JPH10194771A - プラズマディスプレイパネル用の基板ガラス造成物 - Google Patents

プラズマディスプレイパネル用の基板ガラス造成物

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JPH10194771A
JPH10194771A JP9348741A JP34874197A JPH10194771A JP H10194771 A JPH10194771 A JP H10194771A JP 9348741 A JP9348741 A JP 9348741A JP 34874197 A JP34874197 A JP 34874197A JP H10194771 A JPH10194771 A JP H10194771A
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glass
plasma display
display panel
temperature
viscosity
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JP9348741A
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Ki Don Kim
キ ドン キム
Chang Jon Lee
チャン ジョン リー
Hyun Min Jun
ヒュン ミン ジュン
Ki Churu Seo
キ チュル セオ
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Corning Precision Materials Co Ltd
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Samsung Corning Co Ltd
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/076Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/083Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
    • C03C3/085Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
    • C03C3/087Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal containing calcium oxide, e.g. common sheet or container glass
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica

Abstract

(57)【要約】 【課題】比較的安い原料費用で、液相温度は成形温度よ
りも低く、液相温度での粘度を高め、生産性が高く、一
般のソーダライム板ガラスに比べて高歪点及び低膨張性
を示し、プラズマディスプレイパネル用の基板ガラスと
しての諸特性を満足させるガラス造成物を提供するこ
と。 【解決手段】SiO2 56.0〜63重量%、Al2O3 1.0〜5.0重
量%、Na2O 3.0〜7.0重量%、K2O 3.0〜8.0重量%、MgO
3.0〜5.0重量%、CaO 4.0〜8.0重量%、BaO7.0〜13重
量%、ZrO2 3.0〜8.0重量%、Sb2O3とSO3 の総含量 0.3
〜0.5重量%からなることを特徴とするプラズマディス
プレイパネル用の基板ガラス造成物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル用の基板ガラス造成物に関するもので、より
詳しくは、ガラスの歪点が580〜610℃、転移点が610℃
以上、熱膨張係数が80〜87×10-7/℃、粘度が10000 ポ
アズとなる成形温度は1200℃以下、液相温度は1100℃以
下、液相温度での粘度が20000ポアズ以上であり、またS
rO 成分を基本的に含まないプラズマディスプレイパネ
ル用の基板ガラス造成物に関するものである。
【0002】
【従来の技術】プラズマディスプレイパネルは、真空螢
光ディスプレイ技術の一種であり、気密の真空状態で維
持される二枚のガラス基板の間に充填されたガスは、電
気的な放電によりイオン化して紫外線を放出し、放出さ
れた紫外線がガラス板の内面に塗布された螢光物質と衝
突して可視光線に転換されて画面に映像を示すようにな
る。一般的なプラズマディスプレイパネルの基本構成を
みると、2〜3mmの厚さを有する二枚の前後面基板ガラス
は100〜150μm の間隔があり、縁はフリットの封着によ
