JP4017466B2 - 耐熱性ガラス - Google Patents

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Description

【0001】
【産業上の利用分野】
本発明は、プロジェクター、投写機、照明装置等に組み込まれる反射鏡、及びその基板ガラスに関するものである。また、半導体集積回路を作成する際に使用されるフォトマスクや、各種ディスプレー等のガラス基板に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
この種の反射鏡は、その内面に形成された多層反射膜によって光源ランプの可視光線のみを選択的に効率良く前方に反射する仕組みになっている。近年、パソコンの急激な普及に伴い、パソコン画面上の画像を直接スクリーンに投影できる液晶プロジェクターが、プレゼンテーション用あるいは会議用のツールとして飛躍的に伸びてきているが、特に最近では、この液晶プロジェクターに携帯性が求められるようになってきており、プロジェクター本体自体のコンパクト化が進んでいる。一方では、投影される画像に明るさの向上が求められ、高輝度化ランプの開発も進められている。光源ランプの高輝度化が進むとランプの発熱も激しくなる。また、装置本体のコンパクト化・小型化が進むことによってランプと反射鏡との距離が縮まることになり、結果として反射鏡は600℃を越えるような高温にさらされるようになってきた。即ち、従来よりも優れた耐熱性、耐熱衝撃性が要求されてきている。
【0003】
このような優れた耐熱性及び耐熱衝撃性を有する反射鏡用のガラス素材は、特許2031876号及び特許2070949号に記述されている。また、特許1865403号、特開2001−305320号にも開示されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
特許2031876号及び特許2070949号に記述されている素材は結晶化ガラスであり、耐熱性、耐熱衝撃性等の性能には極めて優れているものの、一旦成型したガラスを結晶化させるための熱処理工程が必要不可欠であり、製造コスト的には不利であるという問題点があった。
【0005】
一方、特許1865403号、特開2001−305320号に記述されているのはガラス(非晶質)であるが、小規模な製造方法に難があった。例えば、容量1〜3トン程度のタンク炉による生産を考えた場合、上記2つの技術では直接通電タイプの電気炉を採用することが極めて困難であった。現在、小規模タンク炉では、溶融方式としては直接通電タイプの電気炉を採用することが一般的である。
【0006】
本発明の主目的は、耐熱性及び耐熱衝撃性に優れた低膨張・高転移点を有するガラス(非晶質)を提供することにある。
【0007】
また、容量1〜3トン程度の直接通電タイプの小規模タンク炉で容易に製造可能な耐熱性ガラスを提供することを他の目的とする。
【0008】
更に、環境汚染成分を最小限度に抑えた耐熱性ガラスを提供することを別の目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、熱膨張係数を低く抑えつつ、かつガラス融液の電気伝導度を向上させるのに、LiOの添加が極めて効果的であることを見出した。また、微量(2〜7重量%)のYを添加することにより、ガラス転移点を上昇させる。
【0010】
請求項1に示すように、本発明に係る耐熱性ガラスは、重量%で、SiOを52.0〜58.0%、Alを18.0〜23.0%、Bを3.0〜11.0%、ZnOを2.0〜7.5%、MgOを4.5〜7.5%、NaOを0.5〜2.0%、LiOを0.1〜0.5%含んでいる。
【0011】
例えば、請求項2に記載のように、重量%で、SiOを52.0〜57.0%、Alを18.0〜22.0%、Bを8.5〜11.0%、ZnOを4.5〜7.0%、MgOを6.0〜7.5%、NaOを0.5〜2.0%、LiOを0.1〜0.5%含む組成とする。ここで、好ましくは、LiOとNaOとの合計量が1.0%未満とする。
【0012】
或いは、請求項に記載のように、重量%で、SiOを55.0〜58.0%、Alを20.0〜23.0%、Bを3.0〜9.0%、ZnOを2.0〜7.5%、MgOを4.5〜7.5%、NaOを0.5〜2.0%、LiOを0.1〜0.5%、Yを2.0〜7.0%含む組成とする。
【0013】
