WO2005118499A1 - ディスプレイ装置用基板ガラス - Google Patents

ディスプレイ装置用基板ガラス Download PDF

Info

Publication number
WO2005118499A1
WO2005118499A1 PCT/JP2005/009355 JP2005009355W WO2005118499A1 WO 2005118499 A1 WO2005118499 A1 WO 2005118499A1 JP 2005009355 W JP2005009355 W JP 2005009355W WO 2005118499 A1 WO2005118499 A1 WO 2005118499A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
glass
substrate glass
panel display
strain point
display device
Prior art date
Application number
PCT/JP2005/009355
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Tatsuya Tsuzuki
Hiroshi Machishita
Original Assignee
Central Glass Company, Limited
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2004164311A external-priority patent/JP4391321B2/ja
Priority claimed from JP2004283139A external-priority patent/JP2006096594A/ja
Application filed by Central Glass Company, Limited filed Critical Central Glass Company, Limited
Publication of WO2005118499A1 publication Critical patent/WO2005118499A1/ja

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
    • C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
    • C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
    • C03C3/087—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal containing calcium oxide, e.g. common sheet or container glass
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J11/00—Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
    • H01J11/20—Constructional details
    • H01J11/34—Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates

Definitions

  • the present invention relates to a lightweight, high-strength glass composition having excellent heat resistance.
  • glass substrates that require the same coefficient of thermal expansion and high heat resistance as ordinary soda-lime silica glass, such as PDP (plasma display panel), EL (electroluminescence), and FED (field emission display)
  • PDP plasma display panel
  • EL electroluminescence
  • FED field emission display
  • the present invention relates to a glass composition suitable for an electronic display substrate.
  • PDP manufacturing field Nio, Te has a thermal expansion coefficient at room temperature ⁇ 300 ° C is 80 ⁇ 90 X 10- 7 Z ° C approximately as substrate glass, the strain point of about 510 to 520 ° C Soda Lime silica glass has been used. Soda-lime silica glass is widely used and is considered to be advantageous in that it can be easily procured at low cost.
  • the strain point is low, when performing various heat treatments for panel production, such as arranging electrode wire patterns on a glass substrate and forming an insulating coating with low-melting glass, the substrate glass may warp or shrink. Causes a problem that it is easy to deform
  • alkali lime-based glass similar to soda-lime silica glass has a thermal expansion coefficient similar to that of soda-lime silica glass, and has a strain point exceeding 550 ° C, or High strain point glass exceeding 600 ° C has been proposed (for example, Patent Documents 1 to 3). These glasses have a small thermal deformation and a good expansion matching with other members in the display panel manufacturing process.
  • Patent Document 1 Japanese Patent No. 2738036
  • Patent Document 2 Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-202641
  • Patent Document 3 JP-A-9-255354
  • the conventional high strain point glass has a slightly unique composition to the soda lime silica glass itself, and the density of the conventional high strain point glass is lower than that of the soda lime silica glass. 2. It is often more than 6. This not only has a problem that it is difficult to reduce the weight of the display device, but also causes a problem of bending due to the weight of the glass substrate. That is, the amount of deflection (W) of the glass substrate due to its own weight increases in proportion to the density (p) of the glass, as represented by equation (1). For this reason, when the size of the glass substrate is increased, the amount of deflection is further increased, which causes a problem such as breakage in the process of transporting and moving the substrate.
  • An object of the present invention is to solve these problems by providing a substrate gas having a linear expansion coefficient similar to that of soda lime silica glass, and having a low density at which the strain point and K are high.
  • a substrate glass for a flat panel display device containing 0.5 to 7 and having a strain point of 570 ° C or more.
  • the above-mentioned glass according to the present invention substantially has a SiO force of 3 to 69 and an Al 2 O content of% by weight.
  • a glass consisting of only 0 to 3 BaO and 0.5 to 7 ZrO may be used.
  • SiO is a main component of glass, and if it is less than 63% by weight, desired fracture toughness K And the heat resistance or chemical durability of the glass is degraded. On the other hand, if it exceeds 69%, the high-temperature viscosity of the glass melt becomes high, and glass molding becomes difficult. In addition, the coefficient of linear thermal expansion of the glass becomes too small, and the matching with other members constituting the display panel deteriorates. Therefore, it is in the range of 63 to 69%, preferably 64 to 68%.
  • Al O is a component that increases the strain point and the fracture toughness K, and is an essential component.
  • the range is 0.5 to 5%, preferably 1 to 4%.
  • Na O acts as a flux at the time of glass melting, and has a linear expansion coefficient of glass.
  • K O exhibits the same action and effect as Na O, and also has a mixed alkali effect with Na O.
  • the K 2 O content may be 14-17%, and even more preferably 15-17%.
  • This O content may be 14-17%, and even more preferably 15-17%.
