技術】
従来の光学素子をホルダで保持してなる光デバイスとしては、低融点ガラスを用いてホルダに接合したものがある。その構造を図3に示す。例えば、光学素子1は熱膨張係数120×10-7/℃のレンズであり、ホルダ2は熱膨張係数170×10-7/℃のステンレス鋼からなっており、さらに低融点ガラス3は軟化点350℃で熱膨張係数110×10-7/℃の鉛ガラスを主成分として作製される。
【0003】
なお、ホルダ2としてパイプ状のものを用いたが、これに限るものではなく、また素材もステンレス鋼を用いたが、低融点ガラス3の熱膨張係数に近ければ、他の金属やセラミックであっても差し支えない。また、低融点ガラス3は軟化点350℃で熱膨張係数110×10-7/℃の鉛ガラスを主成分とするものを用いたが、軟化点250℃〜400℃で熱膨張係数80〜130×10-7/℃の範囲の低融点ガラスであれば構わない。
【0004】
以上の従来の光学素子1とホルダ2からなる光デバイスは、上記低融点ガラス3の代わりに、接着剤を用いる方法と鉛と錫の合金半田を用いる方法も知られている。しかし、接着剤を用いる場合、接着剤は一般に吸湿性が高いため、環境条件によっては脆くなり易い。しかも、ガラス転移点温度が低いため、接着剤を用いた光デバイスの使用温度は相対的に狭くなる。また、アウトガスが生じるという問題もあることから、長期的な信頼性に欠けるという問題点もある。
【0005】
一方、鉛と錫の合金半田は、相対的に融点が低いため、特に、半田接合部に重力等の荷重が常にかかる場合には、半田が時間とともに歪んでいくというクリープ現象を生じ易い。このため、光学素子1とホルダ2をこの半田で固定した場合、光学素子1の位置が時間と共に変化していくことになり、長期にわたる光学系の安定性が確保できないという問題がある。さらに、鉛と錫の合金半田は250×10-7/℃であり、光学素子1の熱膨張係数120×10-7/℃に比較して大きな差がある。したがって、光学素子1とこの半田で固定する場合、熱膨張係数の違いにより、半田の冷却時に光学素子に応力が加わり、亀裂や複屈折化等の問題が生じることがある。また、温度変化や電子回路の発熱等による周囲温度の変化があると、半田接合部に引っ張りと圧縮の応力が繰り返しかかる。この熱的疲労により半田に亀裂が生じて光学素子1の位置が変化し、光軸がずれるという問題もある(特開平2−281201号公報参照)。
【0006】
以上のような理由により、前述した低融点ガラス3を用いた光デバイスが使用されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
昨今の光学素子では、図4に示すように、光学素子1に反射防止膜4を施したものがほとんどであるが、反射防止膜4の耐熱性は400℃以下である。これに対し、通常使用される酸化鉛系の低融点ガラス3は、焼成温度を450℃以下にすることが困難であり、上記反射防止膜4の耐熱温度以下とすることができなかった。さらに、環境保護の観点から、酸化鉛を低融点ガラスから除外することが望まれていた(特開平8−259262号公報参照)。
【0008】
また、図3および図4に示すように、低融点ガラス3は、光学素子1およびホルダ2との接合面以外に外気露出表面があり、低融点ガラス3が、高湿度環境において劣化が促進される恐れがあった。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記課題に鑑みて本発明は、光学素子と、該光学素子を保持するホルダと、を有し、前記光学素子と前記ホルダを低融点ガラスで接合してなる光デバイスであって、前記低融点ガラスは、酸化バナジウム、ホウ酸、亜鉛、およびバリウムを含んでなり、前記酸化バナジウムおよび前記ホウ酸の含有量がそれぞれ20〜60重量%であるとともに、前記酸化バナジウムおよび前記ホウ酸の合計の含有量が50〜90重量%であり、かつ前記亜鉛および前記バリウムの合計の含有量が10〜50重量%であることを特徴とする。
【0010】
また、上記低融点ガラスが、ビスマス及びテルルの少なくとも一種を含有することを特徴とする。
【0011】
更には、上記光学素子の鉛の含有量が、0.1重量%以下であることを特徴とする。
【0012】
しかも、上記低融点ガラスの外気露出表面に被覆部材を備えたことを特徴とする。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図によって説明する。
【0014】
図1に本発明の実施形態である光デバイスの断面図を示す。図1に示すように本光デバイスの基本構成は、光学素子1と、これを保持するホルダ2と、両者を固定する低融点ガラス3からなる。例えば、光学素子1には円筒形ガラスレンズを用い、ホルダ2にFe−Ni合金を用いて、低融点ガラス3としては酸化バナジウムとホウ酸を主成分とし、亜鉛及びバリウムの少なくとも一種を含有する低融点ガラスを用いて接合を行うものである。
【0015】