また、製造工程(原料調合等)の簡素化や環境汚染成分を排除する目的で、CaO、P、SrO、BaO、KO、PbO、TiOを含まない組成とすることが望ましい。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について反射鏡基板用に使用されるガラスを例にとって説明するが、本発明はこのようなガラスに限定されるものではなく、耐熱性が要求される種々の装置、部品に使用されるガラスに適用可能なものである。
【0015】
一般的に、熱膨張係数を低く抑えるためにはアルカリ金属酸化物(LiO、NaO、KO)の含有量を少なくするが、アルカリ金属酸化物の含有率を小さくするとガラス融液の電気伝導度が低下して電気を通し難くなり、ガラスの電気溶融が困難になる。
【0016】
優れた耐熱性(最高使用温度)はガラス転移点が高いことで達成され、優れた耐熱衝撃性は熱膨張係数が低い(小さい)ことで達成される。具体的には、30〜400℃の範囲における平均熱膨張係数が40×10−7/℃以下で、且つガラス転移点が630℃以上、理想的には700℃以上であることが好ましい。
【0017】
表1に基礎実験データを示す。ガラス融液の電気伝導度は、実際にはその逆数である比抵抗値で表現することが多い。表1においては、LiOの添加・置換効果を確認することを目的として、NaOとLiOの含有量を便宜上モル(原子数)で比較しているが、表中の組成A、B、CはNaOを除いて、いずれも以下に示す組成(重量%)範囲内にある。
SiO:52.0〜57.0%
Al:18.0〜22.0%
:8.5〜11.0%
ZnO:4.5〜7.0%
MgO:6.0〜7.5%
LiO:0〜1.0%
【0018】
【表1】
Figure 0004017466
【0019】
表1より、NaOとLiOの合計量(モル%)が増加すると熱膨張係数は大きくなり、一方比抵抗値は低下する傾向にあることが分かる。また、アルカリ金属酸化物の全量、即ちNaOとLiOの合計量(モル%)が同じであっても、LiOの割合が増えると熱膨張係数は若干ではあるが低下し、比抵抗値は著しく低下することが分かる。
【0020】
LiOの微量添加が、熱膨張係数を低く抑えながら、かつガラス融液の電気伝導度を向上させる(電気抵抗を下げる)のに極めて効果的であることを発見したのである。ただし、実際にはLiO含有率が1.0重量%を越えると、溶融炉の耐火物が侵食され易くなり、また0.5重量%を越えると分相する傾向が大きくなるため、LiO含有率は0〜1.0重量%、より好ましくは0.1〜0.5重量%の添加に留めるのが良い。
【0021】
また、比抵抗値は低ければ低いほど電気溶融し易くなるが、アルカリ金属酸化物の全量が増えると熱膨張係数は大きくなる傾向にあるので、NaOとLiOの各含有量は要求される特性と溶融炉の設計上の条件とを考慮して決定する。好ましくは、LiOとNaOとの合計量が1.0%未満となるようにする。
【0022】
表1の組成において、SiOはガラスを構成するための主成分であるが、52.0%未満の場合にはガラスが失透し易くなり、57.0%を越えると粘性が高くなって精密成型が困難になる。
【0023】
Alは、熱膨張係数を大きくすることなく粘性を低下させる効果やガラス転移点を高くする効果、機械的強度(ヤング率)を大きくする効果があるが、18.0%未満の場合にはそれらの効果に乏しく、逆に22.0%を越えると溶融し難くなる。
【0024】
は、ガラスの溶融性や作業性を向上させる効果があるが、8.5%未満ではそれらの効果に乏しく、また11.0%を越えると分相する傾向が増し化学的な耐久性が低下する。
【0025】
ZnOは、熱膨張係数を大きくすることなく粘性を低下させるのに非常に有効であるが、4.5%未満ではその効果に乏しく、7.0%を越えると失透し易くなる。
【0026】
MgOは、熱膨張係数を大きくすることなく粘性を低下させる効果があるが、6.0%未満ではその効果に乏しく、7.5%を越えると失透し易くなる。
【0027】
NaOは、溶融性を改善し粘性を低下させる成分であるが、0.5%未満の場合には効果が乏しく、2.0%を越えると熱膨張係数が大きくなり過ぎてしまう。
【0028】
As及びSbを清澄剤として2.0重量%まで添加することは差し支えない。
【0029】
本発明の一態様として、CaO、P、SrO、BaO、KO、PbO、TiOを含まないようにすることができる。これにより、調合する原料の数が減少し、製造工程の簡略化が図れるというメリットがある。また、PbOを含まないことにより、環境汚染成分を減らすことが可能となる。
【0030】
なお、上述の組成%は原料調合時の目標組成であり、耐火物の侵食に伴う耐火物成分の混入、ガラス融液からの特定成分の揮発等によって、実際に得られるガラス組成は目標組成から若干ずれることがある。通常ずれ幅は、各成分の目標含有量のほぼ±5%以内であるが、それよりも大きくなる場合もある。
