JP2003238196A - 耐熱性ガラス - Google Patents

耐熱性ガラス

Info

Publication number
JP2003238196A
JP2003238196A JP2002207359A JP2002207359A JP2003238196A JP 2003238196 A JP2003238196 A JP 2003238196A JP 2002207359 A JP2002207359 A JP 2002207359A JP 2002207359 A JP2002207359 A JP 2002207359A JP 2003238196 A JP2003238196 A JP 2003238196A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass
weight
heat
resistant glass
reflecting mirror
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2002207359A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4017466B2 (ja
Inventor
Kaoru Yokota
芳 横田
Hiroshi To
浩 湯
Sadakichi Hayashi
貞吉 林
Atsushi Arai
敦 新井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Okamoto Glass Co Ltd
Original Assignee
Okamoto Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Okamoto Glass Co Ltd filed Critical Okamoto Glass Co Ltd
Priority to JP2002207359A priority Critical patent/JP4017466B2/ja
Publication of JP2003238196A publication Critical patent/JP2003238196A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4017466B2 publication Critical patent/JP4017466B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/076Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/089Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
    • C03C3/091Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
    • C03C3/093Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium containing zinc or zirconium

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 耐熱性及び耐熱衝撃性に優れた耐熱性ガラス
を提供すること。 【解決手段】 本発明に係る耐熱性ガラスは、重量%
で、SiOを52.0〜58.0%、Alを1
8.0〜23.0%、Bを3.0〜11.0%、Z
nOを2.0〜7.5%、MgOを4.5〜7.5%、N
Oを0.5〜2.0%、LiOを0〜1.0%含む
組成となっている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、プロジェクター、投写
機、照明装置等に組み込まれる反射鏡、及びその基板ガ
ラスに関するものである。また、半導体集積回路を作成
する際に使用されるフォトマスクや、各種ディスプレー
等のガラス基板に関するものである。
【0002】
【従来の技術】この種の反射鏡は、その内面に形成され
た多層反射膜によって光源ランプの可視光線のみを選択
的に効率良く前方に反射する仕組みになっている。近
年、パソコンの急激な普及に伴い、パソコン画面上の画
像を直接スクリーンに投影できる液晶プロジェクター
が、プレゼンテーション用あるいは会議用のツールとし
て飛躍的に伸びてきているが、特に最近では、この液晶
プロジェクターに携帯性が求められるようになってきて
おり、プロジェクター本体自体のコンパクト化が進んで
いる。一方では、投影される画像に明るさの向上が求め
られ、高輝度化ランプの開発も進められている。光源ラ
ンプの高輝度化が進むとランプの発熱も激しくなる。ま
た、装置本体のコンパクト化・小型化が進むことによっ
てランプと反射鏡との距離が縮まることになり、結果と
して反射鏡は600℃を越えるような高温にさらされる
ようになってきた。即ち、従来よりも優れた耐熱性、耐
熱衝撃性が要求されてきている。
【0003】このような優れた耐熱性及び耐熱衝撃性を
有する反射鏡用のガラス素材は、特許2031876号
及び特許2070949号に記述されている。また、特
許1865403号、特開2001−305320号に
も開示されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】特許2031876号
及び特許2070949号に記述されている素材は結晶
化ガラスであり、耐熱性、耐熱衝撃性等の性能には極め
て優れているものの、一旦成型したガラスを結晶化させ
るための熱処理工程が必要不可欠であり、製造コスト的
には不利であるという問題点があった。
【0005】一方、特許1865403号、特開200
1−305320号に記述されているのはガラス(非晶
質)であるが、小規模な製造方法に難があった。例え
ば、容量1〜3トン程度のタンク炉による生産を考えた
場合、上記2つの技術では直接通電タイプの電気炉を採
用することが極めて困難であった。現在、小規模タンク
炉では、溶融方式としては直接通電タイプの電気炉を採
用することが一般的である。
【0006】本発明の主目的は、耐熱性及び耐熱衝撃性
