KR20070009991A - 디스플레이 장치용 기판 유리 - Google Patents

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KR20070009991A
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Abstract

본 발명은, SiO2를 63∼69, AI2O3를 0.5∼5, Na2O를 2∼7, K2O를 8∼17, MgO를 10∼18, CaO를 0∼7, SrO를 0∼3, BaO를 0∼3, ZrO2를 0.5∼7 중량% 포함하고, 또한 왜점이 570℃이상인 플랫 패널 디스플레이 장치용 기판 유리에 관한 것이다.
왜점, 디스플레이장치, 기판 유리

Description

디스플레이 장치용 기판 유리{SUBSTRATE GLASS FOR DISPLAY DEVICE}
본 발명은 내열성이 우수하며 경량이고 또한 고강도의 유리 조성물에 관한 것이다. 특히 통상적인 소다 라임 실리카 유리와 동일한 정도의 열팽창 계수와 높은 내열성이 요구되는 유리 기판, 예를 들면 PDP(플라즈마 디스플레이 패널)나 EL(일렉트로루미네슨스), FED(필드 에미션 디스플레이)등의 전자 디스플레이용 기판에 매우 적합한 유리 조성물에 관한 것이다.
종래, PDP 제조 분야에 있어서는, 기판 유리로서 상온∼300℃의 열팽창 계수가 80∼90×10-7/℃정도, 왜점이 510∼520℃정도의 소다 라임 실리카 유리를 사용해 왔다. 소다 라임 실리카 유리는 다방면으로 이용되어 저가로 용이하게 조달할 수 있는 점에서 유리하다. 그러나 왜점이 낮기 때문에 유리 기판상에 전극선 패턴을 배치하고, 또한 저융점 유리에 의한 절연 피복을 형성하는 등, 패널 제작상 각종 열처리를 할 때에, 기판 유리의 휘어짐이나 수축 등의 변형이 쉽게 발생한다고 하는 단점이 있다.
상기 단점을 해소하기 위하여, 근래에는 소다 라임 실리카 유리와 같은 알칼리 석회계 유리로, 열팽창 계수가 소다 라임 실리카 유리와 근사하고, 왜점이 550 ℃을 넘고 또한 600℃을 넘을 수 있는 고왜점 유리가 제안되어 있다(예를 들면 특허 문헌 1∼3). 이들 유리는 디스플레이 패널의 제조 공정에서 열변형이 적고, 또한 다른 부재와의 팽창의 정합성도 좋다.
특허 문헌1 : 일본국 특허 제 2738036호 공보
특허 문헌2 : 일본국 특개평 9-202641호 공보
특허 문헌3 : 일본국 특개평 9-255354호 공보
그러나, 종래의 고왜점 유리는 성분 조성 자체가 소다 라임 실리카 유리에 비하여 약간 특이한 조성이고, 종래의 고왜점 유리의 밀도는 소다 라임 실리카 유리에 비해 크고, 2.6을 넘는 것이 많다. 이것은 디스플레이 장치의 경량화를 어렵게 하는 문제가 있을 뿐만 아니라, 유리 기판의 자체 중량에 의한 굴곡의 문제도 발생한다. 즉 유리 기판의 자체 중량에 의한 굴곡량(W)은, 식(1)에서 나타나듯이, 유리의 밀도(ρ) 에 비례하여 증대한다. 그러므로 유리 기판이 대형화되면 굴곡량이 매우 커지고, 기판의 반송이나 이동 공정에서 파손 등의 문제가 발생한다.
W=c(ρ/E)(L4/t2) (1)
W : 최대 굴곡량, L : 2변 지지간의 거리, t : 판 두께, ρ: 유리의 밀도, E : 유리의 영 탄성률(Young's modulus:영률), c : 정수
또한 종래의 고왜점 유리는 소다 라임 실리카 유리에 비하여 저항력이 약하기 때문에, 여러 가지 처리를 할 때에 쉽게 부서지는 문제가 있었다. 일반적으로 유리의 파열은 상처(크랙)를 기점으로 일어나는 취성(brittleness) 파괴라고 생각 되고, 이 파괴에 대한 저항성은 파괴 인성(KIC)이라고 불린다. 따라서, 상기 파열의 문제를 개선하기 위해서는 KIC가 높은 유리가 필요하다.