【0031】
【第1実施例】
次に、本発明の第1の実施例に係る耐熱ガラスを用いて反射鏡基板用ガラスを製造する過程について説明する。本実施例においては、まず、表2のNo.1〜No.13に示した組成となるように原料を調合し、1450℃に保持された坩堝で溶融してガラス化した。
【0032】
【表2】
Figure 0004017466
【0033】
上述のように溶融して成形されたガラスをプレス法により直径60mmの反射鏡の基板形状に成型し徐冷した。各組成の熱膨張係数及びガラス転移点は表2に示した通りである。これらの組成はいずれも微量ながら0.1〜0.5重量%の範囲でLiOを含有しており、30〜400℃の範囲における平均熱膨張係数が40×10−7/℃以下で、かつガラス転移点が630℃以上という特性を保持しつつ、比抵抗値が100Ωcm以下であるという特徴を有しており、直接電気通電タイプの電気溶融法の採用を可能にしている。
【0034】
次に、反射鏡基板の内面にTiO−SiO交互多層反射膜を真空蒸着して反射鏡を製造した。交互多層反射膜の形成に際しては真空蒸着法に限らず、スパッタリング法等その他の物理堆積法(PVD法)や化学堆積法(CVD法)を採用することができる。
【0035】
このようにして得られた反射鏡について、600℃まで加熱後、自然冷却で常温まで冷却するという操作を10回繰り返すという耐熱性試験、耐熱衝撃性試験を行ったところ、いずれの反射鏡についても割れやクラックが発生せず、また真空蒸着によって形成した多層反射膜にも剥離やクラックの発生等の異常は観察されなかった。
【0036】
【第2実施例】
次に、本発明の第2の実施例に係る耐熱ガラスを用いて反射鏡基板用ガラスを製造する過程について説明する。本実施例においては、まず、表3のNo.1〜No.7及び表4のNo.8〜No.14に示した組成となるように原料を調合し、1450℃に保持された坩堝で溶融してガラス化した。なお、表3,4中、括弧内の数字はモル%を示し、それ以外は重量%を示す。
【0037】
【表3】
Figure 0004017466
【0038】
【表4】
Figure 0004017466
【0039】
上述のように溶融して成形されたガラスをプレス法により直径60mmの反射鏡の基板形状に成型し徐冷した。各組成の熱膨張係数及びガラス転移点は表3、表4に示した通りである。これらの組成はいずれも微量ながら0.01〜0.5重量%の範囲でLiOを含有しており、30〜400℃の範囲における平均熱膨張係数が40×10−7/℃以下で、かつガラス転移点が700℃以上という特性を保持しつつ、比抵抗値がほぼ100Ωcm以下であるという特徴を有しており、直接電気通電タイプの電気溶融法の採用を可能にしている。最もLiO含有量の少ない表4中のNo.12組成でも、比抵抗値が104Ωcmと電気溶融が十分可能であることを示している。
【0040】
次に、反射鏡基板の内面にTiO−SiO交互多層反射膜を真空蒸着して反射鏡を製造した。交互多層反射膜の形成に際しては真空蒸着法に限らず、スパッタリング法等その他の物理堆積法(PVD法)や化学堆積法(CVD法)を採用することができる。
【0041】
このようにして得られた反射鏡について、700℃まで加熱後、自然冷却で常温まで冷却するという操作を10回繰り返すという耐熱性試験、耐熱衝撃性試験を行ったところ、いずれの反射鏡についても割れやクラックが発生せず、また真空蒸着によって形成した多層反射膜にも剥離やクラックの発生等の異常は観察されなかった。
【0042】
上記第1の実施例のガラス組成に比べ、第2実施例においては、Yを2〜7重量%添加するとともに、Bの量を減らすことにより、ガラス転移点を更に上昇させることに成功している。本発明者らは、ガラス転移点を上昇させる手段として、Yの添加以外にZrOの添加も試みたが、ガラス自体の溶融が困難となり良好な結果が得られなかった。Yは2〜7重量%添加しても比較的溶融及び成型がし易く、溶融性や作業性に悪影響を与えずにガラス転移点を上昇させるのに極めて有効な成分であることが判明した。なお、ここで、Yが2重量%より少ないと転移点アップの効果が乏しくなり、一方、Yが7重量%より多いとガラス自体が溶融し難くなる。また、Bは2重量%より少なくなると、溶融性や作業性が低下する。さらに、第1の実施例のガラス組成に比べて、第2実施例においては、SiO及びAlを若干多めに含有させているが、これもガラス転移点の上昇に効果的である。ただし、SiOは58.0%を越えると、またAlは23.0%を越えるとガラス自体の溶融が困難になる。