  • the glass of the present invention is defined as a first glass.
  • the K O content is 8 ⁇
  • the glass of the invention may be defined as a second glass.
  • MgO can increase the fracture toughness K of glass and also increase the strain point.
  • CaO which is not an essential component, has the effect of lowering the viscosity of the molten glass when the glass is melted, and also has the effect of increasing the strain point of the glass. Therefore, it may be contained up to 7% or less. If it exceeds 7%, the hardness of the glass will increase and the fracture toughness K will decrease.
  • SrO and BaO are not essential components! /, But have the effect of reducing the high-temperature viscosity of the glass melt and suppressing the occurrence of devitrification in the presence of CaO. If it exceeds 3%, the coefficient of linear expansion becomes excessively large.
  • ZrO has the effect of increasing the strain point of glass and improving the chemical durability of glass.
  • B O is not an essential component! /, But has the effect of lowering the viscosity of molten glass during glass melting.
  • the strain point As well as having the effect of reducing the tendency to devitrify, it may be contained up to 5% or less. If it exceeds 5%, the strain point will be too low, so it is desirable to introduce it within the range of 5% or less.
  • Li O is not an essential component! /, But lowers the high temperature viscosity of glass and promotes melting of glass raw materials.
  • the glass according to the exemplary embodiment of the present invention is substantially effective only with the above components, but may contain other components up to 3% by weight in total within a range not impairing the object of the present invention.
  • TiO and CeO may be contained up to 1% each, and up to 1% in total.
  • the substrate glass may be warped or warped. Deformation such as shrinkage is liable to occur, which causes a problem.
  • the glass of the present invention may be in the range average linear thermal expansion coefficient at 30 ° C ⁇ 300 ° C is from 70 X 10 "V ° C in 90 X 10- 7 Z ° C. Outside of this range, the compatibility with other members constituting the display panel may be deteriorated.
  • the average linear thermal expansion coefficient at 30 ° C ⁇ 300 ° C is 86 X 10- 7 Z. C from 90 X 10- 7 Z. Range and C, further 87 X 10- 7 Z. C from 88 X 10- 7 Z. It may be within the range of C. Within the latter range, the average linear thermal expansion coefficient The number is generally equal to the average coefficient of linear thermal expansion of soda-lime silica glass produced by the float method.
  • the second glass of the present invention in a range flat Hitoshisen thermal expansion coefficient at 30 ° C ⁇ 300 ° C is from 70 X 10- 7 / ° C in 85 X 10- 7 / ° C Is also good.
  • the glass of the present invention may have a fracture toughness K of 0.7 MPa'm 1/2 or more. Breaking
  • the toughness K is less than 0.7 MPa'm 1/2, it is likely to break during the manufacturing process of the display device.
  • the glass of the present invention has a density of 2. may be less than 6gZcm 3.
  • the density is 2.
  • non-limiting examples 1 to 5 shown in Table 1 and the non-limiting examples 1 to 8 shown in Table 2 illustrate the first and second glasses of the present invention, respectively.
  • Comparative Examples 1 to 4 shown in Table 3 are in contrast thereto.
  • a platinum crucible is filled with a mixed raw material consisting of silica sand, aluminum oxide, sodium carbonate, sodium sulfate, potassium carbonate, magnesium oxide, calcium carbonate, strontium carbonate, barium carbonate and zirconium silicate, and placed in an electric furnace at 1500 to 1600. Heated at ° C for about 6 hours. During the heating and melting, the glass melt was stirred with a platinum rod to homogenize the glass. Next, the molten glass was poured into a mold, transferred to an electric furnace maintained at 600 to 700 ° C for slow cooling, cooled in the furnace, and subjected to Examples 1 to 5 of Table 1 and Table 2 of Table 2. Glasses having the compositions shown in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 4 in Table 3 were obtained. The obtained glass sample has no bubbles or stria! , It was uniform.
  • the strain point was measured by a beam bending method based on the provisions of JIS R3103-2.
  • the linear thermal expansion coefficient an average linear thermal expansion coefficient at 30 to 300 ° C. was measured using a thermomechanical analyzer TMA8310 (manufactured by Rigaku Corporation).
  • Fracture toughness is measured using a micro hardness meter DMH-2 (Matsuzawa Seiki ( (Manufactured by Co., Ltd.) and the fracture toughness test method of fine ceramics (indentation press-fitting method) described in JIS R 1607. The density was measured on glass without bubbles (about 50 g) by the Archimedes method.
  • the glass of Comparative Example 1 is soda lime silica glass.
  • the glasses of Comparative Examples 2 to 4 are conventional high strain point glasses. In the soda lime silica glass of Comparative Example 1, although the density was less than 2.6 and the fracture toughness ⁇ was 0.7 MPa'm 1/2 ,
  • the glasses of Examples 1 to 5 in Table 1 and Examples 1 to 8 in Table 2 have a sufficiently high strain point of 570 ° C or more and a density of less than 2.6.
  • the fracture toughness K is 0.75MPa'm 1/2
  • the glass of the present invention has a linear expansion coefficient equivalent to that of soda lime silica glass, has heat resistance equivalent to that of conventional high strain point glass, has low density and high fracture toughness. is there.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Abstract