なお、上記光学素子1として、円筒形ガラスレンズを用いたが、用途に応じて、ボールレンズ、平板レンズ、角形レンズ等の各種レンズを用いても良い。また、レンズに限らず、気密窓、プリズム、偏光子等の光学ガラスや複屈折ガラス、ファラデー回転子などの光学結晶等を用いることもできる。また、これらの光学部品の材料には、環境に対する悪影響を防止するため、鉛の含有量が0.1重量%以下のものを用いることが望ましい。
【0016】
また、上記ホルダ2は、各種光学素子1の熱膨張係数や機械的強度に応じて選定するものである。また、本発明の光デバイスをさらに他のデバイスに取り付けるときの方法によってもホルダ2の材質は選定すべきである。上記に述べたFe−Ni合金の他、ステンレス鋼、銅合金、真鍮、アルミニウム合金などあらゆる金属、また、金属に限らず、アルミナ、ジルコニア等の各種セラミックから選定できる。
【0017】
さらに、本発明の低融点ガラス3は、亜鉛及びバリウムの少なくとも一種を含有しているために、焼成温度を400℃以下とすることができ、反射防止膜4の耐熱温度以下に下げることができるとともに、環境に対する悪影響を防止できる。なお、上記低融点ガラス3では、ビスマスもしくはテルル等の希少金属を添加することで融点を更に下げることが可能である。
【0018】
本発明の低融点ガラス3は、酸化バナジウムとホウ酸を主成分として、その主成分に鉛と化学的に性質の近い亜鉛、接着安定性を高める役割を持つバナジウムを調整している。
【0019】
本発明の低融点ガラス3は、酸化バナジウム(V2O5)の含有量を20〜60重量%とし、ホウ酸(B2O3)の含有量を20〜60重量%とすることが望ましく、両成分の合計を50〜90重量%の範囲内とすることが望ましい。これは、上記範囲以外の含有量であると亜鉛、バリウムを添加したとしても焼成温度を400度以下に下げることが困難となるためである。
【0020】
また、亜鉛、バリウムの含有量は、それぞれ酸化物換算で、酸化亜鉛(ZnO)を0〜30重量%、酸化バリウム(BaO)を0〜30重量%、両成分の合計を10〜50重量%の範囲内とする。
【0021】
上述したように亜鉛は鉛と化学的に性質が近いので、低融点ガラスの組成全体の安定性を高めることができる。また、バリウムは接着安定性を高める働きをもち、この範囲外の含有量であると、組成の安定性が悪くなり、また接着力も低下するのでこの範囲内が望ましい。
【0022】
本発明の低融点ガラス3は亜鉛、バリウムの少なくとも一方を含有していればよいが、双方を含有させることにより、組成的安定性及び接着力のいずれもが向上するので、特に好ましい。
【0023】
次に、微量要素のビスマス、テルルは、それぞれ酸化物換算で酸化ビスマス(Bi2O3)、酸化テルル(TeO2)は共に0〜5重量%含有させ、また両者合計でも0〜10重量%含有させると更に焼成温度を低下させることができる。この範囲以上に含有させると接着力が低下するのでこの範囲内が好ましい。ただし、ビスマス、テルルは本発明の必要構成組成ではなく、含有していなくとも本発明の効果を奏することができる。
【0024】
以上の主成分、副成分は、焼成温度、膨張係数等に応じて、混合比を変えたものを選択する。
【0025】
これらの成分からなる低融点ガラス3は、鉛を含む酸化鉛系の低融点ガラス3では困難であった250〜400℃の焼成温度を実現することができる。この焼成温度であれば、光学素子1の光学面に加工されている反射防止膜4の耐熱温度以下に抑えることが可能となる。
【0026】
また、この低融点ガラス3の熱膨張係数は、光学素子1とホルダ2の接合による応力を緩和するため、50×10-7〜130×10-7/℃の範囲とすることが好ましい。さらに、ホルダ2の熱膨張係数は、低融点ガラス3の熱膨張係数の0.6〜1.4倍の範囲とすることにより、歪みを減じることができる。このとき、光学素子1の熱膨張係数についても、50〜130×10-7/℃の範囲で、低融点ガラス3の熱膨張係数の0.6〜1.4倍の範囲内とすることにより、同様に歪みを減じることができる。
【0027】
この光学素子1の光学面に加工されている反射防止膜4は、通常3層以上となっており、光学素子の材料や目的の反射率に応じて、SiO2、TiO2、ZrO2、Ta2O5等から選択が可能である。また、この反射防止膜4は、要求特性や用途により、光学素子1の光学面の両面、もしくは片面に施されたり、もしくは反射防止膜4を施さない場合もある。
【0028】
ここで、本発明の低融点ガラス3の製造方法は、酸化バナジウムとホウ酸を主成分として、その主成分に鉛と化学的に性質の近い亜鉛、接着安定性を高める役割を持つバナジウムを調整する。これらを混合し約1000℃で焼成し溶融物から棒状ガラスを作る。冷却後粉砕し、粉末状態で低融点ガラス3とする。
【0029】
次に、本発明の他の実施形態の断面図を図2に示す。反射防止膜4が施された光学素子1とホルダ2を低融点ガラス3により接合し、その低融点ガラス3の外気露出表面に被覆部材5を備えたものである。この被覆部材5は、外気に露出した低融点ガラス3の表面を、湿度等の、低融点ガラス3を劣化させる可能性のあるものから保護することを目的とする。この被覆部材5はリング状で、ホルダ2と同様に、Fe−Ni合金の他、ステンレス鋼、銅合金、真鍮、アルミニウム合金などあらゆる金属、また、金属に限らず、アルミナ、ジルコニア等の各種セラミックから選定できる他、各種金属を蒸着するなどの方法でも成形可能である。