り気密になり、映像が現れる前面ガラスの内部には表示
電極、その上に誘電体層が印刷される。さらに、この上
に保護層がコーティングされており、後面ガラスの上に
Ni、Ag電極及び赤、緑、青のカラーを発現させる螢光物
質が塗布されている。
【0003】プラズマディスプレイパネルの前後面基板
ガラスとしては、初期にフロート工法により生産された
建築及び自動車用のソーダライムガラス(SiO2:70〜72
重量%、Al2O3:1〜2重量%、Na2O:12〜14重量%、K
2O:0〜1重量%、CaO:8〜9重量%、MgO:4〜5重量%)
を小型(21")のプラズマディスプレイパネルに適用して
おり、プラズマディスプレイパネルの製造工程により焼
成されるペーストやフリットの性質、特に熱膨張係数及
び融点がソーダライムガラスに合わせて製造されてい
る。しかし、ディスプレイの大型化と高解像度にかかわ
る要求が大きくなり、前後面ガラスの収縮による寸法と
平坦図の変化及びこれによる解像度の低下がプラズマデ
ィスプレイパネルの製造工程で発生しているので、ソー
ダライムガラスとしては、このようなプラズマディスプ
レイパネル用の基板ガラスの要求を満足させることがで
きなかった。プラズマディスプレイパネルの製造工程温
度は570℃以上であり、ガラスの熱に対する変形が始ま
る温度である歪点(粘度としては、粘度が1014.5ボアズ
となる温度)はソーダライムガラスの場合には510〜530
℃であるので、熱処理工程の間に基板ガラスに寸法と平
坦度の変化が発生する恐れもある。特に、大型基板に転
換される場合には、基板ガラスの自重により寸法と平坦
度の変化はもっとひどくなる。従って、プラズマディス
プレイパネル用の基板ガラスとしては、歪点が570℃以
上であることが望ましく、熱膨張係数は既存のペースト
とフリットに適合した80〜90×10-7/℃の範囲でなけれ
ばならない。
【0004】プラズマディスプレイパネル用の基板ガラ
ス造成物に関する従来技術としては、米国特許第5,459,
109号と日本国公開特許平3-40933号、平8-133778号、平
8-165138号に提示されており、その組成は次の表1に示
される。先ず、米国特許第5,459,109号においては、基
本的にアルカリ金属酸化物を含有していない組成で、歪
点は600℃以上、0〜300℃の範囲で熱膨張係数は70〜90
×10-7/℃、10000×106ポアズでの温度は1240℃以下、
液相温度での粘度は3000×106ポアズ以上、フロート工
法による板ガラスの成形技術に焦点を合わせた。歪点は
600℃以上が要求されたが、実施例に示したすべての歪
点は630℃以上で過度に高く、熱膨張係数も80×107/℃
未満で極めて低い。液相温度は成形ペースト温度よりも
低いが、液相温度での粘度は板ガラス成形技術において
は、望ましい20000ポアズには及ばない15000ポアズ未満
を示している。そのほかに、成形温度と液相温度から要
求された粘度である10000×106ポアズと3000×106ポア
ズは、実施例とは全く符合しておらず、生産に適用する
ことができない非現実的な値である。また、実施例に示
したように清澄剤として環境問題を惹起させるハロゲン
化物(F、Cl)を使用している。また、次の表1から見
られるように、アルカリ土類金属酸化物であるMgO、Ca
O、SrO及びBaOの総含量は45.5〜52.5重量%であり、そ
の中で天然原料であるMgOとCaOより相当に高価の化学原
料であるSrO及びBaOが80%以上を占めているが、全体的
に原料価は相当に上昇し経済性が大きくないと予想され
る。また、過度なアルカリ土類金属酸化物の含量は耐火
物浸食を促進し、前記のように歪点及び熱膨張係数を必
要なく高くしあるいは低くする。ちなみに、B2O3の含有
量は最大4.5重量%で比較的高いので、熔融工程中にB2O
3が揮発して熔融槽の耐火物浸食とフロート工法により
板ガラスを生産する時に朱錫槽の耐火物浸食及び板ガラ
スに欠陥発生を誘発させると予想される。
【0005】日本国公開特許平3-40933号には、表1に
示した組成範囲のみを示しており、実施例にいくつかの
組成に対する歪点、軟化点、熱膨張係数、電気抵抗及び
熱変形量の結果が表示されているが、適用しようとする
板ガラスの成形技術に対する言及は全くない。請求して
いる組成範囲においても、アルカリ金属酸化物はLi2O、
Na2O及びK2O の総含量だけが記載されており、アルカリ
土類金属酸化物の場合には、CaOの範囲は具体的に明記
されているが、CaOを包含してMgO、SrO、BaOの総含量だ
けが記載されている。実際にソーダライムガラスと比較
して実施例に示した8つの組成物の中、7つの組成物に
対しては、プラズマディスプレイパネル用の基板ガラス