본 발명의 목적은, 이러한 문제를 해결하기 위해서 소다 라임 실리카 유리와 동일한 정도의 선팽창 계수를 가짐과 동시에 왜점과 KIC가 높고, 밀도가 낮은 것을 특징으로 하는 기판 유리를 제공하는 것에 있다.
본 발명에 의하면 SiO2를 63∼69, Al2O3를 0.5∼5, Na2O를 2∼7, K20를 8∼17, MgO를 10∼18, CaO를 0∼7, srO를 0∼3, BaO를 0∼3, Zr02를 0.5∼7 중량% 포함하고, 또한 왜점이 570℃이상인 플랫 패널 디스플레이 장치용 기판 유리가 제공된다.
본 발명에 의하면 상기 유리는, 실질적으로 SiO2가 63∼69, Al2O3가 0.5∼5, Na2O가 2∼7, K2O가 8∼17, MgO가 10∼18, CaO가 0∼7, SrO가 0∼3, BaO가 0∼3, ZrO2가 0.5∼7 중량% 만으로 이루어진 유리여도 된다.
Si02는 유리의 주성분이고, 중량%가 63%미만에서는 원하는 파괴 인성 KIC를 얻을 수 없을 뿐만 아니라 유리의 내열성 또는 화학 내구성을 악화시킨다. 한편 69%를 넘으면 유리 융액의 고온 점도가 높아져, 유리 성형이 어려워진다. 또한 유리의 선 열팽창 계수가 너무 작아져, 디스플레이 패널을 구성하는 다른 부재와의 정합성이 나빠진다. 따라서 63∼69%, 바람직하게는 64∼68%의 범위로 한다.
Al2O3는 왜점 및 파괴 인성KIC을 높게 하는 성분이며 필수 성분이다. 중량%가 0.5%미만에서는 유리의 왜점 및 파괴 인성KIC이 저하되고, 한편 5%를 넘으면 유리융액의 고온 점도가 높아질 뿐만 아니라, 불투명성이 증대하기 때문에 유리 성형이 어려워 진다. 따라서 0.5∼5%, 매우 적합하게는 1∼4%의 범위가 좋다.
Na2O는 K2O와 함께 유리 용해시의 융제로서 작용하고, 또한 유리의 선 팽창 계수를 적당한 크기로 유지하는데 불가결하다. 2%미만이면 융제로서의 효과가 불충분하고, 또한 선팽창 계수가 너무 낮아진다. 7%를 넘으면 왜점이 너무 저하된다. 따라서 2∼7%, 바람직하게는 3∼6%의 범위로 한다.
K2O는, Na2O와 같은 작용 효과를 나타냄과 동시에, Na2O와의 혼합 알칼리 효과에 의해 알칼리 이온의 이동을 억제하고, 유리의 체적 저항율을 높이는 필수 성분이다. 8%미만이면 이러한 작용에 불충분하고, 17%를 넘으면 선 팽창 계수가 너무 커지게 되고, 또한 왜점도 매우 저하된다.
K20 함유량은 14∼17%, 또는 15∼17%여도 된다. 이 K20 함유량인 경우 본 발명의 유리를 제 1 유리라고 정의한다. 이것에 비하여 K20 함유량은 8∼15%, 또는 8∼14%, 또는 10∼13%여도 된다. 이 K2O 함유량인 경우 본 발명의 유리를 제 2 유리라고 정의한다.
MgO는 유리의 파괴 인성 KIC을 증대시킴과 동시에, 왜점도 상승시킬 수 있는 필수 성분이다. 10% 미만에서는 이러한 작용이 불충분하다. 한편 18%를 넘으면 불투명성이 커지기 때문에, 유리의 성형이 어렵게 된다. 따라서 10∼18%, 바람직하게는 10.5∼16%의 범위로 한다.
CaO는 필수 성분은 아니지만, 유리 용해시의 용융 유리의 점도를 낮추는 작용을 갖음과 동시에, 유리의 왜점을 상승시키는 작용을 갖는다. 따라서 7%이하까지 함유해도 된다. 7%를 넘으면 유리의 경도를 상승시켜 파괴 인성KIC을 저하시키므로, 바람직하게는 7%이하의 범위에서 도입한다.
SrO와 BaO는 필수 성분은 아니지만, CaO와의 공존하에서 유리 융액의 고온 점도를 낮추고 불투명성 발생을 억제하는 작용을 갖는다. 3%를 넘으면 선 팽창 계수가 너무 커지므로, 각각 3% 이하의 범위로 하는 것이 바람직하다.