【0030】
次に、本発明の光デバイスの接合方法について説明する。
【0031】
光学素子1をホルダ2に搭載し、リング状に成形された低融点ガラス3を光学素子1とホルダ2の接合箇所に配置させ、温度コントロールが可能な焼成炉に入れて5〜10℃/分で350℃まで上昇させ、350℃で10分間保持後、20〜50℃/分で室温まで降下させた後、焼成炉から取り出すものである。接合方法はこれに限らず、低融点ガラス3としてバインダーを混合したペースト状のものを使用しても構わない。また、焼成炉に限らず、ホットプレート等のヒーター付きの高温器具であれば、構わない。温度条件も、上記に限らず、使用部材、器具に応じて変更しても構わない。
【0032】
また、被覆部材5は、低融点ガラス3と同時に焼成接合か、低融点ガラス3の接合後に別途蒸着で成形する方法がある。
【0033】
【実施例】
ここで、本発明にかかる光デバイスを試作し、信頼性試験を実施し、反射率での評価を行った。
【0034】
反射防止膜4付の光学素子1に外径1.8mmで熱膨張係数が88×10-7/℃の円筒形ガラスレンズ、ホルダ2に熱膨張係数97×10-7/℃のFe−Ni合金、低融点ガラス3に本発明の酸化バナジウムとホウ酸を母材とし、少なくとも亜鉛及びバリウムのいずれか一方を含有した、焼成温度280〜390℃のものを用いて試料A〜Eの光デバイスを作製した。
【0035】
またこれに対し比較例として、反射防止膜4付の光学素子1に外径1.8mmで熱膨張係数が88×10-7/℃の円筒形ガラスレンズ、ホルダ2に熱膨張係数97×10-7/℃のFe−Ni合金、低融点ガラス3に酸化鉛を含有した焼成温度450、460℃のものを用いて試料F、Gの光デバイスを作製した。
【0036】
まず、本発明及び比較例の試料をそれぞれ100個ずつ作製し、作製後の反射防止膜4の反射率測定を行った。次に、85℃、85%、2000時間の恒温恒湿試験に投入し、その後の反射率を測定し、投入前からの反射率変動値に変換したものを表1に示す。
【0037】
【表1】
【0038】
この結果より、本発明の範囲内の低融点ガラスを用いた試料(No.C〜E)はすべて0.2%以下の反射率変動に抑えられているが、比較例の試料(No.F、G)においては、0.2%を超える反射率のものが、半数程度も発生した。
【0039】
この結果より、本発明の光デバイスは従来の光デバイスに比べ、反射率変動という光学特性において明らかに性能が向上した
【0040】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、光学素子とこれを保持するホルダからなる光デバイスにおいて、酸化バナジウムとホウ酸を主成分とし、亜鉛及びバリウムの少なくとも一種を含有する低融点ガラスを用いて上記光学素子とホルダを接合したことにより、焼成温度を400℃以下に抑えることができ、光学特性の信頼性を向上することができるとともに、地球環境に優しい光デバイスの製造が可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の光デバイスを示す断面図である。
【図2】本発明の光デバイスの他の実施形態を示す断面図である。
【図3】従来の光デバイスを示す断面図である。
【図4】反射防止膜が施された従来の光デバイスを示す断面図である。
【符号の説明】
1:光学素子
2:ホルダ
3:低融点ガラス
4:反射防止膜
5:被覆部材
Claims (4)
- 光学素子と、
該光学素子を保持するホルダと、を有し、前記光学素子と前記ホルダを低融点ガラスで接合してなる光デバイスであって、
前記低融点ガラスは、酸化バナジウム、ホウ酸、亜鉛、およびバリウムを含んでなり、
前記酸化バナジウムおよび前記ホウ酸の含有量がそれぞれ20〜60重量%であるとともに、前記酸化バナジウムおよび前記ホウ酸の合計の含有量が50〜90重量%であり、かつ前記亜鉛および前記バリウムの合計の含有量が10〜50重量%であることを特徴とする光デバイス。 - 前記低融点ガラスが、ビスマスおよびテルルの少なくとも一種を含有することを特徴とする請求項1記載の光デバイス。
- 前記光学素子の鉛の含有量が0.1重量%以下であることを特徴とする請求項1又は2記載の光デバイス。
- 前記低融点ガラスの外気露出表面に被覆部材を備えたことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の光デバイス。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JPH0634777U (ja) * | 1992-09-03 | 1994-05-10 | 協和工業株式会社 | 粒状物中の異物除去装置 |
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