と関連した特性である歪点及び熱膨張係数が全く提示さ
れていなかった。
【0006】日本国公開特許平8-133778号は、基本的に
ZrO2を含有しない組成であり、560℃以上の歪点と50〜3
00℃の範囲での熱膨張係数は80〜95×10-7/℃として請
求しているが、ただし実施例に100と10000ポアズでの温
度、液相温度、化学的耐久性と硬度に対する結果を表示
し、フロート工法の適用は暗示的に記述している。基本
的に、ZrO2を含有しない代わりにZnOを0〜6重量%追加
してガラスの硬度を増加させようとしたが、ヨーロッパ
特許第559,389号と第510,543号及び米国特許第5,387,56
0号によると、ZnOは板ガラスの成形技術であるフロート
工法の朱錫糟から還元されて板ガラスの表面に欠陥を誘
発させる成分として知られており、実施例と比較例に提
示された硬度価では、硬度に及ぼすZrO2とZnOの相関関
係が不明であるばかりでなく、文献(Chemical Approac
h to Glass, Milos Volf, Elsevier, 1984, 306〜314
頁)によると、ZrO2はむしろガラスの硬度を増加させる
ものとして知られている。また、ZrO2を全く含有してい
ないので、熱膨張係数を低く調整するとき、一方的にAl
2O3に依存する組成上の限界があるだろうと予想され
る。また、実施例に示した液相温度は成形温度よりも低
いが、液相温度での粘度には全く言及していないので、
生産性の予測が不可能である。
【0007】日本国公開特許平8-165138号は、同平3-40
933号の改良特許としてZrO2を含有し、実施例には転移
点、膨張係数、高温粘度及び液相粘度に対する結果が提
示されており、板ガラスの成形技術としてフロート工法
の適用が記載されている。しかし、プラズマディスプレ
イパネル用の基板ガラスとして重要視される歪点につい
ては全く言及しておらず、フロート工法の適用時に成形
生産性の尺度となる液相温度での粘度が提示されていな
かった。
【0008】
【表1】
【0009】前記ソーダライムガラスの組成に比べ、歪
点を高くし熱膨張係数を低くするために、Na2O、K2Oの
ようなアルカリ金属酸化物の含量を下げ、SrOとBaOのよ
うなアルカリ土類金属酸化物及びZrO2、Al2O3等の成分
を追加する場合には、原料価がかなり高くなるだけでな
く、ガラスの熔融及び成形に関連する温度が全般的に上
昇し、液相温度も上昇して結果的には、ガラスの生産性
に悪影響を及ぼしかねない。B2O3を追加する場合は、ガ
ラスの熔融は容易になるが、含量が増加すると揮発によ
る耐火物浸食とそれによる不良の原因になる恐れがあ
り、特にZnOの添加は、板ガラスの成形技術であるフロ
ート工程に望ましくない。
【0010】したがって、本発明者らは、ガラスの歪点
を増加させ、熱膨張係数を減少させながら、フロート工
程による板ガラスの成形技術を満足させることができる
ガラス造成物を開発しようと研究、努力した。その結
果、高価な化学原料であるSrOを基本的に含有せず、成
形温度は1200℃以下、液相温度は成形温度よりも低く、
液相温度での粘度は20000ポアズ以上となるようにし
て、プラズマディスプレイパネル用の基板ガラスとして
必要な諸特性を向上させたガラス造成物を製造して本発
明を完成した。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明
は、比較的安い原料費用で、液相温度は成形温度よりも
低く、液相温度での粘度を高め、生産性が高く、一般の
ソーダライム板ガラスに比べて高歪点及び低膨張性を示
し、プラズマディスプレイパネル用の基板ガラスとして
の諸特性を満足させるガラス造成物を提供することにそ
の目的がある。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明は、プラズマディ
スプレイパネル用の基板ガラス造成物において、SiO25
6.0〜63重量%、Al2O3 1.0〜5.0重量%、Na2O 3.0〜7.0
重量%、K2O 3.0〜8.0重量%、MgO 3.0〜5.0重量%、Ca
O 4.0〜8.0重量%、BaO 7.0〜13重量%、ZrO23.0〜8.0
重量%、Sb2O3とSO3 の総含量 0.3〜0.5重量%からなる
ことをその特徴とする。
【0013】また、前記組成からなる本発明のプラズマ
ディスプレイパネル用の基板ガラス造成物は、粘度が10
000ポアズとなる成形温度は1200℃以下、歪点は580〜61
0℃、30〜350℃の間の熱膨張係数が80〜87×10-7/℃の
範囲にあることをほかの特徴とする。また、本発明によ
るガラス組成物は、前記成分以外に溶解性、清澄性、成
形性の改善及び着色等の目的として、成分原料中に含ま