ZrO2는, 유리의 왜점을 상승시켜, 유리의 화학적 내구성을 향상시키는 효과를 갖는 필수 성분으로, 0.5%이상 함유시키는 것이 바람직하다. 7%를 넘으면 밀도가 상승하여, 원하는 값을 유지할 수 없게 된다. 따라서 0.5∼7%, 바람직하게는 1∼6% 범위로 한다.
B2O3는 필수 성분은 아니지만, 유리 용해시의 용융 유리의 점도를 낮게 하는 작용을 가짐과 동시에, 불투명해지는 경향을 줄이는 작용을 가지므로 5% 이하까지 함유해도 된다. 5%를 넘으면 왜점이 너무 낮아지므로, 5% 이하의 범위에서 도입하는 것이 바람직하다.
Li2O는 필수 성분은 아니지만, 유리의 고온 점도를 낮추고, 유리 원료의 용융을 촉진한다. 다만 3%를 넘게 함유시키면 왜점이 너무 저하되므로 3%이하의 범위에서 도입하는 것이 바람직하다.
본 발명의 일실시예에 따른 유리는 실질적으로 상기 성분만으로 이루어지는데, 본 발명의 목적을 해하지 않는 범위에서 다른 성분을 중량% 표시로 총량에서 3%까지 함유해도 된다. 예를 들면 유리의 용해, 투명도, 성형성의 개선을 위해서 S03, Cl, F, As203 등을 총량으로 1%까지 함유해도 된다. 또한 유리를 착색하기 위하여 Fe203, CoO, NiO 등을 총량에서 1%까지 함유해도 된다. 또한 PDP에 있어서의 전자선 브라우닝 방지 등을 위하여 TiO2 및 CeO2를 각각 1%까지, 총량으로 1%까지 함유해도 된다.
왜점이 570℃미만에서는, 유리 기판상에 전극선 패턴을 배치하고, 또한 저융점 유리에 의한 절연 피복을 형성하는 등, 패널 제작상 각종 열처리를 할 때, 기판 유리의 휘어짐이나 수축 등의 변형이 쉽게 일어난다고 하는 문제가 생긴다.
또한 본 발명의 유리는 30℃∼300℃에서의 평균 선열팽창 계수가 70×10-7/℃에서 90×10-7/℃의 범위 내이어도 된다. 이 범위를 벗어나면 디스플레이 패널을 구성하는 다른 부재와의 정합성이 나빠지는 일이 있다.
또한 본 발명의 제 1 유리에서는 30℃∼300℃에 있어서의 평균 선열팽창 계수가 86×10-7/℃에서 90×10-7/℃의 범위 내, 또한 87×10-7/℃에서 88×10-7/℃의 범위 내이어도 된다. 이러한 범위 중, 후자의 범위 내이라면, 평균 선열팽창 계수가 일반적으로 플로트법으로 제작되는 소다 라임 실리카 유리의 평균 선열팽창 계수와 거의 같아진다. 이것에 비하여 본 발명의 제 2 유리에서는, 30℃∼300℃에 있어서의 평균선열팽창 계수가 70×10-7/℃에서 85×10-7/℃의 범위 내이어도 된다.
또한 본 발명의 유리는 파괴 인성 KIC이 0.7 Mpa·m1/ 2이상이어도 된다. 파괴 인성 KIC이 0.7 MPa·ml /2 미만에서는, 디스플레이 장치의 제조 공정 중에서 쉽게 부서진다고 하는 문제가 생길 수도 있다.
또한 본 발명의 유리는 밀도가 2.6g/㎤ 미만이어도 된다. 밀도가 2.6g/㎤ 이상이면, 일반적인 소다 라임 실리카 유리보다 큰 값이 되어, 디스플레이 장치가 대형화됐을 경우에 유리 기판의 자체 중량에 의한 변형이나 부서짐 등의 문제가 생길 수도 있다.
이하에 있어서, 표 1에 나타낸 비한정적 실시예 1∼5 및 표 2에 나타낸 비한정적 실시예 1∼8은 각각 본 발명의 제 1 및 제 2 유리를 예증하는 것이다. 이것에 비하여, 표 3에 나타낸 비교예 1∼4는 그것들과 대조를 이루는 것이다.