　本発明は、重量％表示で、ＳｉＯ2を６３～６９、Ａｌ2Ｏ3を０．５～５、Ｎａ2Ｏを２～７、Ｋ2Ｏを８～１７、ＭｇＯを１０～１８、ＣａＯを０～７、ＳｒＯを０～３、ＢａＯを０～３、ＺｒＯ2を０．５～７含み、かつ歪点が５７０°C以上であるフラットパネルディスプレイ装置用基板ガラスに関する。

Description

明 細 書
ディスプレイ装置用基板ガラス
技術分野
[0001] 本発明は、耐熱性に優れ、軽量でかつ高強度のガラス組成物に関する。特に通常 のソーダライムシリカガラスと同程度の熱膨張係数と高い耐熱性が要求されるガラス 基板、例えば PDP (プラズマディスプレイパネル）や EL (エレクトロルミネセンス）、 FE D (フィールドェミッションディスプレイ)等の電子ディスプレイ用基板に好適なガラス 組成物に関する。
発明の背景
[0002] 従来、 PDP製造分野にぉ 、ては、基板ガラスとして常温〜 300°Cの熱膨張係数が 80〜90 X 10— 7Z°C程度、歪点が 510〜 520°C程度のソーダライムシリカガラスを 使用してきた。ソーダライムシリカガラスは多方面に利用され、低価格で容易に調達 できる点で有利とされている。しかし歪点が低いため、ガラス基板上に電極線パター ンを配し、更に低融点ガラスによる絶縁被覆を形成する等、パネル製作上各種熱処 理を施す際に、基板ガラスの反りや収縮などの変形を生じ易いという不具合が生じる
[0003] 上記不具合を解消するために、近年においてはソーダライムシリカガラスと同様な アルカリ石灰系ガラスで、熱膨張係数がソーダライムシリカガラスと近似し、歪点が 55 0°Cを越え、あるいは 600°Cを超えるような高歪点ガラスが提案されている（例えば特 許文献 1〜3)。これらのガラスは、ディスプレイパネルの製造工程において、熱変形 が少なぐまた他の部材との膨張の整合性も良い。
特許文献 1：特許第 2738036号公報
特許文献 2：特開平 9 - 202641号公報
特許文献 3：特開平 9 - 255354号公報
発明の概要
[0004] しかし、従来の高歪点ガラスは、成分組成自体ソーダライムシリカガラスに対しやや 特異な組成であって、従来の高歪点ガラスの密度はソーダライムシリカガラスに比べ て重ぐ 2. 6を越えるものが多い。これは、ディスプレイ装置の軽量ィ匕が困難になると いう問題がある上に、ガラス基板の自重によるたわみの問題も発生する。即ち、ガラス 基板の自重によるたわみ量 (W)は、式（1)で表されるように、ガラスの密度（ p )に比 例して増大する。そのためガラス基板が大型化するとたわみ量がより大きくなつて、基 板の搬送や移動の工程で破損などの不具合が起こる問題がある。
[0005] W=c ( p /E) (L4/t2) (1)
W:最大たわみ量、 L : 2辺支持間の距離、 t:板厚、 ：ガラスの密度、 E :ガラ スのヤング率、 c :定数
[0006] さらに、従来の高歪点ガラスはソーダライムシリカガラスに比べて脆いために、様々 な処理を施す際に割れやすい問題がある。一般的にガラスの割れは傷 (クラック)を 起点として起こる脆性破壊と考えられており、この破壊に対する抵抗性は破壊靭性（ K )と呼ばれる。従って、前記割れの問題を改善するためには K が高いガラスが必
IC IC
要である。
[0007] 本発明の目的は、これらの問題を解決するために、ソーダライムシリカガラスと同程度 の線膨張係数を有すると共に、歪点と K が高ぐ密度が低いことを特徴とする基板ガ
IC
ラスを提供すること〖こある。
[0008] 本発明に依れば、重量％表示で、 SiOを 63〜69、 Al Oを 0. 5〜5、 Na Oを 2〜7
2 2 3 2
、 K Oを 8〜17、 MgOを 10〜18、 CaOを 0〜7、 SrOを 0〜3、 BaOを 0〜3、 ZrOを
2 2
0. 5〜7含み、かつ歪点が 570°C以上であるフラットパネルディスプレイ装置用基板 ガラスが提供される。