れるか、人為的な添加により、P2O5、La2O3、TiO2 、Sn
O2、Fe2O3、CoO、NiO、NdO3等を各々0.5重量%以下の微
量で添加することができる。
【0014】
【発明の実施の形態】本発明によるガラス造成物を構成
する各々の成分について以下に説明する。本発明のプラ
ズマディスプレイパネル用の基板ガラス造成物は、板ガ
ラスの成形技術であるフロート工程の朱錫糟に適合しな
いZnOと、清澄剤として環境問題を惹起させるAs2O3及び
Fと、高価なSrOを基本的に含有しない。ここで、基本的
に含有しないとしているのは、BaOを供給する原料とし
て炭酸バリウムを使用することにより、付加的に添加さ
れるSrOの量(重量%で1%程度)を除外しては人為的
に添加されないという意味である。
【0015】SiO2は、ガラスの形成に関与する必須の酸
化物としてガラスの網目構造を安定させてくれる成分で
ある。SiO2は、ガラス造成物の中に56.0〜63重量%含有
しており、その含量が56.0重量%未満であれば、ガラス
の化学的な耐久性が低下して熱膨張係数が増加し、61.0
重量%を超過すると、熔融性が低下して液相温度が増加
する傾向がある。
【0016】Al2O3は、ガラスの失透を抑制し、膨張係
数を低くし、歪点を高めるために添加する成分である。
その含量が5.0重量%を超えると、熔融性が低下し、膨
張係数が急激に減少するので、1.0〜5.0重量%の範囲で
含有することが望ましい。Na2OとK2Oは、ガラスの熱膨
張係数と高温及び低温での粘度を調節するためにかなり
効果のある成分である。Na2Oは3.0〜7.0重量%の範囲で
含まれ、K2Oは3.0〜8.0重量%の範囲で含有することが
望ましい。また、Na2OとK2Oの総含量は8.0〜12.0重量%
を維持する。Na2OとK2Oの総含量が8.0重量%未満である
ときは、熔融性が低下し、12.0重量%を超える場合には
熱膨張係数が増加して歪点が減少する。
【0017】MgO、CaO 及びBaOは、高温でガラスの粘度
を低め、低温ではガラスの粘度を高める効果があり、熔
融性の向上及び歪点の増加を目的として投入する。しか
し、MgOとCaOの含量が過量であれば、相分離及び失透傾
向が増加するために、MgOは3.0〜5.0重量%、CaOは4.0
〜8.0重量%含有することが望ましい。出発原料として
低価額の天然原料であるドロマイト(CaCO3MgCO3) の使
用ができるように、CaOとMgOを、1:1の比率で添加
し、CaO/(MgO+CaO)のモル比が0.5になるようにす
る。BaOは7.0〜13重量%含有することが望ましい。Mg
O、CaO及びBaOの総含量は18.0〜23.0重量%が適当であ
る。
【0018】ZrO2はAl2O3と類似の役割をする。熱膨張
係数を低くし、またガラスの表面の硬度を高める効果も
あるが、多量添加のときには熔融性が低下し、ガラスの
高温粘度を増加させる。ZrO2は3.0〜8.0重量%の範囲で
添加することが望ましい。また、Sb2O3とSO3は熔融の時
に発生する気泡を除去するために、即ち清澄の目的とし
て使用する。Sb2O3とSO3の総含量は0.3〜0.5重量%の範
囲を維持することが望ましい。
【0019】本発明によるガラス造成物は、前記成分及
び組成からなるので、プラズマディスプレイパネル方式
によるディスプレイの基板ガラスの諸特性を向上させ
る。この時に、諸特性ということは、粘度が10000ポア
ズとなる成形温度は1200℃以下、液相温度は1100℃以
下、ガラスの成形生産性のために液相温度での粘度は20
000ポアズ以上、プラズマディスプレイパネルの製造工
程中に発生する基板の変形防止のための歪点は580〜610
℃、転移点は610℃以上、30〜350℃での熱膨張係数は80
〜87×10-7/℃であることをいう。
【0020】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明
すれば次の通りであるが、本発明が実施例により限定さ
れるものではない。 実施例1〜6 次の表2の組成比率によりバッチ当たり500gになるよう
に各成分原料を秤量し、V−ミキサーで混合した後、50
0ccの白金ルツボに入れて電気炉を利用して1450〜1550
℃で3時間にわたって熔融させた。これを100×100×20
mmの黒鉛型に入れて成形した後、電気炉で650℃で2時
間維持し、350℃まで温度を1分当たり5℃ずつ下降さ
せる方法により完全に除冷させてガラス造成物を製造し
た。
【0021】建築及び自動車用のソーダ石灰シリケート
系のフロート板ガラスは比較例1、米国特許第5,459,10
9号は比較例2、日本国公開特許平8-165138号と平8-133
778号の組成は各々の比較例3〜5と6〜7として次の
