JP4058034B2 - 光半導体装置 - Google Patents
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Description
2 P+ 型半導体領域(第1領域)
3 P- 型半導体領域(第2領域)
4 N型半導体領域(第3領域)
5 分離絶縁層
6 N+ 型半導体領域(第4領域)
7 カソードコンタクト層
8 第1の多結晶半導体層
9 カソード電極
10 P+ 型埋め込み領域
11 アノードコンタクト層
12 第2の多結晶半導体層
13 アノード電極
14 N型埋め込みコレクタ領域
15 N型コレクタコンタクト領域
16 コレクタ電極
17 P型活性ベース領域
18 P型ベースコンタクト領域
19 N型エミッタ領域
20 ベース電極
21 エミッタ電極
22 第3の多結晶半導体層
23 保護絶縁膜
24 第4の多結晶半導体層
30 N+ 型埋め込み層
31 P型埋め込みコレクタ領域
32 P型コレクタコンタクト領域
33 コレクタ電極
34 N型活性ベース領域
35 N型ベースコンタクト領域
36 ベース電極
37 P型エミッタ領域
38 エミッタ電極
100 受光素子部
200 第1のトランジスタ部
220 第2のトランジスタ部
Claims (8)
- 第1導電型の半導体基板の上に形成された第1導電型の第1半導体層と、
前記第1半導体層の上に形成され、受光領域を有する第2導電型の第2半導体層とを備え、
前記第1半導体層は、第1導電型の第1領域と、該第1領域の上に形成され前記第1領域よりも不純物濃度が低い第1導電型の第2領域とを有し、
前記第2半導体層は、不純物濃度が前記第2領域と同等かそれよりも高い第2導電型の不純物を含む第3領域と、該第3領域の内部に形成され前記第3領域よりも不純物濃度が高い第2導電型の第4領域とを有し、
前記第4領域は、前記第3領域の上面から0.3μm以上且つ0.7μm以下の範囲に形成されていることを特徴とする光半導体装置。 - 前記第4領域における不純物濃度のピーク位置は、前記第3領域の上面から0.3μm以上且つ0.7μm以下の領域にあることを特徴とする請求項1に記載の光半導体装置。
- 前記第4領域における不純物濃度のピーク値は、前記第3領域の不純物濃度と比べて103 倍以上高いことを特徴とする請求項1に記載の光半導体装置。
- 前記第3領域の不純物濃度は、前記第2領域の不純物濃度と同等以上且つ10倍以下であることを特徴とする請求項1に記載の光半導体装置。
- 前記第2半導体層は、前記受光領域の周辺部に前記第4領域と接続されて形成され、前記第3領域よりも不純物濃度が高い第2導電型の第5領域を有していることを特徴とする請求項1に記載の光半導体装置。
- 前記第1領域の不純物濃度は、前記半導体基板の不純物濃度と比べて103 倍以上高いことを特徴とする請求項1に記載の光半導体装置。
- 前記第2半導体層に該第2半導体層の表面から前記第1半導体層に達するように形成された素子分離絶縁層により区画されてなるトランジスタ領域をさらに備えていることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の光半導体装置。
- 前記トランジスタ領域は、
前記第2領域の上部に形成された第2導電型の不純物を含む素子分離領域と、
前記素子分離領域の上で且つ前記第3領域の内部に形成された第1導電型のコレクタ領域と、
前記コレクタ領域の上部に形成された第2導電型のベース領域と、
前記ベース領域の内側に形成された第1導電型のエミッタ領域とを有していることを特徴とする請求項7に記載の光半導体装置。
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