(실시예 1∼5, 실시예 1∼8 및 비교예 1∼4)
(유리의 제조)
규사, 산화 알류미늄, 탄산나트륨, 황산나트륨, 탄산칼륨, 산화 마그네슘, 탄산 칼슘, 탄산 스토론튬, 탄산발륨 및 규산 지르코늄으로 이루어진 조합 원료를 백금 도가니에 충전하여, 전기로내에서 1500∼1600℃, 약 6시간 가열 용융했다. 가 열 용융 도중에 백금 봉으로 유리 융액을 교반하여 유리를 균질화시켰다. 이어서 용융 유리를 주형(鑄型)에 흘려 넣고, 서서히 식히기 위하여 600∼700℃로 유지한 전기로에 이입하고, 상기 로내에서 냉각하고, 표 1의 실시예 1∼5, 표 2의 실시예 1∼8 및 표 3의 비교예 1∼4에 나타낸 조성의 유리를 얻었다. 얻어진 유리 시료는 거품이나 맥리(脈理)가 없는 균질인 것이었다.
이러한 유리에 있어서, 왜점(℃), 평균 선열팽창 계수(10-7/℃), 파괴 인성 KIC(MPa·m1/2) 및 밀도(g/㎤)를 이하의 방법으로 측정했다.
왜점은, JIS R3103-2의 규정에 근거하는 빔밴딩(Beam Bending)법에 의해 측정했다. 선열팽창 계수는, 열기계 분석 장치 TMA 8310(리가쿠덴끼(주) 제품)를 이용하여 30∼300℃에서의 평균선열팽창 계수를 측정했다. 파괴 인성은 미소경도계 DMH-2(마츠자와 세이미츠 기카이(주) 제품)를 이용하여, JIS R 1607에 기재된 파인 세라믹스의 파괴 인성 시험 방법(압자 압입법)에 의해 산출했다. 밀도는 거품이 없는 유리(약 50g)에 대하여 아르키메데스법으로 측정했다.
실시예 1 2 3 4 5
SiO2 66.0 64.5 64.5 64.0 63.0
Al2O3 1.0 2.0 3.0 3.5 4.0
Na2O 4.0 4.0 4.0 3.5 5.0
K2O 15.5 15.5 15.5 16.5 14.0
MgO 11.0 11.5 10.5 10.0 10.0
CaO 0.5
SrO 0.5 1.0
BaO
ZrO2 2.5 2.5 2.0 2.0 3.0
왜점 570 573 570 572 570
밀도 2.491 2.496 2.485 2.483 2.512
파괴인성KIC 0.767 0.775 0.797 0.805 0.784
팽창계수 88 86 86 87 87
실시예 1 2 3 4 5 6 7 8
SiO2 63.5 64.0 64.0 65.0 65.0 65.0 65.5 68.0
Al2O3 4.5 4.5 2.0 1.0 1.5 3.0 2.0 1.0
Na2O 4.5 5.0 6.0 3.0 6.0 4.0 3.5 6.0
K2O 14.0 10.5 8.5 11.0 8.0 11.5 11.5 8.0
MgO 10.5 11.5 15.0 10.5 13.0 11.0 11.0 16.0
CaO 0.5 0.5 0.5 2.0 1.5 1.0 1.0
SrO 0.5 0.5 3.0 0.5 0.5
BaO 0.5 1.0
ZrO2 2.0 3.5 3.5 4.5 3.5 4.0 5.5 1.0
왜점 593 606 601 606 597 614 624 586
밀도 2.51 2.535 2.563 2.587 2.569 2.537 2.548 2.505
파괴인성KIC 0.87 0.838 0.834 0.774 0.806 0.819 0.819 0.875
팽창계수 85 76 79 72 79 76 71 77
비교예 1 2 3 4
SiO2 70.9 54.6 55.5 68.9
Al2O3 2.0 8.7 6.6 0.9
Na2O 13.6 4.5 5.1 4.6
K2O 0.8 8.2 6.4 4.8
MgO 3.6 2.9 1.2 0.1
CaO 9.1 7.4 2.2 9.7
SrO 9.3 6.7
BaO 9.9 9.0 0.4
ZrO2 3.8 4.7 3.9
왜점 507 583 580 582
밀도 2.514 2.741 2.843 2.64
파괴인성KIC 0.73 0.65 0.67 0.64
팽창계수 87 85 83 75
(결과)
표 1 중의 실시예 1∼5의 유리 및 표 2 중의 실시예 1∼8의 유리는 각각 본 발명의 제 1 및 제 2 유리에 대응한다. 비교예 1의 유리는 소다 라임 실리카 유리이다. 비교예 2∼4의 유리는 종래의 고왜점 유리이다. 비교예 1의 소다 라임 실리카 유리에 있어서는, 밀도가 2.6 미만이고, 파괴 인성 KIC이 0.7Mpa·m1/2이지만, 왜점이 비교예 2∼4의 고왜점 유리에 비하여 현저하게 낮은 것을 나타내고 있다. 한편, 비교예 2∼4의 고왜점 유리는, 왜점은 580℃이상으로 높지만, 밀도가 2.6을 넘고, 또한 파괴 인성 KIC이 0.7 MPa·m1/2 미만인 것을 나타내고 있다.