表3に示す。また、実施例及び比較例により製造した各
々のガラス造成物に対する歪点、除冷点、軟化点、熱膨
張係数、誘電常数、高温粘度、液相温度及び液相温度で
の粘度を測定して次の表2と表3に示す。ここで、10
14.5ポアズに相当する温度である歪点と1013ポアズに相
当する温度である除冷点は ASTM C336-71 の方法により
測定し、107.6ポアズに相当する温度である軟化点は AS
TM C338-73 と連関される米国特許第4,259,860号で提示
された方法で測定し、30〜350℃の間の熱膨張係数と10
13.3ポアズに相当する転移点は DIN 51045で提示された
方法により測定し、誘電常数は接触電極方法により測定
した。また、高温粘度は DIN 52312のローテーション法
により測定し、液相温度は ASTM C829-81 の方法により
測定した。
【0022】また、表2と表3で熔融温度というのは10
0ポアズに相当する温度を意味し、成形温度というのは
粘度の10000ポアズとなる温度を意味する。液相温度で
の粘度は、粘度の温度依存式、logη=A+B/(T−
0)を利用して計算した。ここで、ηは粘度、A、B
及びT0は常数、またTは温度(℃)である。
【0023】
【表2】
【0024】
【表3】
【0025】本発明による実施例1〜6のガラス造成物
に示す歪点と熱膨張係数は、プラズマ基板ガラスの特性
を充分に満足させると同時に粘度が10000ポアズとなる
成形温度は1200℃以下であり、液相温度は成形温度より
も低く、20000ポアズ以上の粘度を示し、フロート工法
に適合できる。特に、実施例4が一番望ましいものと判
断される。比較例4〜6において、熔融温度は実施例の
ものよりも全般的に高い温度を示すので、耐火物浸食に
よる熔融炉の寿命に大きい影響があろうと予想される。
また、比較例2、3及び7は熔融温度はかなり低いが、
液相温度は成形温度よりも高く、生産性はかなり低い。
特に、比較例7においてはZnOを添加して歪点、熱膨張
係数のようなガラスの特性がむしろ全般的に悪くなり、
プラズマ基板ガラスとしては適合しないことを示す。
【0026】
【発明の効果】本発明のプラズマディスプレイパネル用
の基板ガラス造成物は、液相温度が成形温度よりも低い
が、液相温度での粘度が高く、生産性が高く、一般のソ
ーダ石灰シリケート系のフロート板ガラスに比べて高歪
点及び低膨張性であり、ほかの基板ガラスと比較して高
価な化学原料を含有しないので、プラズマディスプレイ
パネル用の基板ガラスとして有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 リー チャン ジョン 大韓民国キュンキ−ド,スウオン,パルダ ル−ク,マエタン−4ドン,810−3,サ ムスン ザ ファースト アパート 1− 1502 (72)発明者 ジュン ヒュン ミン 大韓民国ソウル,クロ−ク,カエボン−2 ドン 311−10,ドンジン ビラ 102 (72)発明者 セオ キ チュル 大韓民国キュンキ−ド,スウオン,パルダ ル−ク,ウマン−ドン,469−2

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】プラズマディスプレイパネル用の基板ガラ
    ス造成物において、SiO2 56.0〜63重量%、Al2O3 1.0〜
    5.0重量%、Na2O 3.0〜7.0重量%、K2O 3.0〜8.0重量
    %、MgO 3.0〜5.0重量%、CaO 4.0〜8.0重量%、BaO 7.
    0〜13重量%、ZrO2 3.0〜8.0重量%、Sb2O3とSO3 の総
    含量 0.3〜0.5重量%からなることを特徴とするプラズ
    マディスプレイパネル用の基板ガラス造成物。
  2. 【請求項2】前記ガラス造成物は、粘度が10000ポアズ
    となる成形温度は1200℃以下、液相温度は1100℃以下、
    前記液相温度での粘度が20000ポアズ以上であることを
    特徴とする請求項1記載のプラズマディスプレイパネル
    用の基板ガラス造成物。
  3. 【請求項3】前記ガラス造成物は、歪点が580〜610℃、
    転移点が610℃以上、30〜350℃の間の熱膨張係数が80〜
    87×10-7/℃の範囲にあることを特徴とする請求項1ま
    たは2記載のプラズマディスプレイパネル用の基板ガラ
    ス造成物。
JP9348741A 1996-12-05 1997-12-04 プラズマディスプレイパネル用の基板ガラス造成物 Pending JPH10194771A (ja)

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