に優れた低膨張・高転移点を有するガラス(非晶質)を
提供することにある。
【0007】また、容量1〜3トン程度の直接通電タイ
プの小規模タンク炉で容易に製造可能な耐熱性ガラスを
提供することを他の目的とする。
【0008】更に、環境汚染成分を最小限度に抑えた耐
熱性ガラスを提供することを別の目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、熱膨張係
数を低く抑えつつ、かつガラス融液の電気伝導度を向上
させるのに、LiOの添加が極めて効果的であること
を見出した。また、微量(2〜7重量%)のY
添加することにより、ガラス転移点を上昇させる。
【0010】請求項1に示すように、本発明に係る耐熱
性ガラスは、重量%で、SiOを52.0〜58.0
%、Alを18.0〜23.0%、Bを3.
0〜11.0%、ZnOを2.0〜7.5%、MgOを
4.5〜7.5%、NaOを0.5〜2.0%、Li
Oを0〜1.0%含んでいる。
【0011】例えば、請求項2に記載のように、重量%
で、SiOを52.0〜57.0%、Alを1
8.0〜22.0%、Bを8.5〜11.0%、Zn
Oを4.5〜7.0%、MgOを6.0〜7.5%、Na
Oを0.5〜2.0%、LiOを0〜1.0%含む組成
とする。ここで、好ましくは、LiOとNaOとの
合計量が1.0%未満とする。
【0012】或いは、請求項4に記載のように、重量%
で、SiOを55.0〜58.0%、Alを2
0.0〜23.0%、Bを3.0〜9.0%、Zn
Oを2.0〜7.5%、MgOを4.5〜7.5%、Na
Oを0.5〜2.0%、LiOを0〜1.0%、Y
を2.0〜7.0%含む組成とする。
【0013】また、製造工程(原料調合等)の簡素化や
環境汚染成分を排除する目的で、CaO、P、S
rO、BaO、KO、PbO、TiOを含まない組
成とすることが望ましい。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て反射鏡基板用に使用されるガラスを例にとって説明す
るが、本発明はこのようなガラスに限定されるものでは
なく、耐熱性が要求される種々の装置、部品に使用され
るガラスに適用可能なものである。
【0015】一般的に、熱膨張係数を低く抑えるために
はアルカリ金属酸化物(LiO、NaO、KO)
の含有量を少なくするが、アルカリ金属酸化物の含有率
を小さくするとガラス融液の電気伝導度が低下して電気
を通し難くなり、ガラスの電気溶融が困難になる。
【0016】優れた耐熱性(最高使用温度)はガラス転
移点が高いことで達成され、優れた耐熱衝撃性は熱膨張
係数が低い(小さい)ことで達成される。具体的には、
30〜400℃の範囲における平均熱膨張係数が40×
10−7/℃以下で、且つガラス転移点が630℃以
上、理想的には700℃以上であることが好ましい。
【0017】表1に基礎実験データを示す。ガラス融液
の電気伝導度は、実際にはその逆数である比抵抗値で表
現することが多い。表1においては、LiOの添加・
置換効果を確認することを目的として、NaOとLi
Oの含有量を便宜上モル(原子数)で比較している
が、表中の組成A、B、CはNaOを除いて、いずれ
も以下に示す組成(重量%)範囲内にある。 SiO:52.0〜57.0% Al:18.0〜22.0% B:8.5〜11.0% ZnO:4.5〜7.0% MgO:6.0〜7.5% LiO:0〜1.0%
【0018】
【表1】
【0019】表1より、NaOとLiOの合計量
(モル%)が増加すると熱膨張係数は大きくなり、一方
比抵抗値は低下する傾向にあることが分かる。また、ア
ルカリ金属酸化物の全量、即ちNaOとLiOの合
計量(モル%)が同じであっても、LiOの割合が増
えると熱膨張係数は若干ではあるが低下し、比抵抗値は
著しく低下することが分かる。
【0020】LiOの微量添加が、熱膨張係数を低く
抑えながら、かつガラス融液の電気伝導度を向上させる
(電気抵抗を下げる)のに極めて効果的であることを発
見したのである。ただし、実際にはLiO含有率が
1.0重量%を越えると、溶融炉の耐火物が侵食され易
くなり、また0.5重量%を越えると分相する傾向が大
きくなるため、LiO含有率は0〜1.0重量%、よ
り好ましくは0.1〜0.5重量%の添加に留めるのが良
い。
【0021】また、比抵抗値は低ければ低いほど電気溶
融し易くなるが、アルカリ金属酸化物の全量が増えると
熱膨張係数は大きくなる傾向にあるので、NaOとL
Oの各含有量は要求される特性と溶融炉の設計上の
条件とを考慮して決定する。好ましくは、LiOとN
Oとの合計量が1.0%未満となるようにする。
【0022】表1の組成において、SiOはガラスを
構成するための主成分であるが、52.0%未満の場合
にはガラスが失透し易くなり、57.0%を越えると粘
性が高くなって精密成型が困難になる。
【0023】Alは、熱膨張係数を大きくするこ
となく粘性を低下させる効果やガラス転移点を高くする
効果、機械的強度(ヤング率)を大きくする効果がある
が、18.0%未満の場合にはそれらの効果に乏しく、
逆に22.0%を越えると溶融し難くなる。
【0024】Bは、ガラスの溶融性や作業性を向
上させる効果があるが、8.5%未満ではそれらの効果
に乏しく、また11.0%を越えると分相する傾向が増
し化学的な耐久性が低下する。
【0025】ZnOは、熱膨張係数を大きくすることな
く粘性を低下させるのに非常に有効であるが、4.5%
未満ではその効果に乏しく、7.0%を越えると失透し
易くなる。
【0026】MgOは、熱膨張係数を大きくすることな
く粘性を低下させる効果があるが、6.0%未満ではそ
の効果に乏しく、7.5%を越えると失透し易くなる。
【0027】NaOは、溶融性を改善し粘性を低下さ
せる成分であるが、0.5%未満の場合には効果が乏し
く、2.0%を越えると熱膨張係数が大きくなり過ぎて
しまう。
【0028】As及びSbを清澄剤として
2.0重量%まで添加することは差し支えない。
【0029】本発明の一態様として、CaO、P
、SrO、BaO、KO、PbO、TiO
含まないようにすることができる。これにより、調合す
る原料の数が減少し、製造工程の簡略化が図れるという
メリットがある。また、PbOを含まないことにより、
環境汚染成分を減らすことが可能となる。