詳細な説明
[0009] 本発明によれば、通常のソーダライムシリカガラスと同程度の熱膨張係数を有し、密 度が低ぐかつ破壊靱性 K が高い高歪点ガラスを提供でき、これは PDP、 ELおよ
ic
び FEDなどの電子ディスプレイ用ガラス基板として極めて好適である。
[0010] 本発明に依る上記のガラスは、実質的に、重量％表示で、 SiO力 3〜69、 Al Oが
2 2 3
0. 5〜5、 Na Oカ 2〜7、 K Oカ 8〜17、 MgO力 10〜18、 CaO力 0〜7、 SrOカ^)〜
2 2
3、 BaOが 0〜3、 ZrOが 0· 5〜7のみからなるガラスであってもよい。
2
[0011] SiOはガラスの主成分であり、重量％において 63%未満では所望の破壊靱性 K が得られない上に、ガラスの耐熱性または化学耐久性を悪ィ匕させる。他方、 69%を 超えるとガラス融液の高温粘度が高くなり、ガラス成形が困難となる。また、ガラスの 線熱膨張係数が小さくなり過ぎて、ディスプレイパネルを構成する他の部材との整合 性が悪くなる。従って 63〜69%、好ましくは 64〜68%の範囲とする。
[0012] Al Oは、歪点並びに破壊靱性 K を高くする成分であり、必須成分である。重量％
2 3 IC
において 0. 5%未満ではガラスの歪点並びに破壊靱性 K が低下し、他方 5%を超
IC
えるとガラス融液の高温粘度が高くなる上に、失透傾向が増大するためガラス成形が 困難になる。従って 0. 5〜5%、好適には 1〜4%の範囲がよい。
[0013] Na Oは、 K Oとともにガラス溶解時の融剤として作用し、またガラスの線膨張係数
2 2
を適度な大きさに維持するうえで不可欠である。 2%未満であると融剤としての効果 が不十分であり、また線膨張係数が低くなり過ぎる。 7%を超えると歪点が低下し過ぎ る。従って 2〜7%、好ましくは 3〜6%の範囲とする。
[0014] K Oは、 Na Oと同様の作用効果を示すと共に、 Na Oとの混合アルカリ効果により
2 2 2
アルカリイオンの移動を抑制し、ガラスの体積抵抗率を高める必須成分である。 8% 未満であるとそれらの作用が不十分であり、 17%を超えると線膨張係数が過大となり 、また歪点も低下し過ぎる。
[0015] K O含有量は 14〜17%、さらに 15〜17%であってもよい。この O含有量の場合
2 2
、本発明のガラスを第 1ガラスと定義することがある。これに対して、 K O含有量は 8〜
2
15%、さらに 8〜14%、さらに 10〜13%であってもよい。この O含有量の場合、本
2
発明のガラスを第 2ガラスと定義することがある。
[0016] MgOは、ガラスの破壊靭性 K を増大させると共に、歪点も上昇させることができる
IC
必須成分である。 10%未満ではそれらの作用が不十分である。他方 18%を超えると 失透傾向が大きくなるため、ガラスの成形が困難になる。従って 10〜18%、好ましく は 10. 5〜16%の範囲とする。
[0017] CaOは、必須成分ではな!/、が、ガラス溶解時の溶融ガラスの粘度を下げる作用を 有すると共に、ガラスの歪点を上昇させる作用を有する。従って 7%以下まで含有し てもよい。 7%を超えるとガラスの硬度を上昇させ破壊靭性 K を低下させるので、望
IC
ましくは 7%以下の範囲で導入する。 [0018] SrOと BaOは、必須成分ではな!/、が、 CaOとの共存下でガラス融液の高温粘度を 下げて失透の発生を抑制する作用を有する。 3%を超えると線膨張係数が過大とな るので、それぞれ 3%以下の範囲が望ましい。
[0019] ZrOは、ガラスの歪点を上昇させ、ガラスの化学的耐久性を向上させる効果を有す
2
る必須成分で、 0. 5%以上含有させることが好ましい。 7%を超えると密度が上昇し、 所望の値が維持できなくなる。従って 0. 5〜7%、好ましくは 1〜6%の範囲とする。