이것들에 비하여 표 1 중의 실시예 1∼5 및 표 2 중의 실시예 1∼8의 유리는, 왜점이 570℃이상으로 충분히 높고, 밀도는 2.6 미만이고, 파괴 인성 KIC가 0.75 MPa·m1/2를 넘어, 0.7 MPa·m1/2 이상을 충분히 만족시키고 있다. 따라서 본원 발명의 유리는, 소다 라임 실리카 유리와 동등의 선팽창 계수를 갖고, 종래의 고왜점 유리와 동등의 내열성을 가질 뿐만 아니라, 저밀도이고 파괴 인성도 높은 것이 명백하다.
본 발명에 의하면, 통상적인 소다 라임 실리카 유리와 동일한 정도의 열팽창계수를 갖고, 밀도가 낮고, 또한 파괴 인성KIC이 높은 고왜점 유리를 제공할 수 있어, 이것은 PDP, EL 및 FED 등의 전자 디스플레이용 유리 기판으로서 매우 적합하다.

Claims (9)

  1. SiO2를 63∼69, AI2O3를 0.5∼5, Na2O를 2∼7, K2O를 8∼17, MgO를 10∼18, CaO를 0∼7, SrO를 0∼3, BaO를 0∼3, ZrO2를 0.5∼7 중량% 포함하고, 또한 왜점이 570℃이상인 플랫 패널 디스플레이 장치용 기판 유리.
  2. 제 1항에 있어서,
    실질적으로 SiO2가 63∼69, Al2O3가 0.5∼5, Na2O가 2∼7, K2O가 8∼17, MgO가 10∼18, CaO가 O∼7, SrO가 O∼3, BaO가 O∼3, Zr02가 0.5∼7 중량% 만으로 이루어지는 상기 플랫 패널 디스플레이 장치용 기판 유리.
  3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
    K20를 14∼17 중량% 포함한 상기 플랫 패널 디스플레이 장치용 기판 유리.
  4. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
    K2O를 8∼15 중량% 포함한 상기 플랫 패널 디스플레이 장치용 기판 유리.
  5. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
    30℃∼300℃에서의 평균 선열팽창 계수가 70×10-7/℃∼90×10-7/℃인 것을 특징으로 하는 상기 플랫 패널 디스플레이 장치용 기판 유리.
  6. 제 3항에 있어서,
    30℃∼300℃에서의 평균 선열팽창 계수가 86×10-7/℃∼90×10-7/℃인 것을 특징으로 하는 상기 플랫 패널 디스플레이 장치용 기판 유리.
  7. 제 4항에 있어서,
    30℃∼300℃에서의 평균 선열팽창 계수가 70×10-7/℃∼85×10-7/℃인 것을 특징으로 하는 상기 플랫 패널 디스플레이 장치용 기판 유리.
  8. 제 1항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 있어서,
    파괴 인성KIC이 0.7 MPa·m1/2 이상인 것을 특징으로 하는 상기 플랫 패널 디스플레이 장치용 기판 유리.
  9. 제 1항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 있어서,
    밀도가 2.6g/㎤ 미만인 것을 특징으로 하는 상기 플랫 패널 디스플레이 장치용 기판 유리.
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JP2009155148A (ja) * 2007-12-26 2009-07-16 Central Glass Co Ltd ガラス組成物

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004051473A (ja) * 2002-05-29 2004-02-19 Nippon Electric Glass Co Ltd フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板
JP4265157B2 (ja) * 2002-07-01 2009-05-20 日本電気硝子株式会社 フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180072588A (ko) * 2016-12-21 2018-06-29 주식회사 엘지화학 곡면 접합 유리의 제조 방법 및 곡면 접합 유리
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