【0030】なお、上述の組成%は原料調合時の目標組
成であり、耐火物の侵食に伴う耐火物成分の混入、ガラ
ス融液からの特定成分の揮発等によって、実際に得られ
るガラス組成は目標組成から若干ずれることがある。通
常ずれ幅は、各成分の目標含有量のほぼ±5%以内であ
るが、それよりも大きくなる場合もある。
【0031】
【第1実施例】次に、本発明の第1の実施例に係る耐熱
ガラスを用いて反射鏡基板用ガラスを製造する過程につ
いて説明する。本実施例においては、まず、表2のN
o.1〜No.13に示した組成となるように原料を調合
し、1450℃に保持された坩堝で溶融してガラス化し
た。
【0032】
【表2】
【0033】上述のように溶融して成形されたガラスを
プレス法により直径60mmの反射鏡の基板形状に成型
し徐冷した。各組成の熱膨張係数及びガラス転移点は表
2に示した通りである。これらの組成はいずれも微量な
がら0.1〜0.5重量%の範囲でLiOを含有してお
り、30〜400℃の範囲における平均熱膨張係数が4
0×10−7/℃以下で、かつガラス転移点が630℃
以上という特性を保持しつつ、比抵抗値が100Ωcm
以下であるという特徴を有しており、直接電気通電タイ
プの電気溶融法の採用を可能にしている。
【0034】次に、反射鏡基板の内面にTiO−Si
交互多層反射膜を真空蒸着して反射鏡を製造した。
交互多層反射膜の形成に際しては真空蒸着法に限らず、
スパッタリング法等その他の物理堆積法(PVD法)や
化学堆積法(CVD法)を採用することができる。
【0035】このようにして得られた反射鏡について、
600℃まで加熱後、自然冷却で常温まで冷却するとい
う操作を10回繰り返すという耐熱性試験、耐熱衝撃性
試験を行ったところ、いずれの反射鏡についても割れや
クラックが発生せず、また真空蒸着によって形成した多
層反射膜にも剥離やクラックの発生等の異常は観察され
なかった。
【0036】
【第2実施例】次に、本発明の第2の実施例に係る耐熱
ガラスを用いて反射鏡基板用ガラスを製造する過程につ
いて説明する。本実施例においては、まず、表3のN
o.1〜No.7及び表4のNo.8〜No.14に示
した組成となるように原料を調合し、1450℃に保持
された坩堝で溶融してガラス化した。なお、表3,4
中、括弧内の数字はモル%を示し、それ以外は重量%を
示す。
【0037】
【表3】
【0038】
【表4】
【0039】上述のように溶融して成形されたガラスを
プレス法により直径60mmの反射鏡の基板形状に成型
し徐冷した。各組成の熱膨張係数及びガラス転移点は表
3、表4に示した通りである。これらの組成はいずれも
微量ながら0.01〜0.5重量%の範囲でLiOを含
有しており、30〜400℃の範囲における平均熱膨張
係数が40×10−7/℃以下で、かつガラス転移点が
700℃以上という特性を保持しつつ、比抵抗値がほぼ
100Ωcm以下であるという特徴を有しており、直接
電気通電タイプの電気溶融法の採用を可能にしている。
最もLiO含有量の少ない表4中のNo.12組成で
も、比抵抗値が104Ωcmと電気溶融が十分可能であ
ることを示している。
【0040】次に、反射鏡基板の内面にTiO−Si
交互多層反射膜を真空蒸着して反射鏡を製造した。
交互多層反射膜の形成に際しては真空蒸着法に限らず、
スパッタリング法等その他の物理堆積法(PVD法)や
化学堆積法(CVD法)を採用することができる。
【0041】このようにして得られた反射鏡について、
700℃まで加熱後、自然冷却で常温まで冷却するとい
う操作を10回繰り返すという耐熱性試験、耐熱衝撃性
試験を行ったところ、いずれの反射鏡についても割れや
クラックが発生せず、また真空蒸着によって形成した多
層反射膜にも剥離やクラックの発生等の異常は観察され
なかった。
【0042】上記第1の実施例のガラス組成に比べ、第
2実施例においては、Yを2〜7重量%添加する
とともに、Bの量を減らすことにより、ガラス転
移点を更に上昇させることに成功している。本発明者ら
は、ガラス転移点を上昇させる手段として、Y
添加以外にZrOの添加も試みたが、ガラス自体の溶
融が困難となり良好な結果が得られなかった。Y
は2〜7重量%添加しても比較的溶融及び成型がし易
く、溶融性や作業性に悪影響を与えずにガラス転移点を
上昇させるのに極めて有効な成分であることが判明し
た。なお、ここで、Yが2重量%より少ないと転
移点アップの効果が乏しくなり、一方、Yが7重
量%より多いとガラス自体が溶融し難くなる。また、B
は2重量%より少なくなると、溶融性や作業性が
低下する。さらに、第1の実施例のガラス組成に比べ
て、第2実施例においては、SiO及びAl
若干多めに含有させているが、これもガラス転移点の上
昇に効果的である。ただし、SiOは58.0%を越
えると、またAlは23.0%を越えるとガラス
自体の溶融が困難になる。
【0043】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
耐熱性及び耐熱衝撃性に優れた耐熱性ガラスを提供する
ことが可能となる。また、容量1〜3トン程度の直接通
電タイプの小規模タンク炉で容易に製造することができ
る。このような特性、利点は反射鏡用の基板に適してい
る。更に、優れた耐熱性及び耐熱衝撃性を利用し、半導
体集積回路を作成する際に使用されるフォトマスクや、
各種ディスプレー等の電子工業用ガラス基板にも十分適
用可能である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 林 貞吉 千葉県柏市十余二380番地 岡本硝子株式 会社内 (72)発明者 新井 敦 千葉県柏市十余二380番地 岡本硝子株式 会社内 Fターム(参考) 4G059 AA11 AA13 AC05 EA04 EA05 EB03 GA02 GA04 GA12 4G062 AA04 BB01 BB05 CC04 DA06 DB04 DC03 DC04 DD01 DE03 DF01 EA01 EA02 EB02 EB03 EC01 ED03 EE01 EF01 EG01 FA01 FA10 FB01 FC01 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM02 MM27 MM28 NN33