[0020] B Oは、必須成分ではな!/、が、ガラス溶解時の溶融ガラスの粘度を低くする作用を
2 3
有すると共に、失透傾向を小さくする作用を有するために 5%以下まで含有してもよ い。 5%を超えると歪点が低くなり過ぎるので、 5%以下の範囲で導入するのが望まし い。
[0021] Li Oは、必須成分ではな!/、が、ガラスの高温粘度を下げ、ガラス原料の溶融を促
2
進する。ただし、 3%を超えて含有させると歪点を低下し過ぎるので、 3%以下の範囲 で導入するのが望ましい。
[0022] 本発明の例示的な態様によるガラスは実質的に上記成分のみ力 なるが、本発明 の目的を損なわない範囲で他の成分を重量％表示で合量で 3%まで含有してもよい 。たとえば、ガラスの溶解、清澄、成形性の改善のために SO、 Cl、 F、 As O等を合
3 2 3 量で 1%まで含有してもよい。また、ガラスを着色するために Fe O、 CoO、 NiO等を
2 3
合量で 1%まで含有してもよい。さらに、 PDPにおける電子線ブラウニング防止等の ために TiOおよび CeOをそれぞれ 1%まで、合量で 1%まで含有してもよい。
2 2
[0023] 歪点が 570°C未満では、ガラス基板上に電極線パターンを配し、更に低融点ガラス による絶縁被覆を形成する等、パネル製作上各種熱処理を施す際に、基板ガラスの 反りや収縮などの変形を生じ易 、と 、う不具合が生じる。
[0024] また、本発明のガラスは、 30°C〜300°Cにおける平均線熱膨張係数が 70 X 10"V °Cから 90 X 10— 7Z°Cの範囲内であってもよい。この範囲を外れるとディスプレイパネ ルを構成する他の部材との整合性が悪くなることがある。
[0025] さらに、本発明の第 1ガラスでは、 30°C〜300°Cにおける平均線熱膨張係数が 86 X 10— 7Z。Cから 90 X 10— 7Z。Cの範囲内、さらに 87 X 10— 7Z。Cから 88 X 10— 7Z。Cの範 囲内であってもよい。これらの範囲の内、後者の範囲内であれば、平均線熱膨張係 数が一般的にフロート法で作成されるソーダライムシリカガラスの平均線熱膨張係数 とほぼ等しくなる。これに対して、本発明の第 2ガラスでは、 30°C〜300°Cにおける平 均線熱膨張係数が 70 X 10— 7/°Cから 85 X 10— 7/°Cの範囲内であってもよい。
[0026] さらに、本発明のガラスは、破壊靭性 K が 0. 7MPa'm1/2以上であってもよい。破
IC
壊靭性 K が 0. 7MPa'm1/2未満では、ディスプレイ装置の製造工程中で割れやす
IC
Vヽと 、う問題が出てくる力もしれな 、。
[0027] さらにまた、本発明のガラスは、密度が 2. 6gZcm3未満であってもよい。密度が 2.
6g/cm3以上であると、一般的なソーダライムシリカガラスよりも大きな値となり、ディ スプレイ装置が大型化した場合にガラス基板の自重による変形や割れなどの不具合 を生じる力もしれない。
[0028] 以下において、表 1に示される非限定的実施例 1〜5及び表 2に示される非限定的 実施例 1〜8はそれぞれ本発明の第 1及び第 2ガラスを例証するものである。これに 対して、表 3に示される比較例 1〜4はそれらと対照をなすものである。
(実施例 1〜5、実施例 1〜8及び比較例 1〜4)
[0029] (ガラスの作成）
珪砂、酸ィ匕アルミニウム、炭酸ナトリウム、硫酸ナトリウム、炭酸カリウム、酸化マグネ シゥム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム、炭酸バリウムおよび珪酸ジルコニウムよ りなる調合原料を白金ルツボに充填し、電気炉内で 1500〜1600°C、約 6時間加熱 溶融した。加熱溶融の途中で白金棒によりガラス融液を攪拌してガラスを均質化させ た。次に、溶融ガラスを铸型に流し込み、徐冷するために 600〜700°Cに保持した電 気炉に移入して該炉内で冷却し、表 1の実施例 1〜5、表 2の実施例 1〜8及び表 3の 比較例 1〜4に示す組成のガラスを得た。得られたガラス試料は泡や脈理の無！、均 質なものであった。