【0043】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、耐熱性及び耐熱衝撃性に優れた耐熱性ガラスを提供することが可能となる。また、容量1〜3トン程度の直接通電タイプの小規模タンク炉で容易に製造することができる。このような特性、利点は反射鏡用の基板に適している。更に、優れた耐熱性及び耐熱衝撃性を利用し、半導体集積回路を作成する際に使用されるフォトマスクや、各種ディスプレー等の電子工業用ガラス基板にも十分適用可能である。

Claims (17)

  1. 重量%で、SiOを52.0〜58.0%、Alを18.0〜23.0%、Bを3.0〜11.0%、ZnOを2.0〜7.5%、MgOを4.5〜7.5%、NaOを0.5〜2.0%、LiOを . 1〜0 . %含む耐熱性ガラス。
  2. 重量%で、SiOを52.0〜57.0%、Alを18.0〜22.0%、Bを8.5〜11.0%、ZnOを4.5〜7.0%、MgOを6.0〜7.5%、NaOを0.5〜2.0%、LiOを . 1〜0 . %含む請求項1の耐熱性ガラス。
  3. 重量%で、SiOを55.0〜58.0%、Alを20.0〜23.0%、Bを3.0〜9.0%、ZnOを2.0〜7.5%、MgOを4.5〜7.5%、NaOを0.5〜2.0%、LiOを . 1〜0 . %、Yを2.0〜7.0%含む請求項1の耐熱性ガラス。
  4. 重量%で、SiO を52 . 0〜58 . 0%、Al を18 . 0〜23 . 0%、B を3.0〜11 . 0%、ZnOを2.0〜7 . 5%、MgOを4.5〜7 . 5%、Na Oを0 . 5〜2 . 0%、Li Oを0 . 01〜0 . 05%含む耐熱性ガラス。
  5. 重量%で、SiO を52 . 0〜57 . 0%、Al を18 . 0〜22 . 0%、B を8 . 5〜11 . 0%、ZnOを4 . 5〜7 . 0%、MgOを6 . 0〜7 . 5%、Na Oを0 . 5〜2 . 0%、Li Oを0 . 01〜0 . 05%含む請求項1の耐熱性ガラス。
  6. 重量%で、SiO を55 . 0〜58 . 0%、Al を20 . 0〜23 . 0%、B を3.0〜9 . 0%、ZnOを2.0〜7 . 5%、MgOを4.5〜7 . 5%、Na Oを0 . 5〜2 . 0%、Li Oを0 . 01〜0 . 05%、Y を2.0〜7.0%含む請求項1の耐熱性ガラス。
  7. 重量%で、LiOとNaOとの合計量が1.0%未満である請求項1,2,3,4,5又は6の耐熱性ガラス。
  8. CaO、P、SrO、BaO、KO、PbO、TiOを含まない請求項1,2,3,4,5,6又は7の耐熱性ガラス。
  9. 請求項1,2,3,4,5,6,7又は8に記載のガラスを用いた反射鏡基板。
  10. 請求項に記載の反射鏡基板の表面に多層反射膜を形成してなる反射鏡。
  11. 重量%で、SiO を52 . 0〜58 . 0%、Al を18 . 0〜23 . 0%、B を3.0〜11 . 0%、ZnOを2.0〜7 . 5%、MgOを4.5〜7 . 5%、Na Oを0 . 5〜2 . 0%、Li Oを0 . 01〜0 . 5%含む耐熱性ガラス。
  12. 重量%で、SiO を52 . 0〜57 . 0%、Al を18 . 0〜22 . 0%、B を8 . 5〜11 . 0%、ZnOを4 . 5〜7 . 0%、MgOを6 . 0〜7 . 5%、Na Oを0 . 5〜2 . 0%、Li Oを0 . 01〜0 . 5%含む請求項11の耐熱性ガラス。
  13. 重量%で、SiO を55 . 0〜58 . 0%、Al を20 . 0〜23 . 0%、B を3.0〜9 . 0%、ZnOを2.0〜7 . 5%、MgOを4.5〜7 . 5%、Na Oを0 . 5〜2 . 0%、Li Oを0 . 01〜0 . 5%、Y を2.0〜7.0%含む請求項11の耐熱性ガラス。
  14. 重量%で、Li OとNa Oとの合計量が1 . 0%未満である請求項11,12又は13の耐熱性ガラス。
  15. CaO、P 、SrO、BaO、K O、PbO、TiO を含まない請求項11,12,13又は14の耐熱性ガラス。
  16. 請求項11,12,13,14又は15に記載のガラスを用いた反射鏡基板。
  17. 請求項16に記載の反射鏡基板の表面に多層反射膜を形成してなる反射鏡。
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