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】重量%で、SiOを52.0〜58.0
    %、Alを18.0〜23.0%、Bを3.
    0〜11.0%、ZnOを2.0〜7.5%、MgOを
    4.5〜7.5%、NaOを0.5〜2.0%、Li
    Oを0〜1.0%含む耐熱性ガラス。
  2. 【請求項2】重量%で、SiOを52.0〜57.0
    %、Alを18.0〜22.0%、Bを8.
    5〜11.0%、ZnOを4.5〜7.0%、MgOを6.
    0〜7.5%、NaOを0.5〜2.0%、LiOを
    0〜1.0%含む請求項1の耐熱性ガラス。
  3. 【請求項3】重量%で、LiOとNaOとの合計量
    が1.0%未満である請求項2の耐熱性ガラス。
  4. 【請求項4】重量%で、SiOを55.0〜58.0
    %、Alを20.0〜23.0%、Bを3.
    0〜9.0%、ZnOを2.0〜7.5%、MgOを4.
    5〜7.5%、NaOを0.5〜2.0%、LiOを
    0〜1.0%、Yを2.0〜7.0%含む請求項
    1の耐熱性ガラス。
  5. 【請求項5】LiOを0.1〜0.5重量%含む請求項
    1,2,3又は4の耐熱性ガラス。
  6. 【請求項6】LiOを0.01〜0.05重量%含む請
    求項4の耐熱性ガラス。
  7. 【請求項7】CaO、P、SrO、BaO、K
    O、PbO、TiOを含まない請求項1,2,3,
    4,5又は6の耐熱性ガラス。
  8. 【請求項8】請求項1,2,3,4,5,6又は7に記
    載のガラスを用いた反射鏡基板。
  9. 【請求項9】請求項8に記載の反射鏡基板の表面に多層
    反射膜を形成してなる反射鏡。
JP2002207359A 2001-12-04 2002-07-16 耐熱性ガラス Expired - Lifetime JP4017466B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002207359A JP4017466B2 (ja) 2001-12-04 2002-07-16 耐熱性ガラス