[0030] これらのガラスについて、歪点 (°C)、平均線熱膨張係数（10— 7Z°C)、破壊靱性 K
IC
(MPa-m1 2)および密度 (g/cm3)を以下の方法により測定した。
[0031] 歪点は、 JIS R3103— 2の規定に基づくビーム曲げ法により測定した。線熱膨張 係数は、熱機械分析装置 TMA8310 (理学電機 (株)製)を用いて 30〜300°Cにお ける平均線熱膨張係数を測定した。破壊靱性は、微小硬度計 DMH— 2 (松沢精機（ 株)製)を用いて、 JIS R 1607に記載のファインセラミックスの破壊靱性試験方法 ( 圧子圧入法）により算出した。密度は、泡のないガラス (約 50g)についてアルキメデ ス法により測定した。
破膨歪密
[0032] [表 1] 度壊張点
靱係
性数
S"例 1 2 3 4 5
Si02 66.0 64.5 64.5 64.0 63.0
Al203 I.0 2.0 3.0 3.5 4.0
NazO 4.0 4.0 4.0 3.5 5.0 κ2ο 15.5 15.5 15.5 16.5 14.0
MgO I I.0 1 1.5 10.5 10.0 10.0
CaO 0.5
SrO 0.5 1.0
BaO 5
ZrOz 2.5 2.5 2.0 2.0 3.0
570 573 570 n i
4 572 570
2.491 2.496 2.485 2.483 2.512
0.767 0.775 0.797 0.805 0.784
S
88 86 86 87 87 8 o 6
[0033] [表 2]
~実施例 Ϊ 2 3 4 5 6 7 8
Figure imgf000007_0001
歪点 593 606 601 606
密产 2.51 2.535 2.563 2.587 2.569 2.537 2.548 2.505 破 ί靱性 K1C 0.87 0.B38 0.834 0.774 0.806 0.819 0.819 0.875 膨張係数 85 76 79 72 79 76 71 77
[0034] [表 3] Έ 1 2 3 4 破膨歪密 Si02 70.9 54.6 55.5
Al2度壊張点03 2.0 8.7 6.6
NazO靱 13.6 4.5 5.1
κ2ο 性数 0.8 8.2 6.4
MgO K
c 3.6 2.9 1.2
CaO 9.1 7.4 2.2
SrO 9.3
BaO 9.9 9.0
ZrOz 3.8 4.7
507 583 580
2.514 2.741 2.843
0.73 0.65 0.67
87 85 83
[0035] (結果）
表 1中の実施例 1〜5のガラス及び表 2中の実施例 1〜8のガラスはそれぞれ本発
S00440963
明の第 1及び第 2ガラスに対応する。比較例 1のガラスはソーダライムシリカガラスであ る。比較例 2〜4のガラスは従来の高歪点ガラスである。比較例 1のソーダライムシリカ ガラスにおいては、密度が 2. 6未満で、破壊靭性 Κ が 0. 7MPa'm1/2であるものの
IC
、歪点が比較例 2〜4の高歪点ガラスに較べて著しく低いことを現している。一方、比 較例 2〜4の高歪点ガラスは、歪点は 580°C以上と高いものの、密度が 2. 6を越えて いることさらに破壊靭性 K が 0. 7MPa'mV2未満であることを現している。
IC
[0036] これらに対して表 1中の実施例 1〜5及び表 2中の実施例 1〜8のガラスは、歪点が 570°C以上と十分高い上に、密度は 2. 6未満で、破壊靭性 K が 0. 75MPa'm1/2を
IC
超えており、 0. 7MPa'm1/2以上を十分満たしている。従って、本願発明のガラスは、 ソーダライムシリカガラスと同等の線膨張係数を有し、従来の高歪点ガラスと同等の 耐熱性を有する上に、低密度で、破壊靭性も高いことが明白である。