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001-370311 2001-12-04
JP2001370311 2001-12-04
JP2002207359A JP4017466B2 (ja) 2001-12-04 2002-07-16 耐熱性ガラス

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003238196A true JP2003238196A (ja) 2003-08-27
JP4017466B2 JP4017466B2 (ja) 2007-12-05

Family

ID=27790467

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002207359A Expired - Lifetime JP4017466B2 (ja) 2001-12-04 2002-07-16 耐熱性ガラス

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4017466B2 (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005089259A (ja) * 2003-09-18 2005-04-07 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラス基板
JP2012180279A (ja) * 2005-08-15 2012-09-20 Avanstrate Inc ガラス組成物
WO2013146256A1 (ja) * 2012-03-29 2013-10-03 Hoya株式会社 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体用ガラス基板およびその利用
US8885447B2 (en) 2012-03-29 2014-11-11 Hoya Corporation Glass for magnetic recording medium substrate, glass substrate for magnetic recording medium, and their use
WO2015037609A1 (ja) * 2013-09-11 2015-03-19 Hoya株式会社 磁気記録媒体基板用ガラスおよび磁気記録媒体基板
WO2018199046A1 (ja) * 2017-04-28 2018-11-01 Agc株式会社 化学強化ガラスおよび化学強化用ガラス
JP2019501859A (ja) * 2015-12-21 2019-01-24 コーニング インコーポレイテッド アルカリ含有量が低いホウケイ酸ガラス
JP2022151758A (ja) * 2021-03-25 2022-10-07 富喬工業股▲分▼有限公司 低熱膨張係数を持つガラス組成物、及びガラス繊維

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005089259A (ja) * 2003-09-18 2005-04-07 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラス基板
JP2012180279A (ja) * 2005-08-15 2012-09-20 Avanstrate Inc ガラス組成物
JP2012188350A (ja) * 2005-08-15 2012-10-04 Avanstrate Inc ガラス組成物
JP2012254926A (ja) * 2005-08-15 2012-12-27 Avanstrate Inc ガラス組成物
JPWO2013146256A1 (ja) * 2012-03-29 2015-12-10 Hoya株式会社 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体用ガラス基板およびその利用
WO2013146256A1 (ja) * 2012-03-29 2013-10-03 Hoya株式会社 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体用ガラス基板およびその利用
US8885447B2 (en) 2012-03-29 2014-11-11 Hoya Corporation Glass for magnetic recording medium substrate, glass substrate for magnetic recording medium, and their use
WO2015037609A1 (ja) * 2013-09-11 2015-03-19 Hoya株式会社 磁気記録媒体基板用ガラスおよび磁気記録媒体基板
JP2015054794A (ja) * 2013-09-11 2015-03-23 Hoya株式会社 磁気記録媒体基板用ガラスおよび磁気記録媒体基板
JP2019501859A (ja) * 2015-12-21 2019-01-24 コーニング インコーポレイテッド アルカリ含有量が低いホウケイ酸ガラス
US11577988B2 (en) 2015-12-21 2023-02-14 Corning Incorporated Borosilicate glasses with low alkali content
WO2018199046A1 (ja) * 2017-04-28 2018-11-01 Agc株式会社 化学強化ガラスおよび化学強化用ガラス
JP2022151758A (ja) * 2021-03-25 2022-10-07 富喬工業股▲分▼有限公司 低熱膨張係数を持つガラス組成物、及びガラス繊維
JP7387790B2 (ja) 2021-03-25 2023-11-28 富喬工業股▲分▼有限公司 低熱膨張係数を持つガラス組成物、及びガラス繊維

Also Published As

Publication number Publication date
JP4017466B2 (ja) 2007-12-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4378152B2 (ja) 耐熱性ガラス
TWI271389B (en) Lamp reflector substrate, glass, glass-ceramic materials and process for making the same
TW555715B (en) Alkali-free glass and glass plate for a display
TWI377181B (ja)
JP5857961B2 (ja) 無アルカリカバーガラス組成物及びそれを用いた光取り出し部材
JP2691263B2 (ja) 透明結晶化ガラス
TW201213259A (en) Method for manufacturing non-alkali glass
JP2000143289A (ja) 低膨張ガラスセラミックス
JP2004189535A (ja) 無アルカリガラス基板
JP2003192377A (ja) ガラス及びディスプレイ用ガラス基板
TW200804220A (en) Glass substrates for flat screens
JP2008542164A (ja) フラットスクリーン用ガラス基板
JP2003238196A (ja) 耐熱性ガラス
JPH10130034A (ja) 無アルカリガラス及びその製造方法
JP2007269625A (ja) アルミノホウ珪酸ガラス
TWI241991B (en) Alkali free glass, production method therefor, and flat display panel using the same
JP5877750B2 (ja) 無アルカリガラスフィラー
JPH08169724A (ja) 高膨張耐熱ガラス
JP2006169047A (ja) 無鉛低融点ガラス
JP2007284307A (ja) ディスプレイ装置用基板ガラス
JP2007256764A (ja) 紫外線吸収反射鏡基板及びこれを用いた反射鏡
JP2007161524A (ja) ビスマス系ガラス組成物
JP4219012B2 (ja) 光学ガラス
JP2000001330A (ja) 配線基板材料
JP3637261B2 (ja) 反射鏡

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20020716

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20050125

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060427

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060608

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20070913

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20070918

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 4017466

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100928

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100928

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110928

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110928

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120928

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120928

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120928

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130928

Year of fee payment: 6

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term