Claims

請求の範囲
[1] 重量0 /0表示で、 SiOを 63〜69、 Al Oを 0. 5〜5、 Na Oを 2〜7、 K Oを 8〜17、 M
2 2 3 2 2
gOを 10〜18、 CaOを 0〜7、 SrOを 0〜3、 BaOを 0〜3、 ZrOを 0. 5〜7含み、か
2
つ歪点が 570°C以上であるフラットパネルディスプレイ装置用基板ガラス。
[2] 実質的に、重量％表示で、 SiO力 3〜69、 Al Oが 0. 5〜5、 Na Oが 2〜7、 K O
2 2 3 2 2 力 ^8〜17、 MgO力 10〜18、 CaO力 S0〜7、 SrO力 0〜3、： BaO力 0〜3、 ZrOが 0. 5
2
〜7のみ力 なる請求項 1に記載のフラットパネルディスプレイ装置用基板ガラス。
[3] K Oを 14〜17重量％含む請求項 1または 2に記載のフラットパネルディスプレイ装置
2
用基板ガラス。
[4] K Oを 8〜15重量％含む請求項 1または 2に記載のフラットパネルディスプレイ装置
2
用基板ガラス。
[5] 30°C〜300°Cにおける平均線熱膨張係数が 70 X 10— 7Z°C〜90 X 10— 7Z°Cである ことを特徴とする請求項 1または 2に記載のフラットパネルディスプレイ装置用基板ガ ラス。
[6] 30°C〜300°Cにおける平均線熱膨張係数が 86 X 10— 7Z°C〜90 X 10— 7Z°Cである ことを特徴とする請求項 3に記載のフラットパネルディスプレイ装置用基板ガラス。
[7] 30°C〜300°Cにおける平均線熱膨張係数が 70 X 10— 7Z°C〜85 X 10— 7Z°Cである ことを特徴とする請求項 4に記載のフラットパネルディスプレイ装置用基板ガラス。
[8] 破壊靭性 K が 0. 7MPa'm1/2以上であることを特徴とする請求項 1乃至 7のいずれ
IC
かに記載のフラットパネルディスプレイ装置用基板ガラス。
[9] 密度が 2. 6gZcm3未満であることを特徴とする請求項 1乃至 8のいずれかに記載の フラットパネルディスプレイ装置用基板ガラス。
PCT/JP2005/009355 2004-06-02 2005-05-23 ディスプレイ装置用基板ガラス WO2005118499A1 (ja)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004164311A JP4391321B2 (ja) 2004-06-02 2004-06-02 ディスプレイ装置用基板ガラス
JP2004-164311 2004-06-02
JP2004-283139 2004-09-29
JP2004283139A JP2006096594A (ja) 2004-09-29 2004-09-29 ディスプレイ装置用基板ガラス

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2005118499A1 true WO2005118499A1 (ja) 2005-12-15

Family

ID=35462854

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2005/009355 WO2005118499A1 (ja) 2004-06-02 2005-05-23 ディスプレイ装置用基板ガラス

Country Status (3)

Country Link
KR (1) KR100802521B1 (ja)
TW (1) TWI279396B (ja)
WO (1) WO2005118499A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2206691A1 (en) * 2007-11-06 2010-07-14 Asahi Glass Company, Limited Glass plate for substrate
EP2233445A1 (en) * 2007-12-26 2010-09-29 Central Glass Company, Limited Glass composition

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6870195B2 (ja) 2016-12-21 2021-05-12 エルジー・ケム・リミテッド 曲面接合ガラスの製造方法および曲面接合ガラス

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004035295A (ja) * 2002-07-01 2004-02-05 Nippon Electric Glass Co Ltd フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板
JP2004051473A (ja) * 2002-05-29 2004-02-19 Nippon Electric Glass Co Ltd フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004051473A (ja) * 2002-05-29 2004-02-19 Nippon Electric Glass Co Ltd フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板
JP2004035295A (ja) * 2002-07-01 2004-02-05 Nippon Electric Glass Co Ltd フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2206691A1 (en) * 2007-11-06 2010-07-14 Asahi Glass Company, Limited Glass plate for substrate
EP2206691A4 (en) * 2007-11-06 2010-12-29 Asahi Glass Co Ltd GLASS PLATE FOR SUBSTRATE
US7951734B2 (en) 2007-11-06 2011-05-31 Asahi Glass Company, Limited Glass plate for substrate
EP2233445A1 (en) * 2007-12-26 2010-09-29 Central Glass Company, Limited Glass composition
EP2233445A4 (en) * 2007-12-26 2014-01-01 Central Glass Co Ltd GLASS COMPOSITION

Also Published As

Publication number Publication date
TWI279396B (en) 2007-04-21
TW200609194A (en) 2006-03-16
KR100802521B1 (ko) 2008-02-12
KR20070009991A (ko) 2007-01-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5751439B2 (ja) 無アルカリガラス
JPWO2009054419A1 (ja) 基板用ガラス組成物およびその製造方法
JP4790300B2 (ja) ガラス
JP2001064034A (ja) ディスプレイ用ガラス基板
JPH11310433A (ja) 表示装置用基板ガラス
KR101212910B1 (ko) 유리 조성물
JP5013304B2 (ja) ディスプレイ用ガラス基板
CN1964926A (zh) 显示装置用基板玻璃
WO2006080292A1 (ja) ディスプレイ装置用基板ガラス
JP2007284307A (ja) ディスプレイ装置用基板ガラス
WO2005118499A1 (ja) ディスプレイ装置用基板ガラス
JP2005324992A (ja) ディスプレイ装置用基板ガラス
JP4183697B2 (ja) 表示装置用基板ガラスの製法
JP2006131482A (ja) ディスプレイ装置用基板ガラス
JP2005281101A (ja) ディスプレイ装置用基板ガラス
JP5092564B2 (ja) ディスプレイ装置用基板ガラス
JP5018141B2 (ja) ディスプレイ装置用基板ガラス
JP5382609B2 (ja) ガラス基板
JP2006143523A (ja) ディスプレイ装置用基板ガラス
JP4807024B2 (ja) ディスプレイ装置用基板ガラス
JPH10194771A (ja) プラズマディスプレイパネル用の基板ガラス造成物
JP5018279B2 (ja) ディスプレイ装置用基板ガラス
JP4972946B2 (ja) ディスプレイ装置用基板ガラス
JP2006096594A (ja) ディスプレイ装置用基板ガラス
JP2004277222A (ja) フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板

Legal Events

Date Code Title Description
AK Designated states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AE AG AL AM AT AU AZ BA BB BG BR BW BY BZ CA CH CN CO CR CU CZ DE DK DM DZ EC EE EG ES FI GB GD GE GH GM HR HU ID IL IN IS KE KG KM KP KR KZ LC LK LR LS LT LU LV MA MD MG MK MN MW MX MZ NA NG NI NO NZ OM PG PH PL PT RO RU SC SD SE SG SK SL SM SY TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VC VN YU ZA ZM ZW

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): BW GH GM KE LS MW MZ NA SD SL SZ TZ UG ZM ZW AM AZ BY KG KZ MD RU TJ TM AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IS IT LT LU MC NL PL PT RO SE SI SK TR BF BJ CF CG CI CM GA GN GQ GW ML MR NE SN TD TG

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
DPEN Request for preliminary examination filed prior to expiration of 19th month from priority date (pct application filed from 20040101)
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 1020067016992

Country of ref document: KR

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 200580007551.X

Country of ref document: CN

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

WWW Wipo information: withdrawn in national office

Country of ref document: DE

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 1020067016992

Country of ref document: KR

122 Ep: pct application non-entry in european phase